JPH0367241A - Silver halide photographic sensitive material - Google Patents

Silver halide photographic sensitive material

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JPH0367241A
JPH0367241A JP9157290A JP9157290A JPH0367241A JP H0367241 A JPH0367241 A JP H0367241A JP 9157290 A JP9157290 A JP 9157290A JP 9157290 A JP9157290 A JP 9157290A JP H0367241 A JPH0367241 A JP H0367241A
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silver halide
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Nobuaki Inoue
井上 伸昭
Hisashi Okada
久 岡田
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Abstract

PURPOSE:To obtain a silver halide photographic sensitive material giving a fine line image or ensuring superior image quality such as suitability to grain enlargement or reduction by incorporating specified compds. into an emulsion layer or other hydrophilic colloidal layer. CONSTITUTION:At least one photosensitive silver halide emulsion layer is formed on a support and at least one kind of hydrazine deriv., at least one kind of compd. having a thioamido bond and a redox compd. releasing a development inhibitor on being oxdized are incorporated into the emulsion layer or other hydrophilic colloidal layer. The redox group of the redox compd. is preferably selected among hydroquinones, catechols, naphthohydroquinones, aminophenols, pyrazolidones, hydrazines, hydroxylamines and reductones, especially hydrazines. A fine line image is obtd. or suitability to grain enlargement and reduction is improved.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はハロゲン化鐵写真感光材料に関し、特に写真製
版用に用いられる超硬調ハロゲン化銀写真感光材料に関
する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a iron halide photographic light-sensitive material, and particularly to an ultra-high contrast silver halide photographic light-sensitive material used for photolithography.

(従来技術) 写真製版の分野においては、印刷物の多様性、?j[難
性に対処するために、オリジナル再現性の良好な写真感
光材料、安定な処理液あるいは、補充の簡易化などの要
望がある。
(Prior art) In the field of photoengraving, there is a wide variety of printed matter. j [To address these difficulties, there are demands for photographic materials with good original reproducibility, stable processing solutions, and easier replenishment.

特に線画撮影工程における、原稿は写植文字、手書きの
文字、イラスト、網点化された写真などが貼り込まれて
作られる。したがって原稿には、濃度や、線巾の異なる
画像が混在し、これらの原稿を再現よく仕上げる製版カ
メラ、写真感光材料あるいは、画像形成方法が強く望ま
れている。−方、カタログや、大型ボスク−の製版には
、網写真の拡大(目伸し)あるいは縮小(目縮め)が広
く行なわれ、網点を拡大して用いる製版では、線数が粗
くなりポケた点の撮影となる。縮小では原稿よりさらに
線数/インチが大きく細い点の撮影になる。従ってmP
fllの再現性を維持するためより一層広いラチチユー
ドを有する画像形成方法が要求されている。
Particularly in the line drawing process, manuscripts are created by pasting typesetting characters, handwritten characters, illustrations, halftone photographs, etc. Therefore, a document contains images of different densities and line widths, and there is a strong desire for a plate-making camera, a photosensitive material, or an image forming method that can finish these documents with good reproduction. On the other hand, enlarging (stretching) or reducing (shrinking) halftone photographs is widely used in plate making for catalogs and large bossks. The photograph will be taken at the point. When reduced, the number of lines per inch is larger than that of the original, and a thinner point is photographed. Therefore mP
In order to maintain full reproducibility, an image forming method having a wider latitude is required.

製版用カメラの光源としては、ハロゲンランプあるいは
、キセノンランプが用いられている。これらの光源に対
して撮影感度を得るために、写真感光材料は通常オルソ
増感が施される。ところがオルソ増感した写真感光材料
はレンズの色収差の影響をより強く受け、そのために画
質が劣化しやすいことが判明した。またこの劣化はキセ
ノンランプ光源に対してより顕著となる。
A halogen lamp or a xenon lamp is used as a light source for a plate-making camera. In order to obtain sensitivity to these light sources, photographic materials are usually orthosensitized. However, it has been discovered that ortho-sensitized photographic materials are more strongly affected by the chromatic aberration of lenses, and as a result, image quality tends to deteriorate. Moreover, this deterioration is more noticeable for xenon lamp light sources.

広いラチチユードの要望に応えるシステムとして塩臭化
銀(すくなくとも塩化錫含有率が50%以上)から威る
リス型ハロゲン化銀感光材料を、亜硫酸イオンの有効濃
度をきわめて低くした(通常0.1モル/l以下)ハイ
ドロキノン現像液で処理することにより、画像部と非画
像部が明瞭に区別された、高いコントラストと高い黒化
濃度をもつ線画あるいは網点画像を得る方法が知られて
いる。しかしこの方法では現像液中の亜硫酸濃度が低い
ため、現像は空気酸化に対して極めて不安定であり、液
活性を安定に保つためにさまざまな努力と工夫がなされ
て使用されていたり、処理スピードが著しく遅く、作業
効率を低下させているのが現状であった。
As a system that meets the demands of a wide range of latitudes, lithium-type silver halide photosensitive materials are made from silver chlorobromide (containing at least 50% tin chloride), but the effective concentration of sulfite ions is extremely low (usually 0.1 mol). A known method is to obtain a line or halftone image with high contrast and high blackening density, in which image areas and non-image areas are clearly distinguished, by processing with a hydroquinone developer. However, due to the low concentration of sulfite in the developing solution, this method is extremely unstable to air oxidation, and various efforts and innovations have been made to keep the solution activity stable. Currently, the process is extremely slow, reducing work efficiency.

このため、上記のような現像方法(リス現像システム)
による画像形成の不安定さを解消し、良好な保存安定性
を有する処理液で現像し1、超硬調な写真特性が得られ
る画像形成システムが要望され、その1つとして米国特
許4,166.742号、同4,168,977号、同
4,221,857号、同4,224,401号、同4
,243゜739号、同4,272.606号、同4,
31).781号にみられるように、特定のアシルヒド
ラジン化合物を添加した表面潜像型ハロゲン化銀写真感
光材料を、pH1),0〜12.3で亜硫酸保恒剤を0
.15モル/2以上含み、良好な保存安定性を有する現
像液で処理して、rが10を越える超1iJ!mのネガ
画像を形成するシステムが提案された。この新しい画像
形成システムには、従来の超硬調画像形成では塩化銀含
有率の高い塩臭化銀しか使用できなかったのに対して、
沃臭化銀や塩沃臭化銀でも使用できるという特徴がある
For this reason, the above development method (lith development system)
There is a need for an image forming system that eliminates the instability of image formation caused by the method, develops with a processing solution that has good storage stability, and obtains ultra-high contrast photographic characteristics.One example of this is US Pat. No. 4,166. No. 742, No. 4,168,977, No. 4,221,857, No. 4,224,401, No. 4
, 243°739, 4,272.606, 4,
31). As seen in No. 781, a surface latent image type silver halide photographic light-sensitive material to which a specific acylhydrazine compound was added was prepared at a pH of 1), 0 to 12.3, and sulfite preservative was added to 0.
.. Processed with a developer containing 15 mol/2 or more and having good storage stability, super 1iJ with r exceeding 10! A system for forming negative images of m was proposed. This new image forming system can only use silver chlorobromide, which has a high silver chloride content, in contrast to conventional ultra-high contrast image forming.
It has the characteristic that silver iodobromide and silver chloroiodobromide can also be used.

上記画像システムはシャープな網点品質、処理安定性、
迅速性およびオリジナルの再現性という点ですぐれた性
能を示すが、近年の印刷物の多様性に対処するためにさ
らに安定でオリジナル再現性の改良されたシステムが望
まれている。
The above image system has sharp halftone dot quality, processing stability,
Although the system exhibits excellent performance in terms of speed and original reproducibility, there is a need for a system that is more stable and has improved original reproducibility in order to cope with the diversity of printed materials in recent years.

ヒドラジンを用いた系で、酸化されることにより現像抑
制剤を放出するレドックス化合物を含有する例は特開昭
61−213847号、同64−72140号に開示さ
れている。一方、チオアミド化合物を含有する例は特開
昭53−137133号、同61−47943号、特願
昭62−278692号に開示されている。
Examples of systems using hydrazine containing a redox compound that releases a development inhibitor upon oxidation are disclosed in JP-A-61-213847 and JP-A-64-72140. On the other hand, examples containing thioamide compounds are disclosed in JP-A-53-137133, JP-A-61-47943, and JP-A-62-278692.

(本発明が解決しようとする問題点) 本発明の第1の目的は線画あるいは目伸し、目縮め適性
などの画質がすぐれたハロゲン化銀写真感光材料を提供
することにある。
(Problems to be Solved by the Present Invention) The first object of the present invention is to provide a silver halide photographic light-sensitive material which has excellent image quality such as suitability for line drawing, eye stretching, and eye shrinkage.

本発明の第2の目的は、大量のフィルムを処理すること
によってpHが低下したり、臭素イオン濃度が増加して
も感度、TおよびDmaxの低下が少ないハロゲン化銀
写真感光材料を提供することである。
A second object of the present invention is to provide a silver halide photographic material in which sensitivity, T, and Dmax do not decrease much even when the pH decreases or the bromide ion concentration increases due to processing of a large amount of film. It is.

(問題点を解決するための手段) 本発明の上記目的は支持体上に少なくとも1層の感光性
ハロゲン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料
において該乳剤層又はその他、の親水性コロイド層にヒ
ドラジン誘導体、チオアミド結合を有する化合物および
酸化されることにより現像抑制剤を放出するレドックス
化合物をそれぞれ少なくとも1種含有することを特徴と
するハロゲン化銀写真感光材料によって達成された。
(Means for Solving the Problems) The above object of the present invention is to provide a silver halide photographic material having at least one photosensitive silver halide emulsion layer on a support, in which the emulsion layer or other hydrophilic colloids are added. This was achieved by a silver halide photographic material characterized in that the layer contains at least one of a hydrazine derivative, a compound having a thioamide bond, and a redox compound that releases a development inhibitor when oxidized.

本発明の酸化されることにより現像抑制剤を放出しうる
レドックス化合物について説明する。
The redox compound of the present invention that can release a development inhibitor when oxidized will be explained.

レドックス化合物のレドックス基としては、ハイドロキ
ノン類、カテコール類、ナフトハイドロキノン類、アミ
ノフェノール類、ピラゾリドン類、ヒドラジン類、ヒド
ロキシルアくン類、レダクトン類であることが好ましく
、ヒドラジン類であることがさらに好ましい。
The redox group of the redox compound is preferably hydroquinones, catechols, naphthohydroquinones, aminophenols, pyrazolidones, hydrazines, hydroxylaquines, or reductones, and more preferably hydrazines. .

本発明の酸化されることにより現像抑制剤を放出しろる
レドックス化合物として用いられるヒドラジン類は好ま
しくは以下の一般式(R−1)、一般式(R−2)、一
般式(R−3)で表わされる。一般式(R−1)で表わ
される化合物が特に好ましい。
The hydrazines used as the redox compound that releases a development inhibitor upon oxidation of the present invention are preferably represented by the following general formulas (R-1), (R-2), and (R-3): It is expressed as A compound represented by general formula (R-1) is particularly preferred.

一般式(R−1) A+  At 一般式(R−2) A、Ih 4 一般式(R−3) O これらの式中、R’ は脂肪族基または芳香族基○ 1 または−P−基を表わす、G8は単なる結合手、G、−
R。
General formula (R-1) A+ At General formula (R-2) A, Ih 4 General formula (R-3) O In these formulas, R' is an aliphatic group or aromatic group○ 1 or -P- group , G8 is just a bond, G, -
R.

一〇−−3−または−N−を表わし、R2は水t 素原子またはR,を表わす。10--3- or -N-, R2 is water t Represents an elementary atom or R.

A+ 、Axは水素原子、アルキルスルホニル基、アリ
ールスルホニル基またはアシル基を表わし置換されてい
ても良い、一般式(R−1)ではA1)八〇の少なくと
も一方は水素原子である。AxはA、と同義または−C
HzCH+Ti+ie) t−PUGを表わす。
A+ and Ax represent a hydrogen atom, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group or an acyl group, and may be substituted. In the general formula (R-1), at least one of A1) 80 is a hydrogen atom. Ax is synonymous with A or -C
HzCH+Ti+ie) represents t-PUG.

4 A4はニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、スルホ基
または−G、−G、−R,を表わす。
4 A4 represents a nitro group, a cyano group, a carboxyl group, a sulfo group, or -G, -G, -R.

Timeは二価の連結基を表わし、tはOまたは1を表
わす、PUGは現像抑制剤を表わす。
Time represents a divalent linking group, t represents O or 1, and PUG represents a development inhibitor.

一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)についてさ
らに詳細に説明する。
General formulas (R-1), (R-2), and (R-3) will be explained in more detail.

一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)において、
R,で表される脂肪族基は好ましくは炭素数1〜30の
ものであって、特に炭素数1〜20の直鎖、分岐または
環状のアルキル基である。
In general formulas (R-1), (R-2), (R-3),
The aliphatic group represented by R is preferably one having 1 to 30 carbon atoms, particularly a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms.

ここで分岐アルキル基はその中に1つまたはそれ以上の
へテロ原子を含んだ飽和のへテロ環を形成するように環
化されていてもよい、またこのアルキル基は、アリール
基、アルコキシ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、
カルボンアミド基等の置換基を有していてもよい。
The branched alkyl group may be cyclized to form a saturated heterocycle containing one or more heteroatoms, and the alkyl group may be an aryl group, an alkoxy group, or , sulfoxy group, sulfonamide group,
It may have a substituent such as a carbonamide group.

一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)においてR
8で表される芳香族基は単環または2環のアリール基ま
たは不飽和へテロ環基である。ここで不飽和へテロ環基
は単環または2環のアリール基と縮合してヘテロアリー
ル基を形成してもよい。
In general formulas (R-1), (R-2), (R-3), R
The aromatic group represented by 8 is a monocyclic or bicyclic aryl group or an unsaturated heterocyclic group. Here, the unsaturated heterocyclic group may be condensed with a monocyclic or bicyclic aryl group to form a heteroaryl group.

例えばベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、ピリミ
ジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、キノリン環、
イソキノリン環、ベンズイミダゾール環、チアゾール環
、ベンゾチアゾール環等があるがなかでもベンゼン環を
含むものが好ましい。
For example, benzene ring, naphthalene ring, pyridine ring, pyrimidine ring, imidazole ring, pyrazole ring, quinoline ring,
Examples include isoquinoline ring, benzimidazole ring, thiazole ring, and benzothiazole ring, among which those containing a benzene ring are preferred.

R1として侍に好ましいものはアリール基である。Preferred R1 for samurai is an aryl group.

R1のアリール基または不飽和へテロ環基は置換されて
いてもよく、代表的な置換基としては、例えばアルキル
基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アル
コキシ基、アリール基、置換アミノ基、ウレイド基、ウ
レタン基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カル
バモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホ
ニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子
、シアノ基、スルホ基、アリールオキシカルボニル基、
アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、
カルボンアミド基、スルホンアミド基、カルボキシル基
、リン酸アミド基などが挙げられ、好ましい置換基とし
ては直鎖、分岐または環状のアルキル基(好ましくは炭
素数1〜20のもの)、アラルキル基(好ましくはアル
キル部分の炭素数1〜20の単環または2環のもの)、
アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜30のもの)、置
換アミノ基(好ましくは炭素数1〜30のアルキル基で
置換されたアミ)基)、アシルアミノ基(好ましくは炭
素数2〜40を持つもの)、スルホンアミド基(好まし
くは炭素数1〜40を持つもの)、ウレイド基(好まし
くは炭素数1〜40を持つもの)、リン酸アミド基(好
ましくは炭素数1〜40のもの)などである。
The aryl group or unsaturated heterocyclic group of R1 may be substituted, and typical substituents include an alkyl group, an aralkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an alkoxy group, an aryl group, a substituted amino group, Ureido group, urethane group, aryloxy group, sulfamoyl group, carbamoyl group, alkylthio group, arylthio group, sulfonyl group, sulfinyl group, hydroxy group, halogen atom, cyano group, sulfo group, aryloxycarbonyl group,
Acyl group, alkoxycarbonyl group, acyloxy group,
Examples include carbonamide group, sulfonamide group, carboxyl group, phosphoric acid amide group, etc. Preferred substituents include linear, branched or cyclic alkyl group (preferably one having 1 to 20 carbon atoms), aralkyl group (preferably is a monocyclic or bicyclic alkyl moiety having 1 to 20 carbon atoms),
Alkoxy group (preferably one having 1 to 30 carbon atoms), substituted amino group (preferably an amino group substituted with an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms), acylamino group (preferably one having 2 to 40 carbon atoms) ), sulfonamide group (preferably having 1 to 40 carbon atoms), ureido group (preferably having 1 to 40 carbon atoms), phosphoric acid amide group (preferably having 1 to 40 carbon atoms), etc. be.

一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)と1 しては−C−基、−SO□−基が好ましく、−C−基が
最も好ましい。
For general formulas (R-1), (R-2), and (R-3), -C- group and -SO□- group are preferable, and -C- group is most preferable.

AI、Axは水素原子、炭素数20以下のアルキルスル
ホニル基およびアリールスルホニル基(好ましくはフェ
ニルスルホニル基又は)\メットの置換基定数の和が−
0,5以上となるように置換されたフェニルスルホニル
基)、炭素数20以下のアシルTE(好ましくはベンゾ
イル基、又は)\メットの置換基定数の和が−0,5以
上となるように置換されたベンゾイル基、あるいは直談
又は分岐状又は環状の無置換及び置換脂肪族アシル基(
置換基としては例えばハロゲン原子、エーテル基、スル
ホンアミド基、カルボンアミド基、水酸基、カルボキシ
基、スルホン酸基が挙げられる。))が好ましい。
AI and Ax are hydrogen atoms, alkylsulfonyl groups having 20 or less carbon atoms, and arylsulfonyl groups (preferably phenylsulfonyl groups or)\met, where the sum of the substituent constants is -
(phenylsulfonyl group substituted so that 0.5 or more), acyl TE (preferably benzoyl group, or) \met having 20 or less carbon atoms, substituted so that the sum of the substituent constants of \met is -0.5 or more benzoyl groups, or direct, branched or cyclic unsubstituted and substituted aliphatic acyl groups (
Examples of the substituent include a halogen atom, an ether group, a sulfonamide group, a carbonamide group, a hydroxyl group, a carboxy group, and a sulfonic acid group. )) is preferred.

AI 、Axとしては水素原子が最も好ましい。As AI and Ax, a hydrogen atom is most preferable.

A、としては水素原子、−CHt−CH−+Timeh
 c PUG4 が最も好ましい。
A is a hydrogen atom, -CHt-CH-+Timeh
c PUG4 is most preferred.

一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)においてT
imeは二価の連結基を表わし、タイミングmi!ff
機能を有していてもよい、tはOまたは1を表わす。
In general formulas (R-1), (R-2), and (R-3), T
ime represents a divalent linking group, and timing mi! ff
t represents O or 1, which may have a function.

Timeで表わされる二価の連結基は酸化還元母核の酸
化体から放出されるT i m e −P U Gから
一段階あるいは、その以上の段階の反応を経てPUGを
放出せしめる基を表わす。
The divalent linking group represented by Time represents a group that releases PUG from Time-PUG released from the oxidized product of the redox mother nucleus through one or more reaction steps.

