JPH0372253A - Humidity-sensitive element and preparation thereof - Google Patents

Humidity-sensitive element and preparation thereof

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JPH0372253A
JPH0372253A JP20829089A JP20829089A JPH0372253A JP H0372253 A JPH0372253 A JP H0372253A JP 20829089 A JP20829089 A JP 20829089A JP 20829089 A JP20829089 A JP 20829089A JP H0372253 A JPH0372253 A JP H0372253A
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moisture
insulating substrate
humidity
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一彦 都丸
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晃 松田
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Shin Etsu Chemical Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To realize an element having high response speed, reduced in hysteresis and not changed in its humidity-sensitive characteristics even in a high temp. atmosphere by forming an electrode on an insulating substrate having a hydroxyl group and forming an organopolysiloxane film thereon. CONSTITUTION:A comb-shaped electrode 2 is formed on an insulating substrate having a hydroxyl group on the surface thereof by screen printing to be baked and silane containing a hydrolyzable group containing a carboxyl group or a salt thereof is applied thereon by dipping or spray coating and heated to bond silane to the electrode 2. By this method, an organopolysiloxane film is formed as a humidity-sensitive layer 3 excellent in heat resistance simultaneously with the bonding of silane. When a lead wire 5 is soldered to an electrode taking-out part 4, a humidity-sensitive element having good response and reduced in hysteresis can be obtained.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明はF!2.湿素子、特には応答特性が速くてヒス
テリシスも小さく、しかも100℃以上の高温下でも感
温特性が低下せず、耐熱性がすぐれているので、自動車
のエンジンルームや衣類乾燥機、さらにはサウナルーム
などにおける温度センサーとして有用とされる感湿素子
に関するものである。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention is F! 2. Moisture elements, in particular, have fast response characteristics and low hysteresis, and their temperature-sensing characteristics do not deteriorate even at high temperatures of 100°C or higher, and they have excellent heat resistance, so they can be used in automobile engine compartments, clothes dryers, and even saunas. The present invention relates to a humidity sensing element that is useful as a temperature sensor in rooms and the like.

[従来の技術] 感湿素子については湿度による電気抵抗値の変化から湿
度を検知するものが汎用されており、これには感湿部に
塩化リチウムなどの無機系の電解質物を用いたものが公
知とされている。
[Prior art] Moisture-sensitive elements that detect humidity based on changes in electrical resistance due to humidity are commonly used. It is considered publicly known.

また、最近ではこの感湿部に有機電解質としての高分子
電解質膜を用いたものも開発されているが、この高分子
電解質膜を用いた感湿素子は応答速度が速く、ヒステリ
シスも小さいという利点がある反面において、耐熱性が
わるく、一般的には60℃以上の高温雰囲気中で使用す
ると感湿膜が変質して感度が低下するという欠点がある
Recently, devices that use a polymer electrolyte membrane as an organic electrolyte have also been developed in the moisture sensing part, but moisture sensing elements using this polymer electrolyte membrane have the advantage of fast response speed and small hysteresis. On the other hand, it has a disadvantage that it has poor heat resistance, and when used in a high temperature atmosphere of 60° C. or higher, the moisture sensitive film deteriorates and the sensitivity decreases.

また、これらはいずれも電解質物を含有しているので耐
水性がわるく、結露雰囲気中で使用すると感湿膜中のキ
ャリアイオンが流出し、感度が低下するという欠点もあ
る。
Furthermore, since all of these contain electrolytes, they have poor water resistance, and when used in a dew-condensing atmosphere, carrier ions in the moisture-sensitive membrane flow out, resulting in a decrease in sensitivity.

[発明が解決しようとする課題] そのため、これらの欠点を改善する目的において、この
感湿素子についてはオルガノボリシロキ、サン膜を用い
るものも提案されている(特開昭62−247239号
公報参照)が、このものはここに使用される有機電解質
がカチオン系の第4級アンモニウム基を有するものであ
るために工00℃以上の高温雰囲気では分解が起きて感
湿素子の感度が低下してしまうという欠点がある。
[Problems to be Solved by the Invention] Therefore, in order to improve these drawbacks, it has been proposed that this moisture-sensitive element uses an organoborisiloxane film (see Japanese Patent Laid-Open No. 62-247239). ), but since the organic electrolyte used here has a cationic quaternary ammonium group, it decomposes in a high-temperature atmosphere of 00°C or higher, reducing the sensitivity of the moisture-sensitive element. It has the disadvantage of being stored away.

