JP2687177B2 - Silver halide photographic material - Google Patents

Silver halide photographic material

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JP2687177B2
JP2687177B2 JP2091572A JP9157290A JP2687177B2 JP 2687177 B2 JP2687177 B2 JP 2687177B2 JP 2091572 A JP2091572 A JP 2091572A JP 9157290 A JP9157290 A JP 9157290A JP 2687177 B2 JP2687177 B2 JP 2687177B2
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伸昭 井上
久 岡田
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明はハロゲン化銀写真感光材料に関し、特に写真
製版用に用いられる超硬調ハロゲン化銀写真感光材料に
関する。
The present invention relates to a silver halide photographic light-sensitive material, and more particularly to a super-high contrast silver halide photographic light-sensitive material used for photolithography.

(従来技術) 写真製版の分野においては、印刷物の多様性、複雑性
に対処するために、オリジナル再現性の良好な写真感光
材料、安定な処理液あるいは、補充の簡易化などの要望
がある。
(Prior Art) In the field of photoengraving, there is a demand for a photographic photosensitive material having good original reproducibility, a stable processing solution, or a simple replenishment in order to cope with the variety and complexity of printed matter.

特に線画撮影工程における、原稿は写植文字、手書き
の文字、イラスト、網点化された写真などが貼り込まれ
て作られる。したがって原稿には、濃度や、線巾の異な
る画像が混在し、これらの原稿を再現よく仕上げる製版
カメラ、写真感光材料あるいは、画像形成方法が強く望
まれている。一方、カタログや、大型ポスターの製版に
は、網写真の拡大(目伸し)あるいは縮小(目縮め)が
広く行なわれ、網点を拡大して用いる製版では、線数が
粗くなりボケた点の撮影となる。縮小では原稿よりさら
に線数/インチが大きく細い点の撮影になる。従って網
階調の再現性を維持するためより一層広いラチチュード
を有する画像形成方法が要求されている。
Particularly in the line drawing photographing process, the manuscript is made by pasting typesetting characters, handwritten characters, illustrations, halftone pictures, and the like. Therefore, images having different densities and line widths are mixed in an original, and a plate-making camera, a photographic photosensitive material, or an image forming method for finishing these originals with good reproducibility is strongly desired. On the other hand, in plate making of catalogs and large posters, enlargement (enlargement) or reduction (shrinkage) of a halftone picture is widely performed, and in plate making using enlarged halftone dots, the number of lines becomes coarse and blurred. Shooting. In the reduction, the number of lines / inch is larger than that of the original, and a thin point is photographed. Therefore, there is a demand for an image forming method having a wider latitude in order to maintain the reproducibility of halftone.

製版用カメラの光源としては、ハロゲンランプあるい
は、キセノンランプが用いられている。これらの光源に
対して撮影感度を得るために、写真感光材料は通常オル
ソ増感が施される。ところがオルソ増感した写真感光材
料はレンズの色収差の影響をより強く受け、そのために
画質が劣化しやすいことが判明した。またこの劣化はキ
セノンランプ光源に対してより顕著となる。
A halogen lamp or a xenon lamp is used as a light source of a plate making camera. In order to obtain a photographic sensitivity with respect to these light sources, a photographic light-sensitive material is usually subjected to orthosensitization. However, it has been found that the ortho-sensitized photographic material is more strongly affected by the chromatic aberration of the lens, so that the image quality is liable to deteriorate. This deterioration is more remarkable for a xenon lamp light source.

広いラチチュードの要望に応えるシステムとして塩臭
化銀(すくなくとも塩化銀含有率が50%以上)から成り
リス型ハロゲン化銀感光材料を、亜硫酸イオンの有効濃
度をきわめて低くした(通常0.1モル/l以下)ハイドロ
キノン現像液で処理することにより、画像部と非画像部
が明瞭に区別された、高いコントラストと高い黒化濃度
をもつ線画あるいは網点画像を得る方法が知られてい
る。しかしこの方法では現像液中の亜硫酸濃度が低いた
め、現像は空気酸化に対して極めて不安定であり、液活
性を安定に保つためにさまざまな努力と工夫がなされて
使用されていたり、処理スピードが著しく遅く、作業効
率を低下させているのが現状であった。
As a system that responds to a wide range of latitude, a lith-type silver halide light-sensitive material made of silver chlorobromide (at least a silver chloride content of 50% or more) has an extremely low effective concentration of sulfite ion (usually 0.1 mol / l or less). ) A method is known in which a line image or a halftone dot image having a high contrast and a high blackening density, in which an image portion and a non-image portion are clearly distinguished, is obtained by treating with a hydroquinone developer. However, in this method, since the concentration of sulfurous acid in the developer is low, development is extremely unstable against air oxidation, and various efforts and efforts have been made to keep the solution activity stable. Was extremely slow, and the work efficiency was reduced at present.

このため、上記のような現像方法(リス現像システ
ム)による画像形成の不安定さを解消し、良好な保存安
定性を有する処理液で現像し、超硬調な写真特性が得ら
れる画像形成システムが要望され、その1つとして米国
特許4,166,742号、同4,168,977号、同4,221,857号、同
4,224,40号、同4,243,739号、同4,272,606号、同4,311,
781号にみられるように、特定のアシルヒドラジン化合
物を添加した表面潜像型ハロゲン化銀写真感光材料を、
pH11.0〜12.3で亜硫酸保恒剤を0.15モル/l以上含み、良
好な保存安定性を有する現像液で処理して、γが10を越
える超硬調のネガ画像を形成するシステムが提案され
た。この新しい画像形成システムには、従来の超硬調画
像形成では塩化銀含有率の高い塩臭化銀しか使用できな
かったのに対して、沃臭化銀や塩沃臭化銀でも使用でき
るという特徴がある。
For this reason, an image forming system that eliminates instability of image formation by the above-described developing method (lith developing system), develops with a processing solution having good storage stability, and obtains ultra-high contrast photographic characteristics is provided. U.S. Pat. Nos. 4,166,742, 4,168,977, 4,221,857,
4,224,40, 4,243,739, 4,272,606, 4,311,
No. 781, a surface latent image type silver halide photographic light-sensitive material to which a specific acylhydrazine compound is added,
A system has been proposed which forms a super-high contrast negative image in which γ exceeds 10 by treating with a developer having a storage stability of 0.15 mol / l or more at pH 11.0 to 12.3 and having a good storage stability. . This new image forming system can use only silver chlorobromide having a high silver chloride content in conventional ultra-high contrast image formation, but can also use silver iodobromide and silver chloroiodobromide. There is.

上記画像システムはシャープな網点品質、処理安定
性、迅速性およびオリジナルの再現性という点ですぐれ
た性能を示すが、近年の印刷物の多様性に対処するため
にさらに安定でオリジナル再現性の改良されたシステム
が望まれている。
The above image system has excellent performance in terms of sharp halftone dot quality, processing stability, speed and original reproducibility, but is more stable and improved in original reproducibility to deal with the recent variety of printed matter. A desired system is desired.

ヒドラジンを用いた系では、酸化されることにより現
像抑制剤を放出するレドックス化合物を含有する例は特
開昭61-213847号、同64-72140号に開示されている。一
方、チオアミド化合物を含有する例は特開昭53-137133
号、同61-47943号、特願昭62-278692号に開示されてい
る。
Examples of a system using hydrazine containing a redox compound which releases a development inhibitor upon being oxidized are disclosed in JP-A Nos. 61-213847 and 64-72140. On the other hand, an example containing a thioamide compound is disclosed in JP-A-53-137133.
No. 61-47943 and Japanese Patent Application No. 62-278692.

(本発明が解決しようとする問題点) 本発明の第1の目的は線画あるいは目伸し、目縮め特
性などの画質がすぐれたハロゲン化銀写真感光材料を提
供することにある。
(Problems to be Solved by the Present Invention) A first object of the present invention is to provide a silver halide photographic light-sensitive material excellent in image quality such as line drawing or drawing and contraction characteristics.

本発明の第2の目的は、大量のフィルムを処理するこ
とによってpHが低下したり、臭素イオン濃度が増加して
も感度、γおよびDmaxの低下の少ないハロゲン化銀写真
感光材料を提供することである。
A second object of the present invention is to provide a silver halide photographic light-sensitive material which is less susceptible to decrease in sensitivity, γ and Dmax even if pH is lowered by treating a large amount of film and bromine ion concentration is increased. Is.

(問題点を解決するための手段) 本発明の上記目的は支持対上に少なくとも1層の感光
性ハロゲン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材
料において該乳剤層又はその他の親水性コロイド層にヒ
ドラジン誘導体,チオアミド結合を有する化合物および
酸化されることにより現像抑制剤を放出するレドックス
化合物をそれぞれ少なくとも1種含有することを特徴と
するハロゲン化銀写真感光材料によって達成された。
(Means for Solving Problems) In the silver halide photographic light-sensitive material having at least one light-sensitive silver halide emulsion layer on the support, the above-mentioned object of the present invention is the emulsion layer or other hydrophilic colloid layer. And a hydrazine derivative, a compound having a thioamide bond, and at least one redox compound that releases a development inhibitor by being oxidized, respectively.

本発明の酸化されることにより現像抑制剤を放出しう
るレドックス化合物について説明する。
The redox compound of the present invention that can release a development inhibitor by being oxidized will be described.

レドックス化合物のレドックス基としては、ハイドロ
キノン類、カテコール類、ナフトハイドロキノン類、ア
ミノフェノール類、ピラゾリドン類、ヒドラジン類、ヒ
ドロキシルアミン類、レダクトン類があることが好まし
く、ヒドラジン類であることがさらに好ましい。
The redox group of the redox compound is preferably hydroquinones, catechols, naphthohydroquinones, aminophenols, pyrazolidones, hydrazines, hydroxylamines and reductones, and more preferably hydrazines.

本発明の酸化されることにより現像抑制剤を放出しう
るレドックス化合物として用いられるヒドラジン類は好
ましくは以下の一般式(R−1)、一般式(R−2)、
一般式(R−3)で表わされる。一般式(R−1)で表
わされる化合物が特に好ましい。
The hydrazines used as a redox compound capable of releasing a development inhibitor by being oxidized according to the present invention are preferably those represented by the following general formulas (R-1) and (R-2).
It is represented by the general formula (R-3). The compound represented by formula (R-1) is particularly preferred.

これらの式中、R1は脂肪族基または芳香族基を表わ
す。G1 −SO−基、−SO2−基または を表わす。G2は単なる結合手、−O−、−S−または を表わし。R2は水素原子またはR1を表わす。
In these formulas, R 1 represents an aliphatic group or an aromatic group. G 1 is -SO- group, -SO 2 - group or Represents G 2 is a mere bond, -O-, -S- or Represents R 2 represents a hydrogen atom or R 1 .

1、A2は水素原子、アルキルスルホニル基、アリー
ルスルホニル基またはアシル基を表わし置換されていて
も良い。一般式(R−1)ではA1、A2の少なくとも一
方は水素原子である。A3はA1と同義または を表わす。
A 1 and A 2 represent a hydrogen atom, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group or an acyl group, and may be substituted. In the general formula (R-1), at least one of A 1 and A 2 is a hydrogen atom. A 3 is synonymous with A 1 or Represents

4はニトロ基、シアノ尾、カルボキシル基、スルホ
基または-G1-G2-R1-を表わす。
A 4 represents a nitro group, a cyano tail, carboxyl group, sulfo group or -G 1 -G 2 -R 1 - represents a.

Timeは二価の連結基を表わし、tは0または1を表わ
す。PUGは現像抑制剤を表わしす。
Time represents a divalent linking group, and t represents 0 or 1. PUG represents a development inhibitor.

一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)について
さらに詳細に説明する。
General formulas (R-1), (R-2) and (R-3) will be described in more detail.

一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)におい
て、R1で表される脂肪族基は好ましくは炭素数1〜30
のものであって、特に炭素数1〜20の直鎖、分岐または
環状のアルキル基である。ここで分岐アルキル基はその
中に1つまたはそれ以上のヘテロ原子を含んだ飽和のヘ
テロ環を形成するように環化されていてもよい。またこ
のアルキル基は、アリール基、アルコキシ基、スルホキ
シ基、スルホンアミド基、カルボンアミド基等の置換基
を有していてもよい。
In formulas (R-1), (R-2) and (R-3), the aliphatic group represented by R 1 preferably has 1 to 30 carbon atoms.
And particularly a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. Here, the branched alkyl group may be cyclized to form a saturated heterocycle containing one or more heteroatoms therein. The alkyl group may have a substituent such as an aryl group, an alkoxy group, a sulfoxy group, a sulfonamide group, and a carbonamide group.

一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)において
1で表される芳香族基は単環または2環のアリール基
または不飽和ヘテロ環基である。ここで不飽和ヘテロ環
基は単環または2環のアリール基と縮合してヘテロアリ
ール基を形成してもよい。
The aromatic group represented by R 1 in formulas (R-1), (R-2) and (R-3) is a monocyclic or bicyclic aryl group or an unsaturated heterocyclic group. Here, the unsaturated heterocyclic group may be condensed with a monocyclic or bicyclic aryl group to form a heteroaryl group.

例えばベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、ピリ
ミジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、キノリン
環、イソキノリン環、ベンズイミダゾール環、チアゾー
ル環、ベンゾチアゾール環等があるがなかでもベンゼン
環を含むものが好ましい。
For example, there are a benzene ring, a naphthalene ring, a pyridine ring, a pyrimidine ring, an imidazole ring, a pyrazole ring, a quinoline ring, an isoquinoline ring, a benzimidazole ring, a thiazole ring, and a benzothiazole ring.

1として特に好ましいものはアリール基である。Particularly preferred as R 1 is an aryl group.

1のアリール基または不飽和ヘテロ環基は置換され
ていてもよく、代表的な置換基としては、例えばアルキ
ル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ア
ルコキシ基、アリール基、置換アミノ基、ウレイド基、
ウレタン基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カ
ルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スル
ホニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原
子、シアノ基、スルホ基、アリールオキシカルボニル
基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ
基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、カルボキシ
ル基、リン酸アミド基などが挙げられ、好ましい置換基
としては直鎖、分岐または環状のアルキル基(好ましく
は炭素数1〜20のもの)、アラルキル基(好ましくはア
ルキル部分の炭素数1〜20の単環または2環のもの)、
アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜30のもの)、置換
アミノ基(好ましくは炭素数1〜30のアルキル基で置換
されたアミノ基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数
2〜40を持つもの)、スルホンアミド基(好ましくは炭
素数1〜40を持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭素
数1〜40を持つもの)、リン酸アミド基(好ましくは炭
素数1〜40のもの)などがある。
The aryl group or unsaturated heterocyclic group of R 1 may be substituted, and typical substituents include, for example, an alkyl group, an aralkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an alkoxy group, an aryl group, a substituted amino group, Ureido group,
Urethane group, aryloxy group, sulfamoyl group, carbamoyl group, alkylthio group, arylthio group, sulfonyl group, sulfinyl group, hydroxy group, halogen atom, cyano group, sulfo group, aryloxycarbonyl group, acyl group, alkoxycarbonyl group, acyloxy Group, carbonamido group, sulfonamide group, carboxyl group, phosphoric acid amide group, etc., and preferable substituents are linear, branched or cyclic alkyl groups (preferably having 1 to 20 carbon atoms) and aralkyl groups. (Preferably a monocyclic or bicyclic C1-C20 alkyl moiety),
Alkoxy group (preferably having 1 to 30 carbon atoms), substituted amino group (preferably amino group substituted with an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms), acylamino group (preferably having 2 to 40 carbon atoms) , Sulfonamide group (preferably having 1 to 40 carbon atoms), ureido group (preferably having 1 to 40 carbon atoms), phosphoric acid amide group (preferably having 1 to 40 carbon atoms), etc. .