Timeで表わされる二価の連結基としては、例えば米
国特許第4.248,962号(特開昭54−145,
135号)等に記載のp−ニトロフェノキシ誘導体の分
子内閉環反応によってPUGを放出するもの;米国特許
第4,310゜612号(特開昭55−53,330号
)および同4,358,525号等に記載の環開裂後の
分子内閉環反応によってPUGを放出するもの;米国特
許第4,330.617号、同4,446゜216号、
同4,483,919号、特開昭59−121.328
号等に記載のコハク酸モノエステルまたはその類縁体の
カルボキシル基の分子内閉環反応による酸無水物の生成
を伴って、PUGを放出するもの;米国特許第4,40
9,323号、同4,421.845号、リサーチ・デ
ィスクロージャー誌NCL21.228 (1981年
12月)、米国特許第4,416,977号(特開昭5
7−135,944号)、特開昭58−209゜736
号、同58−209.738号等に記載の了り−ルオキ
シ基またはへテロ環オキシ基が共役した二重結合を介し
た電子移動によりキノモノメタン、またはその類縁体を
生成してPUGを放出するもの;米国特許第4,420
,554号(特開昭57−136,640号)、特開昭
57−135.945号、同57−188,035号、
同58−98,728号および同5B−209,737
号等に記載の含窒素へテロ環のエナミン構造を有する部
分の電子移動によりエナミンの7位よりPUGを放出す
るもの;特開昭57−56,837号に記載の含窒素へ
テロ環の窒素原子と共役したカルボニル基への電子移動
により生成したオキシ基の分子内閉環反応によりPUG
を放出するもの;米国特許第4,146,396号(特
開昭52−90932号)、特開昭59−93,442
号、特開昭59−75475号、特開昭60−2491
48号、特開昭60−249149号等に記載のアルデ
ヒド類の生成を伴ってPUGを放出するもの;特開昭5
1−146,828号、同57−179,842号、同
59−104,641号に記載のカルボキシル基の脱炭
酸を伴ってPUGを放出するもの; −0−COOCR
−Rh−PLIG (R,、R5は一価の基を表わす、
)の構造を有し、脱炭酸と引き続くアルデヒド面の生成
を伴ってPUGを放出するもの;特開昭60−7,42
9号に記載のインシアナートの生成を伴ってPUGを放
出するもの;米国特許第4,438,193号等に記載
のカラー現像薬の酸化体とのカップリング反応によりP
UGを放出するものなどを挙げることができる。
As the divalent linking group represented by Time, for example, U.S. Pat.
U.S. Pat. Those that release PUG by an intramolecular ring-closing reaction after ring cleavage as described in US Pat. No. 4,330.617, US Pat.
No. 4,483,919, JP 59-121.328
U.S. Patent No. 4,40, which releases PUG with the production of an acid anhydride through an intramolecular ring-closing reaction of the carboxyl group of a succinic acid monoester or its analog described in US Patent No. 4,40.
No. 9,323, No. 4,421.845, Research Disclosure Magazine NCL 21.228 (December 1981), U.S. Patent No. 4,416,977 (Japanese Patent Application Laid-open No. 5
No. 7-135,944), JP-A-58-209゜736
No. 58-209.738, etc., quinomonomethane or its analogues are produced by electron transfer via a double bond conjugated with an oxy group or a heterocyclic oxy group, and PUG is released. U.S. Patent No. 4,420
, No. 554 (Japanese Unexamined Patent Publication No. 57-136,640), Unexamined Japanese Patent Application No. 57-135.945, No. 57-188,035,
No. 58-98,728 and No. 5B-209,737
A nitrogen-containing heterocycle which releases PUG from the 7-position of the enamine by electron transfer of the moiety having an enamine structure in the nitrogen-containing heterocycle described in JP-A No. 57-56,837; PUG is formed by an intramolecular ring-closing reaction of an oxy group generated by electron transfer to a carbonyl group conjugated with an atom.
Those that emit
No., JP-A-59-75475, JP-A-60-2491
48, JP-A-60-249149, etc., which release PUG with the production of aldehydes; JP-A-Sho. 5
1-146,828, 57-179,842, and 59-104,641 which release PUG with decarboxylation of carboxyl groups; -0-COOCR
-Rh-PLIG (R,, R5 represents a monovalent group,
), which releases PUG with decarboxylation and subsequent generation of aldehyde surfaces; JP-A-60-7,42
PUG is released with the formation of incyanate as described in No. 9;
Examples include those that release UG.

一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)のTime
で表わされる二価の基は好ましくは以下の一般式(T−
1)から一般式(T−6>で表わされる。これらにおい
て**はTimeがPUGに結合する部位を表わし、 本は他方の結合部位を 表わす。
Time of general formulas (R-1), (R-2), (R-3)
The divalent group represented by is preferably represented by the following general formula (T-
1) is represented by the general formula (T-6>. In these, ** represents the site where Time binds to PUG, and book represents the other binding site.

一般式(T−1) 式中、Wは酸素原子、イオウ原子または−N−13 基を表わし、R8およびR1)は水素原子または置換基
を表わし、。R1)は置換基を表わし、Lは1または2
を表わすe 1が2のとき2つの−W−C−IK は同しものもしくは異なるものを表わす、R8およびR
I2が置換基を表わすときおよびR1,の代表的な例は
各々R14基、R,、CO−基、R14SO2−基、R
,、NC0−基またはIS R+ −N SOz−基などが挙げられる8ここでR1
4I5 は脂肪族基、芳香族基または複素環基を表わし、R15
は脂肪族基、芳香族基、複素環基または水素原子を表わ
す。
General Formula (T-1) In the formula, W represents an oxygen atom, a sulfur atom or a -N-13 group, and R8 and R1) represent a hydrogen atom or a substituent. R1) represents a substituent, L is 1 or 2
When e 1 is 2, two -W-C-IK represent the same or different, R8 and R
When I2 represents a substituent and R1, representative examples are R14 group, R, CO- group, R14SO2- group, R1, respectively.
, , NC0- group or IS R+ -N SOz- group, etc. 8 where R1
4I5 represents an aliphatic group, aromatic group or heterocyclic group, R15
represents an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group or a hydrogen atom.

R1、RI!およびR1,の各々は2価基を表わし、連
結し、環状構造を形成すζ場合も包含される。
R1, RI! Each of R1 and R1 represents a divalent group, and the case where they are linked to form a cyclic structure is also included.

一般式(T’−1)で表わされる基の具体的例としては
以下のような基が挙げられる。
Specific examples of the group represented by general formula (T'-1) include the following groups.

$−0−C1l−率本 c+ttcFi。$-0-C1l-rate book c+ttcFi.

訃0−CHz−N−CH2−*傘 一般式(T−2) *−Nu−Link−E−** 式中、 Nuは求核基を表わし、酸素原子またはイオウ原子が求
核種の例であり、Eは求電子基を表わし、Nuより求核
攻撃を受けて本本印との結合を開裂できる基でありLi
nkはNuとEとが分子内求核W換反応することができ
るように立体的に関係づける連結基を表わす、一般式(
T−2)で表わされる基の具体例としては例えば以下の
ものである。
0-CHz-N-CH2-*Umbrella general formula (T-2) *-Nu-Link-E-** In the formula, Nu represents a nucleophilic group, and an oxygen atom or a sulfur atom is an example of a nucleophilic species. , and E represents an electrophilic group, which is a group that can cleave the bond with this seal by receiving a nucleophilic attack from Nu, and Li
nk represents a linking group that sterically relates Nu and E so that they can undergo an intramolecular nucleophilic W exchange reaction, and has the general formula (
Specific examples of the group represented by T-2) are as follows.

しl′+3 し+13 O l 書−MCHffi÷了N−C−禽寧 一般式(T−3) 式中、 1 R1)・ RIKおよびtは(T−1)に ついて説明したのと同じ意味を表わす。Shil'+3 +13 O l Book-MCHffi ÷ completed N-C-Kining General formula (T-3) During the ceremony, 1 R1)・ RIK and t are (T-1) It has the same meaning as explained above.

具体的に は以下のような基が挙げられる。specifically Examples include the following groups.

1)−〇 一般式(T−4) 一般式(T−5) *−0−C−** 本−5−C−1)1 一般式(T−6) 式中、WおよびR1は一般式(T−1)において説明し
たのと同じ意味である。一般式(T−6)で表わされる
基の具体例としては以下の基が挙げられる。
1)-〇General formula (T-4) General formula (T-5) *-0-C-** Book-5-C-1)1 General formula (T-6) In the formula, W and R1 are general This has the same meaning as explained in formula (T-1). Specific examples of the group represented by general formula (T-6) include the following groups.

またTimeとしては一般式(T−1)〜−一般式T=
6)で表わされる基を複数組み合わせてできる基も有用
である。それらの好ましい具体例を以下に示す、*、*
傘は一般式(T−1)〜−一般式T−6)の場合と同義
である。
Also, as Time, general formula (T-1) ~ - general formula T=
A group formed by combining two or more groups represented by 6) is also useful. Preferred specific examples thereof are shown below: *, *
The term "umbrella" has the same meaning as in general formulas (T-1) to -general formula T-6).

傘−〇−CL C2H。Umbrella-〇-CL C2H.

/ tHs 本−〇−CHz CtHs H3 C[13 寧−0−C−O←CH2う−rN     C−”ネ 
CJs これらTimeで表わされる二価の連結基の具体例につ
いてはまた特開昭6]、−236,549号、特開昭6
4−88451号、特願昭63−98.803号等にも
詳細に記載されている。
/ tHs Hon-〇-CHz CtHs H3 C[13 Ning-0-C-O←CH2u-rN C-”ne
CJs For specific examples of these divalent linking groups represented by Time, see JP-A No. 6], -236,549, JP-A No. 6
It is also described in detail in Japanese Patent Application No. 4-88451, Japanese Patent Application No. 63-98.803, etc.

PUGは(Tjme)−z PUGまたはPUGとして
現像抑制効果を有する基を表わす。
PUG represents (Tjme)-z PUG or a group having a development inhibiting effect as PUG.

P U Gまたは(T i m e +−t P U 
Gで表わされる現像抑制剤は−・テロ原子を有し、ヘテ
ロ原子を介して結合している公知の現像抑制剤であり、
これらはたとえばシー・イー・チー・ミース(C,E。
P U G or (T im e +-t P U
The development inhibitor represented by G is a known development inhibitor that has a -tero atom and is bonded via a hetero atom,
These include, for example, C.E.C.E.

に1Mess)及びチー・工7チ・ジエームズ(τ、l
!。
1Mess) and Chi James (τ, l
! .

James)著「ザ・セオリー・オプ・ザ・フォトグラ
フィ7り・プロセス(The Theory of P
hotographicProcesses) J第3
版、1966年マクミラン(Macmillan)社刊
、344頁〜346頁などに記載されている。具体的に
はメルカプトテトラゾール類、メルカプトトリアゾール
嬉、メルカプトイミダゾール類、メルカプトピリミジン
類、メルカプトベンズイミダゾール類、メルカプトベン
ズチアゾール類、メルカプトベンズオキサゾール類、メ
ルカプトチアジアゾール類、ベンズトリアゾール□、ベ
ンズイミダゾール類、インダゾール類、アデニン類、グ
アニン類、テトラゾール類、テトラアザインデン類、ト
リアザインデン類、メルカプトアレーン類等を挙げるこ
とができる。
James) The Theory of Photography 7 Process
photographicProcesses) J3rd
ed., published by Macmillan in 1966, pages 344 to 346. Specifically, mercaptotetrazoles, mercaptotriazoles, mercaptoimidazoles, mercaptopyrimidines, mercaptobenzimidazoles, mercaptobenzthiazoles, mercaptobenzoxazoles, mercaptothiadiazoles, benztriazole□, benzimidazoles, indazoles, Examples include adenines, guanines, tetrazoles, tetraazaindenes, triazaindenes, and mercaptoarenes.

PUGで表わされる現像抑制剤は置換されていてもよい
、置換基としては、例えば以下のものが挙げられるが、
これらの基はさらに置換されていてもよい。
The development inhibitor represented by PUG may be substituted. Examples of substituents include the following:
These groups may be further substituted.

例えばアルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、アルコキシ基、アリール基、置換アミノ基、
アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、ウ
レタン基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カル
バモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホ
ニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子
、シアノ基、スルホ基、アリールオキシカルボニル基、
アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、
カルボンアミド基、スルホンアミド基、カルボキシル基
、スルホオキシ基、ホスホノ基、ホスフィニコ基、リン
酸アミド基などである。
For example, alkyl groups, aralkyl groups, alkenyl groups, alkynyl groups, alkoxy groups, aryl groups, substituted amino groups,
Acylamino group, sulfonylamino group, ureido group, urethane group, aryloxy group, sulfamoyl group, carbamoyl group, alkylthio group, arylthio group, sulfonyl group, sulfinyl group, hydroxy group, halogen atom, cyano group, sulfo group, aryloxycarbonyl basis,
Acyl group, alkoxycarbonyl group, acyloxy group,
These include a carbonamide group, a sulfonamide group, a carboxyl group, a sulfoxy group, a phosphono group, a phosphinico group, a phosphoamide group, and the like.

好ましい置換基としてはニトロ基、スルホ基、カルボキ
シル基、スルファモイル基、ホスホノ基、ホスフィニコ
基、スルホンアミド基である。
Preferred substituents include a nitro group, a sulfo group, a carboxyl group, a sulfamoyl group, a phosphono group, a phosphinico group, and a sulfonamide group.

主な現像1)w1剤を以下に示す。Main development 1) W1 agents are shown below.