[課題を解決するための手段] 本発明はこのような不利、欠点を解決することのできる
感湿素子に関するもので、これは表面に水酸基を有する
絶縁性基板上に形成された電極の表面に、カルボキシル
基またはその塩を含有し、かつ加水分解性基を有するシ
ランを結合させ、ここにカルボキシル基またはその塩を
含有するオルガノポリシロキサン膜を形成させてなるこ
とを特徴とするものである。
[Means for Solving the Problems] The present invention relates to a moisture-sensitive element that can solve these disadvantages and drawbacks, and this invention relates to a moisture-sensitive element that can solve the above-mentioned disadvantages and disadvantages. , a silane containing a carboxyl group or a salt thereof and a hydrolyzable group is bonded thereto to form an organopolysiloxane film containing a carboxyl group or a salt thereof.

すなわち、本発明者らは特に耐熱性のすぐれた感温素子
を開発すべく種々検討した結果、表面に水酸基を有する
絶縁性基板上に形成した電極の表面に、カルボキシル基
またはその塩を含有する、加水分解性基含有シランをデ
ィッピング、スプレーコートなとで塗布し、加熱してこ
のシランを電極上に結合させると、このシランは結合と
同時にオルガノポリシロキサン膜を形成するので、これ
によればこのオルガノポリシロキサン膜か耐熱性のすぐ
れたものであることから、耐熱性のすぐれた感湿素子が
得られることを見出すと共に、このようにして得られた
感温素子は応答特性がよく、ヒステリシスも小さいもの
になるということを確認して本発明を完成させた。
That is, as a result of various studies aimed at developing a temperature-sensitive element with particularly excellent heat resistance, the present inventors found that the surface of an electrode formed on an insulating substrate having a hydroxyl group on the surface contains a carboxyl group or a salt thereof. According to this, when a hydrolyzable group-containing silane is applied by dipping or spray coating and heated to bond the silane to the electrode, the silane forms an organopolysiloxane film at the same time as the bonding. Since this organopolysiloxane film has excellent heat resistance, it was discovered that a moisture-sensitive element with excellent heat resistance could be obtained, and the temperature-sensitive element thus obtained had good response characteristics and hysteresis. The present invention was completed after confirming that it could be made even smaller.

つぎにこれをさらに詳述する。Next, this will be explained in more detail.

[作 用] 本発明の感湿素子は第1図に示したように絶縁性基板1
の上にくし型状の電極2をスクリーン印刷などで形成さ
せ、これを焼き付けたのち、この上にカルボキシル基ま
たはその塩を含有するオルガノポリシロキサン膜を感湿
層3として形成させ、ついでこの電極取出し部4にリー
ド線5を半田付けすることによって製造される。
[Function] The moisture sensitive element of the present invention has an insulating substrate 1 as shown in FIG.
A comb-shaped electrode 2 is formed on the top by screen printing or the like, and after baking this, an organopolysiloxane film containing a carboxyl group or its salt is formed as a moisture sensitive layer 3, and then this electrode It is manufactured by soldering the lead wire 5 to the extraction part 4.

この絶縁性基板1はアルミナ、石英ガラス、ステアタイ
トなどから作られたものとすればよいが、このものは後
記するオルガノシランとの反応により、この上にオルガ
ノポリシロキサン膜を形成させるものであることから、
その表面に水酸基を有するものとする必要がある。
This insulating substrate 1 may be made of alumina, quartz glass, steatite, etc., and an organopolysiloxane film is formed thereon by reaction with organosilane, which will be described later. Therefore,
It is necessary to have a hydroxyl group on its surface.

また、この絶縁性基板1の上に形、戎される電極2は金
、銀−パラジウム、酸化ルテニウムなどのような導電性
材料をスクリーン印刷、スバ・ンタリングなどで形成さ
せればよいが、この形状はくし型状とすることがよく、
これは好ましくは焼付けによって固定化することがよい
Further, the electrode 2 to be shaped and cut out on the insulating substrate 1 may be formed of a conductive material such as gold, silver-palladium, ruthenium oxide, etc. by screen printing, sintering, etc. The shape is often comb-like,
This is preferably fixed by baking.

