JPH0369007A - Production of magnetic head - Google Patents

Production of magnetic head

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JPH0369007A
JPH0369007A JP20516089A JP20516089A JPH0369007A JP H0369007 A JPH0369007 A JP H0369007A JP 20516089 A JP20516089 A JP 20516089A JP 20516089 A JP20516089 A JP 20516089A JP H0369007 A JPH0369007 A JP H0369007A
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JP
Japan
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glass
low melting
film
substrate
melting point
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JP20516089A
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Japanese (ja)
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Takeshi Kijima
健 木島
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Original Assignee
Sharp Corp
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To provide a longer life by forming soft magnetic thin films on the side wall surfaces on one side of the respective approximately V-shaped grooves on a substrate surface, butting a pair of such substrates on each other and welding the substrates by low melting glass, then subjecting the substrate to an ion exchange treatment. CONSTITUTION:The approximately V-shaped grooves 7 are formed on the substrate B 1 consisting of photosensitive crystallized glass and the soft magnetic thin films 3 are formed on the side walls 7a on one side. Nonmagnetic oxide films 4 are formed as protective films on the films 3. A metallic Ti film 5 and a metallic Cr film 6 are formed continuously in this order to cover the entire part of the grooves 7. The entire part of the grooves 7 of the supporting plate B 1 is then molded by the low melting glass 2 contg. Na and is thereby flattened. Such substrate is cut and a pair of the substrates are butted on each other and are welded by the glass to obtain the head chip. The head chip is immersed into a neutral nitric acid K soln. and is subjected to the ion exchange treatment. The glass is changed to the glass contg. K in this way, by which the higher strength and the longer life are obtd.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ビデオテープレコーダ等に用いられる磁気ヘ
ッドの製造方法に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a method of manufacturing a magnetic head used in a video tape recorder or the like.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来より、軟磁性薄膜をギャップ形成面に有した一対の
基板を低融点ガラスにて溶着する工程を含む磁気ヘッド
の製造方法が知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a method of manufacturing a magnetic head is known which includes a step of welding a pair of substrates each having a soft magnetic thin film on a gap forming surface using low melting point glass.

かかる方法は、例えば、第5図(a)に示すように、感
光性結晶化ガラスからなる基板Bllの表面に、略■字
状の溝17・・・を例えばダイシングによって連続して
形成すると共に、一方の側壁17a・・・に真空蒸着法
あるいはスパッタリング法等の薄膜成形技術によって、
所定の膜厚、つまり磁気ヘッドのトラック幅のほぼ半分
に相当するl!厚となるようにFe−3t −A/!系
合金からなる軟磁性薄膜13を形成する。
In this method, for example, as shown in FIG. 5(a), substantially square grooves 17 are continuously formed by, for example, dicing on the surface of a substrate Bll made of photosensitive crystallized glass, and , one side wall 17a... is formed using a thin film forming technique such as a vacuum evaporation method or a sputtering method.
The predetermined film thickness is l!, which corresponds to approximately half the track width of the magnetic head. Fe-3t-A/! A soft magnetic thin film 13 made of a based alloy is formed.

そして、同図(b)に示すように、軟磁性薄膜13の上
に、Sin、からなる非磁性酸化膜14を保護膜として
底膜した後、溝17・・・全体を覆うように金属Ti膜
15→金属Cr膜16の順でこれらを連続して形成する
As shown in FIG. 2B, a non-magnetic oxide film 14 made of Sin is formed as a bottom film on the soft magnetic thin film 13 as a protective film, and then a metal Ti film is formed so as to cover the entire groove 17. These are successively formed in the order of film 15→metal Cr film 16.

次いで、基板Bll上に、ナトリウムを含有する板状の
低融点ガラスを載せ、同図(C)に示すように、溝17
・・・全体に低融点ガラス12によるモールドを行うと
共に、低融点ガラス12の平坦化のための研削を行う。
Next, a plate-shaped low melting point glass containing sodium is placed on the substrate Bll, and as shown in FIG.
...The entire structure is molded with low melting point glass 12, and the low melting point glass 12 is ground to flatten it.