ル (2)1−(4−ヒドロキシフェニル)−5−メルカプ
トテトラゾール (3)1−(4−アミノエチル)−5−メルカプトテト
ラゾール (4)1−(4−カルボキシフェニル)−5−メルカプ
トテトラゾール (5)1−(4−クロロフェニル)−5−メルカプトテ
トラゾール (6)1−(4−メチルフェニル)−5−メルカプトテ
トラゾール (7)1−(2,4−ジェトキシエチル)−5−メルカ
プトテトラゾール (8)1−(4−スルファモイルフェニル)−5−メル
カプトテトラゾール (9)1−(3−カルボキシフェニル)−5−メルカプ
トテトラゾール Gω 1−(3,5−ジカルボキシフェニル)−5−メ
ルカプトテトラゾール (II)1.−(4−メトキシフェニル)−5−メルカ
プトテトラゾール 02)  1−(2−メトキシフェニル〉−5−メルカ
プトテトラゾール Q$ 1−(4−(2−ヒドロキシエトキシ〉フェニル
]−5−メルカプトテトラゾールQ41 1−(2,4
−ジクロロフェニル)−5−メルカプトテトラゾール (151)−(4−ジメチルアミノフェニル)−5−メ
ルカプトテトラゾール 1)61)−(4−ニトロフ美ニル)−5−メルカプト
テトラゾール 01.4−ビス(5−メルカプト−1−テトラゾリル)
ベンゼン 0FfJL−(α−ナフチル)−5−メルカプトテトラ
ゾール Qll−(4−スルホフェニル)−5−メルカプトテト
ラゾール ■ 1−(3−スルホフェニル)−5−メルカプトテト
ラゾール (21)1−(β−ナフチル)−5−メルカプトテトラ
ゾール (22)  1−メチル−5−メルカプトテトラゾール
(23)  1−エチル−5−メルカプトテトラゾール
(24)  1−プロピル−5−メルカプトテトラゾー
ル (25)  1−オクチル−5−メルカプトテトラゾー
ル (26)  1−ドデシル−5−メルカプトテトラゾー
ル (27)  1−シクロヘキシル−5−メルカプトテト
ラゾール (28)  1−バルミチルー5−メルカプトテトラゾ
ール (29)  1−カルボキシエチル−5−メルカプトテ
トラゾール (30)1− (2,2−ジェトキシエチル)−5−メ
ルカプトテトラゾール (31)L−(2−アミノエチル)−5−メルカプトテ
トラゾール塩酸塩 (32)1−(2−ジエチルアミノエチル〉−5=メル
カプトテトラゾール (33)2−(5−メルカプト−1−テトラゾリル)エ
チルトリメチルアンモニウムクロリド(34)  1−
 (3−フェノキシカルボニルフェニル)−5−メルカ
プトテトラゾール (35)1−(3−マレインイごドフェニル)−6−メ
ルカプトテトラゾール 2 メルカプトド アゾール6 (1)4−フェニル−3−メルカブトトリアゾー(2)
4−フェニル−5−メチル−3−メルカプトトリアゾー
ル (3)4.5−ジフェニル−3−メルカプトトリアゾー
ル (4)4−(4−カルボキシフェニル)−3−メルカプ
トトリアゾール (5)4−メチル−3−メルカプトトリアゾール(6)
4−(2−ジメチルアミノエチル)−3−メルカプトト
リアゾール (7)4−(α−ナフチル)−3−メルカプトトリアゾ
ール (8)4−(4−スルホフェニル)−3−メルカプトト
リアゾール (9)4−(3−二トロフェニル)−3−メルカプトト
リアゾール ル (2)1.5−ジフェニル−2−メルカプトイもダゾー
ル (31)−(4−カルボキシフェニル)−2−メルカプ
トイミダゾール (4)1−(4−へキシルカルバモイル)−2−メルカ
プトイミダゾール (5)1−(3−ニトロフェニル)−2−メルカプトイ
雫ダゾール (6)l−(4−スルホフェニル)−2−メルカプトイ
よダゾール ルカ  ピ 毫ジン チオウラシル メチルチオウラシル エチルチオウラシル プロビルチオウラシル ノニルチオウラシル アミノチオウラシル ヒドロキシチオウラシル メルカプ ベンダイ8 ・−ルー (1)2−メルカプトベンズイミダゾール(2)5−カ
ルボキシ−2−メルカプトベンズイミダゾール (3)5−アミノ−2−メルカプトベンズイミダゾール (4)5−ニトロ−2−メルカプトベンズイミダゾール (5)5−クロロ−2−メルカプトベンズイミダゾール (6)5−メトキシ−2−メルカプトベンズイミダゾー
ル (7)2−メルカプドナ7トイaダゾール(8)2−メ
ルカプト−5−スルホベンズイミダゾール (9)1−(2−ヒドロキシエチル)−2−メルカプト
ベンズイミダゾール Ill  5−カプロアミド−2−メルカプトベンズイ
ミダゾール (105−(2−エチルヘキサノイルアよ〕)〜2−メ
ルカブトベンズイミダゾール メルカ   アジアゾール′ (1)5−メチルチオ−2−メルカプト−1,3゜4−
チアジアゾール (2) 5−エチルチオ−2−メルカプト−193゜4
−チアジアゾール (3)5−(2−ジメチルアミノエチルチオ)−2−メ
ルカプト−1,3,4−チアジアゾール (4)5−(2−カルボキシプロピルチオ)−2−メル
カプト−1,3,4−チアジアゾール(5)2−フェノ
キシカルボニルメチルチオ−5−メルカプト−1,3,
4−チアジアゾールルカ  ベンズ  ゾール (1)2−メルカプトベンズチアゾール(215−ニト
ロ−2−メルカプトベンズチアゾール (3)5−カルボキシ−2−メルカプトベンズチアゾー
ル (4)5−スルホ−2−メルカプトベンズチアゾール 8 メルカプトベンズオキサゾール− (1)2−メルカブトペンズオキサゾール(2)5−ニ
トロ−2−メルカプトベンズオキサゾール (3)5−カルボキシ−2−メルカプトベンズオキサゾ
ール (4)5−スルホ−2−メルカプトベンズオキサゾール 9 ベンゾ 1アゾール6 (1)5.6−シメチルベンゾトリアゾール(2)5−
ブチルベンゾトリアゾール (3)5−メチルベンゾトリアゾール (415−クロロベンゾトリアゾール (5)5−ブロモベンゾトリアゾール (6)5.6−ジクロロベンゾトリアゾール(7)4,
6−ジクロロベンゾトリアゾール(8)  5−ニトロ
ベンゾトリアゾール(9)  4−二トロー6−クロロ
−ベンゾトリアゾール α0)  4.5.6−ドリクロロベンゾトリアゾール 01〕5−カルボキシベンゾトリアゾール02)5−ス
ルホベンゾトリアゾール Na塩1)3)  5−メト
キシカルポニルベンゾトI77ゾール 5−アミノベンゾトリアゾール 5−ブトキシベンゾトリアゾール 5−ウレイドベンゾトリアゾール ベンゾトリアゾール 5−フェノキシカルボニルベンゾトリアゾール (19)5−(2,3−ジクロロプロピルオキシカルボ
ニル)ベンゾトリアゾール ペンズイミ ゾール葎 ベンズイミダゾール 5−クロロベンズイξタソール 5−ニトロベンズイミタソール 5−n−ブチルベンズイミダゾール 5−メチルベンズイミダゾール 4−クロロペンズイミタソール 5.6−シメチルベンズイミダゾール 5−ニトロ−2−()リフルオロメチル)ベンズイミダ
ゾール イン ゾール6 (1)5−ニトロインダゾール (2)6−ニトロインダゾール (3)5−アミノインダゾール (4)6−アミノインダゾール (5)  インダゾール (6)3−ニトロインダゾール (7)  5−ニトロ−3−クロロインダゾール(8)
  3−クロロ−5−二トロインタソール(9)  3
−カルボキシ−5−ニトロインダシ−ルート−ゾール1 (1)5−(4−ニトロフェニル)テトラゾール(2)
5−フェニルテトラゾール (315−(3−カルボキシフェニル)−テトラン −
ル 13  テトーザインー゛ン一 (1)4−ヒドロキシ−6−メチル−5−ニトロ−1,
3,3a、7−チトラアザインデン(2)  4−メル
カプトル6−メチル−5−ニトロ−1,3,3a、7−
チトラアザインデンメルカブトア −ル涌 0)4−ニトロチオフェノール (2)  チオフェノール (3)2−カルボキシチオフェノール また一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)におい
て、R,または−+Time←tPUGは、その中にカ
プラー等の不動性写真用添加剤において常用されている
バラスト基や一般式(R−1)、(R−2)、(R−3
)で表わされる化合物がハロゲン化銀に吸着することを
促進する基が組み込まれていてもよい。
(2) 1-(4-hydroxyphenyl)-5-mercaptotetrazole (3) 1-(4-aminoethyl)-5-mercaptotetrazole (4) 1-(4-carboxyphenyl)-5-mercaptotetrazole ( 5) 1-(4-chlorophenyl)-5-mercaptotetrazole (6) 1-(4-methylphenyl)-5-mercaptotetrazole (7) 1-(2,4-jethoxyethyl)-5-mercaptotetrazole ( 8) 1-(4-sulfamoylphenyl)-5-mercaptotetrazole (9) 1-(3-carboxyphenyl)-5-mercaptotetrazole Gω 1-(3,5-dicarboxyphenyl)-5-mercaptotetrazole (II)1. -(4-methoxyphenyl)-5-mercaptotetrazole 02) 1-(2-methoxyphenyl>-5-mercaptotetrazole Q$ 1-(4-(2-hydroxyethoxy>phenyl)-5-mercaptotetrazole Q41 1- (2,4
-dichlorophenyl)-5-mercaptotetrazole (151)-(4-dimethylaminophenyl)-5-mercaptotetrazole 1) 61)-(4-nitrophenyl)-5-mercaptotetrazole 01.4-bis(5-mercapto -1-tetrazolyl)
Benzene 0FfJL-(α-naphthyl)-5-mercaptotetrazole Qll-(4-sulfophenyl)-5-mercaptotetrazole ■ 1-(3-sulfophenyl)-5-mercaptotetrazole (21) 1-(β-naphthyl) -5-mercaptotetrazole (22) 1-methyl-5-mercaptotetrazole (23) 1-ethyl-5-mercaptotetrazole (24) 1-propyl-5-mercaptotetrazole (25) 1-octyl-5-mercaptotetrazole ( 26) 1-dodecyl-5-mercaptotetrazole (27) 1-cyclohexyl-5-mercaptotetrazole (28) 1-valmityl-5-mercaptotetrazole (29) 1-carboxyethyl-5-mercaptotetrazole (30) 1- (2 , 2-jethoxyethyl)-5-mercaptotetrazole (31) L-(2-aminoethyl)-5-mercaptotetrazole hydrochloride (32) 1-(2-diethylaminoethyl>-5 = mercaptotetrazole (33) 2 -(5-mercapto-1-tetrazolyl)ethyltrimethylammonium chloride (34) 1-
(3-phenoxycarbonylphenyl)-5-mercaptotetrazole (35) 1-(3-maleigodophenyl)-6-mercaptotetrazole 2 Mercaptodo azole 6 (1) 4-phenyl-3-mercaptotetrazole (2)
4-phenyl-5-methyl-3-mercaptotriazole (3) 4.5-diphenyl-3-mercaptotriazole (4) 4-(4-carboxyphenyl)-3-mercaptotriazole (5) 4-methyl-3- Mercaptotriazole (6)
4-(2-dimethylaminoethyl)-3-mercaptotriazole (7) 4-(α-naphthyl)-3-mercaptotriazole (8) 4-(4-sulfophenyl)-3-mercaptotriazole (9) 4- (3-nitrophenyl)-3-mercaptotriazole (2) 1,5-diphenyl-2-mercaptoy and dazole (31)-(4-carboxyphenyl)-2-mercaptoimidazole (4) 1-(4 -hexylcarbamoyl)-2-mercaptoimidazole (5) 1-(3-nitrophenyl)-2-mercaptoimidazole (6) l-(4-sulfophenyl)-2-mercaptoimidazolkapi Uracilmethylthiouracil ethylthiouracil probylthiouracil nonylthiouracylaminothiouracil hydroxythiouracil mercap Bendai 8 - Lu (1) 2-mercaptobenzimidazole (2) 5-carboxy-2-mercaptobenzimidazole (3) 5- Amino-2-mercaptobenzimidazole (4) 5-nitro-2-mercaptobenzimidazole (5) 5-chloro-2-mercaptobenzimidazole (6) 5-methoxy-2-mercaptobenzimidazole (7) 2-mercaptobenzimidazole 7 Toiadazole (8) 2-mercapto-5-sulfobenzimidazole (9) 1-(2-hydroxyethyl)-2-mercaptobenzimidazole Ill 5-caproamido-2-mercaptobenzimidazole (105-(2-ethylhexane) 2-mercabutobenzimidazole merca diazole' (1) 5-methylthio-2-mercapto-1,3゜4-
Thiadiazole (2) 5-ethylthio-2-mercapto-193゜4
-thiadiazole (3) 5-(2-dimethylaminoethylthio)-2-mercapto-1,3,4-thiadiazole (4) 5-(2-carboxypropylthio)-2-mercapto-1,3,4- Thiadiazole (5) 2-phenoxycarbonylmethylthio-5-mercapto-1,3,
4-Thiadiazole Luca Benzol (1) 2-mercaptobenzthiazole (215-nitro-2-mercaptobenzthiazole (3) 5-carboxy-2-mercaptobenzthiazole (4) 5-sulfo-2-mercaptobenzthiazole 8 Mercapto Benzoxazole - (1) 2-Merkabutopenzoxazole (2) 5-nitro-2-mercaptobenzoxazole (3) 5-carboxy-2-mercaptobenzoxazole (4) 5-sulfo-2-mercaptobenzoxazole 9 Benzo 1 Azole 6 (1) 5,6-dimethylbenzotriazole (2) 5-
Butylbenzotriazole (3) 5-methylbenzotriazole (415-chlorobenzotriazole (5) 5-bromobenzotriazole (6) 5.6-dichlorobenzotriazole (7) 4,
6-dichlorobenzotriazole (8) 5-nitrobenzotriazole (9) 4-nitro 6-chloro-benzotriazole α0) 4.5.6-Dolichlorobenzotriazole 01] 5-carboxybenzotriazole 02) 5-sulfonate Benzotriazole Na salt 1) 3) 5-methoxycarbonylbenzoto I77zole 5-aminobenzotriazole 5-butoxybenzotriazole 5-ureidobenzotriazole benzotriazole 5-phenoxycarbonylbenzotriazole (19) 5-(2,3-dichloro Propyloxycarbonyl) benzotriazole Penzimidazole Benzimidazole 5-Chlorobenzimitasol 5-Nitrobenzimitasol 5-n-Butylbenzimidazole 5-Methylbenzimidazole 4-Chloropenzimitasol 5.6-Simethylbenz Imidazole 5-nitro-2-()lifluoromethyl)benzimidazole inzole 6 (1) 5-nitroindazole (2) 6-nitroindazole (3) 5-aminoindazole (4) 6-aminoindazole (5) Indazole (6) 3-nitroindazole (7) 5-nitro-3-chloroindazole (8)
3-chloro-5-nitrointasol (9) 3
-Carboxy-5-nitroindacy-root-zole 1 (1) 5-(4-nitrophenyl)tetrazole (2)
5-phenyltetrazole (315-(3-carboxyphenyl)-tetran-
13 Tetozyne-1 (1) 4-hydroxy-6-methyl-5-nitro-1,
3,3a,7-thitraazaindene (2) 4-mercaptol 6-methyl-5-nitro-1,3,3a,7-
Citraazaindenmercabutoar 0) 4-Nitrothiophenol (2) Thiophenol (3) 2-carboxythiophenol Also in general formulas (R-1), (R-2), (R-3) , R, or -+Time←tPUG contains a ballast group commonly used in immobile photographic additives such as couplers, and general formulas (R-1), (R-2), (R-3).
) may be incorporated with a group that promotes adsorption of the compound represented by () to silver halide.

バラスト基は一般式(R−1)、(R−2)、(R−3
)で表わされる化合物が実質的に他層または処理液中へ
拡散できないようにするのに十分な分子量を与える有機
基であり、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、エー
テル基、チオエーテル基、アミド基、ウレイド基、ウレ
タン基、スルホンアミド基などの一つ以上の組合せから
なるものである。バラスト基として好ましくは置換ベン
ゼン環を有するバラスト基であり、特に分岐状アルキル
基で置換されたベンゼン環を有するバラスト基が好まし
い。
The ballast group has the general formula (R-1), (R-2), (R-3
) is an organic group that provides a sufficient molecular weight to substantially prevent the compound represented by the formula from diffusing into other layers or into the processing solution, and includes an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an ether group, a thioether group, and an amide group. group, a ureido group, a urethane group, a sulfonamide group, etc. The ballast group is preferably a ballast group having a substituted benzene ring, particularly a ballast group having a benzene ring substituted with a branched alkyl group.

ハロゲン化銀への吸着促進基としては、具体的には4−
チアゾリン−2−チオン、4−イミダシリン−2−チオ
ン、2−チオヒダントイン、ローダニン、チオバルビッ
ール酸、テトラゾリン−5−千オン、1,2.4−)リ
アゾリン−3−チオン、1,3.4−オキサゾリン−2
−チオン、ベンズイミダシリン−2−チオン、ベンズオ
キサゾリン−2−チオン、ベンゾチアゾリン−2−チオ
ン、チオトリアジン、1,3−イミダシリン−2−チオ
ンのような環状チオアミド基、鎖状チオアミド基、脂肪
族メルカプト基、芳香族メルカプト基、ヘテロ環メルカ
プト基(−5H基が結合した炭素原子の隣が窒素原子の
場合はこれと互変異性体の関係にある環状チオアミド基
と同義であり、この基の具体例は上に列挙したものと同
じである。)、ジスルフィド結合を有する基、ベンゾト
リアゾール、トリアゾール、テトラゾール、インダゾー
ル、ベンズイミダゾール、イミダゾール、ベンゾチアゾ
ール、チアゾール、チアゾリン、ベンゾオキサゾール、
オキサゾール、オキサゾリン、チアジアゾール、オキサ
チアゾール、トリアジン、アザインデンのような窒素、
酸素、硫黄及び炭素の組合せからなる5員ないし6員の
含窒素へテロ環基、及びベンズイミダゾリニウムのよう
な複素環四級塩などが挙げられる。
Specifically, the adsorption promoting group to silver halide is 4-
Thiazoline-2-thione, 4-imidacyline-2-thione, 2-thiohydantoin, rhodanine, thiobarbital acid, tetrazoline-5-thione, 1,2.4-) liazoline-3-thione, 1,3.4- Oxazoline-2
- cyclic thioamide groups, linear thioamide groups such as -thione, benzimidacillin-2-thione, benzoxazoline-2-thione, benzothiazoline-2-thione, thiotriazine, 1,3-imidacillin-2-thione, Aliphatic mercapto group, aromatic mercapto group, heterocyclic mercapto group (if the carbon atom to which the -5H group is bonded is a nitrogen atom, it has the same meaning as a cyclic thioamide group that has a tautomeric relationship with this group, and Specific examples of the group are the same as those listed above), a group having a disulfide bond, benzotriazole, triazole, tetrazole, indazole, benzimidazole, imidazole, benzothiazole, thiazole, thiazoline, benzoxazole,
Nitrogen, such as oxazole, oxazoline, thiadiazole, oxathiazole, triazine, azaindene,
Examples include a 5- to 6-membered nitrogen-containing heterocyclic group consisting of a combination of oxygen, sulfur, and carbon, and a quaternary heterocyclic salt such as benzimidazolinium.

これらはさらに適当な置換基で置換されていてもよい。These may be further substituted with a suitable substituent.

置換基としては、例えばR1の置換基として述べたもの
が挙げられる。
Examples of the substituent include those described as the substituent for R1.

以下に本発明に用いられる化合物の具体例を列記するが
本発明はこれに限定されるものではない。
Specific examples of compounds used in the present invention are listed below, but the present invention is not limited thereto.

■−1゜ ■−4゜ ■ ■ ■−3゜ ■ 6゜ ■ 7゜ n −s。■-1゜ ■−4° ■ ■ ■−3° ■ 6゜ ■ 7゜ n-s.

9゜ ■ ■ 12゜ C2L (n) 1)−20゜ 1)−2 1゜ NO! ll−25゜ n−26゜ ll−27゜ I[−22゜ I[−23゜ 1[−24゜ n−28゜ n−29゜ n−30゜ NLI客 !!−38゜ It−39゜ +1−40゜ ll−42゜ O2 I[−43゜ ■−44゜ ll−45゜ If−49゜ [[−50゜ 5O)Na [[−46゜ ff−47゜ −48゜ ■ 1 ■ 2 ■ 3 ll−54 ■ 5 ■−59 ■−60 ■−61 (:J+5 Chll’! ■−56 ■−57 ■−58 ■ 3 ■−64 \ Clゴ ■−65 ■ 8 ■−69 ■−70 1)−7 1 ■−72 本発明に用いられるレド・ンクス化合物としては上記の
ものの他に、例えば特開昭61−213847号、同6
2−260,153号、特願平1)02.393号、同
1−102,394号、同1−102,395号、同1
−1)4,455号に記載されたものを用いることがで
きる。
9゜■ ■ 12゜C2L (n) 1)-20゜1)-2 1゜NO! ll-25゜n-26゜ll-27゜I[-22゜I[-23゜1[-24゜n-28゜n-29゜n-30゜NLI customer! ! -38゜It-39゜+1-40゜ll-42゜O2 I[-43゜■-44゜ll-45゜If-49゜[[-50゜5O)Na [[-46゜ff-47゜-48゜■ 1 ■ 2 ■ 3 ll-54 ■ 5 ■-59 ■-60 ■-61 (:J+5 Chll'! ■-56 ■-57 ■-58 ■ 3 ■-64 \ Cl Go ■-65 ■ 8 ■-69 ■-70 1)-7 1 ■-72 In addition to the above-mentioned redox compounds used in the present invention, for example, JP-A-61-213847 and JP-A No. 61-213847;
No. 2-260,153, Japanese Patent Application No. 1) No. 02.393, No. 1-102,394, No. 1-102,395, No. 1
-1) Those described in No. 4,455 can be used.

本発明に用いられるレドックス化合物の合成法は例えば
特開昭61213,847号、同62260.153号
、米国特許第4.684,604号、特願昭63−98
,803号、米国特許第3.379,529号、同3,
620.746号、同4,31).634号、同4,3
32.878号、特開昭49−129,536号、同5
6−153,336号、同56−153.342号など
に記載されている。
The method for synthesizing the redox compound used in the present invention is, for example, JP-A No. 61213,847, No. 62260.153, U.S. Pat.
, 803, U.S. Patent No. 3,379,529, 3,
No. 620.746, 4, 31). No. 634, 4,3
No. 32.878, JP-A-49-129,536, No. 5
It is described in No. 6-153,336, No. 56-153.342, etc.

本発明のレドックス化合物は、ハロゲン化銀1モルあた
りlXl0→〜5 X l O−”モル、より好ましく
はlXl0−’〜I X I O−”モルの範囲内で用
いられる。
The redox compound of the present invention is used in an amount of 1X10 to 5 X I O-'' mol, more preferably 1X10-' to I X I O-'' mol per mole of silver halide.

本発明のレドックス化合物は、適当な水混和性有I!溶
媒、例えば、アルコール類(メタメール、エタノール、
プロパノール、ツノ素化アルコール)、ケトン類(アセ
トン、メチルエチルケトン)、ジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブなどに溶解し
て用いることができる。
The redox compounds of the present invention have suitable water miscibility. Solvents, such as alcohols (metamel, ethanol,
propanol, alcohol), ketones (acetone, methyl ethyl ketone), dimethylformamide,
It can be used by dissolving it in dimethyl sulfoxide, methyl cellosolve, etc.

また、既に良く知られている乳化分散法によって、ジブ
チルフタレート、トリクレジルフォスフェート、グリセ
リントリアセテートあるいはジエチルフタレートなどの
オイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンなどの補助溶媒
を用いて熔解し、機械的に乳化分散物を作成して用いる
こともできる。
In addition, by the well-known emulsification dispersion method, it is dissolved using oils such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glycerin triacetate or diethyl phthalate, and auxiliary solvents such as ethyl acetate or cyclohexanone, and then mechanically emulsified and dispersed. You can also create and use things.

あるいは固体分散法として知られている方法によって、
レドックス化合物の粉末を水の中にボールミル、コロイ
ドeル、あるいは超音波によって分散して用いることも
できる。
Alternatively, by a method known as solid dispersion method,
The powder of the redox compound can also be dispersed in water using a ball mill, a colloidal gel, or ultrasonic waves.

本発明に用いられるヒドラジン誘導体は、下記一般式N
)によって表わされる化合物が好ましい。
The hydrazine derivative used in the present invention has the following general formula N
) are preferred.

一般式(1) 式中、R,は脂肪族基または芳香族基を表わし、R1は
水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、了
り−ルオキシ基、アミノ基、カルバモイル基又はオキシ
カルボニル基を表わし、G。
General formula (1) In the formula, R represents an aliphatic group or an aromatic group, and R1 is a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryoloxy group, an amino group, a carbamoyl group, or an oxycarbonyl group. represents G.