一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)としては −SO2−基が好ましく、 が最も好ましい。As the general formulas (R-1), (R-2) and (R-3), -SO 2 - group are preferred, Is most preferred.

1、A2は水素原子、炭素数20以下のアルキルスルホ
ニル基およびアリールスルホニル基(好ましくはフェニ
ルスルホニル基又はハメットの置換基定数の和が−0.5
以上となるように置換されたフェニルスルホニル基)、
炭素数20以下のアシル基(好ましくはベンゾイル基、又
はハメットの置換基定数の和が−0.5以上となるように
置換されたベンゾイル基、あるは直鎖又は分岐状又は環
状の無置換及び置換脂肪族アシル基(置換基としては例
えばハロゲン原子、エーテル基、スルホンアミド基、カ
ルボンアミド基、水酸基、カルボキシ基、スルホン酸基
が挙げられる。))が好ましい。
A 1 and A 2 are a hydrogen atom, an alkylsulfonyl group having 20 or less carbon atoms and an arylsulfonyl group (preferably a phenylsulfonyl group or the sum of Hammett's substituent constants is -0.5).
A phenylsulfonyl group substituted as described above),
An acyl group having 20 or less carbon atoms (preferably a benzoyl group, or a benzoyl group substituted so that the sum of Hammett's substituent constants is −0.5 or more, or a linear or branched or cyclic unsubstituted or substituted fat Group acyl groups (substituents include, for example, halogen atoms, ether groups, sulfonamide groups, carbonamide groups, hydroxyl groups, carboxy groups, and sulfonic acid groups) are preferred.

1、A2としては水素原子が最も好ましい。A hydrogen atom is most preferable as A 1 and A 2 .

3としては水素原子、 が最も好ましい。A 3 is a hydrogen atom, Is most preferred.

一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)において
Timeは二価の連結基を表わし、タイミング調節機能を有
していてもよい。tは0または1を表わす。
In the general formulas (R-1), (R-2) and (R-3)
Time represents a divalent linking group, and may have a timing adjusting function. t represents 0 or 1.

Timeで表わされる二価の連結基は酸化還元母核の酸化
体から放出されるTime-PGUから一段階あるいは、それ以
上の段階の反応を経てPUGを放出せしめる基を表わす。
The divalent linking group represented by Time represents a group that releases PUG from the Time-PGU released from the oxidant of the redox mother nucleus through a one-step or more step reaction.

Timeで表わされる二価の連結基としては、例えば米国
特許第4,248,962号(特開昭54-145,135号)等に記載の
p−ニトロフェノキシ誘導体の分子内閉環反応によって
PUGを放出するもの;米国特許第4,310,612号(特開昭55
-53,330号)および同4,358,526号等に記載の環開裂後の
分子内閉環反応によってPUGを放出するもの;米国特許
第4,330,617号、同4,446,216号、同4,483,919号、特開
昭59-121,328号等に記載のコハク酸モノエステルまたは
その類縁体のカルボキシル基の分子内閉環反応による酸
無水物の生成を伴って、PUGを放出するもの;米国特許
第4,409,323号、同4,421,845号、リサーチ・ディスクロ
ージャー誌No.21,228(1981年12月)、米国特許第4,41
6,977号(特開昭57-135,944号)、特開昭58-209,736
号、同58-209,738号等に記載のアリールオキシ基または
ヘテロ環オキシ基が共役した二重結合を介した電子移動
によりキノモノメタン、またはその類縁体を生成してPU
Gを放出するもの;米国特許第4,420,554号(特開昭57-1
36,640号)、特開昭57-135,945号、同57-188,035号、同
58-98,728号および同58-209,737号等に記載の含窒素ヘ
テロ環のエナミン構造を有する部分の電子移動によりエ
ナミンのγ位よりPUGを放出するもの;特開昭57-56,837
号に記載の含窒素ヘテロ環の窒素原子と共役したカルボ
ニル基への電子移動により生成したオキシ基の分子内閉
環反応によりPUGを放出するもの;米国特許第4,146,396
号(特開昭52-90932号、特開昭59-93,442号、特開昭59-
75475号、特開昭60-249148号、特開昭60-249149号等に
記載のアルデヒド類の生成を伴ってPUGを放出するも
の;特開昭51-146,828号、同57-179,842号、同59-104,6
41号に記載のカルボキシル基の脱炭酸を伴ってPUGを放
出するもの;-O-COOCRaRb-PUG(Ra、Rbは一価の基を
表わす。)の構造を有し、脱炭酸と引き続くアルデヒド
類の生成を伴ってPUGを放出するもの;特開昭60-7,429
号に記載のイソシアナートの生成を伴ってPUGを放出す
るもの;米国特許第4,438,193号等に記載のカラー現像
薬の酸化体とのカップリング反応によりPUGを放出する
ものなどを挙げることができる。
As the divalent linking group represented by Time, for example, an intramolecular ring closure reaction of a p-nitrophenoxy derivative described in U.S. Pat. No. 4,248,962 (Japanese Patent Application Laid-Open No. 54-145,135) and the like.
U.S. Pat. No. 4,310,612 (Japanese Unexamined Patent Publication No.
-53,330) and 4,358,526 and the like, which releases PUG by an intramolecular ring closure reaction after ring cleavage; U.S. Pat. Nos. 4,330,617, 4,446,216, 4,483,919, and JP-A-59-121,328. Release of PUG with formation of acid anhydride by intramolecular ring closure reaction of carboxyl group of succinic acid monoester or analog thereof described; U.S. Pat.Nos. 4,409,323 and 4,421,845, Research Disclosure No. 21,228 (December 1981), US Patent No. 4,41
No. 6,977 (JP-A-57-135,944), JP-A-58-209,736
No. 58-209, 738, etc. to produce quinomonomethane or an analog thereof by electron transfer via a double bond conjugated to an aryloxy or heterocyclic oxy group
US Pat. No. 4,420,554 (Japanese Unexamined Patent Publication No. 57-1)
No. 36,640), JP-A-57-135,945, JP-A-57-188,035,
Nos. 58-98,728 and 58-209,737 which release a PUG from the γ-position of enamine by electron transfer of a portion having an enamine structure of a nitrogen-containing heterocyclic ring;
No. 4,146,396, which releases PUG by an intramolecular ring-closing reaction of an oxy group generated by electron transfer to a carbonyl group conjugated to a nitrogen atom of a nitrogen-containing heterocyclic ring described in US Pat.
No. 52/90932, 59-93,442, 59-
75475, JP-A-60-249148, JP-A-60-249149, etc., which release PUG with formation of aldehydes; JP-A-51-146,828, JP-A-57-179,842; 59-104,6
No. 41, which releases PUG with decarboxylation of the carboxyl group; -O-COOCR a R b -PUG (R a and R b represent monovalent groups) and Those releasing PUG with carbonic acid and subsequent formation of aldehydes; JP-A-60-7,429
Examples of the compound that releases PUG with formation of an isocyanate described in U.S. Pat. No. 4,438,193 and the like that releases PUG by a coupling reaction with an oxidant of a color developing agent described in U.S. Pat. No. 4,438,193.

一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)のTimeで
表わされる二価の基は好ましくは以下の一般式(T−
1)から一般式(T−6)で表わされる。これらにおい
て**はTimeがPUGに結合する部位を表わし、*は他方
の結合部位を表わす。
The divalent group represented by Time in the general formulas (R-1), (R-2) and (R-3) is preferably the following general formula (T-
From 1), it is represented by the general formula (T-6). In these, ** indicates the site where Time binds to PUG, and * indicates the other site.

式中、Wは酸素原子、イオウ原子または を表わし、R11およびR12は水素原子または置換基を表
わし、R13は置換基を表わし、tは1または2を表わ
す。tが2のとき2つの は同じものもしくは異なるものを表わす。R11およびR
12が置換基を表わすときおよびR13の代表的な例は各々
14基、R14CO−基、R14SO2−基、 または などが挙げられる。ここでR14は脂肪族基、芳香族基ま
たは複素環基を表わし、R15は脂肪族基、芳香族基、複
素環基または水素原子を表わす。
Wherein W is an oxygen atom, a sulfur atom or R 11 and R 12 represent a hydrogen atom or a substituent, R 13 represents a substituent, and t represents 1 or 2. When t is 2, two Represents the same or different. R 11 and R
When 12 represents a substituent and typical examples of R 13 are R 14 group, R 14 CO— group, R 14 SO 2 — group, Or And the like. Here, R 14 represents an aliphatic group, an aromatic group or a heterocyclic group, and R 15 represents an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group or a hydrogen atom.

11、R12およびR13の各々は2価基を表わし、連結
し、環状構造を形成する場合も包含される。一般式(T
−1)で表わされる基の具体的例としては以下のような
基が挙げられる。
Each of R 11 , R 12 and R 13 represents a divalent group and is also included when they are linked to each other to form a cyclic structure. General formula (T
Specific examples of the group represented by -1) include the following groups.

*−OCH2−** *−SCH2−** 一般式(T−2) *-Nu-Link-E-** 式中、 Nuは求核基を表わし、酸素原子またはイオウ原子が求
核種の例であり、Eは求電子基を表わし、Nuより求核攻
撃を受けて**印との結合を開裂できる基でありLinkは
NuとEとが分子内求核置換反応することができるように
立体的に関係づける連結基を表わす。一般式(T−2)
で表わされる基の具体例としては例えば以下のものであ
る。
* -OCH 2 -** * -SCH 2 - ** Formula (T-2) * -Nu-Link-E-** In the formula, Nu represents a nucleophilic group, an oxygen atom or a sulfur atom is an example of a nucleophilic species, E represents an electrophilic group, and Nu represents Link is a group that can be more nucleophilically attacked to cleave the bond with **
Nu represents a linking group that sterically relates to E so that an intramolecular nucleophilic substitution reaction can occur. General formula (T-2)
Specific examples of the group represented by are, for example, the following.

式中、W、R11、R12およびtは(T−1)について
説明したのと同じ意味を表わす。具体的には以下のよう
な基が挙げられる。
In the formula, W, R 11 , R 12 and t have the same meanings as described for (T-1). Specific examples include the following groups.

式中、WおよびR11は一般式(T−1)において説明
したのと同じ意味である。一般式(T−6)で表わされ
る基の具体例としては以下の基が挙げられる。
In the formula, W and R 11 have the same meanings as described in the general formula (T-1). Specific examples of the group represented by the general formula (T-6) include the following groups.

またTimeとしては一般式(T−1)〜一般式(T−
6)で表わされる基を複数組み合わせてできる基も有用
である。それらの好ましい具体例を以下に示す。*、*
*は一般式(T−1)〜一般式(T−6)の場合と同義
である。
Further, as the Time, the general formula (T-1) to the general formula (T-
Groups formed by combining a plurality of groups represented by 6) are also useful. Preferred examples thereof are shown below. *, *
* Has the same meaning as in formulas (T-1) to (T-6).

これらTimeで表わされる二価の連結基の具体例につい
てはまた特開昭61-236,549号、特開昭64-88451号、特願
昭63-98,803号にも詳細に記載されている。
Specific examples of the divalent linking group represented by Time are also described in detail in JP-A-61-236,549, JP-A-64-88451 and JP-A-63-98,803.

PUGは(TimetPUGまたはPUGとして現像抑制効果を有
する基を表わす。
PUG represents a group having a development inhibiting effect as (Time t PUG or PUG).

PUGまたは(TimetPUGで表わされる現像抑制剤はヘ
テロ原子を有し、ヘテロ原子を介して結合している公知
の現像抑制剤であり、これらはたとえばシー・イー・ケ
ー・ミース(C.E.K.Mess)及びテー・エッチ・ジェーム
ズ(T.H.James)著「ザ・セオリー・オブ・ザ・フォト
グラフィック・プロセス(The Theory of Photographic
Processes)」第3版、1966年マクラミラン(Macmilla
n)社刊、344頁〜346頁などに記載されている。具体的
にはメルカプトテトラゾール類、メルカプトトリアゾー
ル類、メルカプトイミダーゾール類、メルカプトピリミ
ジン類、メルカプトベンズイミダゾール類、メルカプト
ベンズチアゾール類、メルカプトベンズオキサゾール
類、メルカプトチアジアゾール類、ベンズトリアゾール
類、ベンズイミダゾール類、インダゾール類、アデニン
類、グアニン類、テトラゾール類、テトラアザインデン
類、トリアザインデン類、メルカプトアレーン類等を挙
げることができる。
The development inhibitors represented by PUG or (Time t PUG are known development inhibitors having a heteroatom and bonded through a heteroatom, such as CEKMess and "The Theory of Photographic Process" by THJames
Processes) 3rd edition, 1966 Macmilla
n) It is described in pages 344 to 346 of the company. Specifically, mercaptotetrazoles, mercaptotriazoles, mercaptoimidazoles, mercaptopyrimidines, mercaptobenzimidazoles, mercaptobenzthiazoles, mercaptobenzoxazoles, mercaptothiadiazoles, benztriazoles, benzimidazoles, indazole. Examples thereof include adenines, adenines, guanines, tetrazoles, tetraazaindenes, triazaindenes, and mercaptoarenes.

PUGで表わされる現像抑制剤は置換されていてもよ
い。置換基としては、例えば以下のものが挙げられる
が、これらの基はさらに置換されていてもよい。
The development inhibitor represented by PUG may be substituted. Examples of the substituent include the following, but these groups may be further substituted.

例えばアルキル基、アラルキル基、アルケニル基、ア
ルキニル基、アルコキシ基、アリール基、置換アミノ
基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウレイド
基、ウレタン基、アリールオキシ基、スルファモイル
基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ
基、スルホニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハ
ロゲン原子、シアノ基、スルホ基、アリールオキシカル
ボニル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシル
オキシ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、カル
ボキシル基、スルホキシ基、ホスホノ基、ホスフィニコ
基、リン酸アミド基などである。
For example, alkyl group, aralkyl group, alkenyl group, alkynyl group, alkoxy group, aryl group, substituted amino group, acylamino group, sulfonylamino group, ureido group, urethane group, aryloxy group, sulfamoyl group, carbamoyl group, alkylthio group, arylthio group. Group, sulfonyl group, sulfinyl group, hydroxy group, halogen atom, cyano group, sulfo group, aryloxycarbonyl group, acyl group, alkoxycarbonyl group, acyloxy group, carbonamide group, sulfonamide group, carboxyl group, sulfoxy group, phosphono Group, phosphinico group, phosphoric acid amide group and the like.