そして、第6図(a)に示すように、基板B11をピッ
チEで切り出し、この切り出された基板Bllに対し外
部巻線溝および内部巻線溝を形成すると共に、ギャップ
面加工を行う。
Then, as shown in FIG. 6(a), the substrate B11 is cut out at a pitch E, and an external winding groove and an internal winding groove are formed on the cut out substrate B11, and a gap surface is processed.

そして、このように巻線溝の形成された基板B11を一
対用意し、互いのギャップ面が対向するように突き合わ
せて加圧固定し、低融点ガラス12が接着力を持つよう
な温度まで昇温してガラス溶着を行って接合し、同図(
b)に示すように、コアブロック18を得る。
Then, a pair of substrates B11 with winding grooves formed in this way are prepared, and they are pressed and fixed against each other so that their gap surfaces face each other, and the temperature is raised to a temperature at which the low melting point glass 12 has adhesive strength. The glass was welded and joined as shown in the same figure (
As shown in b), a core block 18 is obtained.

このコアブロック18に対し一定幅で切断を行い、第7
図に示すように、ヘッドチップ本体20を得た後、この
ヘッドチップ本体20に対し、テープ摺動面研磨、コイ
ル巻線、ベース板への固定等の処理を施して磁気ヘッド
を得る。
This core block 18 is cut at a constant width, and the seventh
As shown in the figure, after a head chip body 20 is obtained, the head chip body 20 is subjected to processes such as tape sliding surface polishing, coil winding, and fixing to a base plate to obtain a magnetic head.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

ところが、ガラス溶着に用いられるナトリウムを含む低
融点ガラス12は、耐摩耗性に劣る、硬度が低い、等の
欠点を有しており、製造された磁気ヘッドにおいて、テ
ープ摺動時にガラスの欠けや割れが生じ、長寿命化が図
れないという欠点を有している。
However, the low melting point glass 12 containing sodium used for glass welding has drawbacks such as poor abrasion resistance and low hardness, and in manufactured magnetic heads, the glass may chip or break when the tape slides. It has the disadvantage that cracks occur and a long life cannot be achieved.

この場合、ナトリウムを含む低融点ガラス12の代わり
にカリウムを含む低融点ガラスを用いた磁気ヘッドの方
が長寿命化の点で優れているのであるが、このカリウム
を含む低融点ガラスは、ナトリウムを含む低融点ガラス
12に比べ、ガラス化が困難であるため、溶着性および
加工性に劣っており、磁気ヘッドを製造する上で著しい
欠点を持つものである。
In this case, a magnetic head that uses low melting point glass containing potassium instead of low melting point glass 12 containing sodium is superior in terms of longevity; however, this low melting point glass containing potassium is Since it is difficult to vitrify compared to the low melting point glass 12 containing the above, it has inferior weldability and workability, and has significant drawbacks in manufacturing magnetic heads.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明に係る磁気ヘッドの製造方法は、上記の課題を解
決するために、基板表面に形成された略V字状の多溝に
対してその一方の側壁面に所定の膜厚で軟磁性薄膜を形
成する工程、および、この軟磁性薄膜の形成された一対
の基板を突き合わせて低融点ガラスにて溶着する工程を
有する磁気ヘッドの製造方法において、溶着後の低融点
ガラスに対してイオン交換処理を施す工程を有している
ことを特徴としている。
In order to solve the above-mentioned problems, the method for manufacturing a magnetic head according to the present invention is to provide a soft magnetic thin film with a predetermined thickness on one side wall surface of a substantially V-shaped multi-groove formed on a substrate surface. and a step of butting together a pair of substrates on which soft magnetic thin films are formed and welding them with low melting point glass, in which the low melting point glass after welding is subjected to ion exchange treatment It is characterized by having a step of applying.