はカルボニル基、スルホニル基、スルホキシ基、1 −P−基、又はイミノメチレン基を表わし、t B+ 、Bzはともに水素原子あるいは一方が水素原子
で他方が置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、
又は置換もしくは無it換のアリールスルホニル基、又
は置換もしくは無置換のアシル基を表わす。
represents a carbonyl group, a sulfonyl group, a sulfoxy group, a 1-P- group, or an iminomethylene group, and t B+ and Bz are both hydrogen atoms, or one is a hydrogen atom and the other is a substituted or unsubstituted alkylsulfonyl group,
or a substituted or unsubstituted arylsulfonyl group, or a substituted or unsubstituted acyl group.

一般式(1)において、R1で表される脂肪族基は好ま
しくは炭素数1〜30のものであって、特に炭素数1〜
20の直鎖、分岐または環状のアルキル基である。ここ
で分岐アルキル基はその中に1つまたはそれ以上のへテ
ロ原子を含んだ飽和のへテロ環を形成するように環化さ
れていてもよい、またこのアルキル基は、アリール基、
アルコキシ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、カル
ボンアミド基等の置換基を有していてもよい。
In general formula (1), the aliphatic group represented by R1 preferably has 1 to 30 carbon atoms, particularly 1 to 30 carbon atoms.
20 straight chain, branched or cyclic alkyl groups. The branched alkyl group may be cyclized to form a saturated heterocycle containing one or more heteroatoms, and the alkyl group may be an aryl group,
It may have a substituent such as an alkoxy group, a sulfoxy group, a sulfonamide group, or a carbonamide group.

一般式(1)においてR,で表される芳香族基は単環ま
たは2環のアリール基または不飽和へテロ環基である。
The aromatic group represented by R in the general formula (1) is a monocyclic or bicyclic aryl group or an unsaturated heterocyclic group.

ここで不飽和へテロ環基は単環または2環の了り−ル基
と縮合してヘテロアリール基を形成してもよい。
Here, the unsaturated heterocyclic group may be condensed with a monocyclic or bicyclic ring group to form a heteroaryl group.

例えばベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、ピリミ
ジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、キノリン環、
イソキノリン環、ベンズイミダゾール環、チアゾール環
、ベンゾチアゾール環等があるがなかでもベンゼン環を
含むものが好ましい。
For example, benzene ring, naphthalene ring, pyridine ring, pyrimidine ring, imidazole ring, pyrazole ring, quinoline ring,
Examples include isoquinoline ring, benzimidazole ring, thiazole ring, and benzothiazole ring, among which those containing a benzene ring are preferred.

R3として特に好ましいものはアリール基である。Particularly preferred as R3 is an aryl group.

R,のアリール基または不飽和へテロ環基は置換されて
いてもよく、代表的な置換基としては、例えばアルキル
基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アル
コキシ基、アリール基、置換アミノ基、アシルアミノ基
、スルホニルアミノ基、ウレイド基、ウレタン基、アリ
ールオキシ基、スルファモイル基、カルバモイル基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、スルホニル基、スルフ
ィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、ス
ルホ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシ
カルボニル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、ア
シルオキシ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基や
カルボキシル基、リン酸ア旦ド基、ジアシルアミノ基、
イミド基、などが挙げられ、好ましい置換基としては直
鎖、分岐または環状のアルキル基(好ましくは炭素数1
〜20のもの)、アラルキル基(好ましくはアルキル部
分の炭素数が1〜3の単環または2環のもの)、アルコ
キシ基(好ましくは炭素数1〜20のもの〉、置換アミ
ノ基(好ましくは炭素数1〜20のアルキル基で置換さ
れたアミノ基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2
〜30を持つもの)、スルホンアミド基(好ましくは炭
素数1〜30を持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭
素数l〜30を持つもの)、リン酸ア旦ド基(好ましく
は炭素数l〜30のもの)などである。
The aryl group or unsaturated heterocyclic group of R may be substituted, and typical substituents include an alkyl group, an aralkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an alkoxy group, an aryl group, and a substituted amino group. , acylamino group, sulfonylamino group, ureido group, urethane group, aryloxy group, sulfamoyl group, carbamoyl group, alkylthio group, arylthio group, sulfonyl group, sulfinyl group, hydroxy group, halogen atom, cyano group, sulfo group, alkyloxy Carbonyl group, aryloxycarbonyl group, acyl group, alkoxycarbonyl group, acyloxy group, carbonamide group, sulfonamide group or carboxyl group, phosphoric acid adando group, diacylamino group,
Imide group, etc., and preferred substituents include linear, branched or cyclic alkyl groups (preferably 1 carbon number
~20 carbon atoms), aralkyl groups (preferably monocyclic or bicyclic alkyl moieties having 1 to 3 carbon atoms), alkoxy groups (preferably carbon atoms of 1 to 20 carbon atoms), substituted amino groups (preferably amino group substituted with an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms), acylamino group (preferably 2 carbon atoms)
-30), sulfonamide group (preferably has 1 to 30 carbon atoms), ureido group (preferably has 1 to 30 carbon atoms), phosphoric acid adando group (preferably has 1 to 30 carbon atoms), ~30).

一般式(1)においてR1で表わされるアルキル基とし
ては、好ましくは炭素数l〜4のアルキル基であって、
ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシ基、スルホ基、ア
ルコキシ基、フェニル基、スルホニル基などの置換基を
有していてもよい。
The alkyl group represented by R1 in general formula (1) is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms,
It may have a substituent such as a halogen atom, cyano group, carboxy group, sulfo group, alkoxy group, phenyl group, or sulfonyl group.

アリール基としては単環または2環の7リール基が好ま
しく、例えばベンゼン環を含むものである。このアリー
ル基は、例えばハロゲン原子、アルキル基、シアノ基、
カルボキシル基、スルホ基、スルホニル基などで1換さ
れていてもよい。
The aryl group is preferably a monocyclic or bicyclic 7-aryl group, and includes, for example, a benzene ring. This aryl group is, for example, a halogen atom, an alkyl group, a cyano group,
It may be monosubstituted with a carboxyl group, a sulfo group, a sulfonyl group, or the like.

アルコキシ基としては炭素数1〜8のアルコキシ基のも
のが好ましく、ハロゲン原子、アリール基などでr!!
換されていてもよい。
The alkoxy group is preferably an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, such as a halogen atom, an aryl group, etc. !
may have been replaced.

アリールオキシ基としては単環のものが好ましく、また
置換基としてはハロゲン原子などがある。
The aryloxy group is preferably monocyclic, and the substituent includes a halogen atom.

アミノ基としては無置換アミノ基及び、炭素数1〜10
のアルキルアミノ基、アリールアミノ基が好ましく、ア
ルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルボ
キシ基なとで置換されていてもよい。
The amino group includes an unsubstituted amino group and a carbon number of 1 to 10.
An alkylamino group or an arylamino group is preferred, and may be substituted with an alkyl group, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a carboxy group, or the like.

カルバモイル基としては、無置換カルバモイル基及び炭
素数1〜10のアルキルカルバモイル基、アリールカル
バモイル基が好ましく、アルキル基、ハロゲン原子、シ
アノ基、カルボキシ基などで置換されていてもよい。
The carbamoyl group is preferably an unsubstituted carbamoyl group, an alkylcarbamoyl group having 1 to 10 carbon atoms, or an arylcarbamoyl group, and may be substituted with an alkyl group, a halogen atom, a cyano group, a carboxy group, or the like.

オキシカルボニル基としては、炭素数1〜10のアルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基が好ま
しく、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基
などで置換されていてもよい。
The oxycarbonyl group is preferably an alkoxycarbonyl group or an aryloxycarbonyl group having 1 to 10 carbon atoms, and may be substituted with an alkyl group, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, or the like.

R,で表わされる基のうち好ましいものは、Cがカルボ
ニル基の場合には、水素原子、アルキル基(例えば、メ
チル基、トリフルオロメチル基、3−ヒドロキシプロピ
ル基、3−メタンスルホンアミドプロピル基、フェニル
スルホニルメチル基など)、アラルキル基(例えば、0
−ヒドロキシベンジル基なと)、アリール基(例えば、
フェニル基、3,5−ジクロロフェニル基、0−メタン
スルホンアミドフェニル基、4−メタンスルホニルフェ
ニル基なと)などであり、特に水素原子が好ましい。
Among the groups represented by R, when C is a carbonyl group, preferred are a hydrogen atom, an alkyl group (for example, a methyl group, a trifluoromethyl group, a 3-hydroxypropyl group, a 3-methanesulfonamidopropyl group). , phenylsulfonylmethyl group, etc.), aralkyl group (e.g., 0
-hydroxybenzyl group), aryl group (e.g.
phenyl group, 3,5-dichlorophenyl group, 0-methanesulfonamidophenyl group, 4-methanesulfonylphenyl group, etc., and a hydrogen atom is particularly preferred.

またG1がスルホニル基の場合には、Rtはアルキル基
(例えば、メチル基なと)、アラルキル基(例えぽ、0
−ヒドロキシフェニルメチル基など)、アリール基(例
えぽ、フェニル基なと)または置換アミノ基(例えば、
ジメチルア稟)基など)などが好ましい。
In addition, when G1 is a sulfonyl group, Rt is an alkyl group (for example, methyl group), an aralkyl group (for example, 0
-hydroxyphenylmethyl group), aryl group (e.g. phenyl group) or substituted amino group (e.g.
Dimethylalcohol groups, etc.) are preferred.

G、がスルホキシ基の場合、好ましいR2はシアノベン
ジル基、メチルチオベンジル基などであはメトキシ基、
エトキシ基、ブトキシ基、フェノキシ基、フェニル基が
好ましく、特に、フェノキシ基が好適である。
When G is a sulfoxy group, preferred R2 is a cyanobenzyl group, a methylthiobenzyl group, a methoxy group,
An ethoxy group, a butoxy group, a phenoxy group, and a phenyl group are preferred, and a phenoxy group is particularly preferred.

G、がN−置換または無置換イミノメチレン基の場合、
好ましいR2はメチル基、エチル基装置aまたは無置換
のフェニル基である。
When G is an N-substituted or unsubstituted iminomethylene group,
Preferred R2 is a methyl group, an ethyl group a, or an unsubstituted phenyl group.

R1の置換基としては、R,に関して列挙した置換基が
通用できる。
As the substituent for R1, the substituents listed for R can be used.

−I’9式(1)のGとしてはカルボニル基が最も好ま
しい。
-I'9 G in formula (1) is most preferably a carbonyl group.

又、RtはC+−Rt部分を残余分子から分裂させ、−
G、−R,部分の原子を含む環式構造を生成させる環化
反応を生起するようなものであってもよく、具体的には
一般式(a)で表わすことができるようなものである。
Also, Rt splits the C+-Rt part from the remaining molecule, and -
It may be one that causes a cyclization reaction to produce a cyclic structure containing atoms of G, -R, moieties, and specifically, one that can be represented by general formula (a). .

一般式(a) −Rs  −z 式中、ZlはG、に対し求核的に攻撃し、G +   
Rs  Z 1 部分を残余分子から分裂させ得る基で
あり、R3はR2から水素原子1個除いたもので、zl
がG1に対し求核攻撃し、G、、R,。
General formula (a) -Rs -z In the formula, Zl attacks G nucleophilically, and G +
Rs is a group that can split the Z 1 moiety from the remaining molecules, R3 is R2 with one hydrogen atom removed, and zl
makes a nucleophilic attack on G1, G,,R,.

Zlで環式構造が生成可能なものである。A cyclic structure can be generated with Zl.

さらに詳細には、Zは一般式(+)のヒドラジン化合物
が酸化等により、次の反応中間体を生成したときに容易
に61と求核反応し R,−N−N−C,−R3−ZI R,−N−N基をG、から分裂させうる基であり、具体
的にはOH,SHまた!”NHR4CR,は水素原子、
アルキル基、アリール基、−COR,、または−3Ot
Rsであり、RSは水素原子、アルキル基、アリール基
、ヘテロ環基などを表わす)、C00NなどのようにG
、と直接反応する官能基であってもよく、(ここで、O
)I、SH,NHR4゜−COOHはアルカリ等の加水
分解によりこれらの基を生成するように一時的に保護さ
れていてもよい) 水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基また
はへテロ環基を表わす)のように水酸イオンや亜硫酸イ
オン等のような求核剤を反応することでG、と反応する
ことが可能になる官能基であってもよい。
More specifically, Z easily undergoes a nucleophilic reaction with 61 when the hydrazine compound of the general formula (+) generates the next reaction intermediate by oxidation etc., resulting in R, -N-N-C, -R3- ZI R, -N-N group can be split from G, specifically OH, SH or! ``NHR4CR, is a hydrogen atom,
Alkyl group, aryl group, -COR, or -3Ot
(RS represents a hydrogen atom, alkyl group, aryl group, heterocyclic group, etc.), G such as C00N, etc.
, may be a functional group that directly reacts with (where O
) I, SH, NHR4゜-COOH may be temporarily protected so that these groups are generated by hydrolysis with alkali etc.) Hydrogen atom, alkyl group, alkenyl group, aryl group or heterocyclic group It may be a functional group that can react with G by reacting with a nucleophile such as a hydroxyl ion or a sulfite ion, such as (representing G).

また、G+ 、R3、ZIで形成される環としては5員
または6員のものが好ましい。
Furthermore, the ring formed by G+, R3, and ZI is preferably a 5- or 6-membered ring.

一般式(a)で表わされるもののうち、好ましいものと
しては一般式(b)及び(C)で表わされるものを挙げ
ることができる。
Among those represented by general formula (a), preferred are those represented by general formulas (b) and (C).

一般式(b) 式中、R> ’ ””R1’は水素原子、アルキル基、
(好ましくは炭素数1〜12のもの)、アルケニル基(
好ましくは炭素数2〜12のもの)、了り−ル基(好ま
しくは炭素数6〜12のもの)などを表わし、同じでも
異ってもよい、Bは置換基を有してもよい5員環または
6員環を完成するのに必要な原子であり、m、nは0ま
たは1であり、(n+m)は1または2である。
General formula (b) In the formula, R>'""R1' is a hydrogen atom, an alkyl group,
(preferably those with 1 to 12 carbon atoms), alkenyl groups (
B may be the same or different, and B may have a substituent. These are atoms necessary to complete a membered ring or a 6-membered ring, m and n are 0 or 1, and (n+m) is 1 or 2.

Bで形成される5員または6員環としては、例えば、シ
クロヘキセン環、シクロヘプテン環、ベンゼン環、ナフ
タレン環、ピリジン環、キノリン環などである。
Examples of the 5- or 6-membered ring formed by B include a cyclohexene ring, a cycloheptene ring, a benzene ring, a naphthalene ring, a pyridine ring, and a quinoline ring.

Z、は一般式(a)と同義である。Z has the same meaning as in general formula (a).

一般式(c) 式中、Re’、、Re2は水素原子、アルキル基、アル
ケニル基、アリール基またはハロゲン原子などを表わし
、同じでも異ってもよい。
General formula (c) In the formula, Re' and Re2 represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a halogen atom, etc., and may be the same or different.

R,3は水素原子、アルキル基、アルケニル基、または
アリール基を表わす。
R and 3 represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, or an aryl group.

pはOまたは1を表わす、qは1〜4を表わす。p represents O or 1, and q represents 1-4.

Re ’ s Re ”およびR%はZ、がG、へ分子
内求核攻撃し得る構造の限りにおいて互いに結合して環
を形成してもよい。
Re' s Re '' and R% may be bonded to each other to form a ring as long as Z can make an intramolecular nucleophilic attack on G.

Re ’ s Rc ”は好ましくは水素原子、ハロゲ
ン原子、またはアルキル基であり、Rc3は好ましくは
アルキル基またはアリール基である。
Re'sRc'' is preferably a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group, and Rc3 is preferably an alkyl group or an aryl group.

qは好ましくは1〜3を表わし、qがlのときPは1ま
たは2を、qが2のときpは0または1を、qが3のと
きpはOまたは1を表わし、qが2または3のときCR
,’ Rc!は同じでも異ってもよい。
q preferably represents 1 to 3; when q is l, P represents 1 or 2; when q is 2, p represents 0 or 1; when q is 3, p represents O or 1; when q is 2, p represents 0 or 1; or CR when 3
,' Rc! may be the same or different.

Zlは一般式(a)と同義である。Zl has the same meaning as in general formula (a).

AI 、Atは水素原子、炭素数20以下のアルキルス
ルホニル基およびアリールスルホニル基(好ましくはフ
ェニルスルホニル基又はハメットの置換基定数の和が−
0,5以上となるように置換されたフェニルスルホニル
基)、炭素数20以下のアシル基(好ましくはベンゾイ
ル基、又はハメットの置換基定数の和が−0,5以上と
なるように置換されたベンゾイル基、あるいは直鎖又は
分岐状又は環状の無置換及び置換脂肪族アシル基(置換
基としては例えばハロゲン原子、エーテル基、スルホン
アミド基、カルボンアミド基、水酸基、カルボキシ基、
スルホン酸基が挙げられる。))B、 、B、としては
水素原子が最も好ましい。
AI, At is a hydrogen atom, an alkylsulfonyl group having 20 or less carbon atoms, and an arylsulfonyl group (preferably a phenylsulfonyl group or a sum of Hammett's substituent constants -
0.5 or more), an acyl group having 20 or less carbon atoms (preferably a benzoyl group, or a phenylsulfonyl group substituted so that the sum of Hammett's substituent constants is -0.5 or more) A benzoyl group, or a linear, branched, or cyclic unsubstituted or substituted aliphatic acyl group (substituents include, for example, a halogen atom, an ether group, a sulfonamide group, a carbonamide group, a hydroxyl group, a carboxy group,
Examples include sulfonic acid groups. )) B, , B is most preferably a hydrogen atom.

一般式(【)のR2またはRtはその中にカプラー等の
不動性写真用添加剤において常用されているバラスト基
が組み込まれているものでもよい。
R2 or Rt in the general formula ([) may have a ballast group commonly used in immobile photographic additives such as couplers incorporated therein.

バラスト基は8以上の炭素数を有する写真性に対して比
較的不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ
基、フェニル基、アルキルフェニル基、フェノキシ基、
アルキルフェノキシ基などの中から選ぶことができる。
The ballast group is a group having 8 or more carbon atoms and is relatively inert to photography, such as an alkyl group, an alkoxy group, a phenyl group, an alkylphenyl group, a phenoxy group,
It can be selected from alkylphenoxy groups, etc.

一般式(1)のR1またはR2はその中にハロゲン化銀
粒子表面に対する吸着を強める基が組み込まれているも
のでもよい、かかる吸着基としては、チオ尿素基、複素
環チオアミド基、メルカプト復素環基、トリアゾール基
などの米国特許第4゜385.108号、同4,459
,347号、特開昭59−195,233号、同59−
200゜231号、同59−201.045号、同59
−201.046号、同59−201,047号、同5
9−201.048号、同59−201.049号、特
開昭61−170,733号、同61−270,744
号、同62−948号、特願昭62−67.508号、
〃62−67.501号、−62−67,510号に記
載された基があげられる。
R1 or R2 in the general formula (1) may have a group incorporated therein that enhances adsorption to the silver halide grain surface. Examples of such adsorption groups include a thiourea group, a heterocyclic thioamide group, and a mercapto group. U.S. Pat. No. 4,385.108, U.S. Pat. No. 4,459, for ring groups, triazole groups, etc.
, No. 347, JP-A No. 59-195, 233, No. 59-
200゜No. 231, No. 59-201.045, No. 59
-201.046, 59-201,047, 5
9-201.048, 59-201.049, JP-A-61-170,733, JP-A-61-270,744
No. 62-948, patent application No. 62-67.508,
Examples include the groups described in Nos. 62-67.501 and 62-67,510.