つぎに、この電極上に形成される感温層3は本発明では
カルボキシル基またはその塩を含有するオルガノポリシ
ロキサンH莫とされる。このオルガノポリシロキサン膜
はカルボキシル基またはその塩を含有する加水分解性を
有するオルガノシラン、例えば式 %式% で示され、Rが炭素数1〜10の2価の炭化水素基、X
が水素原子、Na、 K、 Liなとのアルカリ金属原
子、Yが炭素数1〜4のアルコキシ基、アシルオキシ基
、アミノ基、アミノオキシ基、オキシム基、アルケニル
オキシ基あるいはハロゲン原子(これらのうち好ましく
はアルコキシ基あるいはハロゲン原子)などとされるオ
ルガノシランを絶縁性基板1の上にディッピング、スプ
レーコートなどで塗布してから加熱すると、絶縁性基板
上のOH基とこのオルガノシランの= 5iY3基との
反応によってこの=SiY、基が=SiO−となり、こ
の絶縁性基板1の上にオルガノシロキサン膜が形成され
るが、このオルガノシロキサン膜は上記した電極2が好
ましくはすき間の大きいくし型状とされているので、こ
の電極3を覆った形で絶縁性基板1の上に形成され、こ
れが感湿層3となる。
Next, in the present invention, the temperature-sensitive layer 3 formed on this electrode is made of organopolysiloxane H containing a carboxyl group or a salt thereof. This organopolysiloxane film is a hydrolyzable organosilane containing a carboxyl group or a salt thereof, for example, represented by the formula %, where R is a divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and
is a hydrogen atom, an alkali metal atom such as Na, K, or Li, and Y is an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, an acyloxy group, an amino group, an aminooxy group, an oxime group, an alkenyloxy group, or a halogen atom ( When an organosilane (preferably an alkoxy group or a halogen atom) is applied onto the insulating substrate 1 by dipping, spray coating, etc. and then heated, the OH group on the insulating substrate and the = 5iY3 group of this organosilane are formed. By the reaction with SiY, the group becomes =SiO-, and an organosiloxane film is formed on the insulating substrate 1. This organosiloxane film is formed by forming the electrode 2 preferably in a comb-like shape with a large gap. Therefore, the moisture sensitive layer 3 is formed on the insulating substrate 1 to cover the electrode 3.

しかし、前記した式X0OC−R−5iY3で示される
オルガノシランは絶縁性基板1の上に塗布されたのち、
絶縁性基板1の表面に存在する011基と反応してオル
ガノポリシロキサン膜を形成させる際には加熱すること
が必要とされ、この際弐X0OC−R−5i’/+で示
されるオルガノシランのxooc−基が官能基であるた
めにこの加熱によって例えばYがアルコキシ基である場
合には脱アルコール反応が起こり、シリルエステルに変
性されるおそれがあり、したがって得られるオルガノポ
リシロキサン膜がカルボキシル基またはその塩を含有し
ないものになってしまうおそれがあるので、このオルガ
ノポリシロキサン膜の形成にはつぎのような手段をとる
ことがよい。
However, after the organosilane represented by the formula X0OC-R-5iY3 described above is coated on the insulating substrate 1,
Heating is required when reacting with the 011 groups present on the surface of the insulating substrate 1 to form an organopolysiloxane film, and at this time, the organosilane represented by 2X0OC-R-5i'/+ is heated. Since the xooc- group is a functional group, this heating may cause a dealcoholization reaction when Y is an alkoxy group, and it may be modified to a silyl ester. Since there is a possibility that the film does not contain the salt, the following method is preferably used to form the organopolysiloxane film.