好ましい置換基としてはニトロ基、スルホ基、カルボ
キシル基、スルファモイル基、ホスホノ基、ホスフィニ
コ基、スルホンアミド基である。
Preferred substituents are a nitro group, a sulfo group, a carboxyl group, a sulfamoyl group, a phosphono group, a phosphinico group, and a sulfonamide group.

主な現像抑制剤を以下に示す。 The main development inhibitors are shown below.

1 メルカプトテトラゾール誘導体 (1) 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール (2) 1−(4−ヒドロキシフェニル)−5−メルカ
プトテトラゾール (3) 1−(4−アミノフェニル)−5−メルカプト
テトラゾール (4) 1−(4−カルボキシフェニル)−5−メルカ
プトテトラゾール (5) 1−(4−クロロフェニル)−5−メルカプト
テトラゾール (6) 1−(4−メチルフェニル)−5−メルカプト
テトラゾール (7) 1−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−5−メ
ルカプトテトラゾール (8) 1−(4−スルファモイルフェニル)−5−メ
ルカプトテトラゾール (9) 1−(3−カルボキシフェニル)−5−メルカ
プトテトラゾール (10) 1−(3,5−ジカルボキシフェニル)−5−メ
ルカプトテトラゾール (11) 1−(4−メトキシフェニル)−5−メルカプ
トテトラゾール (12) 1−(2−メトキシフェニル)−5−メルカプ
トテトラゾール (13) 1−〔4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニ
ル〕−−5−メルカプトテトラゾール (14) 1−(2,4−ジクロロフェニル)−5−メルカ
プトテトラゾール (15) 1−(4−ジメチルアミノフェニル)−5−メ
ルカプトテトラゾール (16) 1−(4−ニトロフェニル)−5−メルカプト
テトラゾール (17) 1,4−ビス(5−メルカプト−1−テトラゾリ
ル)ベンゼン (18) 1−(α−ナフチル)−5−メルカプトテトラ
ゾール (19) 1−(4−スルホフェニル)−5−メルカプト
テトラゾール (20) 1−(3−スルホフェニル)−5−メルカプト
テトラゾール (21) 1−(β−ナフチル)−5−メルカプトテトラ
ゾール (22) 1−メチル−5−メルカプトテトラゾール (23) 1−エチル−5−メルカプトテトラゾール (24) 1−プロピル−5−メルカプトテトラゾール (25) 1−オクチル−5−メルカプトテトラゾール (26) 1−ドデシル−5−メルカプトテトラゾール (27) 1−シクロヘキシル−5−メルカプトテトラゾ
ール (28) 1−パルミチル−5−メルカプトテトラゾール (29) 1−カルボキシエチル−5−メルカプトテトラ
ゾール (30) 1−(2,2−ジエトキシエチル)−5−メルカ
プトテトラゾール (31) 1−(2−アミノエチル)−5−メルカプトテ
トラゾール塩酸塩 (32) 1−(2−ジエチルアミノエチル)−5−メル
カプトテトラゾール (33) 2−(5−メルカプト−1−テトラゾリル)エ
チルトリメチルアンモニウムクロリド (34) 1−(3−フェノキシカルボニルフェニル)−
5−メルカプトテトラゾール (35) 1−(3−マレインイミドフェニル)−6−メ
ルカプトテトラゾール 2 メルカプトトリアゾール誘導体 (1) 4−フェニル−3−メルカプトトリアゾール (2) 4−フェニル−5−メチル−3−メルカプトト
リアゾール (3) 4,5−ジフェニル−3−メルカプトトリアゾー
ル (4) 4−(4−カルボキシフェニル)−3−メルカ
プトトリアゾール (5) 4−メチル−3−メルカプトトリアゾール (6) 4−(2−ジメチルアミノエチル)−3−メル
カプトトリアゾール (7) 4−(α−ナフチル)−3−メルカプトトリア
ゾール (8) 4−(4−スルホフェニル)−3−メルカプト
トリアゾール (9) 4−(3−ニトロフェニル)−3−メルカプト
トリアゾール 3 メルカプトイミダゾール誘導体 (1) 1−フェニル−2−メルカプトイミダゾール (2) 1,5−ジフェニル−2−メルカプトイミダゾー
ル (3) 1−(4−カルボキシフェニル)−2−メルカ
プトイミダゾール (4) 1−(4−ヘキシルカルバモイル)−2−メル
カプトイミダゾール (5) 1−(3−ニトロフェニル)−2−メルカプト
イミダゾール (6) 1−(4−スルホフェニル)−2−メルカプト
イミダゾール 4 メルカプトピリミジン誘導体 (1) チオウラシル (2) メチルチオウラシル (3) エチルチオウラシル (4) プロピルチオウラシル (5) ノニルチオウラシル (6) アミノチオウラシル (7) ヒドロキシチオウラシル 5 メルカプトベンズイミダゾール誘導体 (1) 2−メルカプトベンズイミダゾール (2) 5−カルボキシ−2−メルカプトベンズイミダ
ゾール (3) 5−アミノ−2−メルカプトベンズイミダゾー
ル (4) 5−ニトロ−2−メルカプトベンズイミダゾー
ル (5) 5−クロロ−2−メルカプトベンズイミダゾー
ル (6) 5−メトキシ−2−メルカプトベンズイミダゾ
ール (7) 2−メルカプトナフトイミダゾール (8) 2−メルカプト−5−スルホンベンズイミダゾ
ール (9) 1−(2−ヒドロキシエチル)−2−メルカプ
トベンズイミダゾール (10) 5−カプロアミド−2−メルカプトベンズイミ
ダゾール (11) 5−(2−エチルヘキサノイルアミノ)−2−
メルカプトベンズイミダゾール 6 メルカプトチアジアゾール誘導体 (1) 5−メチルチオ−2−メルカプト−1,3,4−チ
アジアゾール (2) 5−エチルチオ−2−メルカプト−1,3,4−チ
アジアゾール (3) 5−(2−ジメチルアミノエチルチオ)−2−
メルカプト−1,3,4−チアジアゾール (4) 5−(2−カルボキシプロピルチオ)−2−メ
ルカプト−1,3,4−チアジアゾール (5) 5−フェノキシカルボニルメチルチオ−5−メ
ルカプト−1,3,4−チアジアゾール 7 メルカプトベンズチアゾール誘導体 (1) 2−メルカプトベンズチアゾール (2) 5−ニトロ−2−メルカプトベンズチアゾール (3) 5−カルボキシ−2−メルカプトベンズチアゾ
ール (4) 5−スルホ−2−メルカプトベンズチアゾール 8 メルカプトベンズオキサゾール誘導体 (1) 2−メルカプトベンズオキサゾール (2) 5−ニトロ−2−メルカプトベンズオキサゾー
ル (3) 5−カルボキシ−2−メルカプトベンズオキサ
ゾール (4) 5−スルホ−2−メルカプトベンズオキサゾー
ル 9 ベンズトリアゾール誘導体 (1) 5,6−ジメチルベンゾトリアゾール (2) 5−ブチルベンゾトリアゾール (3) 5−メチルベンゾトリアゾール (4) 5−クロロベンゾトリアゾール (5) 5−ブロモベンゾトリアゾール (6) 5,6−ジクロロベンゾトリアゾール (7) 4,6−ジクロロベンゾトリアゾール (8) 5−ニトロベンゾトリアゾール (9) 4−ニトロ−6−クロロ−ベンゾトリアゾール (10) 4,5,6−トリクロロベンゾトリアゾール (11) 5−カルボキシベンゾトリアゾール (12) 5−スルホンシベンゾトリアゾール Na塩 (13) 5−メトキシカルボニルベンゾトリアゾール (14) 5−アミノベンゾトリアゾール (15) 5−ブトキシベンゾトリアゾール (16) 5−ウレイドベンゾトリアゾール (17) ベンゾトリアゾール (18) 5−フェノキシカルボニルベンゾトリアゾール (19) 5−(2,3−ジクロロプロピルオキシカルボニ
ル)ベンゾトリアゾール 10 ベンズイミダゾール誘導体 (1) ベンズイミダゾール (2) 5−クロロベンズイミダゾール (3) 5−ニトロベンズイミダゾール (4) 5−n−ブチルベンズイミダゾール (5) 5−メチルベンズイミダゾール (6) 5−クロロベンズイミダゾール (7) 5,6−ジメチルベンズイミダゾール (8) 5−ニトロ−2−(トリフルオロメチル)ベン
ズイミダゾール 11 インダゾール誘導体 (1) 5−ニトロインダゾール (2) 6−ニトロインダゾール (3) 5−アミノインダゾール (4) 6−アミノインダゾール (5) インダゾール (6) 3−ニトロインダゾール (7) 5−ニトロ−3−クロロインダゾール (8) 3−クロロ−5−イトロインダゾール (9) 3−カルボキシ−5−ニトロインダゾール 12 テトラゾール誘導体 (1) 5−(4−ニトロフェニル)テトラゾール (2) 5−フェニルテトラゾール (3) 5−(3−カルボキシフェニル)−テトラゾー
ル 13 テトラザインデン誘導体 (1) 4−ヒドロキシ−6−メチル−5−ニトロ−1,
3,3a,7−テトラアザンデン (2) 4−メルカプト−6−メチル−5−ニトロ−1,
3,3a,7−テトラアザンデン 14 メルカプトアリール誘導体 (1) 4−ニトロチオフェノール (2) チオフェノール (3) 2−カルボキシチオフェノール また一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)にお
いて、R1またはTimetPUGは、その中にカプラー等
の不動性写真用添加剤において常用されているバラスト
基や一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)で表わ
される化合物がハロゲン化銀に吸着することを促進する
基が組み込まれていてもよい。
1 Mercaptotetrazole derivative (1) 1-phenyl-5-mercaptotetrazole (2) 1- (4-hydroxyphenyl) -5-mercaptotetrazole (3) 1- (4-aminophenyl) -5-mercaptotetrazole (4) 1- (4-carboxyphenyl) -5-mercaptotetrazole (5) 1- (4-chlorophenyl) -5-mercaptotetrazole (6) 1- (4-methylphenyl) -5-mercaptotetrazole (7) 1- ( 2,4-Dihydroxyphenyl) -5-mercaptotetrazole (8) 1- (4-sulfamoylphenyl) -5-mercaptotetrazole (9) 1- (3-carboxyphenyl) -5-mercaptotetrazole (10) 1 -(3,5-Dicarboxyphenyl) -5-mercaptotetrazole (11 1- (4-methoxyphenyl) -5-mercaptotetrazole (12) 1- (2-methoxyphenyl) -5-mercaptotetrazole (13) 1- [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -5-mercapto Tetrazole (14) 1- (2,4-dichlorophenyl) -5-mercaptotetrazole (15) 1- (4-Dimethylaminophenyl) -5-mercaptotetrazole (16) 1- (4-Nitrophenyl) -5-mercapto Tetrazole (17) 1,4-bis (5-mercapto-1-tetrazolyl) benzene (18) 1- (α-naphthyl) -5-mercaptotetrazole (19) 1- (4-sulfophenyl) -5-mercaptotetrazole (20) 1- (3-Sulfophenyl) -5-mercaptotetrazole (21) 1- (β-naphthyl) -5-merka Putotetrazole (22) 1-Methyl-5-mercaptotetrazole (23) 1-Ethyl-5-mercaptotetrazole (24) 1-Propyl-5-mercaptotetrazole (25) 1-octyl-5-mercaptotetrazole (26) 1 -Dodecyl-5-mercaptotetrazole (27) 1-cyclohexyl-5-mercaptotetrazole (28) 1-palmityl-5-mercaptotetrazole (29) 1-carboxyethyl-5-mercaptotetrazole (30) 1- (2,2 -Diethoxyethyl) -5-mercaptotetrazole (31) 1- (2-aminoethyl) -5-mercaptotetrazole hydrochloride (32) 1- (2-diethylaminoethyl) -5-mercaptotetrazole (33) 2- ( 5-mercapto-1-tetrazolyl) ethyltrimethylammoni Mukurorido (34) 1- (3-phenoxycarbonyl-phenyl) -
5-mercaptotetrazole (35) 1- (3-maleimidophenyl) -6-mercaptotetrazole 2 mercaptotriazole derivative (1) 4-phenyl-3-mercaptotriazole (2) 4-phenyl-5-methyl-3-mercapto Triazole (3) 4,5-diphenyl-3-mercaptotriazole (4) 4- (4-carboxyphenyl) -3-mercaptotriazole (5) 4-methyl-3-mercaptotriazole (6) 4- (2-dimethyl Aminoethyl) -3-mercaptotriazole (7) 4- (α-naphthyl) -3-mercaptotriazole (8) 4- (4-sulfophenyl) -3-mercaptotriazole (9) 4- (3-nitrophenyl) -3-Mercaptotriazole 3 mercaptoimidazole induction Body (1) 1-phenyl-2-mercaptoimidazole (2) 1,5-diphenyl-2-mercaptoimidazole (3) 1- (4-carboxyphenyl) -2-mercaptoimidazole (4) 1- (4-hexyl Carbamoyl) -2-mercaptoimidazole (5) 1- (3-nitrophenyl) -2-mercaptoimidazole (6) 1- (4-sulfophenyl) -2-mercaptoimidazole 4 mercaptopyrimidine derivative (1) Thiouracil (2) Methylthiouracil (3) Ethylthiouracil (4) Propylthiouracil (5) Nonylthiouracil (6) Aminothiouracil (7) Hydroxythiouracil 5 Mercaptobenzimidazole derivative (1) 2-Mercaptobenzimidazole (2) 5- Carboxy-2-me Lucaptobenzimidazole (3) 5-Amino-2-mercaptobenzimidazole (4) 5-Nitro-2-mercaptobenzimidazole (5) 5-Chloro-2-mercaptobenzimidazole (6) 5-Methoxy-2-mercapto Benzimidazole (7) 2-mercaptonaphthoimidazole (8) 2-mercapto-5-sulfone benzimidazole (9) 1- (2-hydroxyethyl) -2-mercaptobenzimidazole (10) 5-caproamide-2-mercaptobenz Imidazole (11) 5- (2-ethylhexanoylamino) -2-
Mercaptobenzimidazole 6 Mercaptothiadiazole derivative (1) 5-methylthio-2-mercapto-1,3,4-thiadiazole (2) 5-ethylthio-2-mercapto-1,3,4-thiadiazole (3) 5- (2 -Dimethylaminoethylthio) -2-
Mercapto-1,3,4-thiadiazole (4) 5- (2-carboxypropylthio) -2-mercapto-1,3,4-thiadiazole (5) 5-phenoxycarbonylmethylthio-5-mercapto-1,3, 4-thiadiazole 7 mercaptobenzthiazole derivative (1) 2-mercaptobenzthiazole (2) 5-nitro-2-mercaptobenzthiazole (3) 5-carboxy-2-mercaptobenzthiazole (4) 5-sulfo-2-mercapto Benzthiazole 8 mercaptobenzoxazole derivative (1) 2-mercaptobenzoxazole (2) 5-nitro-2-mercaptobenzoxazole (3) 5-carboxy-2-mercaptobenzoxazole (4) 5-sulfo-2-mercaptobenz Oxazole 9 benztriazo Derivative (1) 5,6-dimethylbenzotriazole (2) 5-butylbenzotriazole (3) 5-methylbenzotriazole (4) 5-chlorobenzotriazole (5) 5-bromobenzotriazole (6) 5,6 -Dichlorobenzotriazole (7) 4,6-Dichlorobenzotriazole (8) 5-Nitrobenzotriazole (9) 4-Nitro-6-chloro-benzotriazole (10) 4,5,6-Trichlorobenzotriazole (11) 5-Carboxybenzotriazole (12) 5-sulfone benzotriazole Na salt (13) 5-methoxycarbonylbenzotriazole (14) 5-aminobenzotriazole (15) 5-butoxybenzotriazole (16) 5-ureidobenzotriazole ( 17) Benzotriazole (18) 5-Phenoki Carbonylbenzotriazole (19) 5- (2,3-dichloropropyloxycarbonyl) benzotriazole 10 Benzimidazole derivative (1) Benzimidazole (2) 5-chlorobenzimidazole (3) 5-nitrobenzimidazole (4) 5- n-Butylbenzimidazole (5) 5-methylbenzimidazole (6) 5-chlorobenzimidazole (7) 5,6-dimethylbenzimidazole (8) 5-nitro-2- (trifluoromethyl) benzimidazole 11 Indazole derivative (1) 5-nitroindazole (2) 6-nitroindazole (3) 5-aminoindazole (4) 6-aminoindazole (5) indazole (6) 3-nitroindazole (7) 5-nitro-3-chloroindazole (8) 3-Chloro-5-itreindazole (9) 3-carboxy-5-nitroindazole 12 tetrazole derivative (1) 5- (4-nitrophenyl) tetrazole (2) 5-phenyltetrazole (3) 5- (3-carboxy Phenyl) -tetrazole 13 tetrazaindene derivative (1) 4-hydroxy-6-methyl-5-nitro-1,
3,3a, 7-Tetraazandene (2) 4-mercapto-6-methyl-5-nitro-1,
3,3a, 7-Tetraazandene 14 mercaptoaryl derivative (1) 4-nitrothiophenol (2) thiophenol (3) 2-carboxythiophenol Further, general formulas (R-1), (R-2), ( In R-3), R 1 or Time t PUG is a ballast group or a general formula (R-1), (R-2) or (R-2) which is commonly used in a non-moving photographic additive such as a coupler. A group which promotes adsorption of the compound represented by -3) to silver halide may be incorporated.