−JG式([)で示される化合物の具体例を以下に示す
、但し本発明は以下の化合物に限定されるものではない
Specific examples of the compound represented by the -JG formula ([) are shown below, however, the present invention is not limited to the following compounds.

!−1) I−2) ■−3) ■−4) Js I−6) 1−12) r−15) !−16) ■−7) l−8) 1−9) CHzC1’!tcIhsH 1−1)) [−17) 1−1.8 ) N■−N 1−20) <i N■口N I 22) ■ 23) xHs 1−26> 1−31) 1−33) r−34) 1−27) 1−28) 1−30) 1−35) 1−36> r−37) r−38) しtIIs しII冨υn 1−39) 1−40) [−41) T−42) I−47) 1−48) 1−49) 1−50) H M Cj! 1−43) r−44) 1−45) 1−46) r−51) r−52) 1−53) r−54) 本発明に用いられるヒドラジン誘導体としては、上記の
ものの他に、RESEARCHDISCLO5uRE 
I te+m23516 (1983年1)月号、P、
346)およびそこに引用された文献の他、米国特許4
゜080.207号、同4,269.929号、同4.
276.364号、同4,278,748号、同4,3
85.108号、同4,459,347号、同4,56
0,638号、同4,478.928号、英国特許2,
01),391B、特開昭60−179734号、同6
2−270,948号、同63−29.751号、特開
昭61−170.733号、同61−270,744号
、同62−948号、EP217,310号、特願昭6
1−175,234号、〃61−251,482号、〃
61−268,249号、〃61−276゜283号、
〃62−67528号、〃62−67゜509号、#6
2−67.510号、〃62−58.513号、162
−130,819号、l162−143,467号、〃
62−166.1)7号、またはtJs4,686,1
67号、特開昭62−178,246号、特開昭63−
234,244号、同63−23.4.245号、同6
3−234.246号、同63−294.552号、同
63−306.438号、特願昭62−168゜1)7
号、−62−247,478号、l63−105.68
2号、163−1)4.1)8号、163−1)0.0
51号、−63−1)4,1)9号、163−1)6.
239号、163−147.339号、jI63−17
9.760号、l63−229,163号、特願平1−
18,377号、#1−18,378号、1)−18,
379号、1)−15.755号、#1−16,814
号、−1−40,792号、1)−42,615号、〃
1−42,616号に記載されたものを用いるここがで
きる。
! -1) I-2) ■-3) ■-4) Js I-6) 1-12) r-15) ! -16) ■-7) l-8) 1-9) CHzC1'! tcIhsH 1-1)) [-17) 1-1.8) N■-N 1-20) <i N■口NI 22) ■ 23) xHs 1-26> 1-31) 1-33) r -34) 1-27) 1-28) 1-30) 1-35) 1-36> r-37) r-38) Shit IIs Shi II Tomi υn 1-39) 1-40) [-41) T -42) I-47) 1-48) 1-49) 1-50) H M Cj! 1-43) r-44) 1-45) 1-46) r-51) r-52) 1-53) r-54) In addition to the above, hydrazine derivatives used in the present invention include RESEARCHDISCLO5uRE.
I te+m23516 (January 1983), P.
346) and the references cited therein, as well as U.S. Pat.
No. 080.207, No. 4,269.929, No. 4.
No. 276.364, No. 4,278,748, No. 4,3
85.108, 4,459,347, 4,56
No. 0,638, No. 4,478.928, British Patent No. 2,
01), 391B, JP-A No. 60-179734, No. 6
2-270,948, 63-29.751, JP 61-170,733, JP 61-270,744, JP 62-948, EP 217,310, Japanese Patent Application 1983
No. 1-175,234, No. 61-251,482,
No. 61-268, 249, No. 61-276゜283,
〃62-67528, 〃62-67゜509, #6
No. 2-67.510, No. 62-58.513, 162
-130,819, l162-143,467,
62-166.1) No. 7, or tJs4,686,1
No. 67, JP-A-62-178,246, JP-A-63-
No. 234,244, No. 63-23.4.245, No. 6
No. 3-234.246, No. 63-294.552, No. 63-306.438, Patent Application No. 62-168゜1) 7
No., -62-247,478, l63-105.68
No. 2, 163-1) 4.1) No. 8, 163-1) 0.0
No. 51, -63-1) 4, 1) No. 9, 163-1) 6.
No. 239, No. 163-147.339, jI63-17
No. 9.760, No. 163-229,163, Patent Application No. 1-
No. 18,377, #1-18,378, 1)-18,
No. 379, 1)-15.755, #1-16,814
No., No.-1-40,792, 1) No.-42,615,〃
1-42,616 can be used here.

本発明において一般式(1)で表わされるヒドラジン誘
導体を写真感光材料中に含有させるときには、ハロゲン
化銀乳剤層に含有させるのが好ましいがそれ以外の非感
光性の親水性コロイド層(例えば保護層、中間層、フィ
ルター層、ハレーシラン防止層など)に含有させてもよ
い、具体的には使用する化合物が水溶性の場合には水溶
液として、よた難水溶性の場合にはアルコール類、エス
テル類、ケトン類などの水と混和しうる有機溶媒の溶液
として、親水性コロイド溶液に添加すればよい、ハロゲ
ン化銀乳剤層に添加する場合は化学熟成の開始から塗布
前までの任意の時期に行ってよいが、化学熟成終了後か
ら塗布前の間に添加するのが好ましい、特に塗布のため
に用意された塗布液中に添加するのがよい。
In the present invention, when the hydrazine derivative represented by the general formula (1) is contained in a photographic light-sensitive material, it is preferably contained in a silver halide emulsion layer, but it is preferably contained in a non-photosensitive hydrophilic colloid layer (for example, a protective layer). , intermediate layer, filter layer, Haley silane prevention layer, etc.).Specifically, if the compound used is water-soluble, it may be contained in an aqueous solution, or if it is poorly water-soluble, it may be contained in alcohols or esters. It can be added to a hydrophilic colloid solution as a solution of a water-miscible organic solvent such as a ketone.When added to a silver halide emulsion layer, it can be added at any time from the start of chemical ripening to before coating. However, it is preferable to add it between the end of chemical ripening and before coating, and it is particularly preferable to add it to the coating liquid prepared for coating.

本発明において、一般式(1)で表わされるヒドラジン
誘導体は、ハロゲン化1)1モル当り1×104モルな
いしlXl0”モル含有させるのが好ましく特にlXl
0−’ないし4X10−’モル含有させるのが好ましい
In the present invention, the hydrazine derivative represented by the general formula (1) is preferably contained in an amount of 1×10 4 mol to 1
It is preferable to contain 0-' to 4×10-' moles.

次に本発明で用いるチオアミド化合物としては下記一般
式(III)で示される化合物が好ましい。
Next, as the thioamide compound used in the present invention, a compound represented by the following general formula (III) is preferable.

式中RI3は水素原子、アルキル基、アリール基又はヘ
テロ環残基を表わす、Qは単なる結合、二価基としての
硫黄原子もしくはセレン原子、二価基としての酸素原子
、ジスルフィド基(−3−3−)NR,、、R,、N−
C−3−5−又はNR1,C5を1 表わす、ただしR8はR1と同義である。
In the formula, RI3 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic residue, Q represents a simple bond, a sulfur atom or selenium atom as a divalent group, an oxygen atom as a divalent group, a disulfide group (-3- 3-)NR,,,R,,N-
C-3-5- or NR1, C5 is represented by 1, provided that R8 has the same meaning as R1.

R1及びR2は各々水素原子、アルキル基、アリール基
、ヘテロ環残基又はアミノ基をあられす。
R1 and R2 each represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic residue, or an amino group.

RoとR14、RoとR,t、又はR1とRI3の間で
5員又は6員のへテロ環を形成してもよい、ただしRo
とR1ffの間に5員又は6員へテロ環を形成する場合
に、R1)及びRraはいずれも水素原子をあられすこ
とはない。
A 5- or 6-membered heterocycle may be formed between Ro and R14, Ro and R,t, or R1 and RI3, provided that Ro
When a 5- or 6-membered heterocycle is formed between and R1ff, neither R1) nor Rra contains a hydrogen atom.

R1)、R12、R1才及びRraで表わされるアルキ
ル基は、炭素原子1〜20を有し、置換されたものも含
む装置m基には例えばハロゲン原子(例えば塩素原子)
、シアノ基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、炭素数2〜
6のアシルオキシ基(たとえばアセトキシ基)、炭素数
2〜22のアルコキシカルボニル基(たとえばエトキシ
カルボニル基、ブトキシカルボニル基、アリール基(単
環又は2環のもので、置換されてもよい、たとえRフェ
ニル基、トリル基、p−スルホフェニル基)などがある
、有利なアルキル基の例は次の如くである:メチル基、
エチル基、プロピルa (n −又ハi −)、ブチル
基(n−1i−又はt−)、アミル(分枝を有してよい
、以下同じ)、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、
ペンタデシル基、ヘプタデシル基、クロロメチル基、2
−クロロエチル基、2−シアノエチル基、カルボキシメ
チル基、2−力ルボキシエチル基、2−ヒドロキシエチ
ル基、2−アセトキシエチル基、アセトキシエチル基、
エトキシカルボニルメチル基、ブトキシカルボニルメチ
ル基、2−メトキシカルボニルエチル基、ベンジル基、
O−ニトロベンジル基、p−スル承ベンジル基。
The alkyl groups represented by R1), R12, R1 and Rra have 1 to 20 carbon atoms, including substituted ones, and include, for example, a halogen atom (for example, a chlorine atom).
, cyano group, carboxy group, hydroxy group, carbon number 2~
6 acyloxy group (e.g. acetoxy group), alkoxycarbonyl group having 2 to 22 carbon atoms (e.g. ethoxycarbonyl group, butoxycarbonyl group, aryl group (monocyclic or bicyclic), which may be substituted, even R phenyl Examples of advantageous alkyl groups include the following: methyl, tolyl, p-sulfophenyl, etc.
Ethyl group, propyl a (n- or hi-), butyl group (n-1i- or t-), amyl (which may have a branch, the same applies hereinafter), hexyl group, octyl group, dodecyl group,
Pentadecyl group, heptadecyl group, chloromethyl group, 2
-chloroethyl group, 2-cyanoethyl group, carboxymethyl group, 2-carboxyethyl group, 2-hydroxyethyl group, 2-acetoxyethyl group, acetoxyethyl group,
Ethoxycarbonylmethyl group, butoxycarbonylmethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, benzyl group,
O-nitrobenzyl group, p-sulfur benzyl group.

Ro、Rat、 R13及びR14であられされるアリ
ール基は、単環または21t、好ましくは単環の了り−
ル基であって、置換されたものも含む、置換基には例え
ば、炭素数1〜20のアルキル基(たとえばメチル基、
エチル基、ノニル基)、炭素数1〜20のアルコキシ基
(たとえばメトキシ基、エトキン基)、ヒドロキシ基、
ハロゲン原子(たとえば塩素原子、臭素原子)、カルボ
キシ基、スルホ基などがある。アリール基の具体例は、
フェニル基、p−)リル基、p−メトキシフェニル基、
p−ヒドロキシフェニル基、p−クロロフェニル5.2
.s−ジクロロフェニル基、p−カルボキシフェニルf
=、o−カルボキシフェニル、1.4−スルホフェニル
基、2.4−ジスルホフェニル基、2.5−ジスルホフ
ェニル基、3−スルホフェニル基、3,5−ジスルホフ
ェニル基などである。
The aryl group represented by Ro, Rat, R13 and R14 is monocyclic or 21t, preferably monocyclic.
Examples of substituents include alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms (such as methyl groups,
ethyl group, nonyl group), alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms (e.g. methoxy group, ethquine group), hydroxy group,
Examples include halogen atoms (for example, chlorine atoms and bromine atoms), carboxy groups, and sulfo groups. Specific examples of aryl groups are:
phenyl group, p-)lyl group, p-methoxyphenyl group,
p-hydroxyphenyl group, p-chlorophenyl 5.2
.. s-dichlorophenyl group, p-carboxyphenyl f
=, o-carboxyphenyl, 1.4-sulfophenyl group, 2.4-disulfophenyl group, 2.5-disulfophenyl group, 3-sulfophenyl group, 3,5-disulfophenyl group, etc. .

R8、R1□、R1ff又はR8のヘテロ環残基として
は、好ましくは5員ないし7員のもので、例えばピロリ
ジン、ピロール、テトラヒドロフラン、フラン、テトラ
ヒドロチオフェン、チオフェン、チアゾール、チアシア
プリン、オキサゾール、オキサゾリン、イミダゾール、
イミダシリン、トリアゾール、テトラゾール、チアジア
ゾール、オキサジアゾール、ベンゾチアゾール、ベンズ
オキサゾール、ベンズイミダゾール、モルホリン、ピリ
ジン、キノリン、キノキサリン、アゼピン、等があげら
れる。これらはR+ないしR,の置換基として述べた基
で置換されていてもよい。
The heterocyclic residue of R8, R1□, R1ff or R8 is preferably a 5- to 7-membered residue, such as pyrrolidine, pyrrole, tetrahydrofuran, furan, tetrahydrothiophene, thiophene, thiazole, thiasiapurine, oxazole, oxazoline, imidazole. ,
Examples include imidacilline, triazole, tetrazole, thiadiazole, oxadiazole, benzothiazole, benzoxazole, benzimidazole, morpholine, pyridine, quinoline, quinoxaline, azepine, and the like. These may be substituted with the groups mentioned as substituents for R+ to R.

R1ffとRo又はR1とR1!によって形成される5
員又は6員環としては、例えばピペリジン環、とペラジ
ン環、ビロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、ト
リアゾール環などがあるが、好ましいのはピペリジン環
、ビロール環、ピペラジン環及びモルホリン環である。
R1ff and Ro or R1 and R1! 5 formed by
Examples of the membered or six-membered ring include a piperidine ring, a perazine ring, a virol ring, a pyrazole ring, an imidazole ring, and a triazole ring, and preferred are a piperidine ring, a virol ring, a piperazine ring, and a morpholine ring.

RoとR目の間に形成される5員又は6員のへテロ環は
、例えばローダニン環、チアゾリン環、チアゾリジン環
、セレナゾリン環、オキサゾリン環、オキサゾリジン環
、イミダシリン環、イミダゾリジン環、ビラプリン環、
ピラゾリジン環、l。
The 5- or 6-membered heterocycle formed between Ro and R is, for example, a rhodanine ring, a thiazoline ring, a thiazolidine ring, a selenazoline ring, an oxazoline ring, an oxazolidine ring, an imidacilline ring, an imidazolidine ring, a birapurine ring,
Pyrazolidine ring, l.

3.4−チアジアゾリン環、1.3.4−オキサジアゾ
リン環、L、3.4−1−リアゾリン環、テトラゾリン
環、チオヒダントイン環、ジヒドロピリジン環、ジヒド
ロビリ逅ジン環、ジヒドロトリアジン環などである。こ
れらのヘテoFiJはそれらに5〜7員の炭素環又はへ
テロ環が縮合したものをも勿論包含する。すなわち、チ
アゾール環に関してベンゾチアプリン核、ナフトチアゾ
リン核、ジヒドロナフトチアゾリン核、テトラヒドロベ
ンゾチアゾリン核など;セレナゾール環に間してベンゾ
セレナゾリン核など;オキサゾリン環に関してベンズオ
キサゾリン核、ナフトオキサゾリン核など;イミダシリ
ン環に関してベンズイミダシリン核、ジヒドロイミダゾ
ロピリミジン核など;トリアゾリン環に関してジヒドロ
トリアゾロビリジン核、ジヒドロトリアゾロピリミジン
核など;ピラゾリン環に間してジヒドロピラゾロピリジ
ン核、ジとドロピラゾロピリミジン核など;ジヒドロピ
リミジン環に間してジヒドロピラゾロピリミジン核、ジ
ヒドロピロロピリミジン核、ジヒドロトリアゾロピリミ
ジン核などが包含される。
3.4-thiadiazoline ring, 1.3.4-oxadiazoline ring, L, 3.4-1-riazoline ring, tetrazoline ring, thiohydantoin ring, dihydropyridine ring, dihydrobiridine ring, dihydrotriazine ring, etc. . Of course, these heteroFiJs include those in which a 5- to 7-membered carbocycle or heterocycle is condensed. Namely, for the thiazole ring, benzothiapurine nucleus, naphthothiazoline nucleus, dihydronaphthothiazoline nucleus, tetrahydrobenzothiazoline nucleus, etc.; for the selenazole ring, benzoselenazoline nucleus, etc.; for the oxazoline ring, benzoxazoline nucleus, naphthoxazoline nucleus, etc.; imidacillin Benzimidacilline nucleus, dihydroimidazolopyrimidine nucleus, etc. for the ring; dihydrotriazolobiridine nucleus, dihydrotriazolopyrimidine nucleus, etc. for the triazoline ring; dihydropyrazolopyridine nucleus, di- and dropyrazolopyrimidine nucleus between the pyrazoline ring etc.; A dihydropyrazolopyrimidine nucleus, a dihydropyrrolopyrimidine nucleus, a dihydrotriazolopyrimidine nucleus, etc. are included between the dihydropyrimidine ring.