すなわち、このカルボキシル基またはその塩を含有する
オルガノポリシロキサン膜を形成させるためには表面に
水酸基を有する絶縁性基板の上にくし型状の電極を形成
したのち、まずこの電極上にトリアルキルシリルエステ
ル基を含有し、かつ加水分解性基をもつオルガノシラン
、例えばR23Si00C−R’−5i−Y3で示され
、R1が炭素数1〜10の二価炭化水素基、R2がメチ
ル基、エチル基、プロピル基等の炭素数1〜6のアルキ
ル基、Yは前記に同しであるオルガノシランを塗布し、
このオルガノシランのミSiY、基と絶縁性基板のOH
基との反応でこれを絶縁性基板上に結合させ、加熱によ
る架橋重合によってこれをR23Si00C−R’−5
t−0で示されるオルガノポリシロキサン膜とし、つい
でこれに塩酸水溶ン夜をディッピング、スプレーコート
なとで塗布し、50〜150℃で0.1〜2時間加熱し
てから蒸留水中に浸漬すると、このオルガノポリシロキ
サン膜におけるトリオルガノシリルエステル基(R’3
SOOC−)がカルボキシル化されて1−+00に−R
’ −51−0−で示されるカルボキシル基を含有する
オルガノポリシロキサン膜となって本発明の感湿素子用
部材が形成される。
That is, in order to form an organopolysiloxane film containing carboxyl groups or their salts, first a comb-shaped electrode is formed on an insulating substrate having a hydroxyl group on the surface, and then trialkylsilyl is first formed on this electrode. Organosilane containing an ester group and having a hydrolyzable group, for example, represented by R23Si00C-R'-5i-Y3, where R1 is a divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and R2 is a methyl group or an ethyl group. , an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as a propyl group, and Y is the same as above.
This organosilane's SiY group and the OH of the insulating substrate
This is bonded onto an insulating substrate by reaction with a group, and is converted into R23Si00C-R'-5 by cross-linking polymerization by heating.
An organopolysiloxane film represented by t-0 is prepared, then aqueous hydrochloric acid is applied by dipping or spray coating, heated at 50 to 150°C for 0.1 to 2 hours, and then immersed in distilled water. , the triorganosilyl ester group (R'3
SOOC-) is carboxylated to 1-+00 to -R
An organopolysiloxane film containing a carboxyl group represented by ' -51-0- is formed to form the member for a moisture-sensitive element of the present invention.

なお、このものはカルボキシル基を含有するオルガノポ
リシロキサン膜が形成されているので、これによれば耐
熱性がよく、応答特性が速くてヒステリシスも小さい感
湿素子が得られるけれども、電気抵抗値が低く、回路上
使い易いという点からはこのカルボキシル基をアルカリ
金属塩とすることが好ましいので、これについてはこの
表面にさらにアルカリ金属水酸化物の水溶液をディッピ
ング、スプレーコートなとで塗布し、室温で乾燥すれば
このオルガノポリシロキサン膜をxooc−R’−5i
−0−で示されるカルボキシアルカリ金属塩を含有する
ものとすることができ、これによれば電気抵抗値が低く
、回路上使い易い上に感度も良いという有利性が与えら
れるし、これについてはこのオルガノポリシロキサン膜
の表面にシリコーンワニスなどを塗布してシリコーン保
護皮膜6を形成させれば耐水性が付与されるという有利
性が与えられる。
Note that this device is formed with an organopolysiloxane film containing carboxyl groups, so a moisture-sensitive element with good heat resistance, fast response characteristics, and low hysteresis can be obtained, but the electrical resistance value is low. Since it is preferable to use an alkali metal salt for this carboxyl group in terms of low temperature and ease of use in circuits, an aqueous solution of an alkali metal hydroxide is further applied to this surface by dipping or spray coating, and the carboxyl group is heated at room temperature. xoooc-R'-5i
It can contain a carboxy alkali metal salt represented by -0-, which has the advantages of low electrical resistance, ease of use in circuits, and good sensitivity. Applying silicone varnish or the like to the surface of this organopolysiloxane film to form a silicone protective film 6 provides the advantage of imparting water resistance.

[実施例] つぎに本発明の実施例をあげるが、例中における感湿素
子の感湿特性、応答特性、ヒステリシス特性は温度温度
試験器中において30℃、IKHz。
[Example] Next, an example of the present invention will be given. In the example, the humidity sensing characteristics, response characteristics, and hysteresis characteristics of the humidity sensing element were measured at 30° C. and IKHz in a temperature tester.

IVの条件でLCRメーター・HP4284A [横河
ヒューレットパッカード社製商品名]を用いて測定した
結果を示したものであり、この経時変化は120℃の乾
燥量中に3ケ月間放置した場合の試験結果を示したもの
である。
This shows the results measured using an LCR meter HP4284A [product name manufactured by Yokogawa Hewlett-Packard Company] under IV conditions, and this change over time was determined by a test when the material was left in a dry environment at 120°C for 3 months. The results are shown below.