バラスト基は一般式(R−1)、(R−2)、(R−
3)で表わされる化合物が実質的に他層または処理液中
へ拡散できないようにするのに十分な分子量を与える有
機基であり、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、エ
ーテル基、チオエーテル基、アミド基、ウレイド基、ウ
レタン基、スルホンアミド基などの一つ以上の組合せか
らなるものである。バラスト基として好ましくは置換ベ
ンゼン環を有するバラスト基であり、特に分岐状アルキ
ル基で置換されたベンゼン環を有するバラスト基が好ま
しい。
The ballast group has the general formula (R-1), (R-2), (R-
An organic group that gives a molecular weight sufficient to prevent the compound represented by 3) from substantially diffusing into another layer or the processing solution, and includes an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an ether group, a thioether group, It comprises one or more combinations of an amide group, a ureido group, a urethane group, a sulfonamide group and the like. The ballast group is preferably a ballast group having a substituted benzene ring, and particularly preferably a ballast group having a benzene ring substituted with a branched alkyl group.

ハロゲン化銀への吸着促進基としては、具体的には4
−チアゾリン−2−チオン、4−イミダゾリン−2−チ
オン、2−チオヒダントイン、ローダニン、チオバルビ
ツール酸、テトラゾリン−5−チオン、1,2,4−トリア
ゾリン−3−チオン、1,3,4−オキサゾリン−2−チオ
ン、ベンズイミダゾリン−2−チオン、ベンズオキサゾ
リン−2−チオン、ベンズチアゾリン−2−チオン、チ
オトリアジン、1,3−イミダゾリン−2−チオンのよう
な環状チオアミド基、鎖状チオアミド基、脂肪族メルカ
プト基、芳香族メルカプト基、ヘテロ環メルカプト基
(−SH基が結合した炭素原子の隣が窒素原子の場合はこ
れと互変異性体の関係にある環状チオアミド基と同義で
あり、この基の具体例は上に列挙したものと同じであ
る。)、ジスルフィド結合を有する基、ベンゾトリアゾ
ール、トリアゾール、テトラゾール、インダゾール、ベ
ンズイミダゾール、イミダゾール、ベンゾチアゾール、
チアゾール、チアゾリン、ベンゾオキサゾール、オキサ
ゾール、オキサゾリン、チアジアゾール、オキサチアゾ
ール、トリアジン、アザインデンのような窒素、酸素、
硫黄及び炭素の組合せからなる5員ないし6員の含窒素
ヘテロ環基、及びベンズイミダゾリニウムのような複素
環四級塩などが挙げられる。
Specific examples of the group for promoting adsorption to silver halide include 4
-Thiazoline-2-thione, 4-imidazoline-2-thione, 2-thiohydantoin, rhodanine, thiobarbituric acid, tetrazoline-5-thione, 1,2,4-triazoline-3-thione, 1,3,4 A cyclic thioamide group such as oxazoline-2-thione, benzimidazoline-2-thione, benzoxazoline-2-thione, benzthiazoline-2-thione, thiotriazine, 1,3-imidazoline-2-thione, chain thioamide Group, an aliphatic mercapto group, an aromatic mercapto group, a heterocyclic mercapto group (when the carbon atom to which the --SH group is bound is a nitrogen atom, it is synonymous with the cyclic thioamide group having a tautomeric relationship with this. , Specific examples of this group are the same as those listed above.), A group having a disulfide bond, benzotriazole, triazole, tetrazo Le, indazole, benzimidazole, imidazole, benzothiazole,
Nitrogen, oxygen, such as thiazole, thiazoline, benzoxazole, oxazole, oxazoline, thiadiazole, oxathiazole, triazine, azaindene,
Examples thereof include a 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic group composed of a combination of sulfur and carbon, and a heterocyclic quaternary salt such as benzimidazolinium.

これらはさらに適当な置換基で置換されていてもよ
い。
These may be further substituted with a suitable substituent.

置換基としては、例えばR1の置換基として述べたも
のが挙げられる。
Examples of the substituent include those mentioned as the substituent of R 1 .

以下に本発明に用いられる化合物の具体例を列記する
が本発明はこれに限定されるものではない。
Hereinafter, specific examples of the compound used in the present invention are listed, but the present invention is not limited thereto.

本発明に用いられるレドックス化合物としては、上記
のものの他に、例えば特開昭61-213,847号、同62-260,1
53号、特願平1-102,393号、同1-102,394号、同1-102,39
5号、同1-114,455号に記載されたものを用いることがで
きる。
As the redox compound used in the present invention, in addition to those described above, for example, JP-A-61-213847 and JP-A-62-260,1.
No. 53, Japanese Patent Application No. 1-102,393, No. 1-102,394, No. 1-102,39
Those described in No. 5 and No. 1-114,455 can be used.

本発明に用いられるレドックス化合物の合成法は例え
ば特開昭61-213,847号、同62-260,153号、米国特許第4,
684,604号、特願昭63-98,803号、米国特許第3,379,529
号、同3,620,746号、同4,377,634号、同4,332,878号、
特開昭49-129,536号、同56-153,336号、同56-153,342号
などに記載されている。
The method for synthesizing the redox compound used in the present invention is described, for example, in JP-A-61-213,847, JP-A-62-260,153, U.S. Pat.
684,604, Japanese Patent Application No. 63-98,803, U.S. Patent No. 3,379,529
Nos. 3,620,746, 4,377,634, 4,332,878,
It is described in JP-A-49-129,536, JP-A-56-153,336, JP-A-56-153,342 and the like.

本発明のレドックス化合物は、ハロゲン化銀1モルあ
たり1×10-6〜5×10-2モル、より好ましくは1×10-5
〜1×10-2モルの範囲内で用いられる。
The redox compound of the present invention is used in an amount of 1 × 10 −6 to 5 × 10 −2 mol, more preferably 1 × 10 −5 per mol of silver halide.
It is used in the range of 11 × 10 -2 mol.

本発明のレドックス化合物は、適当な水混和性有機溶
媒、例えば、アルコール類(メタノール、エタノール、
プロパノール、フッ素化アルコール)、ケトン類(アセ
トン、メチルエチルケトン)、ジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブなどに溶解し
て用いることができる。
The redox compound of the present invention may be used in a suitable water-miscible organic solvent, for example, alcohols (methanol, ethanol,
Propanol, fluorinated alcohol), ketones (acetone, methyl ethyl ketone), dimethylformamide,
It can be used by dissolving it in dimethyl sulfoxide, methyl cellosolve or the like.

また、既に良く知られている乳化分散法によって、ジ
ブチルフタレート、トリクレジルフォスフェート、グリ
セリントリアセテートあるいはジエチルフタレートなど
のオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンなどの補助溶
媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作成して用い
ることもできる。あるいは固体分散法として知られてい
る方法によって、レドックス化合物の粉末を水の中にボ
ールミル、コロイドミル、あるいは超音波によって分散
して用いることもできる。
Further, by a well-known emulsification dispersion method, oil such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glycerin triacetate or diethyl phthalate is dissolved using an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone, and mechanically emulsified and dispersed. It is also possible to create and use things. Alternatively, a redox compound powder can be dispersed in water using a ball mill, a colloid mill, or ultrasonic waves by a method known as a solid dispersion method.

本発明に用いられるヒドラジン誘導体は、下記一般式
(I)によって表わされる化合物が好ましい。
The hydrazine derivative used in the present invention is preferably a compound represented by the following general formula (I).

式中、R1は脂肪族基または芳香族基を表わし、R2
水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、ア
リールオキシ基、アミノ基、カルバモイル基又はオキシ
カルボニル基を表わし、G1はカルボニル基、スルホニ
ル基、スルホキシ基、 又はイミノメチレン基を表わし、B1、B2はともに水素
原子あるいは一方が水素原子で他方が置換もしくは無置
換のアルキルスルホニル基、又は置換もしくは無置換の
アリールスルホニル基、又は置換もしくは無置換のアシ
ル基を表わす。
In the formula, R 1 represents an aliphatic group or an aromatic group, R 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group, a carbamoyl group or an oxycarbonyl group, and G 1 represents Carbonyl group, sulfonyl group, sulfoxy group, Or an iminomethylene group, wherein B 1 and B 2 are both hydrogen atoms or one is a hydrogen atom and the other is a substituted or unsubstituted alkylsulfonyl group, or a substituted or unsubstituted arylsulfonyl group, or a substituted or unsubstituted acyl group. Represents a group.

一般式(I)において、R1で表される脂肪族基は好
ましくは炭素数1〜30のものであって、特に炭素数1〜
20の直鎖、分岐または環状のアルキル基である。ここで
分岐アルキル基はその中に1つまたはそれ以上のヘテロ
原子を含んだ飽和のヘテロ環を形成するように環化され
ていてもよい。またこのアルキル基は、アリール基、ア
ルコキシ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、カルボ
ンアミド基等の置換基を有していてもよい。
In the general formula (I), the aliphatic group represented by R 1 preferably has 1 to 30 carbon atoms, and particularly preferably has 1 to 30 carbon atoms.
20 linear, branched or cyclic alkyl groups. Here, the branched alkyl group may be cyclized to form a saturated heterocycle containing one or more heteroatoms therein. The alkyl group may have a substituent such as an aryl group, an alkoxy group, a sulfoxy group, a sulfonamide group, and a carbonamide group.

一般式(I)においてR1で表される芳香族基は単環
または2環のアリール基または不飽和ヘテロ環基であ
る。ここで不飽和ヘテロ環基は単環または2環のアリー
ル基と縮合してヘテロアリール基を形成してもよい。
The aromatic group represented by R 1 in the general formula (I) is a monocyclic or bicyclic aryl group or an unsaturated heterocyclic group. Here, the unsaturated heterocyclic group may be condensed with a monocyclic or bicyclic aryl group to form a heteroaryl group.

例えばベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、ピリ
ミジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、キノリン
環、イソキノリン環、ベンズイミダゾール環、チアゾー
ル環、ベンゾチアゾール環等があるがなかでもベンゼン
環を含むものが好ましい。
For example, there are a benzene ring, a naphthalene ring, a pyridine ring, a pyrimidine ring, an imidazole ring, a pyrazole ring, a quinoline ring, an isoquinoline ring, a benzimidazole ring, a thiazole ring, and a benzothiazole ring.

1として特に好ましいものはアリール基である。Particularly preferred as R 1 is an aryl group.

1のアリール基または不飽和ヘテロ環基は置換され
ていてもよく、代表的な置換基としては、例えばアルキ
ル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ア
ルコキシ基、アリール基、置換アミノ基、アシルアミノ
基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、ウレタン基、ア
リールオキシ基、スルファモイル基、カルバモイル基、
アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホニル基、スル
フィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、
スルホ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキ
シカルボニル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、
アシルオキシ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基
やカルボキシル基、リン酸アミド基、ジアシルアミノ
基、イミド基、などが挙げられ、好ましい置換基として
は直鎖、分岐または環状のアルキル基(好ましくは炭素
数1〜20のもの)、アラルキル基(好ましくはアルキル
部分の炭素数が1〜3の単環または2環のもの)、アル
コキシ基(好ましくは炭素数1〜20のもの)、置換アミ
ノ基(好ましくは炭素数1〜20のアルキル基で置換され
たアミノ基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜
30を持つもの)、スルホンアミド基(好ましくは炭素数
1〜30を持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭素数1
〜30を持つもの)、リン酸アミド基(好ましくは炭素数
1〜30のもの)などである。
The aryl group or unsaturated heterocyclic group of R 1 may be substituted, and typical examples of the substituent include, for example, an alkyl group, an aralkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an alkoxy group, an aryl group, a substituted amino group, Acylamino group, sulfonylamino group, ureido group, urethane group, aryloxy group, sulfamoyl group, carbamoyl group,
Alkylthio group, arylthio group, sulfonyl group, sulfinyl group, hydroxy group, halogen atom, cyano group,
Sulfo group, alkyloxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, acyl group, alkoxycarbonyl group,
Examples thereof include an acyloxy group, a carbonamido group, a sulfonamide group, a carboxyl group, a phosphoric acid amide group, a diacylamino group, an imide group, and the like, and a preferable substituent is a linear, branched, or cyclic alkyl group (preferably having a carbon number. 1 to 20), aralkyl group (preferably having 1 to 3 carbon atoms in the alkyl moiety), alkoxy group (preferably having 1 to 20 carbon atoms), substituted amino group (preferably Is an amino group substituted with an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and an acylamino group (preferably having 2 to 2 carbon atoms).
30), a sulfonamide group (preferably having 1 to 30 carbon atoms), a ureido group (preferably having 1 carbon atom)
.About.30), phosphoric acid amide group (preferably having 1 to 30 carbon atoms), and the like.