これらのへテロ環核の炭素原子上には、種々の置換基を
有することができる。たとえば炭素数l〜20のアルキ
ル基(たとえばメチル基、エチル基、n−ブチル基、t
−ブチル基、ヘプチル基、ヘプタデシル基)、炭素数1
〜20のアルコキシ基(たとえぽメトキシ基、エトキシ
基、ドデシルオキシ基、ヘプタデシルオキシ1&)、炭
素数1〜20のアルキルチオ基(たとえばメチルチオ基
、エチルチオ基、ブチルチオ基)、ヒドロキシ基、メル
カプト基、アミノ基(無置換のみならず置換アミノ基も
包含し、たとえばジメチルアミノ基、メチルアミノ基、
ジエチルアミノ基、ブチルアご)基、ベンジルアミノ基
の如きアルキル置換アミノ基;アニリノ基、ジフェニル
アミノ基の如きアリール置換アミノ基;アセチルア藁ノ
基、カプリロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、メチ
ルスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基、
P−)ルエンスルホニルアミノ基の如きアシルアミノ基
;アセチルチオアミド基、プロピオニルチオアミド基の
如きチオアミド基など)、アリール基(たとえばフェニ
ル基、ナフチル基、トリル基)、炭素数2〜20のアル
ケニル基(たとえばアリル基、メタリル基)、アルキル
部分の炭素数1〜4のアラルキル基(たとえばベンジル
基、フェネチル基)、ハロゲン原子(たとえば塩素、臭
素)、シアノ基、カルボキシ基、スルホ基、カルバモイ
ル基(置換されたものも包含し、たとえばカルバモイル
基、メチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、
エチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基)、チ
オカルバモイル基(置換されたものを包含し、たとえば
チオカルバモイル基、メチルチオカルバモイル基、ジメ
チルチオカルバモイル基、エチルチオカルバモイル基、
フェニルチオカルバモイル基)、炭素数2〜22のアル
コキシカルボニル基(たとえばメトキシカルボニル基、
エトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基)、アリ
ールオキシカルボニル基(たとえばフェノキシカルボニ
ル基)、炭素数2〜22のフルキルカルボニル基(たと
えばアセチル基、カプリロイル基)、酸素原子などを有
することができる。
The carbon atoms of these heterocyclic nuclei can have various substituents. For example, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, n-butyl group, t
-butyl group, heptyl group, heptadecyl group), carbon number 1
~20 alkoxy groups (eg methoxy group, ethoxy group, dodecyloxy group, heptadecyloxy 1&), alkylthio groups having 1 to 20 carbon atoms (e.g. methylthio group, ethylthio group, butylthio group), hydroxy group, mercapto group, Amino groups (including unsubstituted as well as substituted amino groups, such as dimethylamino group, methylamino group,
Alkyl-substituted amino groups such as diethylamino group, butylamino group, benzylamino group; aryl-substituted amino group such as anilino group, diphenylamino group; acetylamino group, capryloylamino group, benzoylamino group, methylsulfonylamino group, benzenesulfonylamino group,
P-) Acylamino groups such as luenesulfonylamino groups; thioamide groups such as acetylthioamide groups and propionylthioamide groups), aryl groups (e.g. phenyl groups, naphthyl groups, tolyl groups), alkenyl groups having 2 to 20 carbon atoms (e.g. allyl group, methallyl group), aralkyl group having 1 to 4 carbon atoms in the alkyl moiety (e.g. benzyl group, phenethyl group), halogen atom (e.g. chlorine, bromine), cyano group, carboxy group, sulfo group, carbamoyl group (substituted For example, carbamoyl group, methylcarbamoyl group, dimethylcarbamoyl group,
ethylcarbamoyl group, phenylcarbamoyl group), thiocarbamoyl group (including substituted ones, such as thiocarbamoyl group, methylthiocarbamoyl group, dimethylthiocarbamoyl group, ethylthiocarbamoyl group,
phenylthiocarbamoyl group), alkoxycarbonyl group having 2 to 22 carbon atoms (e.g. methoxycarbonyl group,
ethoxycarbonyl group, butoxycarbonyl group), aryloxycarbonyl group (for example, phenoxycarbonyl group), C2-C22 furkylcarbonyl group (for example, acetyl group, capryloyl group), oxygen atom, etc.

前記アルキル基はさらに、カルボキシ基、スルホ基、ア
ルコキシカルボニル基(たとえばメトキシカルボニル基
、エトキシカルボニル基)、アシルオキシ基(たとえば
アセトキシ基)、アリール基(たとえばフェニル基、置
換されてもよくたとえばニトロフェニル基)などで置換
されてもよい。
The alkyl group may further include a carboxy group, a sulfo group, an alkoxycarbonyl group (e.g. methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group), an acyloxy group (e.g. acetoxy group), an aryl group (e.g. phenyl group, an optionally substituted e.g. nitrophenyl group). ) etc. may be substituted.

前記へテロ環鎖中の置換し得るちつ素原子上にはR1□
について示されたような置換基を有することができる。
On the substitutable nitrogen atom in the heterocyclic chain, R1□
can have substituents as shown for.

QがN R、をあられす場合に、R14であられされる
アルキル基は、炭素原子1〜20を有し、置換されたも
のを包含する。アルキル基に対する置換基の例としては
ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシ基、スルホ基、ス
ルファト基、フオスホ基、カルバモイル基、アミノスル
ホニル基、ヒドロキシ基、炭素数l〜20のアルコキシ
基(たとえばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、
ブトキシ基:置換されたものも包含し、たとえはヒドロ
キシ基、炭素数1〜6のアルコキシ基(たとえばメトキ
シ基、エトキシ基、プロポキシ5)、炭素数2〜8のア
シルオキシ基(たとえばアセトキシ基、プロピオンオキ
シ基)、スルホ基、炭素数1〜6のスルホアルコキシ基
(たとえば2−スルホエトキシ基、3−スルホプロポキ
シ基)などで置換されてもよい)、炭素数2〜22のア
シルオキシ基(たとえぽアセトキシ基、10ピオンオキ
シ&)、炭素数2〜22のアルケニル基(たとえばビニ
ル基)、炭素数2〜22のアルコキシカルボニル基(た
とえばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、
ブトキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基)
、アリール基(単環または二環で、置換基を有してもよ
い0例えばフェニル基、p−スルホフェニル基)、ヘテ
ロ環残基(たとえばチアゾール環残基、オキサゾール環
残基、イミダゾール環残基、チアジアゾール環残基、オ
キサジアゾール環残基、トリアゾール環残基、テトラゾ
ール環残基、ピリミジン環残基、その他。
When Q represents N R, the alkyl group represented by R14 has 1 to 20 carbon atoms and includes substituted ones. Examples of substituents for alkyl groups include halogen atoms, cyano groups, carboxy groups, sulfo groups, sulfato groups, phosphor groups, carbamoyl groups, aminosulfonyl groups, hydroxy groups, and alkoxy groups having 1 to 20 carbon atoms (for example, methoxy groups, ethoxy group, propoxy group,
Butoxy group: Also includes substituted groups, such as hydroxy group, alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms (e.g. methoxy group, ethoxy group, propoxy group), acyloxy group having 2 to 8 carbon atoms (e.g. acetoxy group, propionic group) oxy group), sulfo group, sulfoalkoxy group having 1 to 6 carbon atoms (for example, 2-sulfoethoxy group, 3-sulfopropoxy group), acyloxy group having 2 to 22 carbon atoms (for example, acetoxy group, 10 pionoxy &), alkenyl group having 2 to 22 carbon atoms (e.g. vinyl group), alkoxycarbonyl group having 2 to 22 carbon atoms (e.g. methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group,
butoxycarbonyl group, dodecyloxycarbonyl group)
, aryl group (monocyclic or bicyclic, optionally having a substituent, e.g. phenyl group, p-sulfophenyl group), heterocyclic residue (e.g. thiazole ring residue, oxazole ring residue, imidazole ring residue) group, thiadiazole ring residue, oxadiazole ring residue, triazole ring residue, tetrazole ring residue, pyrimidine ring residue, etc.

である、)などがある。), etc.

R1□であられされるアルキル基の具体例は下記の如く
である:メチル基、エチル基、プロピル基(n−又はi
−)、ブチル基(n−1sec−1=又はt−)、n−
ヘキシル基、ドデシル基、ヘプタデシル基、クロロメチ
ル基、2−クロロエチル基、2−シアノエチル基、カル
ボキシメチル基、2−カルボキシエチル基、2−スルホ
エチル基、3−スルホエチル基、3−スルホブチル基、
4−スルホブチル基、2−スルファトエチル基、2−フ
ェニルエチル基、2−ヒドロキシエチル基、3−ヒドロ
キシプロピル基、2−メトキシエチル基、3−メトキシ
プロピル基、2−エトキシエチル基、2−(2−ヒドロ
キシエトキシ)エチル基、2−(2−アセトキシエトキ
シ)エチル基、2−(2−スルホエトキシ)エチル基、
2− +2−(3−スルホプロポキシ)エトキシ)エチ
ル基、2〜アセトキシエチル基、4−プロピオニルオキ
シブチル基、アリル基、メトキシカルボニルメチル基、
2−(メトキシカルボニル)エチル基、4−(エトキシ
カルボニル)ブチル基、ブトキシカルボニルメチル基、
ベンジル基、2−フェニルエチル基、P−スルホベンジ
ル基、2−(2−メルカプト−3−ベンズイミダゾリル
)エチル基。
Specific examples of the alkyl group represented by R1□ are as follows: methyl group, ethyl group, propyl group (n- or i
-), butyl group (n-1sec-1= or t-), n-
hexyl group, dodecyl group, heptadecyl group, chloromethyl group, 2-chloroethyl group, 2-cyanoethyl group, carboxymethyl group, 2-carboxyethyl group, 2-sulfoethyl group, 3-sulfoethyl group, 3-sulfobutyl group,
4-sulfobutyl group, 2-sulfatoethyl group, 2-phenylethyl group, 2-hydroxyethyl group, 3-hydroxypropyl group, 2-methoxyethyl group, 3-methoxypropyl group, 2-ethoxyethyl group, 2- (2-hydroxyethoxy)ethyl group, 2-(2-acetoxyethoxy)ethyl group, 2-(2-sulfoethoxy)ethyl group,
2- +2-(3-sulfopropoxy)ethoxy)ethyl group, 2-acetoxyethyl group, 4-propionyloxybutyl group, allyl group, methoxycarbonylmethyl group,
2-(methoxycarbonyl)ethyl group, 4-(ethoxycarbonyl)butyl group, butoxycarbonylmethyl group,
benzyl group, 2-phenylethyl group, P-sulfobenzyl group, 2-(2-mercapto-3-benzimidazolyl)ethyl group.

−綴代(III)で示される化合物のうちさらに好まし
い化合物は下記−綴代(I[Ia)で示される。
A more preferable compound among the compounds represented by -Tsuriyoshi (III) is shown by -Tsuriyoshi (I[Ia) below.

(I[[a) 、・・Ql。(I[[a) ,...Ql.

c−n−R,。c-n-R,.

Q’ は5員又は6員へテロ環を完成するに要する原子
群を示す、R14は一般式(III)におけると同義で
ある。ただしR14が水素原子をあられすことはなく、
Q’で示される原子群の中でチオケト基に隣接する原子
は水素原子と結合していることはない。
Q' represents an atomic group required to complete a 5- or 6-membered heterocycle, and R14 has the same meaning as in general formula (III). However, R14 does not generate hydrogen atoms,
In the atomic group represented by Q', the atoms adjacent to the thioketo group are never bonded to a hydrogen atom.

Q゛で完成されるヘテロ環の具体例は、R3,とRIf
fによって形成されるヘテロ環について示したと同じで
ある。
A specific example of a heterocycle completed with Q is R3, and RIf
The same as shown for the heterocycle formed by f.

Qlで完成されるヘテロ環には2価の置換基、たとえば
オキソ基(−0) 、チオキソ基(−5)エチリデン基
(CH,CH−) 、WtI3エチリデン基(例えばベ
ンズオキサゾリリデンエチリデン基、チアゾリニリデン
エチリデン基、ピリジリデンエチリデン基、キノリリデ
ンエチリデン基なと)、ヘテロ環二価残基(g4えばベ
ンズオキサゾリリデン基、ベンズチアゾリリデン基チア
ゾリニリデン蟇、ピリジリデン基、キノリリデン基なと
)などを有することができる。
The heterocycle completed by Ql has a divalent substituent, such as an oxo group (-0), a thioxo group (-5), an ethylidene group (CH, CH-), a WtI3 ethylidene group (for example, a benzoxazolilidene ethylidene group, thiazolinylidene ethylidene group, pyridylidene ethylidene group, quinolylidene ethylidene group), heterocyclic divalent residues (for example, benzoxazolilidene group, benzthiazolylidene group thiazolinylidene group, pyridylidene group, quinolylidene group) etc.).

一般式(Iff)で示される化合物は、たとえば特公昭
48−34,169 (化合物−Nlllから8まで、
31.32)、薬学雑誌ユ± 1365〜1369(1
954)(化合物例−N1)9 ) 、Beinste
inxm、394、It/121(化合物例−菟12と
13)、特公昭47−18008 (化合物例−NCJ
、l 9 )、特公昭4B−34168(化合物例−徹
25)、等に記載された方法で合成できる。
Compounds represented by the general formula (Iff) are, for example, Japanese Patent Publication No. 48-34, 169 (Compound-Nllll to 8,
31.32), Pharmaceutical Journal, 1365-1369 (1
954) (Compound Example-N1)9), Beinste
inxm, 394, It/121 (Compound examples - 菟12 and 13), Japanese Patent Publication No. 47-18008 (Compound examples - NCJ
, l 9 ), Japanese Patent Publication No. 4B-34168 (Compound Example - Toru 25), etc.

以下本発明で用いるチオアミド化合物の具体例を示す。Specific examples of the thioamide compound used in the present invention are shown below.

[[[−1m−2 l−3 1)[−4 −5 1)−6 CH。[[[-1m-2 l-3 1) [-4 -5 1)-6 CH.

CH8 1)−7 1[1−8 Hx isoc5H++ 1)1−9 ■−10 Hs ■−1) ■−12 ■−13 gHs ll−14 ll−20 ■−21 ■−22 ■−23 ■−15 1[1−16 1[[−17 CtH,OH 1)[−19 ■−24 ■−27 ■−28 ■−29 S −30 ■−32 ■ 3 ■ 4 本発明において、−FG式(I[I)で表される化合物
は、ハロゲン化銀乳剤層に含有させるのが好ましいがそ
れ以外の非感光性の親水性コロイド層(例えば保護層、
中間層、フィルター層、ハレーション防止層など)に含
有させてもよい、具体的には使用する化合物が水溶性の
場合には水溶液として、また難水溶性の場合にはアルコ
ール類、エステル類、ケトン類などの水と混和しうる有
機溶媒の溶液として、親水性コロイド溶液に添加すれ番
iよい、ハロゲン化銀乳剤層に添加する場合は化学勢威
の開始から塗布前までの任意の時期に行ってよいが、化
学熟成終了後から塗布前の間に添加するのが好ましい、
特に塗布のために用意された塗布液中に添加するのがよ
い。
CH8 1)-7 1[1-8 Hx isoc5H++ 1)1-9 ■-10 Hs ■-1) ■-12 ■-13 gHs ll-14 ll-20 ■-21 ■-22 ■-23 ■-15 1[1-16 1[[-17 CtH,OH 1)[-19 ■-24 ■-27 ■-28 ■-29 S -30 ■-32 ■ 3 ■ 4 In the present invention, -FG formula (I[ The compound represented by I) is preferably contained in the silver halide emulsion layer, but is also included in other non-photosensitive hydrophilic colloid layers (e.g. protective layer,
(intermediate layer, filter layer, antihalation layer, etc.).Specifically, if the compound used is water-soluble, it may be contained in an aqueous solution, or if it is poorly water-soluble, it may be contained in alcohols, esters, ketones, etc. It is best to add it to a hydrophilic colloid solution as a solution of a water-miscible organic solvent such as a water-miscible organic solvent.If it is added to a silver halide emulsion layer, it can be added at any time from the start of chemical reaction to before coating. However, it is preferable to add it between the end of chemical ripening and before coating.
In particular, it is preferable to add it to a coating solution prepared for coating.

本発明の一般式(III)で表わされる化合物の含有量
はハロゲン化銀乳剤の粒子径、ハロゲン組成、化学増感
の方法と程度、該化合物を含有させる層とハロゲン化銀
乳剤の関係、カブリ防止化合物の種類などに応して最適
の量を選択することが望ましく、その選択のための試験
の方法は当業者のよく知るところである0通常は好まし
くはハロゲン化銀1モル当りto−yモルないしlXl
0−”モJし、特に10−’ないし5X10−’モルの
範囲で用いられる。
The content of the compound represented by the general formula (III) of the present invention is determined by the grain size of the silver halide emulsion, the halogen composition, the method and degree of chemical sensitization, the relationship between the layer containing the compound and the silver halide emulsion, and fog. It is desirable to select the optimum amount depending on the type of inhibitory compound, etc., and testing methods for selection are well known to those skilled in the art. or lXl
0-'' moles, especially in the range of 10-'' to 5×10-'' moles.

本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤は塩化銀、塩臭化
銀、沃臭化銀、沃塩臭化銀等どの組成でもかまわないが
、沃臭化i艮が好ましい、沃化銀の含量は10モル%以
下、特に0.1〜3.5モル%であることが好ましい。
The silver halide emulsion used in the present invention may have any composition such as silver chloride, silver chlorobromide, silver iodobromide, silver iodochlorobromide, etc., but iodobromide is preferable.The content of silver iodide is It is preferably 10 mol% or less, particularly 0.1 to 3.5 mol%.

本発明に用いられるハロゲン化銀の平均粒子サイズは微
粒子(例えば0.7μ以下)の方が好ましく、特には0
.5μ以下が好ましい0粒子サイズ分布は基本的には制
限はないが、単分散である方が好ましい。ここでいう単
分散とは重量もしくは粒子数で少なくともその95%が
平均粒子サイズの140%以内の大きさを持つ粒子群か
ら構成されていることをいう。
The average grain size of the silver halide used in the present invention is preferably fine grains (for example, 0.7μ or less), particularly 0.7μ or less.
.. There is basically no limit to the zero particle size distribution, which is preferably 5 μm or less, but it is preferably monodisperse. Monodisperse herein means that at least 95% of the particles by weight or number of particles is composed of particles having a size within 140% of the average particle size.

写真乳剤中のハロゲン化銀粒子は立方体、八面体、14
面体、菱12面体のような規則的(regular)な
結晶体を有するものでもよく、特に好ましいのは、立方
体、十四面体である。また球状、板状、アスペクト比3
〜20の平板状などのような変則的(irregula
r)な結晶を持つもの、あるいはこれらの結晶形の複合
形を持つものであってもよい。
Silver halide grains in photographic emulsions are cubic, octahedral, 14
It may have regular crystal bodies such as a hedron or a rhombic dodecahedron, and particularly preferred are a cube and a dodecahedron. Also spherical, plate-shaped, aspect ratio 3
~20 irregularities such as plate-like
r) crystals, or a composite form of these crystal forms.

ハロゲン化銀粒子は内部と表層が均一な相から戒ってい
ても、異なる相からなっていてもよい。
The interior and surface layers of the silver halide grains may have a uniform phase or may consist of different phases.

別々に形成した2種以上のハロゲン化銀乳剤を混合して
使用してもよい。
Two or more silver halide emulsions formed separately may be used in combination.

本発明に用いるハロゲン化銀乳剤にはハロゲン化銀粒子
の形成または物理熟成の過程においてカドミウム塩、亜
g酸塩、鉛塩、タリウ二塩、ロジウム塩もしくはその錯
塩、イリジウム塩もしくはその錯塩などを共存させても
よい。
In the silver halide emulsion used in the present invention, cadmium salt, ginate, lead salt, thallium di salt, rhodium salt or its complex salt, iridium salt or its complex salt, etc. are added to the silver halide emulsion in the process of forming silver halide grains or during physical ripening. They may coexist.

本発明に用いるに特に適したハロゲン化銀は、銀1モル
当り10−3〜10−’モルのイリジウム塩若しくはそ
の錯塩を存在させて調製され、かつ粒子表面の沃化銀含
有率が粒子平均の沃化銀含有率よりも大きいハロ沃化銀
である。かかるハロ沃化銀を含む乳剤を用いるとより一
層高感度でガンマの高い写真特性が得られる。
Silver halides particularly suitable for use in the present invention are prepared in the presence of 10-3 to 10-' mole of iridium salt or complex salt thereof per mole of silver, and have a silver iodide content on the grain surface of The silver iodide content is higher than that of silver iodide. When an emulsion containing such silver haloiodide is used, photographic characteristics with higher sensitivity and higher gamma can be obtained.

上記においては、ハロゲン化銀乳剤の製造工程の物理熟
成終了前と(に粒子形成時に上記の量のイリジウム塩を
加えることが望ましい。
In the above, it is desirable to add the iridium salt in the above amount before the completion of physical ripening in the silver halide emulsion manufacturing process and during grain formation.