〔作 用〕[For production]

上記の槽底によれば、溶着前の低融点ガラスについては
、ガラス化が容易で溶着性および加工性に優れた例えば
ナトリウムを含むガラスを用いて磁気ヘッド製造の容易
化を図ることができる一方、ガラス溶着後においては、
イオン交換処理により、溶着済ガラスを例えばカリウム
を含むガラスに変化させ、当該カリウムを含むガラスの
有する高硬度、高耐摩耗性、高耐水性、高耐化学性の利
点を磁気ヘッドに持たせて、磁気ヘッドの長寿命化を図
ることができる。また、カリウムイオンはナトリウムイ
オンより体積が大きいので、これらの交換が行われたと
きには、ガラス内の引っ張り応力が増大し、ガラス強度
も高まり一層の長寿命化が図れることになる。
According to the above tank bottom, as for the low melting point glass before welding, it is possible to use glass that is easy to vitrify and has excellent weldability and processability, such as glass containing sodium, to facilitate the manufacture of magnetic heads. , after glass welding,
By ion exchange treatment, the welded glass is changed into glass containing potassium, for example, and the advantages of the glass containing potassium, such as high hardness, high abrasion resistance, high water resistance, and high chemical resistance, are imparted to the magnetic head. , it is possible to extend the life of the magnetic head. Further, since potassium ions have a larger volume than sodium ions, when these are exchanged, the tensile stress within the glass increases, the strength of the glass increases, and the life span is further extended.

〔実施例〕〔Example〕

本発明の一実施例を第1図ないし第4図に基づいて説明
すれば、以下の通りである。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 to 4.

本発明に係る磁気ヘッドの製造方法により製造される磁
気ヘッドにおいて、その本体部分は、第3図(b)に示
すように、ギャップ対向面が山型に形成された一対の感
光性結晶化ガラスト1と、各山型部1cの一方の側壁部
に形成されたFe5i−Aj!(センダスト)合金等の
軟磁性薄膜3およびSiO2等からなる非磁性酸化膜4
と、各山型部1cの両側壁部に形成された金属Ti膜5
および金属Cr膜6と、カリウム(K)を含む低融点ガ
ラス2′を有して構成されている。また、各感光性結晶
化ガラス1は、外部巻線溝1aおよび内部巻線溝1bを
有しており、これら溝1a・1bに図示しない巻線が施
されるようになっている。
In the magnetic head manufactured by the method for manufacturing a magnetic head according to the present invention, the main body portion is composed of a pair of photosensitive crystallized glass sheets whose gap facing surfaces are formed in a chevron shape, as shown in FIG. 3(b). 1 and Fe5i-Aj formed on one side wall of each chevron-shaped portion 1c! (Sendust) A soft magnetic thin film 3 made of alloy, etc. and a non-magnetic oxide film 4 made of SiO2 etc.
and a metal Ti film 5 formed on both side walls of each chevron-shaped portion 1c.
It has a metal Cr film 6 and a low melting point glass 2' containing potassium (K). Further, each photosensitive crystallized glass 1 has an external winding groove 1a and an internal winding groove 1b, and windings (not shown) are provided in these grooves 1a and 1b.

上記磁気ヘッドを製造するには、第1図(a)に示すよ
うに、感光性結晶化ガラスからなる基板Blの表面に、
最終的な磁気ヘッドの厚さ、および分断する際の切り代
を考慮したピッチA、で略■字状の溝7・・・を例えば
ダイシングによっ連続して形成する。各溝7の少なくと
も一方の側壁(前記山型部1Cの一方の側壁でもある)
7aと、基板B1の加工前表面の法線H,とのなす角e
lは、最終的な磁気ヘッド形態でのアジマス角にほぼ等
しいことが望ましい。なお、この角度については、ここ
では特に精度を要しない。この角olの精度は溝7のピ
ッチAIと、分断される際の加工ピッチ精度によって決
定されるからである。
To manufacture the above magnetic head, as shown in FIG. 1(a), on the surface of a substrate Bl made of photosensitive crystallized glass,
Approximately square-shaped grooves 7 are continuously formed, for example, by dicing, at a pitch A that takes into account the final thickness of the magnetic head and the cutting margin when dividing. At least one side wall of each groove 7 (also one side wall of the chevron-shaped portion 1C)
7a and the normal H to the unprocessed surface of the substrate B1, the angle e
It is desirable that l is approximately equal to the azimuth angle of the final magnetic head configuration. Note that this angle does not require particular precision here. This is because the accuracy of this angle ol is determined by the pitch AI of the grooves 7 and the machining pitch accuracy when dividing.