実施例1 17mmX 7 mmX 0.635mmのアルミナ製
絶縁基板上に、銀−パラジウム合金系ペーストを用いて
くし型状電極をスクリーン印刷し、焼き付けを行なって
電極付きアルミナ基板を製作した。
Example 1 Comb-shaped electrodes were screen printed on a 17 mm x 7 mm x 0.635 mm alumina insulating substrate using a silver-palladium alloy paste and baked to produce an alumina substrate with electrodes.

ついでこの基板を式 %式% メトキシシランの10%メタノール溶液に浸漬し、室温
で乾燥してから100℃で1時間加熱したところ、該基
板上にトリメチルシリルエステル基を有するオルガノポ
リシロキサン膜が形成されたので、これを3%の塩酸水
溶液中に1時間浸漬したのち、100℃で1時間加熱し
、蒸留水中に6時間浸漬したところ、このオルガノホゾ
シロキサン中のトリメチルシリルエステル基がカルボキ
シル基に変性された。
This substrate was then immersed in a 10% methanol solution of methoxysilane, dried at room temperature, and then heated at 100°C for 1 hour, resulting in the formation of an organopolysiloxane film having trimethylsilyl ester groups on the substrate. Therefore, when this was immersed in a 3% aqueous hydrochloric acid solution for 1 hour, heated at 100°C for 1 hour, and immersed in distilled water for 6 hours, the trimethylsilyl ester group in this organophozosiloxane was modified to a carboxyl group. Ta.

つぎにこの基板の取り出し電極部分にリード線を半田付
けしたところ、電極上にカルボキシル基を含有するオル
ガノポリシロキサン膜を形成させた感湿素子が得られた
ので、このものの感湿特性をしらべたところ、第2図に
示したとおりの結果が、またこの応答特性、ヒステリシ
ス特性については第3図、第4図に示したとおりの結果
が得られたので、これらは応答特性が速く、ヒステリシ
スも小さい、すぐれた特性を有するものであることが確
認されたし、このものはまたその経時変化をしらべたと
ころ、第5図に示したとおりの結果を示し、高温雰囲気
でもその感湿特性が殆ど変化しないことから耐熱性の極
めてすぐれたものであることが確認された。
Next, when lead wires were soldered to the electrodes taken out from this substrate, a moisture-sensitive element was obtained in which an organopolysiloxane film containing carboxyl groups was formed on the electrodes, so the moisture-sensing characteristics of this element were investigated. However, the results shown in Figure 2 and the response characteristics and hysteresis characteristics shown in Figures 3 and 4 were obtained, so the response characteristics are fast and the hysteresis is low. It was confirmed that the material was small in size and had excellent characteristics.When this material was also examined for its change over time, it showed the results shown in Figure 5, and its moisture-sensitive characteristics were almost unchanged even in a high-temperature atmosphere. Since no change occurred, it was confirmed that the material had extremely good heat resistance.

実施例2 8 mmX 6 mmx 0.635mmのアルミナ製
絶縁基板上に、くし型状の金電極をスパッタリングで形
成して電極付きアルミナ基板を作った。
Example 2 A comb-shaped gold electrode was formed by sputtering on an alumina insulating substrate measuring 8 mm x 6 mm x 0.635 mm to produce an alumina substrate with electrodes.

ついでこの基板上に式 %式% るトリメトキシシランの10%メタノール溶液をスプレ
ーコート法で塗布し、室温で1時間乾燥してから100
℃で1時間加熱したところ、該基板上にトリメチルシリ
ルエステル基を含有するオルガノポリシロキサン膜が形
成されたので、これを3%の塩酸水溶液中に1時間浸漬
し、100℃で1時間加熱してから蒸留水中に6時間浸
漬したところ、このオルガノポリシロキサン膜中のトリ
メチルシリルエステル基がカルボキシル基に変性された
が、このものをさらに水酸化ナトリウムの1%水溶イ夜
中に30分間浸漬し、室温で3時間乾燥したところ、こ
のカルボキシル基がカルボン酸ナトリウムに変性された
オルガノポリシロキサン膜をもつ電極付きアルミナ基板
が得られた。
Next, a 10% methanol solution of trimethoxysilane with the formula % was applied onto this substrate by spray coating, dried at room temperature for 1 hour, and then coated with 100%
When heated at 100°C for 1 hour, an organopolysiloxane film containing trimethylsilyl ester groups was formed on the substrate, so this was immersed in a 3% aqueous hydrochloric acid solution for 1 hour and heated at 100°C for 1 hour. When immersed in distilled water for 6 hours, the trimethylsilyl ester groups in this organopolysiloxane film were modified to carboxyl groups, but this film was further immersed in a 1% aqueous solution of sodium hydroxide for 30 minutes at room temperature. After drying for 3 hours, an alumina substrate with electrodes having an organopolysiloxane film in which the carboxyl groups were modified to sodium carboxylate was obtained.