一般式(I)においてR2で表わされるアルキル基と
しては、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基であっ
て、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシ基、スルホ
基、アルコキシ基、フェニル基、スルホニル基などの置
換基を有していてもよい。
The alkyl group represented by R 2 in formula (I) is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, which is a halogen atom, a cyano group, a carboxy group, a sulfo group, an alkoxy group, a phenyl group, a sulfonyl group. It may have a substituent such as.

アリール基としては単環または2環のアリール基が好
ましく、例えばベンゼン環を含むものである。このアリ
ール基は、例えばハロゲン原子、アルキル基、シアノ
基、カルボキシル基、スルホ基、スルホニル基などで置
換されていてもよい。
As the aryl group, a monocyclic or bicyclic aryl group is preferable, and for example, those containing a benzene ring. The aryl group may be substituted with, for example, a halogen atom, an alkyl group, a cyano group, a carboxyl group, a sulfo group, a sulfonyl group, or the like.

アルコキシ基としては炭素数1〜8のアルコキシ基の
ものが好ましく、ハロゲン原子、アリール基などで置換
されていてもよい。
The alkoxy group is preferably an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, and may be substituted with a halogen atom, an aryl group, or the like.

アリールオキシ基としては単環のものが好ましく、ま
たは置換基としてはハロゲン原子などがある。
The aryloxy group is preferably a monocyclic one, or the substituent includes a halogen atom and the like.

アミノ基としては無置換アミノ基及び、炭素数1〜10
のアルキルアミノ基、アリールアミノ基が好ましく、ア
ルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルボ
キシ基などで置換されていてもよい。
As the amino group, an unsubstituted amino group and a group having 1 to 10 carbon atoms
Are preferred, and may be substituted with an alkyl group, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a carboxy group, or the like.

カルバモイル基としては、無置換カルバモイル基及び
炭素数1〜10のアルキルカルバモイル基、アリールカル
バモイル基が好ましく、アルキル基、ハロゲン原子、シ
アノ基、カルボキシ基などで置換されていてもよい。
The carbamoyl group is preferably an unsubstituted carbamoyl group, an alkylcarbamoyl group having 1 to 10 carbon atoms, or an arylcarbamoyl group, and may be substituted with an alkyl group, a halogen atom, a cyano group, a carboxy group, or the like.

オキシカルボニル基としては、炭素数1〜10のアルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基が好ま
しく、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基
等で置換されていてもよい。
The oxycarbonyl group is preferably an alkoxycarbonyl group having 1 to 10 carbon atoms or an aryloxycarbonyl group, and may be substituted with an alkyl group, a halogen atom, a cyano group, a nitro group or the like.

2で表わされる基のうち好ましいものは、G1がカル
ボニル基の場合には、水素原子、アルキル基(例えば、
メチル基、トリフルオロメチル基、3−ヒドロキシプロ
ピル基、3−メタンスルホンアミドプロピル基、フェニ
ルスルホニルメチル基など)、アラルキル基(例えば、
o−ヒドロキシベンジル基など)、アリール基(例え
ば、フェニル基、3,5−ジクロロフェニル基、o−メタ
ンスルホンアミドフェニル基、4−メタンスルホニルフ
ェニル基など)などであり、特に水素原子が好ましい。
Preferred among the groups represented by R 2 are a hydrogen atom and an alkyl group (for example, when G 1 is a carbonyl group).
Methyl group, trifluoromethyl group, 3-hydroxypropyl group, 3-methanesulfonamidopropyl group, phenylsulfonylmethyl group, etc., aralkyl group (for example,
and an aryl group (for example, a phenyl group, a 3,5-dichlorophenyl group, an o-methanesulfonamidophenyl group, a 4-methanesulfonylphenyl group, etc.), and a hydrogen atom is particularly preferable.

またG1がスルホニル基の場合には、R2はアルキル基
(例えば、メチル基など)、アラルキル基(例えば、o
−ヒドロキシフェニルメチル基など)、アリール基(例
えば、フェニル基など)または置換アミノ基(例えば、
ジメチルアミノ基など)などが好ましい。
When G 1 is a sulfonyl group, R 2 is an alkyl group (eg, methyl group) or an aralkyl group (eg, o).
A hydroxyphenylmethyl group), an aryl group (e.g., a phenyl group) or a substituted amino group (e.g.,
And a dimethylamino group.

1がスルホキシ基の場合、好ましいR2はシアノベン
ジル基、メチルチオベンジル基などであり、G1の場合には、R2としてはメトキシ基、エトキシ基、ブ
トキシ基、フェノキシ基、フェニル基が好ましく、特
に、フェノキシ基が好適である。
When G 1 is a sulfoxy group, preferred R 2 is a cyanobenzyl group, a methylthiobenzyl group or the like, and G 1 is In this case, R 2 is preferably a methoxy group, an ethoxy group, a butoxy group, a phenoxy group or a phenyl group, and particularly preferably a phenoxy group.

1がN−置換または無置換イミノメチレン基の場
合、好ましいR2はメチル基、エチル基、置換または無
置換のフェニル基である。
When G 1 is an N-substituted or unsubstituted iminomethylene group, preferred R 2 is a methyl group, an ethyl group or a substituted or unsubstituted phenyl group.

2の置換基としては、R1に関して列挙した置換基が
適用できる。
As the substituent for R 2, the substituents listed for R 1 can be applied.

一般式(I)のGとしてはカルボニル基が最も好まし
い。
G in the general formula (I) is most preferably a carbonyl group.

又、R2はG1−R2部分を残余分子から分裂させ、−
1−R2部分の原子を含む環式構造を生成させる環化反
応を生起するようなものであつてもよく、具体的には一
般式(a)で表わすことができるようなものである。
R 2 also splits the G 1 -R 2 moiety from the rest of the molecule,
It may be one that causes a cyclization reaction to form a cyclic structure containing an atom of the G 1 -R 2 moiety, and is specifically one that can be represented by the general formula (a). .

一般式(a) −R3−Z1 式中、Z1はG1に対し求核的に攻撃し、G1−R3−Z
1部分を残余分子から分裂させ得る基であり、R3はR2
から水素原子1個除いたもので、Z1がG1に対し求核攻
撃し、G1,R3,Z1で環式構造が生成可能なものである。
In the general formula (a) -R 3 -Z 1 formula, Z 1 is nucleophilically attacked to G 1, G 1 -R 3 -Z
The first part is a group capable of splitting from the remainder molecule, R 3 is R 2
It is a compound in which one hydrogen atom is removed from the above, and Z 1 can nucleophilically attack G 1 to form a cyclic structure with G 1 , R 3 and Z 1 .

さらに詳細には、Zは一般式(I)のヒドラジン化合
物が酸化等により、次の反応中間体を生成したときに容
易にG1と求核反応し R1−N=N−G1−R3−Z11−N=N基をG1から分裂させうる基であり、具体的
にはOH,SHまたはNHR4(R4は水素原子、アルキル基、ア
リール基、−COR5、または−SO2R5であり、R5は水素原
子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基などを表わ
す)、COOHなどのようにG1と直接反応する官能基であ
つてもよく、(ここで、OH,SH,NHR4,−COOHはアルカリ
等の加水分解によりこれらの基を生成するように一時的
に保護されていてもよい) (R6,R7は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリ
ール基またはヘテロ環基を表わす)のように水酸イオン
や亜硫酸イオン等のような求核剤を反応することでG1
と反応することが可能になる官能基であつてもよい。
More specifically, Z easily undergoes a nucleophilic reaction with G 1 when the hydrazine compound of the general formula (I) produces the next reaction intermediate due to oxidation or the like, R 1 -N = N-G 1 -R 3- Z 1 R 1 —N═N is a group capable of splitting N group from G 1 , and specifically includes OH, SH or NHR 4 (R 4 is a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, —COR 5 , or —SO 2 R 5 and R 5 may be a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group or the like), or a functional group which directly reacts with G 1 such as COOH (wherein , OH, SH, NHR 4 , and -COOH may be temporarily protected so as to generate these groups by hydrolysis of alkali etc.) (Wherein R 6 and R 7 represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or a heterocyclic group), a nucleophile such as a hydroxide ion or a sulfite ion is reacted to produce G 1
It may be a functional group capable of reacting with.

また、G1、R3、Z1で形成される環としては5員ま
たは6員のものが好ましい。
The ring formed by G 1 , R 3 and Z 1 is preferably a 5-membered or 6-membered ring.

一般式(a)で表わされるもののうち、好ましいもの
としては一般式(b)及び(c)で表わされるものを挙
げることができる。
Among the compounds represented by the general formula (a), preferred are the compounds represented by the general formulas (b) and (c).

式中、Rb 1〜Rb 4は水素原子、アルキル基、(好まし
くは炭素数1〜12のもの)、アルケニル基(好ましくは
炭素数2〜12のもの)、アリール基(好ましくは炭素数
6〜12のもの)などを表わし、同じでも異つてもよい。
Bは置換基を有してもよい5員環または6員環を完成す
るのに必要な原子であり、m、nは0または1であり、
(n+m)は1または2である。
In the formula, R b 1 to R b 4 are hydrogen atoms, alkyl groups (preferably having 1 to 12 carbon atoms), alkenyl groups (preferably having 2 to 12 carbon atoms), aryl groups (preferably having carbon atoms). 6 to 12) etc., and may be the same or different.
B is an atom necessary to complete a 5- or 6-membered ring which may have a substituent, m and n are 0 or 1, and
(N + m) is 1 or 2.

Bで形成される5員または6員環としては、例えば、
シクロヘキセン環、シクロヘプテン環、ベンゼン環、ナ
フタレン環、ピリジン環、キノリン環などである。
As the 5- or 6-membered ring formed by B, for example,
A cyclohexene ring, a cycloheptene ring, a benzene ring, a naphthalene ring, a pyridine ring, a quinoline ring and the like.

1は一般式(a)と同義である。Z 1 has the same meaning as in formula (a).

式中、Rc 1、Rc 2は水素原子、アルキル基、アルケニ
ル基、アリール基またはハロゲン原子などを表わし、同
じでも異つてもよい。
In the formula, R c 1 and R c 2 represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or a halogen atom, and may be the same or different.

c 3は水素原子、アルキル基、アルケニル基、または
アリール基を表わす。
R c 3 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, or an aryl group.

pは0または1を表わす。qは1〜4を表わす。 p represents 0 or 1. q represents 1-4.

c 1、Rc 2およびRc 3はZ1がG1ヘ分子内求核攻撃し
得る構造の限りにおいて互いに結合して環を形成しても
よい。
R c 1 , R c 2 and R c 3 may combine with each other to form a ring as long as Z 1 has a structure capable of intramolecular nucleophilic attack on G 1 .

c 1、Rc 2は好ましくは水素原子、ハロゲン原子、ま
たはアルキル基であり、Rc 3は好ましくはアルキル基ま
たはアリール基である。
R c 1 and R c 2 are preferably a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, and R c 3 is preferably an alkyl group or an aryl group.

qは好ましくは1〜3を表わし、qが1のときpは1
または2を、qが2のときpは0または1を、qが3の
ときpは0または1を表わし、qが2または3のときCR
c 1Rc 2は同じでも異つてもよい。
q preferably represents 1-3, and when q is 1, p is 1
Or 2, p is 0 or 1 when q is 2, p is 0 or 1 when q is 3, CR when q is 2 or 3
c 1 R c 2 may be the same or different.

1は一般式(a)と同義である。Z 1 has the same meaning as in formula (a).

1、A2は水素原子、炭素数20以下のアルキルスルホ
ニル基およびアリールスルホニル基(好ましくはフェニ
ルスルホニル基又はハメツトの置換基定数の和が−0.5
以上となるように置換されたフェニルスルホニル基)、
炭素数20以下のアシル基(好ましくはベンゾイル基、又
はハメツトの置換基定数の和が−−0.5以上となるよう
に置換されたベンゾイル基、あるいは直鎖又は分岐状又
は環状の無置換及び置換脂肪族アシル基(置換基として
は例えばハロゲン原子、エーテル基、スルホンアミド
基、カルボンアミド基、水酸基、カルボキシ基、スルホ
ン酸基が挙げられる。)) B1、B2としては水素原子が最も好ましい。
A 1 and A 2 are a hydrogen atom, an alkylsulfonyl group having 20 or less carbon atoms and an arylsulfonyl group (preferably a phenylsulfonyl group or a sum of substituent constants of hamet is -0.5).
A phenylsulfonyl group substituted as described above),
An acyl group having 20 or less carbon atoms (preferably a benzoyl group, or a benzoyl group substituted so that the sum of the substituent constants of a hamet is −0.5 or more, or a linear or branched or cyclic unsubstituted or substituted fat Group acyl group (eg, a substituent includes a halogen atom, an ether group, a sulfonamide group, a carbonamide group, a hydroxyl group, a carboxy group, and a sulfonic acid group). As B 1 and B 2 , a hydrogen atom is most preferable.

一般式(I)のR1またはR2はその中にカプラー等の
不動性写真用添加剤において常用されているバラスト基
が組み込まれているものでもよい。バラスト基は8以上
の炭素数を有する写真性に対して比較的不活性な基であ
り、例えばアルキル基、アルコキシ基、フェニル基、ア
ルキルフェニル基、フェノキシ基、アルキルフェノキシ
基などの中から選ぶことができる。
R 1 or R 2 in the general formula (I) may have a ballast group incorporated therein which is commonly used in a non-moving photographic additive such as a coupler. The ballast group is a group having a carbon number of 8 or more, which is relatively inert to photographic properties. For example, the ballast group is selected from an alkyl group, an alkoxy group, a phenyl group, an alkylphenyl group, a phenoxy group and an alkylphenoxy group. Can be.

一般式(I)のR1またはR2はその中にハロゲン化銀
粒子表面に対する吸着を強める基が組み込まれているも
のでもよい。かかる吸着基としては、チオ尿素基、複素
環チオアミド基、メルカプト複素環基、トリアゾール基
などの米国特許第4,385,108号、同4,459,347号、特開昭
59-195,233号、同59-200,231号、同59-201,045号、同59
-201,046号、同59-201,047号、同59-201,048号、同59-2
01,049号、特開昭61-170,733号、同61-270,744号、同62
-948号、特願昭62-67,508号、〃62-67,501号、〃62-67,
510号に記載された基があげられる。
R 1 or R 2 in the general formula (I) may have a group in which a group that enhances adsorption to the surface of the silver halide grain is incorporated. Examples of such an adsorbing group include thiourea group, heterocyclic thioamide group, mercapto heterocyclic group, triazole group and the like U.S. Patent Nos. 4,385,108 and 4,459,347;
59-195,233, 59-200,231, 59-201,045, 59
-201,046, 59-201,047, 59-201,048, 59-2
01,049, JP 61-170,733, 61-270,744, 62
-948, Japanese Patent Application No. 62-67,508, 〃 62-67,501, 〃 62-67,
Examples thereof include the groups described in No. 510.