次に、同図(b)に示すように、一方の側壁7a・・・
に真空蒸着法あるいはスパッタリング法等の薄膜成形技
術によって、所定の膜厚、つまり磁気ヘッドのトラック
幅のほぼ半分に相当する膜厚となるようにFe−3i−
Af系合金からなる軟磁性薄膜3を形成する。Fe−3
t−Af系合金の組織としては、例えば、5.5wt%
Al−bat。
Next, as shown in FIG. 7(b), one side wall 7a...
The Fe-3i-
A soft magnetic thin film 3 made of an Af-based alloy is formed. Fe-3
For example, the structure of the t-Af alloy is 5.5 wt%
Al-bat.

Feといったものが一般的である。軟磁性薄膜3の成膜
において、真空蒸着法を用いた場合は、同図(C)に示
すように、成膜に寄与する蒸着粒子の飛来方向Rが一様
であるので、この飛来方向角Φを適当に設定すれば、隣
接する溝壁7a・・・の頂部による陰影効果により、各
側壁7aの底に近い部分で軟磁性薄膜3を途切れさせる
ことができる、なお、蒸着粒子の飛来方向角Φは、軟磁
性薄膜3としてFe−3t −All!系合金を用いた
場合、その特性を考慮すると、0〜45°の範囲に設定
するのが望ましい。
Something like Fe is common. When a vacuum evaporation method is used to form the soft magnetic thin film 3, as shown in FIG. If Φ is set appropriately, the soft magnetic thin film 3 can be interrupted near the bottom of each side wall 7a due to the shading effect caused by the tops of the adjacent groove walls 7a. The angle Φ is Fe-3t -All! for the soft magnetic thin film 3. When a series alloy is used, considering its characteristics, it is desirable to set the angle in the range of 0 to 45 degrees.

次に、同図(d)に示すように、軟磁性薄膜3の上に、
Stowからなる非磁性酸化膜4を保護膜として成膜す
る。なお、本実施例では、軟磁性薄膜3の上にのみ非磁
性酸化膜4を形成しているが、溝7全体を被覆するよう
に形成しても良いものである。また、非磁性酸化膜4と
してSin。
Next, as shown in the same figure (d), on the soft magnetic thin film 3,
A nonmagnetic oxide film 4 made of Stow is formed as a protective film. In this embodiment, the nonmagnetic oxide film 4 is formed only on the soft magnetic thin film 3, but it may be formed so as to cover the entire groove 7. In addition, the nonmagnetic oxide film 4 is made of Sin.

膜を示したが、これに限るものではない。Although a film is shown, the present invention is not limited to this.

次に、同図(e)に示すように、溝7・・・全体を覆う
ように金属Ti成膜→金属Cr膜6の順でこれらを連続
して形成する。この金属Ti膜5と金属Cr成膜が形成
されるときには、軟磁性薄膜3との間に保護層として前
記の非磁性酸化膜4が介在しており、軟磁性薄膜3上に
直接に形成する場合に比べると、軟磁性薄膜3と金属T
i膜との間での拡散が抑止され、この拡散に起因する特
性劣化を低減することができる。
Next, as shown in FIG. 4E, a metal Ti film and a metal Cr film 6 are successively formed so as to cover the entire groove 7 . When the metal Ti film 5 and the metal Cr film are formed, the non-magnetic oxide film 4 is interposed as a protective layer between the soft magnetic thin film 3 and is formed directly on the soft magnetic thin film 3. Compared to the case, soft magnetic thin film 3 and metal T
Diffusion with the i-film is suppressed, and characteristic deterioration caused by this diffusion can be reduced.