ここで用いられるイリジウム塩は水溶性のイリジウム塩
またはイリジウム錯塩で、例えば三塩化イリジウム、四
塩化イリジウム、ヘキサクロロイリジウム(II[)酸
カリウム、ヘキサクロロイリジウム(IV)aカリウム
、ヘキサクロロイリジウム(Iff)aアンモニウムな
どがある。
The iridium salt used here is a water-soluble iridium salt or an iridium complex salt, such as iridium trichloride, iridium tetrachloride, potassium hexachloroiridate (II[), potassium hexachloroiridium (IV) a, ammonium hexachloroiridium (Iff) a and so on.

本発明の乳剤は、化学増感されていなくてもよいが化学
増感されていてもよい、化学増感の方法としては、硫黄
増感、還元増感、金増感等の知られている方法を用いる
ことができ、単独または組合せで用いられる。好ましい
化学増感方法は硫黄増感である。
The emulsion of the present invention does not need to be chemically sensitized, but may be chemically sensitized. Examples of chemical sensitization methods include sulfur sensitization, reduction sensitization, gold sensitization, etc. The methods can be used alone or in combination. A preferred chemical sensitization method is sulfur sensitization.

硫黄増感剤としては、ゼラチン中に含まれる硫黄化合物
のほか、種々の硫黄化合物、たとえばチオ硫酸塩、チオ
尿素類、チアゾール類、ローダニン類等を用いることが
できる。具体例は米国特許1.574.944号、同2
,278,947号、同2,410,689号、同2,
728,668号、同3,501.313号、同3,6
56,955号に記載されたものである。好ましい硫黄
化合物は、チオ硫酸塩、チオ尿素化合物であり、化学増
感時のPAgとしては好ましくは8.3以下、より好ま
しくは、7.3〜8.0の範囲である。
As the sulfur sensitizer, in addition to the sulfur compounds contained in gelatin, various sulfur compounds such as thiosulfates, thioureas, thiazoles, rhodanines, etc. can be used. Specific examples are U.S. Patent Nos. 1.574.944 and 2.
, No. 278,947, No. 2,410,689, No. 2,
No. 728,668, No. 3,501.313, No. 3,6
No. 56,955. Preferred sulfur compounds are thiosulfates and thiourea compounds, and the PAg during chemical sensitization is preferably 8.3 or less, more preferably in the range of 7.3 to 8.0.

さらにMo1sar、 Klein Ge1atine
、 Proc、 Symp、 2nd+301〜309
 (1970)らによって報告されているようなポリビ
ニルピロリドンとチオ硫酸塩を併用する方法も良好な結
果を与える。
Furthermore, Mo1sar, Klein Gelatine
, Proc, Symp, 2nd+301~309
(1970) et al. also give good results using a combination of polyvinylpyrrolidone and thiosulfate.

貴金属増感法のうち金増感法はその代表的なもので金化
合物、主として金錯塩を用いる。全以外の貴金属、たと
えば白金、パラジウム、イリジウム等の錯塩を含有して
も差支えない、その具体例は米国特許2,448,06
0号、英国特許618.061号などに記載されている
Among the noble metal sensitization methods, the gold sensitization method is a typical method and uses a gold compound, mainly a gold complex salt. There is no problem in containing complex salts of noble metals other than metals, such as platinum, palladium, and iridium.
No. 0, British Patent No. 618.061, etc.

還元増感剤としては第一すず塩、アミン類、ホルムアミ
ジンスルフィン酸、シラン化合物などを用いることがで
き、それらの具体例は米国特許2487.850号、2
,518,698号、2゜983.609号、2,98
3,610号、2゜694.637号に記載されている
As the reduction sensitizer, stannous salts, amines, formamidine sulfinic acid, silane compounds, etc. can be used, and specific examples thereof are described in U.S. Pat.
, 518,698, 2゜983.609, 2,98
No. 3,610 and No. 2°694.637.

本発明に用いられる感光材料中のハロゲン化銀乳剤は、
一種だけでもよいし、二種以上(例えば、平均粒子サイ
ズの異なるもの、ハロゲン組成の異なるもの、晶癖の異
なるもの、化学増感の条件の異なるもの)併用してもよ
い。
The silver halide emulsion in the light-sensitive material used in the present invention is
One type may be used alone, or two or more types (for example, those with different average particle sizes, those with different halogen compositions, those with different crystal habits, and those with different chemical sensitization conditions) may be used in combination.

写真乳剤の結合剤または保護コロイドとしては、ゼラチ
ンを用いるのが有利であるが、それ以外の親水性コロイ
ドも用いることができる。たとえばゼラチン誘導体、ゼ
ラチンと他の高分子とのグラフトポリマー、アルブミン
、カゼイン等の蛋白質ヒドロキシエチルセルロース、カ
ルボキシメチルセルロース、セルロース硫酸エステル類
等の如きセルロース誘導体、アルギン酸ソーダ、澱粉誘
導体などの糖誘導体、ポリビニルアルコール、ポリビニ
ルアルコール部分アセタール、ポリ−N−ビニルピロリ
ドン、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリ
ルアミド、ポリビニルイミダゾール、ポリビニルピラゾ
ール等の単一あるいは共重合体の如き多種の合成親水性
高分子+4j!/J質を用いることができる。
Gelatin is advantageously used as a binder or protective colloid in photographic emulsions, but other hydrophilic colloids can also be used. For example, gelatin derivatives, graft polymers of gelatin and other polymers, proteins such as albumin and casein, cellulose derivatives such as hydroxyethyl cellulose, carboxymethyl cellulose, and cellulose sulfate esters, sugar derivatives such as sodium alginate and starch derivatives, polyvinyl alcohol, Various synthetic hydrophilic polymers such as single or copolymers of polyvinyl alcohol partial acetal, poly-N-vinylpyrrolidone, polyacrylic acid, polymethacrylic acid, polyacrylamide, polyvinylimidazole, polyvinylpyrazole, etc.+4j! /J quality can be used.

ゼラチンとしては石灰処理ゼラチンのほか、酸処理ゼラ
チンを用いてもよく、ゼラチン加水分解物、ゼラチン酵
素分解物も用いることができる。
As the gelatin, in addition to lime-treated gelatin, acid-treated gelatin may be used, and gelatin hydrolysates and gelatin enzymatically decomposed products can also be used.

本発明においては特開昭55−52050号第45頁〜
53頁に記載された可視域に吸収極大を有する増感色素
(例えばシアニン色素、メロシアニン色素など、)を添
加することもできる。これによってハロゲン化銀の固有
感度領域より長波側に分光増感することができる。
In the present invention, JP-A No. 55-52050, page 45~
It is also possible to add a sensitizing dye (for example, cyanine dye, merocyanine dye, etc.) having an absorption maximum in the visible region as described on page 53. This allows spectral sensitization to be performed on the longer wavelength side than the inherent sensitivity region of silver halide.

これらの増感色素は単独に用いてもよいが、それらの組
合せを用いてもよく、増感色素の組合せは特に、強色増
感の目的でしばしば用いられる。
These sensitizing dyes may be used alone or in combination, and combinations of sensitizing dyes are often used particularly for the purpose of supersensitization.

増感色素とともに、それ自身分光増感作用をもたない色
素あるいは可視光を実質的に吸収しない物質であって、
強色増感を示す物質を乳剤中に含んでもよい。
Along with the sensitizing dye, it is a dye that itself does not have a spectral sensitizing effect or a substance that does not substantially absorb visible light,
A substance exhibiting supersensitization may also be included in the emulsion.

有用な増感色素、強色増感を示す色素の組合せ及び強色
増感を示す物質はリサーチ・ディスクロ塩類、脂肪族あ
るいは芳香族第4級アンモニウム塩類、ピリジニウム、
イミダゾリウムなどの複素環第4級アンモニウム塩類、
及び脂肪族又は複素環を含むホスホニウム又はスルホニ
ウム塩類などのカチオン界面活性剤を用いることができ
る。
Useful sensitizing dyes, supersensitizing dye combinations and supersensitizing substances include Research Discro salts, aliphatic or aromatic quaternary ammonium salts, pyridinium,
Heterocyclic quaternary ammonium salts such as imidazolium,
and cationic surfactants such as phosphonium or sulfonium salts containing aliphatic or heterocycles.

特に本発明において好ましく用いられる界面活性剤は特
公昭5B−9412号公報に記載された分子量600以
上のポリアルキレンオキサイド類である。
In particular, surfactants preferably used in the present invention are polyalkylene oxides having a molecular weight of 600 or more and described in Japanese Patent Publication No. 5B-9412.

また、帯電防止のためには特開昭60−80849号な
どに記載された含フッ素系界面活性剤を用いることが好
ましい。
Further, in order to prevent static electricity, it is preferable to use a fluorine-containing surfactant described in JP-A-60-80849.

本発明の写真感光材料には、写真乳剤層その他の親水性
コロイド層に現像時画像の濃度に対応して、現像抑制剤
を放出するハイドロキノン誘導体(いわゆる、DIR−
ハイドロキノン)を含有してもよい。
The photographic light-sensitive material of the present invention contains hydroquinone derivatives (so-called DIR-
hydroquinone).

それらの具体例は米国特許3,379,529号、米国
特許3,620.746号、米国特許4゜377.63
4号、米国特許4,332,878号、特開昭49−1
29,536号、特開昭54−67.419号、特開昭
56−153,336号、特開昭56−153,342
号、特開昭59−278,853号、同59−9043
5号、同59−90436号、同59−138808号
などに記載の化合物を挙げることができる。
Specific examples thereof include U.S. Pat. No. 3,379,529, U.S. Pat. No. 3,620.746, and U.S. Pat.
No. 4, U.S. Patent No. 4,332,878, Japanese Unexamined Patent Publication No. 49-1
29,536, JP 54-67.419, JP 56-153,336, JP 56-153,342
No., JP-A No. 59-278,853, JP-A No. 59-9043
Examples include compounds described in No. 5, No. 59-90436, and No. 59-138808.

本発明の写真感光材料には写真乳剤層その他の親水性コ
ロイド層に接着防止の目的でシリカ、酸、化マグネシウ
ム、ポリメチルメタクリレート等のマット剤を含むこと
ができる。
The photographic light-sensitive material of the present invention may contain a matting agent such as silica, acid, magnesium chloride, polymethyl methacrylate, etc. in the photographic emulsion layer and other hydrophilic colloid layers for the purpose of preventing adhesion.

本発明で用いられる感光材料には寸度安定性の目的で水
不溶または難溶性合成ポリマーの分散物を含むことがで
きる。たとえばアルキル(メタ)アクリレート、アルコ
キシアクリル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ
)アクリレート、などの単独もしくは組合わせ、または
これらとアクリル酸、メタアクリル酸、などの組合せを
単量体成分とするポリマーを用いることができる。
The light-sensitive material used in the present invention may contain a dispersion of a water-insoluble or sparingly soluble synthetic polymer for the purpose of dimensional stability. For example, a polymer containing as a monomer component alkyl (meth)acrylate, alkoxy acrylic (meth)acrylate, glycidyl (meth)acrylate, etc. alone or in combination, or a combination of these with acrylic acid, methacrylic acid, etc. is used. be able to.

本発明の写真感光材料のハロゲン化銀乳剤層及びその他
の層には酸基を有する化合物を含有することが好ましい
、酸基を有する化合物としてはサリチル酸、酢酸、アス
コルビン酸等の有機酸及びアクリル酸、マレイン酸、フ
タル酸の如き酸モノマーをくり返し単位として有するポ
リマー又はコポリマーを挙げることができる。これらの
化合物に関しては特開昭61−223834号、同61
−228437号、同62−25745号、及び同62
−55642号明細書の記録を参考にすることができる
。これらの化合物の中でも特に好ましいのは、低分子化
合物としてはアスコルビン酸であり、高分子化合物とし
てはアクリル酸の如き酸モノマーとジビニルベンゼンの
如き2個以上の不飽和基を有する架橋性モノマーからな
るコポリマーの水分散性ラテックスである。
The silver halide emulsion layer and other layers of the photographic light-sensitive material of the present invention preferably contain a compound having an acid group. Examples of the compound having an acid group include organic acids such as salicylic acid, acetic acid, and ascorbic acid, and acrylic acid. Polymers or copolymers having acid monomers such as , maleic acid, phthalic acid as repeating units may be mentioned. Regarding these compounds, see JP-A-61-223834 and JP-A No. 61-223834.
-228437, 62-25745, and 62
The record of specification No.-55642 can be referred to. Among these compounds, particularly preferred is ascorbic acid as a low-molecular compound, and as a high-molecular compound, an acid monomer such as acrylic acid and a crosslinking monomer having two or more unsaturated groups such as divinylbenzene are particularly preferred. It is a copolymer water-dispersible latex.

本発明に用いられる乳剤は、適当な支持体、例えはガラ
ス、酢酸、セルロースフィルム、ポリエチレンテレフタ
レートフィルム、紙、バライタ塗覆紙、ポリオレフィン
被覆紙の如きものの上に塗布される。
The emulsions used in this invention are coated onto a suitable support such as glass, acetic acid, cellulose film, polyethylene terephthalate film, paper, baryta-coated paper, polyolefin-coated paper, and the like.

本発明のハロゲン化銀感光材料を用いて超硬調で高感度
の写真特性を得るには、従来の伝染現像液や米国特許2
,419,975号に記載されたpH13に近い高アル
カリ現像液を用いる必要はなく、安定な現像液を用いる
ことができる。
In order to obtain ultra-high contrast and high-sensitivity photographic properties using the silver halide photosensitive material of the present invention, it is necessary to use a conventional infectious developer or US Pat.
It is not necessary to use a highly alkaline developer having a pH close to 13 as described in No. 419,975, and a stable developer can be used.

すなわち、本発明のハロゲン化銀感光材料は、保恒剤と
しての亜硫酸イオンを0.15モル/1以上含み、PH
10,5〜12.3、特にpH1),0〜12.0の現
像液によって充分に超硬調のネガ画像を得ることができ
る。
That is, the silver halide photosensitive material of the present invention contains 0.15 mol/1 or more of sulfite ion as a preservative, and has a pH of
A sufficiently ultra-high contrast negative image can be obtained using a developer having a pH of 10.5 to 12.3, particularly pH 1) and 0 to 12.0.

本発明に使用する現像液に用いる現像主薬には特別な制
限はないが、良好な綱点品賞を得やすい点で、ジヒドロ
キシベンゼン類を含むことが好まシ<、ジヒドロキシベ
ンゼン類と1−フェニル−3−ピラゾリドン類の組合せ
またはジヒドロキシベンゼン類とP−アミノフェノール
類の組合せを用いる場合もある。
There is no particular restriction on the developing agent used in the developer used in the present invention, but it is preferable that it contains dihydroxybenzenes, since it is easy to obtain a good quality award. A combination of -3-pyrazolidones or a combination of dihydroxybenzenes and P-aminophenols may also be used.

本発明に用いるジヒドロキシベンゼン現像主薬としては
ハイドロキノン、クロロハイドロキノン、ブロムハイド
ロキノン、イソプロピルハイドロキノン、メチルハイド
ロキノン、2.3−ジクロロハイドロキノン、2,5−
ジクロロハイドロキノン、2,3−ジブロムハイドロキ
ノン、2.5−ジメチルハイドロキノンなどがあるが特
にハイドロキノンが好ましい。
The dihydroxybenzene developing agent used in the present invention includes hydroquinone, chlorohydroquinone, bromohydroquinone, isopropylhydroquinone, methylhydroquinone, 2,3-dichlorohydroquinone, 2,5-
Examples include dichlorohydroquinone, 2,3-dibromohydroquinone, 2,5-dimethylhydroquinone, and hydroquinone is particularly preferred.

本発明に用いる1−フェニル−3−ピラゾリドン又はそ
の誘導体の現像主薬としてはl−フェニル−3−ピラゾ
リドン、1−フェニル−4,4−ジメチル−4−ピラゾ
リドン、1−フェニル−4−メチル−4−ヒドロキシメ
チル−3−ビラプリトン、■−フェニルー44−ジ巳ド
ロキシメチルー3−ピラゾリドン、1−フェニル−5−
メチル−3−ビラプリトン、1−P−アミノフェニル−
4,4−ジメチル−3−ピラゾリドン、i−pトリル−
4,4−ジメチル−3−ピラゾリドンなどがある。
As the developing agent for 1-phenyl-3-pyrazolidone or its derivative used in the present invention, l-phenyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-4,4-dimethyl-4-pyrazolidone, 1-phenyl-4-methyl-4 -Hydroxymethyl-3-virapritone, ■-phenyl-44-diroxymethyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-5-
Methyl-3-virapritone, 1-P-aminophenyl-
4,4-dimethyl-3-pyrazolidone, ip tolyl-
Examples include 4,4-dimethyl-3-pyrazolidone.

本発明に用いるP−アミノフェノール系現像主薬として
はN−メチル−p−アミノフェノール、P−アミノフェ
ノール、N−(β−ヒドロキシエチル)−p−アミノフ
ェノール、N−(4−ヒドロキシフェニル)グリシン、
2−メチル−p−アミノフェノール、p−ベンジルアミ
ノフェノール等があるが、なかでもN−メチル−p−ア
ミノフェノールが好ましい。
Examples of the P-aminophenol developing agent used in the present invention include N-methyl-p-aminophenol, P-aminophenol, N-(β-hydroxyethyl)-p-aminophenol, and N-(4-hydroxyphenyl)glycine. ,
There are 2-methyl-p-aminophenol, p-benzylaminophenol, etc., among which N-methyl-p-aminophenol is preferred.

現像主薬は通常0,05モル/l−0.8モル/忍の量
で用いられるのが好ましい、またジヒドロキシベンゼン
類とl−フェニル−3−ピラゾリドン類又はp・アミノ
・フェノール類との組合せを用いる場合には前者を0.
05モル/l〜0゜5モル/l、後者を0.06モル/
i以下の量で用いるのが好ましい。
The developing agent is preferably used in an amount of usually 0.05 mol/l to 0.8 mol/l. When using the former, set it to 0.
05 mol/l to 0°5 mol/l, the latter 0.06 mol/l
It is preferable to use it in an amount equal to or less than i.

本発明に用いる亜硫酸塩の保恒剤としては亜硫酸ナトリ
ウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸アンモ
ニウム、重亜6エ酸ナトリウム、メタ重亜硫酸カリウム
、ホルムアルデとド重亜硫酸ナトリウムなどがある。亜
硫酸塩は0715モル/i以上特に0.5モル/1以上
が好ましい、また上限は2.5モル/lまでとするのが
好ましい。
Preservatives for sulfite used in the present invention include sodium sulfite, potassium sulfite, lithium sulfite, ammonium sulfite, sodium hexaethite, potassium metabisulfite, formalde and sodium metabisulfite. The amount of sulfite is preferably 0,715 mol/i or more, particularly 0.5 mol/1 or more, and the upper limit is preferably 2.5 mol/l.

PHの設定のために用いるアルカリ剤には水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム
、第三リン酸ナトリウム、第三リン酸カリウムの如きp
H澗節剤や緩衝剤を含む、現像液のpHは10.5〜1
2,3の間に設定される。
Alkaline agents used to set pH include sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, trisodium phosphate, and potassium triphosphate.
The pH of the developer, including the H moderation agent and buffering agent, is 10.5 to 1.
It is set between 2 and 3.