一般式(I)で示される化合物の具体例を以下に示
す。但し本発明は以下の化合物に限定されるものではな
い。
Specific examples of the compound represented by the general formula (I) are shown below. However, the present invention is not limited to the following compounds.

本発明に用いられるヒドラジン誘導体としては、上記
のものの他に、RESEARCH DISCLOSURE I tem23516(1983
年11月号、P.346)およびそこに引用された文献の他、
米国特許4,080,207号、同4,269,929号、同4,276,364
号、同4,278,748号、同4,385,108号、同4,459,347号、
同4,560,638号、同4,478,928号、米国特許2,011,391B、
特開昭60-179734号、同62-270,948号、同63-29,751号、
特開昭61-170,733号、同61-270,744号、同62-948号、EP
217,310号、特願昭61-175,234号、〃61-251,482号、〃6
1-268,249号、〃61-276,283号、〃62-67528号、〃62-6
7,509号、〃62-67,510号、〃62-58,513号、〃62-130,81
9号、〃62-143,467号、〃62-166,117号、またはUS4,68
6,167号、特願昭62-178,246号、特願昭63-234,244号、
同63-234,245号,同63-234,246号、同63-294,552号、同
63-306,438号、特願昭62-166,117号、〃62-247,478号、
〃63-106,682号、〃63-114,118号、〃63-110,051号、〃
63-114,119号、〃63-116,239号、〃63-147,339号、〃63
-179,760号、〃63-229,163号、特願平1-18,377号、〃1-
18,378号、〃1-18,379号、〃1-15,755号、〃1-16,814
号、〃1-40,792号、〃1-42,615号、〃1-42,616号に記載
されたものを用いることができる。
As the hydrazine derivative used in the present invention, in addition to those described above, RESEARCH DISCLOSURE Item23516 (1983)
November, p. 346) and references cited therein,
U.S. Pat.Nos. 4,080,207, 4,269,929, 4,276,364
No. 4,278,748, No. 4,385,108, No. 4,459,347,
4,560,638, 4,478,928, U.S. Patent 2,011,391B,
JP-A-60-179734, JP-A-62-270,948, JP-A-63-29,751,
JP-A-61-170,733, JP-A-61-270,744, JP-A-62-948, EP
217,310, Japanese Patent Application No. 61-175,234, 〃61-251,482, 〃6
1-268,249, 〃61-276,283, 〃62-67528, 〃62-6
7,509, 〃 62-67,510, 〃 62-58,513, 〃 62-130,81
No. 9, 〃 62-143,467, 〃 62-166,117, or US 4,68
6,167, Japanese Patent Application No. 62-178,246, Japanese Patent Application No. 63-234,244,
63-234,245, 63-234,246, 63-294,552,
63-306,438, Japanese Patent Application No. 62-166,117, 〃62-247,478,
〃 63-106,682, 〃 63-114,118, 〃 63-110,051 and 〃
63-114,119, 〃63-116,239, 〃63-147,339, 〃63
-179,760, 〃63-229,163, Japanese Patent Application 1-18,377, 〃1-
18,378, 〃1-18,379, 〃1-15,755, 〃1-16,814
No. 1, 〃 1-40,792, 〃 1-42,615, 〃 1-42,616 can be used.

本発明において一般式(I)で表わされるヒドラジン
誘導体を写真感光材料中に含有させるときには、ハロゲ
ン化銀乳剤層に含有させるのが好ましいがそれ以外の非
感光性の親水性コロイド層(例えば保護層、中間層、フ
ィルター層、ハレーション防止層など)に含有させても
よい。具体的には使用する化合物が水溶性の場合には水
溶液として、また難水溶性の場合にはアルコール類、エ
ステル類、ケトン類などの水と混和しうる有機溶媒の溶
液として、親水性コロイド溶液に添加すればよい。ハロ
ゲン化銀乳剤層に添加する場合は化学熟成の開始から塗
布前までの任意の時期に行つてよいが、化学熟成終了後
から塗布前の間に添加するのが好ましい。特に塗布のた
めに用意された塗布液中に添加するのがよい。
In the present invention, when the hydrazine derivative represented by the general formula (I) is contained in a photographic light-sensitive material, it is preferable that the hydrazine derivative be contained in a silver halide emulsion layer, but other non-light-sensitive hydrophilic colloid layers (for example, a protective layer) , An intermediate layer, a filter layer, an antihalation layer, etc.). Specifically, a hydrophilic colloid solution is used as an aqueous solution when the compound used is water-soluble, or as a solution of an organic solvent miscible with water such as alcohols, esters, and ketones when the compound is poorly water-soluble. May be added. When it is added to the silver halide emulsion layer, it may be added at any time from the start of chemical ripening to before coating, but it is preferably added after chemical ripening to before coating. Particularly, it is preferable to add it to a coating solution prepared for coating.

本発明において、一般式(I)で表わされるヒドラジ
ン誘導体は、ハロゲン化銀1モル当り1×10-6モルない
し1×10-1モル含有させるのが好ましく特に1×10-5
いし4×10-3モル含有させるのが好ましい。
In the present invention, the hydrazine derivative represented by the general formula (I) is preferably contained in an amount of 1 × 10 -6 mol to 1 × 10 -1 mol per mol of silver halide, particularly preferably 1 × 10 -5 to 4 × 10 -1 mol. -3 mol is preferably contained.

次に本発明で用いるチオアミド化合物としては下記一
般式(III)で示される化合物が好ましい。
Next, as the thioamide compound used in the present invention, a compound represented by the following general formula (III) is preferable.

式中R13は水素原子、アルキル基、アリール基又はヘ
テロ環残基を表わす。Qは単なる結合、二価基としての
硫黄原子もしくはセレン原子、二価基としての酸素原
子、ジスルフィド基(−S−S−)NR14又はNR14CSを表わす。ただしR14はR13と同義である。
In the formula, R 13 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic residue. Q is a mere bond, a sulfur atom or a selenium atom as a divalent group, an oxygen atom as a divalent group, a disulfide group (-SS-) NR 14 , Or represents NR 14 CS. However, R 14 has the same meaning as R 13 .

1及びR2は各々水素原子、アルキル基、アリール
基、ヘテロ環残基又はアミノ基をあらわす。R13
14、R11とR12、又はR11とR13の間で5員又は6員
のヘテロ環を形成してもよい。ただしR11とR13の間に
5員又は6員ヘテロ環を形成する場合に、R12及びR14
はいずれも水素原子をあらわすことはない。
R 1 and R 2 each represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic residue or an amino group. A 5-membered or 6-membered heterocycle may be formed between R 13 and R 14 , R 11 and R 12 , or R 11 and R 13 . However, when a 5-membered or 6-membered heterocycle is formed between R 11 and R 13 , R 12 and R 14
Neither represents a hydrogen atom.

11、R12、R13及びR14で表わされるアルキル基
は、炭素原子1〜20を有し、置換されたものも含む。置
換基には例えばハロゲン原子(例えば塩素原子)、シア
ノ基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、炭素数2〜6のア
ルキルオキシ基(たとえばアセトキシ基)、炭素数2〜
22のアルコキシカルボニル基(たとえばエトキシカルボ
ニル基、ブトキシカルボニル基、アリール基(単環又は
2環のもので、置換されてもよい。たとえばフェニル
基、トリル基、p−スルホフェニル基)などがある。有
利なアルキル基の例は次の如くである:メチル基、エチ
ル基、プロピル基(n−又はi−)、ブチル基(n−、
i−又はt−)、アミル(分岐を有してよい。以下同
じ)、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、ペンタデ
シル基、ヘプタデシル基、クロロメチル基、2−クロロ
エチル基、2−シアノエチル基、カルボキシメチル基、
2−カルボキシエチル基、2−ヒドロキシエチル基、2
−アセトキシエチル基、アセトイシエチル基、エトキシ
カルボニルメチル基、ブトキシカルボニルメチル基、2
−メトキシカルボニルエチル基、ベンジル基、o−ニト
ロベンジル基、p−スルホベンジル基。
The alkyl group represented by R 11 , R 12 , R 13 and R 14 has 1 to 20 carbon atoms and includes a substituted one. Examples of the substituent include a halogen atom (for example, chlorine atom), a cyano group, a carboxy group, a hydroxy group, an alkyloxy group having 2 to 6 carbon atoms (for example, acetoxy group), and 2 to 2 carbon atoms.
There are 22 alkoxycarbonyl groups (eg, ethoxycarbonyl group, butoxycarbonyl group, aryl group (monocyclic or bicyclic group, which may be substituted. For example, phenyl group, tolyl group, p-sulfophenyl group) and the like. Examples of preferred alkyl groups are: methyl groups, ethyl groups, propyl groups (n- or i-), butyl groups (n-,
i- or t-), amyl (may have a branch, the same applies hereinafter), hexyl group, octyl group, dodecyl group, pentadecyl group, heptadecyl group, chloromethyl group, 2-chloroethyl group, 2-cyanoethyl group, carboxy Methyl group,
2-carboxyethyl group, 2-hydroxyethyl group, 2
-Acetoxyethyl group, acetoiciethyl group, ethoxycarbonylmethyl group, butoxycarbonylmethyl group, 2
-Methoxycarbonylethyl group, benzyl group, o-nitrobenzyl group, p-sulfobenzyl group.

11、R12、R13及びR14であらわされるアリール基
は、単環または2環、好ましくは単環のアリール基であ
つて、置換されたものも含む。置換基には例えば、炭素
数1〜20のアルキル基(たとえばメチル基、エチル基、
ノニル基)、炭素数1〜20のアルコキシ基(たとえばメ
トキシ基、エトキシ基)、ヒドロキシ基、ハロゲン原子
(たとえば塩素原子、臭素原子)、カルボキシ基、スル
ホ基などがある。アリール基の具体例は、フェニル基、
p−トリル基、p−メトキシフェニル基、p−ヒドロキ
シフェニル基、p−クロロフェニル基、2,5−ジクロロ
フェニル基、p−カルボキシフェニル基、o−カルボキ
シフェニル基、4−スルホフェニル基、2,4−ジスルホ
フェニル基、2,5−ジスルホフェニル基、3−スルホフ
ェニル基、3,5−ジスルホフェニル基などである。
The aryl group represented by R 11 , R 12 , R 13 and R 14 is a monocyclic or bicyclic, preferably monocyclic aryl group and includes a substituted one. Examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group,
Nonyl group), alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms (eg methoxy group, ethoxy group), hydroxy group, halogen atom (eg chlorine atom, bromine atom), carboxy group, sulfo group and the like. Specific examples of the aryl group include a phenyl group,
p-tolyl group, p-methoxyphenyl group, p-hydroxyphenyl group, p-chlorophenyl group, 2,5-dichlorophenyl group, p-carboxyphenyl group, o-carboxyphenyl group, 4-sulfophenyl group, 2,4 -Disulfophenyl group, 2,5-disulfophenyl group, 3-sulfophenyl group, 3,5-disulfophenyl group and the like.

11、R12、R13又はR14のヘテロ環残基としては、
好ましくは5員ないし7員のもので、例えばピロリジ
ン、ピロール、テトラヒドロフラン、フラン、テトラヒ
ドロチオフエン、チオフエン、チアゾール、チアジアゾ
リン、オキサゾール、オキサゾリン、イミダゾール、イ
ミダゾリン、トリアゾール、テトラゾール、チアジアゾ
ール、オキサジアゾール、ベンゾチアゾール、ベンズオ
キサゾール、ベンズイミダゾール、モルホリン、ピリジ
ン、キノリン、キノキサリン、アゼピン、等があげられ
る。これらはR1ないしR3の置換基として述べた基で置
換されていてもよい。
As the heterocyclic residue of R 11 , R 12 , R 13 or R 14 ,
It is preferably a 5- to 7-membered one, for example, pyrrolidine, pyrrole, tetrahydrofuran, furan, tetrahydrothiophene, thiophene, thiazole, thiadiazoline, oxazole, oxazoline, imidazole, imidazoline, triazole, tetrazole, thiadiazole, oxadiazole, benzothiazole. , Benzoxazole, benzimidazole, morpholine, pyridine, quinoline, quinoxaline, azepine and the like. These may be substituted with the groups described as substituents for R 1 to R 3 .

13とR14又はR11とR12によつて形成される5員又
は6員環としては、例えばピペリジン環、ピペラジン
環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、トリ
アゾール環などがあるが、好ましいのはピペリジン環、
ピロール環、ピペラジン環及びモルホリン環である。
The 5- or 6-membered ring formed by R 13 and R 14 or R 11 and R 12 includes, for example, a piperidine ring, a piperazine ring, a pyrrole ring, a pyrazole ring, an imidazole ring, a triazole ring, and the like. Is the piperidine ring,
A pyrrole ring, a piperazine ring and a morpholine ring.

11とR13の間に形成される5員又は6員のヘテロ環
は、例えばローダニン環、チアゾリン環、チアゾリジン
環、セレナゾリン環、オキサゾリン環、オキサゾリジン
環、イミダゾリン環、イミダゾリジン環、ピラゾリン
環、ピラゾリジン環、1,3,4−チアジアゾリン環、1,3,4
−オキサジアゾリン環、1,3,4−トリアゾリン環、テト
ラゾリン環、チオヒダントイン環、ジヒドロピリジン
環、ジヒドロピリミジン環、ジヒドロトリアジン環など
である。これらのヘテロ環はそれらに5〜7員の炭素環
又はヘテロ環が縮合したものをも勿論包含する。すなわ
ち、チアゾール環に関してベンゾチアゾリン核、ナフト
チアゾリン核、ジヒドロナフトチアゾリン核、テトラヒ
ドロベンゾチアゾリン核など;セレナゾール環に関して
ベンゾセレナゾリン核など;オキサゾリン環に関してベ
ンズオキサゾリン核、ナフトオキサゾリン核など;イミ
ダゾリン環に関してベンズイミダゾリン核、ジヒドロイ
ミダゾロピリミジン核など;トリアゾリン環に関してジ
ヒドロトリアゾロピリジン核、ジヒドロトリアゾロピリ
ミジン核など;ピラゾリン環に関してジヒドロピラゾロ
ピリジン核、ジヒドロピラゾロピリミジン核など;ジヒ
ドロピリミジン環に関してジヒドロピラゾロピリミジン
核、ジヒドロピロロピリミジン核、ジヒドロトリアゾロ
ピリミジン核などが包含される。
The 5- or 6-membered heterocyclic ring formed between R 11 and R 13 is, for example, a rhodanine ring, a thiazoline ring, a thiazolidine ring, a selenazoline ring, an oxazoline ring, an oxazolidine ring, an imidazoline ring, an imidazolidine ring, a pyrazoline ring, Pyrazolidine ring, 1,3,4-thiadiazoline ring, 1,3,4
-Oxadiazoline ring, 1,3,4-triazoline ring, tetrazoline ring, thiohydantoin ring, dihydropyridine ring, dihydropyrimidine ring, dihydrotriazine ring and the like. These heterocycles of course include those in which a 5- to 7-membered carbon ring or heterocycle is condensed. That is, benzothiazoline nucleus, naphthothiazoline nucleus, dihydronaphthothiazoline nucleus, tetrahydrobenzothiazoline nucleus, etc. for thiazole ring; benzoselenazoline nucleus, etc. for selenazole ring; benzoxazoline nucleus, naphthoxazoline nucleus, etc. for oxazoline ring; benzimidazoline ring for imidazoline ring Nuclei, dihydroimidazolopyrimidine nuclei, etc .; triazoline rings, dihydrotriazolopyridine nuclei, dihydrotriazolopyrimidine nuclei, etc .; pyrazoline rings, dihydropyrazolopyridine nuclei, dihydropyrazolopyrimidine nuclei, etc .; dihydropyrimidine rings, dihydropyrazolopyrimidine nuclei, etc. , Dihydropyrrolopyrimidine nuclei, dihydrotriazolopyrimidine nuclei, and the like.