次に、基板Bl上に、ナトリウムを含有する板状の低融
点ガラスを載せ、同図(f)に示すように、溝7・・・
全体に低融点ガラス2によるモールドを行ってこれを平
坦化する。このガラスモールドが行われるときには、前
述の金属Cr成膜が溝7・・・全体を被覆しているので
、低融点ガラス2の溶融時における濡れ性が良好となり
、溶融したガラスの表面張力による縮みが生して玉状に
固着し全体が被覆されないといった欠点を解消すること
ができる。また、金属Cr成膜だけでは、これを非磁性
薄膜4や基板Bl上に直接形成した場合、反応を起こし
て発泡しがちとなるが、前記金属Ti膜5が介在されて
いることにより、かかる発泡の問題も解消される。なお
、実験により、低融点ガラス2でモールドする際、金属
Cr116がある場合とない場合とでは、ある場合の濡
れ角は60〜70°、ない場合の濡れ角は100〜11
0°であり、その差が30〜50’であることが6I 
L’Qされている。
Next, a plate-shaped low melting point glass containing sodium is placed on the substrate Bl, and as shown in FIG.
The entire structure is molded with low melting point glass 2 to flatten it. When this glass molding is carried out, since the metal Cr film described above covers the entire groove 7..., the wettability of the low melting point glass 2 during melting is good, and shrinkage due to the surface tension of the molten glass increases. It is possible to eliminate the disadvantage that the entire surface is not covered because the particles grow and stick in the form of beads. In addition, if only the metal Cr film is formed directly on the non-magnetic thin film 4 or the substrate B1, it tends to react and foam, but with the metal Ti film 5 interposed, such The problem of foaming is also eliminated. In addition, experiments have shown that when molding with low melting point glass 2, the wetting angle is 60 to 70 degrees with and without metal Cr116, and the wetting angle is 100 to 11 degrees without metal Cr116.
0° and the difference is 30 to 50' is 6I
It has been L'Qed.

次に、第2図(a)に示すように、ガラスモールドされ
た基板B1をピッチE1で切り出し、。この切り出され
た基板Blに対し同図(b)に示すように、外部巻線溝
Blaおよび内部巻線溝Blbを形成すると共に、ギャ
ップ面加工を行う。
Next, as shown in FIG. 2(a), the glass-molded substrate B1 is cut out at a pitch E1. As shown in FIG. 4B, the cut out substrate Bl is formed with an external winding groove Bla and an internal winding groove Blb, and a gap surface is processed.

そして、このように外部巻線溝Blaおよび内部巻線溝
Bib等の形成された基板B1を一対用意し、互いのギ
ャップ面が対向するように突き合わせて加圧固定し、低
融点ガラス2が接着力を持つような温度まで昇温しでガ
ラス溶着を行って接合し、同図(C)に示すように、コ
アブロック8を得る。
Then, a pair of substrates B1 with external winding grooves Bla and internal winding grooves Bib formed therein are prepared, and they are butted and fixed under pressure so that their gap surfaces face each other, and the low melting point glass 2 is bonded. The core block 8 is obtained by raising the temperature to such a temperature as to give strength and performing glass welding to obtain a core block 8 as shown in FIG.

このコアブロック8に対し一定幅で切断を行い、第3図
(a)に示すように、ヘッドチップ本体10を得る。
This core block 8 is cut at a constant width to obtain a head chip body 10 as shown in FIG. 3(a).

次に、このヘッドチップ本体10を中性硝酸カリウム溶
液中に約20時間浸漬してナトリウムを含む低融点ガラ
ス2に対するイオン交換処理を行う。イオン交換により
、低融点ガラス2中の体積の小さい一価のイオンが、体
積の大きな一価の陽イオンと置き換わることになる。即
ち、第4図(a)(b)に示すように、小さなナトリウ
ムイオン(Na”)が大きなカリウムイオン(K“)に
交換され、前記のへラドチップ本体10において、ナト
リウムを含む低融点ガラス2は、第3図(b)に示すよ
うに、カリウムを含む低融点ガラス2′に変化する。
Next, this head chip body 10 is immersed in a neutral potassium nitrate solution for about 20 hours to perform ion exchange treatment on the low melting point glass 2 containing sodium. By ion exchange, monovalent ions with a small volume in the low melting point glass 2 are replaced with monovalent cations with a large volume. That is, as shown in FIGS. 4(a) and 4(b), small sodium ions (Na") are exchanged with large potassium ions (K"), and the low melting point glass 2 containing sodium is exchanged with large potassium ions (K") in the Helad chip body 10. As shown in FIG. 3(b), the glass changes to a low melting point glass 2' containing potassium.

そして、このようにイオン交換されたヘッドチップ本体
10に対し、テープ摺動面研磨、コイル巻線、ベース板
への固定等の処理を施して磁気ヘッドを得る。
Then, the head chip body 10 subjected to ion exchange is subjected to processes such as tape sliding surface polishing, coil winding, and fixing to a base plate to obtain a magnetic head.