つぎにこのようにして得られたカルボン酸ナトリウムを
含有するオルガノポリシロキサン膜を表面にもつ電極付
きアルミナ基板のオルガノポリシロキサン膜の上にシリ
コーンワニス・Sコート58[信越化学工業■製商品名
]をスプレーコート法で塗布し、室温で1時間乾燥後に
150℃で30分間加熱してオルガノポリシロキサン膜
の上にシリコーン保護皮膜6を設け、この基板の取り出
し電極部分にリード線を半田付けして第6図に示したよ
うな感湿素子を作り、このものの感湿特性、経時変化を
しらべたところ、第7図、第8図に示したとおりの結果
が得られ、さらにこのものを水道水中に1週間浸漬した
ときの経時変化をしらべたところ、第9図に示したとお
りの結果が得られたので、このものは耐熱性、耐水性に
すぐれたものであることが確認された。
Next, silicone varnish S coat 58 [product name manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.] is applied to the organopolysiloxane film of the alumina substrate with electrodes, which has the organopolysiloxane film containing sodium carboxylate obtained in this way on the surface. was applied by a spray coating method, dried at room temperature for 1 hour, and then heated at 150°C for 30 minutes to form a silicone protective film 6 on the organopolysiloxane film, and a lead wire was soldered to the electrode part of this board. When we made a moisture-sensitive element as shown in Figure 6 and examined its moisture-sensing characteristics and changes over time, we obtained the results shown in Figures 7 and 8. When immersed in water for one week, the changes over time were examined, and the results shown in Figure 9 were obtained, confirming that this product had excellent heat resistance and water resistance.

[発明の効果コ 本発明は感湿素子に関するものであり、これは前記した
ように水酸基を有する絶縁性基板に電極を設け、これに
カルボキシル基またはその塩を含有するオルガノポリシ
ロキサン膜を形成させたものであるが、このものは感湿
層となるオルガノポリシロキサン膜、が耐熱性を有する
ので、応答速度が速くてヒステリシスも小さく、高温雰
囲気てもその感湿特性が殆ど変化しない感湿素子が得ら
れるという有利性が与えられる。
[Effects of the Invention] The present invention relates to a moisture-sensitive element, in which an electrode is provided on an insulating substrate having a hydroxyl group as described above, and an organopolysiloxane film containing a carboxyl group or a salt thereof is formed thereon. However, since the organopolysiloxane film that serves as the moisture-sensitive layer has heat resistance, this moisture-sensitive element has a fast response speed and low hysteresis, and its moisture-sensitive characteristics hardly change even in a high-temperature atmosphere. This gives the advantage of being able to obtain

また、本願はこの感湿素子の製造方法に関するものであ
り、これは電極付き絶縁性基板にトリアルキルシリルエ
ステル基含有加水分解性基を有するオルガノシランを作
用させてトリアルキルシリル基含有オルガノシロキサン
膜を形成させたのち、このトリアルキルシリル基をカル
ボキシル化し、さらにこれをカルボン酸アルカリ金属塩
としてカルボン酸金属塩を含有するオルガノポリシロキ
サン膜とするものであり、これによればカルボキシル基
またはその塩を含有する加水分解性を有するオルガノシ
ランの反応中の変性なしで目的とする感湿素子を容易に
得ることができるという有利性が与えられる。
The present application also relates to a method for manufacturing this moisture-sensitive element, which involves making an organosilane having a trialkylsilyl ester group-containing hydrolyzable group act on an insulating substrate with electrodes to form a trialkylsilyl group-containing organosiloxane film. is formed, and then this trialkylsilyl group is carboxylated to form an organopolysiloxane film containing a carboxylic acid metal salt as an alkali metal salt of a carboxylic acid. The advantage is that the desired moisture-sensitive element can be easily obtained without modification during the reaction of the hydrolyzable organosilane containing .