これらのヘテロ環核の炭素原子上には、種々の置換基
を有することができる。たとえば炭素数1〜20のアルキ
ル基(たとえばメチル基、エチル基、n−ブチル基、t
−ブチル基、ヘプチル基、ヘプタデシル基)、炭素数1
〜20のアルコキシ基(たとえばメトキシ基、エトキシ
基、ドデシルオキシ基、ヘプタデシルオキシ基)、炭素
数1〜20のアルキルチオ基(たとえばメチルチオ基、エ
チルチオ基、ブチルチオ基)、ヒドロキシ基、メルカプ
ト基、アミノ基(無置換のみならず置換アミノ基も包含
し、たとえばジメチルアミノ基、メチルアミノ基、ジエ
チルアミノ基、ブチルアミノ基、ベンジルアミノ基の如
きアルキル置換アミノ基;アニリノ基、ジフェニルアミ
ノ基の如きアリール置換アミノ基;アセチルアミノ基、
カブリロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、メチルス
ルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基、p−
トルエンスルホニルアミノ基の如きアシルアミノ基;ア
セチルチオアミド基、プロピオニルチオアミド基の如き
チオアミド基など)、アリール基(たとえばフェニル
基、ナフチル基、トリル基)、炭素数2〜20のアルケニ
ル基(たとえばアリル基、メタリル基)、アルキル部分
の炭素数1〜4のアラルキル基(たとえばベンジル基、
フェネチル基)、ハロゲン原子(たとえば塩素、臭
素)、シアノ基、カルボキシ基、スルホ基、カルバモイ
ル基(置換されたものも包含し、たとえばカルバモイル
基、メチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、
エチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基)、チ
オカルバモイル基(置換されたものを包含し、たとえば
チオカルバモイル基、メチルチオカルバモイル基、ジメ
チルチオカルバモイル基、エチルチオカルバモイル基、
フェニルチオカルバモイル基)、炭素数2〜22のアルコ
キシカルボニル基(たとえばメトキシカルボニル基、エ
トキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基)、アリー
ルオキシカルボニル基(たとえばフェノキシカルボニル
基)、炭素数2〜22のアルキルカルボニル基(たとえば
アセチル基、カブリロイル基)、酸素原子などを有する
ことができる。前記アルキル基はさらに、カルボキシ
基、スルホ基、アルコキシカルボニル基(たとえばメト
キシカルボニル基、エトキシカルボニル基)、アシルオ
キシ基(たとえばアセトキシ基)、アリール基(たとえ
ばフェニル基、置換されてもよくたとえばニトロフェニ
ル基)などで置換されてもよい。
Various substituents can be present on the carbon atoms of these heterocyclic nuclei. For example, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, n-butyl group, t
-Butyl group, heptyl group, heptadecyl group), carbon number 1
~ 20 alkoxy groups (eg methoxy group, ethoxy group, dodecyloxy group, heptadecyloxy group), alkylthio groups having 1 to 20 carbon atoms (eg methylthio group, ethylthio group, butylthio group), hydroxy group, mercapto group, amino Group (including not only unsubstituted but also substituted amino group, alkyl-substituted amino group such as dimethylamino group, methylamino group, diethylamino group, butylamino group, benzylamino group; aryl-substituted group such as anilino group and diphenylamino group) Amino group; acetylamino group,
Cabryloylamino group, benzoylamino group, methylsulfonylamino group, benzenesulfonylamino group, p-
Acylamino group such as toluenesulfonylamino group; acetylthioamide group, thioamide group such as propionylthioamide group), aryl group (eg phenyl group, naphthyl group, tolyl group), alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms (eg allyl group, Methallyl group), an aralkyl group having 1 to 4 carbon atoms in the alkyl moiety (eg, benzyl group,
Phenethyl group), halogen atom (eg chlorine, bromine), cyano group, carboxy group, sulfo group, carbamoyl group (including substituted ones, for example, carbamoyl group, methylcarbamoyl group, dimethylcarbamoyl group,
Ethylcarbamoyl group, phenylcarbamoyl group), thiocarbamoyl group (including substituted ones, for example, thiocarbamoyl group, methylthiocarbamoyl group, dimethylthiocarbamoyl group, ethylthiocarbamoyl group,
Phenylthiocarbamoyl group), C2-C22 alkoxycarbonyl group (eg methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, butoxycarbonyl group), aryloxycarbonyl group (eg phenoxycarbonyl group), C2-C22 alkylcarbonyl group (For example, an acetyl group, a cabryloyl group), an oxygen atom, or the like. The alkyl group further includes a carboxy group, a sulfo group, an alkoxycarbonyl group (for example, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group), an acyloxy group (for example, an acetoxy group), an aryl group (for example, a phenyl group, and a nitrophenyl group which may be substituted. ) May be substituted.

前記ヘテロ環鎖中の置換し得るちつ素原子上にはR12
について示されたような置換基を有することができる。
R 12 is present on the substitutable fluorine atom in the heterocyclic chain.
Can have substituents as shown for.

QがNR14をあらわす場合に、R14であらわされるアル
キル基は、炭素原子1〜20を有し、置換されたものを包
含する。アルキル基に対する置換基の例としてはハロゲ
ン原子、シアノ基、カルボキシ基、スルホ基、スルフア
ト基、フオスホ基、カルバモイル基、アミノスルホニル
基、ヒドロキシ基、炭素数1〜20のアルコキシ基(たと
えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ
基:置換されたものも包含し、たとえばヒドロキシ基、
炭素数1〜6のアルコキシ基(たとえばメトキシ基、エ
トキシ基、プロポキシ基)、炭素数2〜8のアシルオキ
シ基(たとえばアセトキシ基、プロピオンオキシ基)、
スルホ基、炭素数1〜6のスルホアルコキシ基(たとえ
ば2−スルホエトキシ基、3−スルホプロポキシ基)な
どで置換されてもよい)、炭素数2〜22のアシルオキシ
基(たとえばアセトキシ基、プロピオンオキシ基)、炭
素数2〜22のアルケニル基(たとえばビニル基)、炭素
数2〜22のアルコキシカルボニル基(たとえばメトキシ
カルボニル基、エトキシカルボニル基、ブトキシカルボ
ニル基、ドデシルオキシカルボニル基)、アリール基
(単環または二環で、置換基を有してもよい。例えばフ
ェニル基、p−スルホフェニル基)、ヘテロ環残基(た
とえばチアゾール環残基、オキサゾール環残基、イミダ
ゾール環残基、チアジアゾール環残基、オキサジアゾー
ル環残基、トリアゾール環残基、テトラゾール環残基、
ピリミジン環残基、その他。
When Q represents NR 14 , the alkyl group represented by R 14 has 1 to 20 carbon atoms and includes those substituted. Examples of the substituent for the alkyl group are a halogen atom, a cyano group, a carboxy group, a sulfo group, a sulfato group, a phospho group, a carbamoyl group, an aminosulfonyl group, a hydroxy group, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms (for example, a methoxy group, Ethoxy group, propoxy group, butoxy group: Substituted groups are also included, for example, hydroxy group,
An alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms (eg, methoxy group, ethoxy group, propoxy group), an acyloxy group having 2 to 8 carbon atoms (eg, acetoxy group, propionoxy group),
A sulfo group, a sulfoalkoxy group having 1 to 6 carbon atoms (eg, 2-sulfoethoxy group, 3-sulfopropoxy group) or the like), an acyloxy group having 2 to 22 carbon atoms (eg, acetoxy group, propionoxy) Group), an alkenyl group having 2 to 22 carbon atoms (for example, a vinyl group), an alkoxycarbonyl group having 2 to 22 carbon atoms (for example, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a butoxycarbonyl group, a dodecyloxycarbonyl group), an aryl group (a single group). The ring or bicyclic ring may have a substituent, for example, a phenyl group, a p-sulfophenyl group, a heterocyclic residue (eg, a thiazole ring residue, an oxazole ring residue, an imidazole ring residue, a thiadiazole ring residue). Group, oxadiazole ring residue, triazole ring residue, tetrazole ring residue,
Pyrimidine ring residue, etc.

特に で表わされる基は有利である。)などである。Especially The group represented by is advantageous. ).

12であらわされるアルキル基の具体例は下記の如く
である:メチル基、エチル基、プロピル基(n−又はi
−)、ブチル基(n−、sec−、i−又はt−)、n−
ヘキシル基、ドデシル基、ヘプタデシル基、クロロメチ
ル基、2−クロロエチル基、2−シアノエチル基、カル
ボキシメチル基、2−カルボキシエチル基、2−スルホ
エチル基、3−スルホプロピル基、3−スルホブチル
基、4−スルホブチル基、2−スルフアトエチル基、2
−フオスホエチル基、2−ヒドロキシエチル基、3−ヒ
ドロキシプロピル基、2−メトキシエチル基、3−メト
キシプロピル基、2−エトキシエチル基、2−(2−ヒ
ドロキシエトキシ)エチル基、2−(2−アセトキシエ
トキシ)エチル基、2−(2−スルホエトキシ)エチル
基、2−{2−(3−スルホプロポキシ)エトキシ}エ
チル基、2−アセトキシエチル基、4−プロピオニルオ
キシブチル基、アリル基、メトキシカルボニルメチル
基、2−(メトキシカルボニル)エチル基、4−(エト
キシカルボニル)ブチル基、ブトキシカルボニルメチル
基、ベンジル基、2−フェニルエチル基、p−スルホベ
ンジル基、2−(2−メルカプト−3−ベンズイミダゾ
リル)エチル基。
Specific examples of the alkyl group represented by R 12 are as follows: methyl group, ethyl group, propyl group (n- or i)
-), Butyl group (n-, sec-, i- or t-), n-
Hexyl group, dodecyl group, heptadecyl group, chloromethyl group, 2-chloroethyl group, 2-cyanoethyl group, carboxymethyl group, 2-carboxyethyl group, 2-sulfoethyl group, 3-sulfopropyl group, 3-sulfobutyl group, 4 -Sulfobutyl group, 2-sulfatoethyl group, 2
-Phosphoethyl group, 2-hydroxyethyl group, 3-hydroxypropyl group, 2-methoxyethyl group, 3-methoxypropyl group, 2-ethoxyethyl group, 2- (2-hydroxyethoxy) ethyl group, 2- (2- Acetoxyethoxy) ethyl group, 2- (2-sulfoethoxy) ethyl group, 2- {2- (3-sulfopropoxy) ethoxy} ethyl group, 2-acetoxyethyl group, 4-propionyloxybutyl group, allyl group, methoxy Carbonylmethyl group, 2- (methoxycarbonyl) ethyl group, 4- (ethoxycarbonyl) butyl group, butoxycarbonylmethyl group, benzyl group, 2-phenylethyl group, p-sulfobenzyl group, 2- (2-mercapto-3) -Benzimidazolyl) ethyl group.

一般式(III)で示される化合物のうちさらに好まし
い化合物は下記一般式(IIIa)で示される。
Among the compounds represented by the general formula (III), more preferable compounds are represented by the following general formula (IIIa).

1は5員又は6員ヘテロ環を完成するに要する原子
群を示す。R14は一般式(III)におけると同義であ
る。ただしR14水素原子をあらわすことはなく、Q1
示される原子群の中でチオケト基に隣接する原子は水素
原子と結合していることはない。
Q 1 represents an atomic group required to complete a 5- or 6-membered heterocycle. R 14 has the same meaning as in formula (III). However, R 14 does not represent a hydrogen atom, and an atom adjacent to the thioketo group in the atomic group represented by Q 1 is not bonded to a hydrogen atom.

1で完成されるヘテロ環の具体例は、R11とR13
よつて形成されるヘテロ環について示したと同じであ
る。
Specific examples of the heterocycle completed by Q 1 are the same as those shown for the heterocycle formed by R 11 and R 13 .

1で完成されるヘテロ環には2価の置換基、たとえ
ばオキソ基(=O)、チオキソ基(=S)エチリデン基
(CH3CH=)、置換エチリデン基(例えばベンズオキサ
ゾリリデンエチリデン基、チアゾリニリデンエチリデン
基、ピリジリデンエチリデン基、キノリリデンエチリデ
ン基など)、ヘテロ環二価残基(例えばベンズオキサゾ
リリデン基、ベンズチアゾリリデン基チアゾリニリデン
基、ピリジリデン基、キノリリデン基など)などを有す
ることができる。
The heterocycle completed by Q 1 has a divalent substituent such as an oxo group (═O), a thioxo group (═S) ethylidene group (CH 3 CH═), a substituted ethylidene group (eg, a benzoxazolilidene ethylidene group). , Thiazolinylidene ethylidene group, pyridylidene ethylidene group, quinolilidene ethylidene group, etc.), heterocyclic divalent residue (for example, benzoxazolilidene group, benzthiazolilidene group, thiazolinylidene group, pyridylidene group, quinolilidene group, etc.) ) And the like.

一般式(III)で示される化合物は、たとえば特公昭4
8-34,169(化合物−No.1から8まで、31、32)、薬学雑
74、 1365〜1369(1954)(化合物例−No.9)、Beins
tein XIII、394、IV121(化合物例−No.12と13)、特公
昭47-18008(化合物例−No.19)、特公昭48-34168(化
合物例−No.25)、等に記載された方法で合成できる。
The compound represented by the general formula (III) is, for example, Japanese Patent Publication No.
8-34,169 (Compound-No. 1 to 8, 31, 32), Pharmaceutical Journal 74 , 1365-1369 (1954) (Compound Example-No. 9), Beins
tein XIII, 394, IV121 (Compound Examples-No. 12 and 13), JP-B-47-18008 (Compound Example-No. 19), JP-B-48-34168 (Compound Example-No. 25), etc. Can be synthesized by the method.

以下本発明で用いるチオアミド化合物の具体例を示
す。
Specific examples of the thioamide compound used in the present invention are shown below.