上記の構成によれば、ガラス溶着が完了されているヘッ
ドチップ本体10を得るまでは、ナトリウムを含む低融
点ガラス2によるので、当該低融点ガラス2の持つガラ
ス化の容易性を有効に引き出して溶着の高信頼化および
加工の容易化を図ることができる。そして、ガラス化を
考慮しなくてもよい段階に入ってからイオン交換処理が
施され、このイオン交換処理によって小さなナトリウム
イオンが大きなカリウムイオンに交換されるため、ガラ
ス中の引っ張り応力が増大し、ガラス強度を向上するこ
とができる。また、カリウムを含むガラスは硬度も高く
(なお、本実施例の場合、イオン交換前のピンカース硬
度が350であったのに対し、イオン交換後のビッカー
ス硬度が600に向上した。)、耐摩耗性並びに耐水性
、耐化学性も高いことから、カリウムを含む低融点ガラ
ス2′を有する当該磁気ヘッドは、その寿命が格段に高
められることになる。
According to the above configuration, since the low melting point glass 2 containing sodium is used until the head chip body 10 whose glass welding is completed is obtained, the ease of vitrification of the low melting point glass 2 can be effectively brought out. High reliability of welding and ease of processing can be achieved. Then, after entering the stage where vitrification does not need to be considered, ion exchange treatment is performed, and as this ion exchange treatment exchanges small sodium ions with large potassium ions, the tensile stress in the glass increases. Glass strength can be improved. In addition, glass containing potassium has high hardness (in the case of this example, the Pinkers hardness before ion exchange was 350, but the Vickers hardness after ion exchange improved to 600), and has high wear resistance. Since the magnetic head has high properties such as water resistance, water resistance, and chemical resistance, the life of the magnetic head having the low melting point glass 2' containing potassium is significantly increased.

〔発明の効果〕 、 本発明に係る磁気ヘッドの製造方法は、以上のように、
基板表面に形成された略■字状の多溝に対してその一方
の側壁面に所定の膜厚で軟磁性薄膜を形成する工程、お
よび、この軟磁性薄膜の形成された一対の基板を突き合
わせて低融点ガラスにて溶着する工程を有する磁気ヘッ
ドの製造方法において、溶着後の低融点ガラスに対して
イオン交換処理を施す工程を有している構成である。
[Effects of the Invention] As described above, the method for manufacturing a magnetic head according to the present invention has the following steps.
A process of forming a soft magnetic thin film with a predetermined film thickness on one side wall surface of the substantially ■-shaped multi-grooves formed on the substrate surface, and butting a pair of substrates on which this soft magnetic thin film has been formed. The method for manufacturing a magnetic head includes a step of welding low-melting point glass with the welded glass, and includes a step of subjecting the low-melting point glass to an ion exchange treatment after welding.