上記成分以外に用いられる添加剤としてはホウ酸、ホウ
砂などの化合物、臭化ナトリウム、臭化カリウム、沃化
カリウムの如き現像抑制剤:エチレングリコール、ジエ
チレングリコール、トリエチレングリコール、ジメチル
ホルムアミド、メチルセロソルブ、ヘキンレングリコー
ル、エタノール、メタノールの如き有機溶剤:i−フェ
ニル−5−メルカプトテトラゾール、5−ニトロインダ
ゾール等のインダゾール系化合物、5−メチルベンツト
リアゾール等のペンツトリアゾール系化合物などのカブ
リ防止剤又は黒ボッ(black pepper)防止
剤:を含んでもよく、更に必要に応して色調剤、界面活
性剤、消泡剤、硬水軟化剤、硬膜剤、特開昭56−10
6244号記載のア鴫ノ化合物などを含んでもよい。
Additives used in addition to the above ingredients include compounds such as boric acid and borax, development inhibitors such as sodium bromide, potassium bromide, and potassium iodide; ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, dimethylformamide, and methyl cellosolve. , organic solvents such as hequinlene glycol, ethanol, and methanol; antifoggants such as indazole compounds such as i-phenyl-5-mercaptotetrazole and 5-nitroindazole; and penttriazole compounds such as 5-methylbenztriazole; It may also contain a black pepper inhibitor, and if necessary, a color toning agent, a surfactant, an antifoaming agent, a water softener, a hardening agent, and JP-A-56-10
It may also contain the azuno compound described in No. 6244.

本発明の現像液には銀汚れ防止剤して特開昭56−24
,347号に記載の化合物を用いることができる。現像
液中に添加する溶解助剤して特願昭60−109,74
3号に記載の化合物を用いることができる。さらに現像
液に用いるpH17i街剤として特開昭60−93,4
33号に記載の化合物あるいは特願昭61−28708
号に記載の化合物を用いることができる。
The developing solution of the present invention contains a silver stain preventive agent.
, No. 347 can be used. Patent application 1986-109, 1974 as a solubilizing agent added to the developer.
Compounds described in No. 3 can be used. Furthermore, as a pH 17i additive for use in developing solutions, JP-A-60-93,4
Compounds described in No. 33 or Japanese Patent Application No. 61-28708
Compounds described in this issue can be used.

定着剤としては一般に用いられる組成のものを用いるこ
とができる。定着剤としてはチオ硫酸塩、チオシアン酸
塩のほか、定着剤としての効果の知られている有!R硫
黄化合物を用いることができる。
As the fixing agent, those having commonly used compositions can be used. In addition to thiosulfates and thiocyanates, there are other fixing agents that are known to be effective as fixing agents. R sulfur compounds can be used.

定着液には硬膜剤として水溶性アルミニウム(例えば硫
酸アルミニウム、明パンなど)を含んでもよい、ここで
水溶性アルミニウム塩の量としては通常0.4〜2.0
g−AN/lである。ざらに三価の鉄化合物を酸化剤と
してエチレンジアミン4酢酸との錯体として用いること
もできる。
The fixing solution may contain water-soluble aluminum (e.g. aluminum sulfate, light bread, etc.) as a hardening agent, where the amount of water-soluble aluminum salt is usually 0.4 to 2.0.
g-AN/l. A trivalent iron compound can also be used as an oxidizing agent in the form of a complex with ethylenediaminetetraacetic acid.

現像処理温度は普通18゛Cからso’cの間で選ばれ
るがより好しくは25°Cから43℃である。
The processing temperature is usually selected between 18°C and so'c, more preferably between 25°C and 43°C.

(実施例) 次に、本発明について実施例にもとづいてより現像液は
下記に記載の処方を 具体的に説明する。
(Example) Next, the formulation of the developing solution described below will be specifically explained based on Examples of the present invention.

用いた。Using.

(現像液処方) ハイドロキノン N・メチルP・アミノフェ ノール1/2硫酸塩 水酸化ナトリウム 水酸化カリウム 5−スルホサリチル酸 ホウ酸 亜硫酸カリウム エチレンジアミン四酢酸二 ナトリウム塩 臭化カリウム 5メチルベンゾトリアゾール n・ブチル・ジエタノールア 暑ン 水を加えて 45.0g 8g 8g 8g 8g 8g 8g 1、 Og 6、 Og 0.6g 0゜ 18゜ 55゜ 45゜ 25゜ 1)0゜ 15.0g f (pH謡1)゜ 6) 実施例−l コントロールダブルジェット法を用いて粒子サイズ0.
25μの立方体単分散沃臭化銀乳剤(変動系数0.15
、沃化銀0.5モル%、ヨード分布は均一)を調製した
。この沃臭化銀乳剤にはに3 TrCl、hを4 X 
10−’−T:JL//A g −1−/L/含有する
よう添加した。
(Developer formulation) Hydroquinone N, methyl P, aminophenol 1/2 sulfate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, 5-sulfosalicylic acid, boric acid, potassium sulfite, ethylenediamine, tetraacetic acid, disodium chloride, potassium bromide, 5-methylbenzotriazole, n, butyl, diethanol a Add hot water and add 45.0g 8g 8g 8g 8g 8g 8g 1, Og 6, Og 0.6g 0゜18゜55゜45゜25゜1) 0゜15.0g f (pH song 1)゜6) Example-l Particle size 0.1 using controlled double jet method.
25μ cubic monodisperse silver iodobromide emulsion (varying number 0.15
, silver iodide 0.5 mol %, uniform iodine distribution) was prepared. This silver iodobromide emulsion contains 3 TrCl, h 4
10-'-T: JL//A g -1-/L/ was added.

この乳剤をフロキエレーション法により脱塩を行ないそ
の後50’Cに保ち増感色素として下記化合物(a)を
銀1モル−5X10−’モルと、1艮1モル当り104
モルのヨウ化カリ溶液を加え15分分間時させた後降温
した。
This emulsion was desalted by the flochieration method, and then kept at 50'C, and the following compound (a) was added as a sensitizing dye to 1 mol of silver - 5 x 10-' mol, 104 per 1 mol of silver.
A molar potassium iodide solution was added and the mixture was allowed to stand for 15 minutes, and then the temperature was lowered.

この乳剤に安定剤として4−ヒドロキシ−6メチルー1
.3,3a、?−テトラザインデン、5−メチルベンズ
トリアゾール、下記化合物(b)(a) (b) (c) エチレングリコールを15tng/niになるように加
え、ポリエチルアクリレートの分散物を固型分で対ゼラ
チン比30wt%、硬膜として1,3−ジビニル−スル
ホニル−2−プロパノールを加えポリエチレンテレフタ
レートフィルム上にiIl!3.6g/ボになる様に塗
布した。この上に保護層としてゼラチン1.2g/m、
粒子サイズ約3μの不定型な5jOxマット剤40mg
/rd、メタノールシリカO,Ig/m、ボリアクリル
アミド100■/ホ、ハイドロキノン200■/rrr
とシリコーンオイル及び塗布助剤として下記構造式で示
されるフッ素界面活性剤 (b)をそれぞれ5■/ホ塗布される欅添加した。
4-hydroxy-6methyl-1 was added to this emulsion as a stabilizer.
.. 3,3a,? - Tetrazaindene, 5-methylbenztriazole, the following compound (b) (a) (b) (c) Add ethylene glycol to 15 tng/ni, and dissolve the solid content of polyethyl acrylate dispersion against gelatin. 1,3-divinyl-sulfonyl-2-propanol was added as a hardening film at a ratio of 30 wt%, and the film was coated on a polyethylene terephthalate film. It was applied at a weight of 3.6 g/bo. On top of this, 1.2 g/m of gelatin was added as a protective layer.
40mg of amorphous 5jOx matting agent with a particle size of approximately 3μ
/rd, methanol silica O, Ig/m, polyacrylamide 100■/E, hydroquinone 200■/rrr
A silicone oil and a fluorosurfactant (b) represented by the following structural formula as a coating aid were added at a rate of 5 cm/h, respectively.

ヒドラジン化合物として(1−19)(IXIO″Sモ
ル1モルAg)(1−5)(5X10−’モル1モルA
g)を添加し、さらに平均分子1)600のポリとドデ
シルベンゼンスルホン酸ナトリウムを含む層を同時に塗
布行ない表1のような試料を作製した。
As a hydrazine compound (1-19) (IXIO''S mol 1 mol Ag) (1-5) (5X10-' mol 1 mol A
g) was added thereto, and a layer containing poly with an average molecular weight of 1) 600 and sodium dodecylbenzenesulfonate was simultaneously coated to prepare samples as shown in Table 1.

またバンク層は次に示す処方にて塗布した。The bank layer was applied using the following recipe.

〔バック層処方〕[Back layer prescription]

ゼラチン             4g/ボマノト剤
 ポリメチルメタアクリレート(粒子径3.0〜4.0
μ) 10■/ボ ラテックス ポリエチルアクリレート 2g/ボ 界面活性剤 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウ
ム     40■/ボ フッ素系界面活性剤 染料(a) CH3−C−CCH−C−−C−CI(ffl 染料(b) ゼラチン硬化剤 5■/ボ CHア 畷cHsoz 染料 染料(a)、 物 染料(a) 染料(b) 染料(c) CH。
Gelatin 4g/Bomanoto agent Polymethyl methacrylate (particle size 3.0-4.0
μ) 10■/Boratex Polyethyl acrylate 2g/Bosurfactant Sodium p-dodecylbenzenesulfonate 40■/Bofluorine surfactant dye (a) CH3-C-CCH-C--C-CI (ffl Dye (b) Gelatin hardening agent 5 / Bo CH Awa cHsoz Dye Dye (a), Material dye (a) Dye (b) Dye (c) CH.

CON H−’ 1)0IIIg/rrr 〔b〕、及び(c)の混合 50■/ボ 100mg/ボ 50ff1g/ポ 染料〔C〕 なお、評価は以下のテスト方法になった。CON H-’ 1)0IIIg/rrr Mixture of [b] and (c) 50■/bo 100mg/bo 50ff1g/po Dye [C] The evaluation was conducted using the following test method.

(写真特性) 写真特性1は、上記処方の現像液でFC−660F自動
現像機(富士写真フィルム株式会社製)を用いて38°
C30′処理を行なった結果である。
(Photographic characteristics) Photographic characteristics 1 was obtained using a developer with the above prescription using an FC-660F automatic processor (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) at 38
This is the result of C30' processing.

写真特性2は100%黒化のフジリスオルソフィルムG
A−100大全サイズ(50,8CIllX61cm)
を150枚処理した後の現像液で写真特性1と同様の方
法で処理した結果である。
Photographic property 2 is 100% black Fujiris Ortho Film G
A-100 complete size (50.8CIllX61cm)
These are the results of processing in the same manner as in Photographic Properties 1 using a developer after processing 150 sheets.

〔画 質〕〔image quality〕

1、 目伸ばし画質の評価 (1)原稿の作成 富士写真フィルム株式会社製モノクロスキャナー5CA
NART30及び専用感材5F−1o。
1. Evaluation of image quality (1) Creation of manuscript Monochrome scanner 5CA manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.
NART30 and special sensitive material 5F-1o.

を使って網点よりなる人物の透過画像及び網パーセント
を階段的に変えたステップウェッジを作成した。この時
スクリーン線数は150線/インチで行なった。
Using this method, we created a transparent image of a person consisting of halftone dots and a step wedge in which the halftone percentage was changed stepwise. At this time, the number of screen lines was 150 lines/inch.

(2)撮影 大日本スクリーン■製製版カメラC−440に上記原稿
を目伸ばし倍率が等倍になる様にセットした後Xeラン
プを照射することにより評価サンプルに露光を与えた。
(2) Photography by Dainippon Screen ■ The original was set on a plate-making camera C-440 so that the magnification was equal to 1:1, and then the evaluation sample was exposed to light by irradiating it with a Xe lamp.

この時原稿のステップウェッジの95%の部分が5%と
なる様にして露光を行なった。なお本発明のフィルター
は原稿と光源の間に設置した。
At this time, exposure was performed so that 95% of the step wedge of the original was exposed to 5%. Note that the filter of the present invention was installed between the original and the light source.

(3)評価 (2)の様に露光量を1!節して小点側(ハイライト部
)の網点%を合わせたサンプルのシャードウ部の階調再
現性(網点のつぶれ難さ)の良いものから順に5段階評
価(5〜l)を行なった。
(3) As in evaluation (2), the exposure amount is 1! The halftone percentage of the small dot side (highlight part) was combined, and the sample was evaluated on a five-point scale (5 to 1) in descending order of the gradation reproducibility (difficulty of halftone dots being crushed) in the shadow area. Ta.

2.6画の画質の評価 反射濃度が0.5〜1.2の範囲にある7級の明朝体、
ゴシック体の写植文字からなる原稿を、大日本スクリー
ン製カメラ(DSC351)で撮影後、写真特性と同一
の条件で、現像処理(38”C30’)を行なった結果
である。評価は、5段階で行ない、「5」が最もよく「
1」が最も悪い品質を表わす、「5」又は「4」は実用
可能で「3」は粗悪だが、ぎりぎり実用でき「2」又は
rl」は実用不可である。
2. Evaluation of 6-picture image quality Grade 7 Mincho typeface with reflection density in the range of 0.5 to 1.2.
This is the result of a manuscript consisting of Gothic phototypesetting letters taken with a Dainippon Screen camera (DSC351) and then developed (38"C30') under the same conditions as the photographic characteristics.Evaluation is in 5 stages. ``5'' is the best.
"1" represents the worst quality, "5" or "4" is usable, "3" is poor but barely practical, and "2" or "rl" is impractical.

手続補正書 平成2午〆 月〆/日Procedural amendment 1990 2pm close month end/day

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)支持体上に少なくとも1層の感光性ハロゲン化銀
乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料において、該
乳剤層又はその他の親水性コロイド層にヒドラジン誘導
体、チオアミド結合を有する化合物および酸化されるこ
とにより現像抑制剤を放出するレドックス化合物をそれ
ぞれ少なくとも1種含有することを特徴とするハロゲン
化銀写真感光材料。
(1) In a silver halide photographic material having at least one photosensitive silver halide emulsion layer on a support, the emulsion layer or other hydrophilic colloid layer contains a hydrazine derivative, a compound having a thioamide bond, and an oxidized silver halide emulsion layer. 1. A silver halide photographic light-sensitive material, each containing at least one redox compound that releases a development inhibitor by releasing a development inhibitor.
(2)レドックス化合物がレドックス基としてハイドロ
キノン類、カテコール類、ナフトハイドロキノン類、ア
ミノフェノール類、ピラゾリドン類、ヒドラジン類、ヒ
ドロキシルアミン類、レダクトン類を有することを特徴
とする特許請求の範囲第(1)項記載のハロゲン化銀写
真感光材料。
(2) Claim No. (1) characterized in that the redox compound has hydroquinones, catechols, naphthohydroquinones, aminophenols, pyrazolidones, hydrazines, hydroxylamines, and reductones as redox groups. The silver halide photographic material described in Section 1.
(3)レドックス化合物がレドックス基としてヒドラジ
ン類を有することを特徴とする特許請求の範囲第(1)
項記載のハロゲン化銀写真感光材料。
(3) Claim (1) characterized in that the redox compound has a hydrazine as a redox group.
The silver halide photographic material described in Section 1.
(4)レドックス化合物が下記一般式(R−1)、(R
−2)および(R−3)で表わされる化合物から選ばれ
る少なくとも1種の化合物であることを特徴とする特許
請求の範囲第(1)項記載のハロゲン化銀写真感光材料
。 一般式(R−1) ▲数式、化学式、表等があります▼ 一般式(R−2) ▲数式、化学式、表等があります▼ 一般式(R−3) ▲数式、化学式、表等があります▼ これらの式中、R_1は脂肪族基または芳香族基▲数式
、化学式、表等があります▼ を表わす。G_1は−C−基、−C−C−基、▲数式、
化学式、表等があります▼−SO−基、−SO_2基ま
た は▲数式、化学式、表等があります▼を表わす。G_2
は単なる結合手、−O−、−S−または▲数式、化学式
、表等があります▼を表わし、R_2は水素原子または
R_1を表わす。 A_1、A_2は水素原子、アルキルスルホニル基、ア
リールスルホニル基またはアシル基を表わし置換されて
いても良い、一般式(R−1)ではA_1、A_2の少
なくとも一方は水素原子である。A_3はA_1と同義
または▲数式、化学式、表等があります▼を表わす。 A_4はニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、スルホ
基または−G_1−G_2−R_1−を表わす。 Timeは二価の連結基を表わし、tは0または1を表
わす。PUGは現像抑制剤を表わす。
(4) The redox compound has the following general formula (R-1), (R
The silver halide photographic material according to claim (1), which is at least one compound selected from the compounds represented by -2) and (R-3). General formula (R-1) ▲ Contains mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ General formula (R-2) ▲ Contains mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ General formula (R-3) ▲ Contains mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ In these formulas, R_1 represents an aliphatic group or an aromatic group ▲ Numerical formulas, chemical formulas, tables, etc. are available. G_1 is -C- group, -C-C- group, ▲numerical formula,
Chemical formulas, tables, etc. are available ▼ -SO- group, -SO_2 group or ▲ Numerical formulas, chemical formulas, tables, etc. are available ▼ Represents. G_2
represents a simple bond, -O-, -S-, or ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼, and R_2 represents a hydrogen atom or R_1. A_1 and A_2 represent a hydrogen atom, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, or an acyl group, and may be substituted. In the general formula (R-1), at least one of A_1 and A_2 is a hydrogen atom. A_3 has the same meaning as A_1 or represents ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼. A_4 represents a nitro group, a cyano group, a carboxyl group, a sulfo group or -G_1-G_2-R_1-. Time represents a divalent linking group, and t represents 0 or 1. PUG stands for development inhibitor.
(5)レドックス化合物が下記一般式(R−1)で表わ
されることを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載
のハロゲン化銀写真感光材料。 一般式(R−1) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、A_1、A_2はともに水素原子又は一方が水
素原子で他方はスルフィン酸残基もしくは▲数式、化学
式、表等があります▼(式中、R_0はアルキル基、ア
ルケニル基、アリール基、アルコキシ基またはアリール
オキシ基を表わし、lは1または2を表わす。)を表わ
す、Timeは二価の連結基を表わし、tは0または1
を表わす。PUGは現像抑制剤を表わす。 G_1はカルボニル基、▲数式、化学式、表等がありま
す▼、スルホニル基、スルホキシ基、▲数式、化学式、
表等があります▼(R_1はアルコキシ基、またはアリ
ールオキシ基を表わす。)、イミノメチレン基、または
チオカルボニル基を表 わす。Rは脂肪族基、芳香族基またはヘテロ環基を表わ
す。)
(5) The silver halide photographic material according to claim (1), wherein the redox compound is represented by the following general formula (R-1). General formula (R-1) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (In the formula, A_1 and A_2 are both hydrogen atoms, or one is a hydrogen atom and the other is a sulfinic acid residue, or ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (wherein R_0 represents an alkyl group, alkenyl group, aryl group, alkoxy group or aryloxy group, l represents 1 or 2), Time represents a divalent linking group, and t represents 0 or 1
represents. PUG stands for development inhibitor. G_1 is carbonyl group, ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼, sulfonyl group, sulfoxy group, ▲mathematical formulas, chemical formulas,
There are tables, etc. ▼ (R_1 represents an alkoxy group or an aryloxy group), an iminomethylene group, or a thiocarbonyl group. R represents an aliphatic group, an aromatic group or a heterocyclic group. )
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JPS6472139A (en) * 1987-09-12 1989-03-17 Konishiroku Photo Ind Silver halide photographic sensitive material which is improved in retouch work

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