4、図面の’PJ−JLな説明 第1図は本発明の感湿素子の斜視図、第2図〜第5図は
本発明の実施例1で得られた感湿素子の物性を示すグラ
フで、第2図は感湿特性、第3図は応答特性、第4図は
ヒステリシス特性、第5図はその経時変化を示したもの
である。
4. PJ-JL explanation of the drawings Figure 1 is a perspective view of the humidity sensing element of the present invention, Figures 2 to 5 are graphs showing the physical properties of the humidity sensing element obtained in Example 1 of the present invention. FIG. 2 shows the moisture sensitivity characteristics, FIG. 3 shows the response characteristics, FIG. 4 shows the hysteresis characteristics, and FIG. 5 shows the changes over time.

また第6図a)は本発明の実施例2で得られた感湿素子
の斜視図、第6図b)はその縦断面図、第7図〜第9図
はこの感湿素子の物性を示すグラフで、第7図はその感
湿特性、第8図は経時変化を示したもの、第9図はこれ
を水道水に浸したときの耐水性を示す経時変化のグラフ
を示したものである。
Further, Fig. 6a) is a perspective view of the humidity sensing element obtained in Example 2 of the present invention, Fig. 6b) is its longitudinal cross-sectional view, and Figs. 7 to 9 show the physical properties of this moisture sensing element. Figure 7 shows its moisture sensitivity characteristics, Figure 8 shows its change over time, and Figure 9 shows its water resistance when immersed in tap water. be.

30 40 50 60 70 80 R目(%) 0 2    3 時開(分) 第 図 RH(%) 第4図 i間(8) 第5図 R1−1% 第7図 □時開(月) 第8図 手 糸売 補 正 1丑1に (自発) 事件の表示 平成1年特許願第208290号 発明の名称 感湿素子およびその製造方法 補正をする者 事件との関係  特許出願人 名称(206)信越化学工業株式会社30 40 50 60 70 80 R eyes (%) 0 2 3 Hours (minutes) No. figure RH (%) Figure 4 Between i (8) Figure 5 R1-1% Figure 7 □Time opening (Monday) Figure 8 hand Yarn sales Supplementary Positive 1 ox 1 (spontaneous) Display of incidents 1999 Patent Application No. 208290 name of invention Moisture sensing element and its manufacturing method person who makes corrections Relationship to the case Patent applicant Name (206) Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、表面に水酸基を有する絶縁性基板上に形成させた電
極の表面に、カルボキシル基またはその塩を含有し、か
つ加水分解性基を有するシランを結合させ、ここにカル
ボキシル基またはその塩を含有するオルガノポリシロキ
サン膜を形成させてなることを特徴とする感湿素子。 2、表面に水酸基を有する絶縁性基板上に形成させた電
極の表面に、トリアルキルシリルエステル基を含有し、
かつ加水分解性を有するシランを結合させ、これを架橋
重合させて電極面にトリアルキルシリル基含有オルガノ
シロキサン膜を形成させたのち、このトリアルキルシリ
ル基をカルボキシル化し、ついでこのカルボキシル基を
カルボン酸金属塩とし、電極上にカルボン酸金属塩を含
有するオルガノポリシロキサン膜を形成させることを特
徴とする感湿素子の製造方法。
[Claims] 1. A silane containing a carboxyl group or a salt thereof and having a hydrolyzable group is bonded to the surface of an electrode formed on an insulating substrate having a hydroxyl group on the surface, A moisture-sensitive element comprising an organopolysiloxane film containing a group or a salt thereof. 2. Containing a trialkylsilyl ester group on the surface of the electrode formed on the insulating substrate having a hydroxyl group on the surface,
A hydrolyzable silane is bonded thereto, and this is cross-linked and polymerized to form a trialkylsilyl group-containing organosiloxane film on the electrode surface.This trialkylsilyl group is then carboxylated, and then this carboxyl group is converted to a carboxylic acid. 1. A method for manufacturing a moisture-sensitive element, comprising forming an organopolysiloxane film containing a metal salt of a carboxylic acid on an electrode.
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