これにより、溶着前の低融点ガラスについては、ガラス
化が容易で溶着性および加工性に優れた例えばナトリウ
ムを含むガラスを用いて磁気ヘッド製造の容易化を図る
ことができる一方、ガラス溶着後においては、イオン交
換処理により、溶着済ガラスを例えばカリウムを含むガ
ラスに変化させ、当該カリウムを含むガラスの有する高
硬度、高耐摩耗性、高耐水性、高耐化学性の利点、さら
には高強度化の利点を磁気ヘッドに持たせて、磁気ヘッ
ドの長寿命化を図ることができるという効果を奏する。
As a result, it is possible to simplify the manufacturing of magnetic heads by using low melting point glass before welding, such as glass containing sodium, which is easy to vitrify and has excellent weldability and workability. By using ion exchange treatment, welded glass is changed into, for example, potassium-containing glass, and the potassium-containing glass has the advantages of high hardness, high abrasion resistance, high water resistance, and high chemical resistance, as well as high strength. This has the effect that the magnetic head can have the advantages of the above, and the life of the magnetic head can be extended.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図ないし第4図は本発明の一実施例を示すものであ
る。 第1図(a)(b)および(d)〜(f)はそれぞれ溝
加工からガラスモールディングに至るまでの磁気ヘッド
の製造方法の各段階を示す断面図、同図(c)は真空蒸
着法による場合の蒸着粒子飛来方向を示す説明図である
。 第2図(a)〜(C)はそれぞれガラスモールドされた
基板の切り出しからヘッドブロックを得るに至るまでの
磁気ヘッドの製造方法の各段階を示す斜視図である。 第3図(a)はイオン交換前のへラドチップ本体を示す
斜視図、同図(b)はイオン交換後のヘッドチップ本体
を示す斜視図である。 第4図(a)はイオン交換前のナトリウムを含むガラス
の状態を示す模式図、同図(b)はイオン交換後のカリ
ウムを含むガラスの状態を示す模式図である。 第5図ないし第7図は従来例を示すものである。 第5図(a)〜(C)はそれぞれ溝加工からガラスモー
ルデイン、グに至るまでの磁気ヘッドの製造方法の各段
階を示す断面図である。 第6図(a)および(b)はそれぞれガラスモールドさ
れた基板の切り出しからヘッドブロックを得るに至るま
での磁気ヘッドの製造方法の各段階を示す斜視図である
。 第7図はへラドチップ本体を示す斜視図である。 1は感光性結晶化ガラス、2はナトリウムを含む低融点
ガラス、2′はカリウムを含む低融点ガラス、3は軟磁
性薄膜、4は非磁性酸化膜、5は金属Ti膜、6は金属
Cr膜、7は溝、10はへラドチップ本体である。
1 to 4 show one embodiment of the present invention. 1(a), 1(b) and 1(d) to 1(f) are cross-sectional views showing each step of the magnetic head manufacturing method from groove processing to glass molding, and FIG. 1(c) is a vacuum evaporation method. FIG. 3 is an explanatory diagram showing the flying direction of vapor deposited particles in the case of FIG. FIGS. 2A to 2C are perspective views showing each step of the magnetic head manufacturing method from cutting out a glass-molded substrate to obtaining a head block. FIG. 3(a) is a perspective view showing the head chip body before ion exchange, and FIG. 3(b) is a perspective view showing the head chip body after ion exchange. FIG. 4(a) is a schematic diagram showing the state of glass containing sodium before ion exchange, and FIG. 4(b) is a schematic diagram showing the state of glass containing potassium after ion exchange. 5 to 7 show conventional examples. FIGS. 5A to 5C are cross-sectional views showing each step of the magnetic head manufacturing method from groove processing to glass molding and molding. FIGS. 6(a) and 6(b) are perspective views showing each step of the magnetic head manufacturing method from cutting out a glass-molded substrate to obtaining a head block. FIG. 7 is a perspective view of the Herad tip body. 1 is a photosensitive crystallized glass, 2 is a low-melting glass containing sodium, 2' is a low-melting glass containing potassium, 3 is a soft magnetic thin film, 4 is a non-magnetic oxide film, 5 is a metal Ti film, 6 is a metal Cr 7 is a groove, and 10 is a helad tip body.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、基板表面に形成された略V字状の各溝に対してその
一方の側壁面に所定の膜厚で軟磁性薄膜を形成する工程
、および、この軟磁性薄膜の形成された一対の基板を突
き合わせて低融点ガラスにて溶着する工程を有する磁気
ヘッドの製造方法において、 溶着後の低融点ガラスに対してイオン交換処理を施す工
程を有していることを特徴とする磁気ヘッドの製造方法
[Claims] 1. A step of forming a soft magnetic thin film with a predetermined thickness on one side wall surface of each substantially V-shaped groove formed on the substrate surface; A method for manufacturing a magnetic head comprising a step of butting together a pair of formed substrates and welding them with low melting point glass, characterized by comprising a step of subjecting the low melting point glass after welding to an ion exchange treatment. A method of manufacturing a magnetic head.
JP20516089A 1989-08-08 1989-08-08 Production of magnetic head Pending JPH0369007A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6559956B2 (en) * 1999-05-27 2003-05-06 Xerox Corporation Butted sensor array with supplemental chip in abutment region

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US6559956B2 (en) * 1999-05-27 2003-05-06 Xerox Corporation Butted sensor array with supplemental chip in abutment region

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