本発明において、一般式(III)で表される化合物
は、ハロゲン化銀乳剤層に含有させるのが好ましいがそ
れ以外の非感光性の親水性コロイド層(例えば保護層、
中間層、フィルター層、ハレーション防止層など)に含
有させてもよい。具体的には使用する化合物が水溶性の
場合には水溶液として、また難水溶性の場合にはアルコ
ール類、エステル類、ケトン類などの水と混和しうる有
機溶媒の溶液として、親水性コロイド溶液に添加すれば
よい。ハロゲン化銀乳剤層に添加する場合は化学熟成の
開始から塗布前までの任意の時期に行ってよいが、化学
熟成終了後から塗布前の間に添加するのが好ましい。特
に塗布のために用意された塗布液中に添加するのがよ
い。
In the present invention, the compound represented by the general formula (III) is preferably contained in the silver halide emulsion layer, but other non-photosensitive hydrophilic colloid layers (eg protective layer,
Intermediate layer, filter layer, antihalation layer, etc.). Specifically, a hydrophilic colloid solution is used as an aqueous solution when the compound used is water-soluble, or as a solution of an organic solvent miscible with water such as alcohols, esters, and ketones when the compound is poorly water-soluble. May be added. When it is added to the silver halide emulsion layer, it may be added at any time from the start of chemical ripening to before coating, but is preferably added after chemical ripening and before coating. Particularly, it is preferable to add it to a coating solution prepared for coating.

本発明の一般式(III)で表わされる化合物の含有量
はハロゲン化銀乳剤の粒子径、ハロゲン組成、化学増感
の方法と程度、該化合物を含有させる層とハロゲン化銀
乳剤の関係、カブリ防止化合物の種類などに応じて最適
の量を選択することが望ましく、その選択のための試験
の方法は当業者のよく知るところである。通常は好まし
くはハロゲン化銀1モル当り10-6モルないし1×10-2
ル、特に10-5ないし5×10-3モルの範囲で用いられる。
The content of the compound represented by the general formula (III) of the present invention is the grain size of the silver halide emulsion, the halogen composition, the method and degree of chemical sensitization, the relationship between the layer containing the compound and the silver halide emulsion, and the fog. It is desirable to select an optimal amount depending on the kind of the preventive compound, etc., and a test method for the selection is well known to those skilled in the art. Usually, it is preferably used in the range of 10 -6 to 1 × 10 -2 mol, particularly 10 -5 to 5 × 10 -3 mol per mol of silver halide.

本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤は塩化銀、塩臭
化銀、沃臭化銀、沃塩臭化銀等どの組成でもかまわない
が、沃臭化銀が好ましい。沃化銀の含量は10モル%以
下、特に0.1〜3.5モル%であることが好ましい。
The silver halide emulsion used in the present invention may have any composition such as silver chloride, silver chlorobromide, silver iodobromide and silver iodochlorobromide, but silver iodobromide is preferred. The content of silver iodide is preferably 10 mol% or less, more preferably 0.1 to 3.5 mol%.

本発明に用いられるハロゲン化銀の平均粒子サイズは
微粒子(例えば0.7μ以下)の方が好ましく、特には0.5
μ以下が好ましい。粒子サイズ分布は基本的には制限は
ないが、単分散である方が好ましい。ここでいう単分散
とは重量もしくは粒子数で少なくともその95%が平均粒
子サイズの±40%以内の大きさをもつ粒子群から構成さ
れていることをいう。
The average grain size of the silver halide used in the present invention is preferably fine grains (for example, 0.7 μ or less), particularly 0.5
μ or less is preferred. The particle size distribution is basically not limited, but is preferably monodispersed. The term "monodisperse" as used herein means that at least 95% by weight or the number of particles is composed of a particle group having a size within ± 40% of the average particle size.

写真乳剤中のハロゲン化銀粒子は立方体、八面体、14
面体、菱12面体のような規則的(regular)な結晶体を
有するものでもよく、特に好ましいのは、立方体、十四
面体である。また球状、板状、アスペクト比3〜20の平
板状などのような変則的(irregular)な結晶を持つも
の、あるいはこれらの結晶形の複合形を持つものであつ
てもよい。
Silver halide grains in photographic emulsions are cubic, octahedral, 14
It may have a regular crystal such as a tetrahedron or a rhombodecahedral, and a cubic or a tetradecahedron is particularly preferable. Further, it may have irregular crystals such as spheres, plates, flat plates having an aspect ratio of 3 to 20, or a composite form of these crystal forms.

ハロゲン化銀粒子は内部と表層が均一な相からなって
いても、異なる相からなつていてもよい。別々に形成し
た2種以上のハロゲン化銀乳剤を混合して使用してもよ
い。
The silver halide grains may have a uniform phase in the inside and the surface layer or may have different phases. Two or more kinds of silver halide emulsions formed separately may be used as a mixture.

本発明に用いるハロゲン化銀乳剤にはハロゲン化銀粒
子の形成または物理熟成の過程においてカドミウム塩、
亜硫酸塩、鉛塩、タリウム塩、ロジウム塩もしくはその
錯塩、イリジウム塩もしくはその錯塩などを共存させて
もよい。
The silver halide emulsion used in the present invention contains a cadmium salt during the formation or physical ripening of silver halide grains.
A sulfite, a lead salt, a thallium salt, a rhodium salt or a complex salt thereof, an iridium salt or a complex salt thereof, and the like may coexist.

本発明に用いるに特に適したハロゲン化銀は、銀1モ
ル当り10-3〜10-5モルのイリジウム塩若しくはその錯塩
を存在させて調製され、かつ粒子表面の沃化銀含有率が
粒子平均の沃化銀含有率よりも大きいハロ沃化銀であ
る。かかるハロ沃化銀を含む乳剤を用いるとより一層高
感度でガンマの高い写真特性が得られる。
The silver halide particularly suitable for use in the present invention is prepared in the presence of 10 −3 to 10 −5 mol of iridium salt or its complex salt per mol of silver, and the silver iodide content on the surface of the grain is the average grain size. The silver haloiodide has a higher silver iodide content. Use of an emulsion containing such a silver haloiodide provides photographic characteristics with higher sensitivity and higher gamma.

上記において、ハロゲン化銀乳剤の製造工程の物理熟
成終了前とくに粒子形成時に上記の量のイリジウム塩を
加えることが望ましい。
In the above, it is desirable to add the above-mentioned amount of iridium salt before the physical ripening in the production process of the silver halide emulsion, particularly during grain formation.

ここで用いられるイリジウム塩は水溶性のイリジウム
塩またはイリジウム錯塩で、例えば三塩化イリジウム、
四塩化イリジウム、ヘキサクロロイリジウム(III)酸
カリウム、ヘキサクロロイリジウム(IV)酸カリウム、
ヘキサクロロイリジウム(III)酸アンモニウムなどが
ある。
The iridium salt used here is a water-soluble iridium salt or iridium complex salt, for example, iridium trichloride,
Iridium tetrachloride, potassium hexachloroiridate (III), potassium hexachloroiridium (IV),
And ammonium hexachloroiridate (III).

本発明の乳剤は、化学増感されていなくてもよいが化
学増感されていてもよい。化学増感の方法としては、硫
黄増感、還元増感、金増感等の知られている方法を用い
ることができ、単独または組合せで用いられる。好まし
い化学増感方法は硫黄増感である。
The emulsion of the present invention may not be chemically sensitized, but may be. As the method of chemical sensitization, known methods such as sulfur sensitization, reduction sensitization, and gold sensitization can be used, and they are used alone or in combination. The preferred chemical sensitization method is sulfur sensitization.

硫黄増感剤としては、ゼラチン中に含まれる硫黄化合
物のほか、種々の硫黄化合物、たとえばチオ硫酸塩、チ
オ尿素類、チアゾール類、ローダニン類等を用いること
ができる。具体例は米国特許1,574,944号、同2,278,947
号、同2,410,689号、同2,728,668号、同3,501,313号、
同3,656,955号に記載されたものである。好ましい硫黄
化合物は、チオ硫酸塩、チオ尿素化合物であり、化学増
感時のpAgとしては好ましくは8.3以下、より好ましく
は、7.3〜8.0の範囲である。さらにMoisar,Klein Gelat
ine.Proc.Symp.2nd,301〜309(1970)らによって報告さ
れているようなポリビニルピロリドンとチオ硫酸塩を併
用する方法も良好な結果を与える。
As the sulfur sensitizer, various sulfur compounds such as thiosulfates, thioureas, thiazoles, rhodanines and the like can be used in addition to the sulfur compounds contained in gelatin. Specific examples are U.S. Pat.Nos. 1,574,944 and 2,278,947.
No. 2,410,689, 2,728,668, 3,501,313,
No. 3,656,955. Preferred sulfur compounds are thiosulfates and thiourea compounds, and the pAg at the time of chemical sensitization is preferably 8.3 or less, more preferably 7.3 to 8.0. Moisar, Klein Gelat
Symp. 2nd, 301-309 (1970), et al., using polyvinyl pyrrolidone and thiosulfate in combination also gives good results.

貴金属増感法のうち金増感法はその代表的なもので金
化合物、主として金錯塩を用いる。金以外の貴金属、た
とえば白金、パラジウム、イリジウム等の錯塩を含有し
ても差支えない。その具体例は米国特許2,448,060号、
英国特許618,061号などに記載されている。
Among the noble metal sensitization methods, the gold sensitization method is a typical one and uses a gold compound, mainly a gold complex salt. Noble metals other than gold, for example, complex salts such as platinum, palladium and iridium may be contained. Specific examples are U.S. Patent No. 2,448,060,
It is described in British Patent 618,061 and the like.

還元増感剤としては第一すず塩、アミン類、ホルムア
ミジンスルフィン酸、シラン化合物などを用いることが
でき、それらの具体例は米国特許2,487,850号、2,518,6
98号、2,983,609号、2,983,610号、2,694,637号に記載
されている。
Stannous salts, amines, formamidinesulfinic acid, silane compounds and the like can be used as the reduction sensitizer, and specific examples thereof are described in U.S. Pat. Nos. 2,487,850 and 2,518,6.
No. 98, 2,983,609, 2,983,610, and 2,694,637.

本発明に用いられる感光材料中のハロゲン化銀乳剤
は、一種だけでもよいし、二種以上(例えば、平均粒子
サイズの異なるもの、ハロゲン組成の異なるもの、晶癖
の異なるもの、化学増感の条件の異なるもの)併用して
もよい。
The silver halide emulsion in the light-sensitive material used in the present invention may be only one kind or two or more kinds (for example, those having different average grain sizes, those having different halogen compositions, those having different crystal habits, those having chemical sensitization, Those with different conditions) may be used in combination.

写真乳剤の結合剤または保護コロイドとしては、ゼラ
チンを用いるのが有利であるが、それ以外の親水性コロ
イドも用いることができる。たとえばゼラチン誘導体、
ゼラチンと他の高分子とのグラフトポリマー、アルブミ
ン、カゼイン等の蛋白質ヒドロキシエチルセルロース、
カルボキシメチルセルロース、セルロース硫酸エステル
類等の如きセルロース誘導体、アルギン酸ソーダ、澱粉
誘導体などの糖誘導体、ポリビニルアルコール、ポリビ
ニルアルコール部分アセタール、ポリ−N−ビニルピロ
リドン、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアク
リルアミド、ポリビニルイミダゾール、ポリビニルピラ
ゾール等の単一あるいは共重合体の如き多種の合成親水
性高分子物質を用いることができる。
Gelatin is advantageously used as a binder or protective colloid of the photographic emulsion, but other hydrophilic colloids can also be used. For example, gelatin derivatives,
Graft polymer of gelatin and other polymers, albumin, protein hydroxyethyl cellulose such as casein,
Carboxymethyl cellulose, cellulose derivatives such as cellulose sulfates, sugar derivatives such as sodium alginate, starch derivatives, polyvinyl alcohol, polyvinyl alcohol partial acetal, poly-N-vinylpyrrolidone, polyacrylic acid, polymethacrylic acid, polyacrylamide, polyvinyl Various kinds of synthetic hydrophilic polymer substances such as a single or copolymer such as imidazole and polyvinylpyrazole can be used.

ゼラチンとしては石灰処理ゼラチンのほか、酸処理ゼ
ラチンを用いてもよく、ゼラチン加水分解物、ゼラチン
酵素分割物も用いることができる。
As the gelatin, acid-treated gelatin may be used in addition to lime-treated gelatin, and gelatin hydrolyzate and gelatin enzyme-divided product can also be used.

本発明においては特開昭55-52050号第45頁〜53頁に記
載された可視域に吸収極大を有する増感色素(例えばシ
アニン色素、メロシアニン色素など。)を添加すること
もできる。これによつてハロゲン化銀の固有感度領域よ
り長波側に分光増感することができる。
In the present invention, a sensitizing dye having an absorption maximum in the visible region described in JP-A-55-52050, pages 45 to 53 (for example, a cyanine dye or a merocyanine dye) can be added. As a result, spectral sensitization can be performed on the longer wavelength side than the intrinsic sensitivity region of silver halide.

これらの増感色素は単独に用いてもよいが、それらの
組合せを用いてもよく、増感色素の組合せは特に、強色
増感の目的でしばしば用いられる。増感色素とともに、
それ自身分光増感作用をもたない色素あるいは可視光を
実質的に吸収しない物質であつて、強色増感を示す物質
を乳剤中に含んでもよい。
These sensitizing dyes may be used alone or in combination, and a combination of sensitizing dyes is often used particularly for supersensitization. With sensitizing dye,
The emulsion may contain a dye which does not itself have a spectral sensitizing effect or a substance which does not substantially absorb visible light and which exhibits supersensitization.

有用な増感色素、強色増感を示す色素の組合せ及び強
色増感を示す物質はリサーチ・ディスクロージャ(Rese
arch Disclosure)176巻17643(1978年12月発行)第23
頁IVのJ項に記載されている。
Useful sensitizing dyes, combinations of dyes exhibiting supersensitization, and substances exhibiting supersensitization are described in Research Disclosure (Rese
arch Disclosure) Volume 176 17643 (Issued December 1978) No. 23
It is described in section J on page IV.

本発明の感光材料には、感光材料の製造工程、保存中
あるいは写真処理中のカブリを防止しあるいは写真性能
を安定化させる目的で、種々の化合物を含有させること
ができる。すなわちアゾール類たとえばベンゾチアゾリ
ウム塩、ニトロインダゾール類、クロロベンズイミダゾ
ール類、ブロモベンズイミダゾール類、メルカプトテト
ラゾール類、メルカプトチアゾール類、メルカプトベン
ゾチアゾール類、メルカプトチアジアゾール類、アミノ
トリアゾール類、ベンゾチアゾール類、ニトロベンゾト
リアゾール類、など;メルカプトピリミジン類;メルカ
プトトリアジン類;たとえばオキサゾリンチオンのよう
なチオケト化合物;アザインデン類、たとえばトリアザ
インデン類、テトラアザインデン類(特に4−ヒドロキ
シ置換(1,3,3a,7)テトラザインデン類)、ペンタアザ
インデン類など;ベンゼンチオスルフオン酸、ベンゼン
スルフイン酸、ベンゼンスルフオン酸アミド等のような
カブリ防止剤または安定剤として知られた多くの化合物
を加えることができる。これらのものの中で、好ましく
はベンゾトリアゾール(例えば、5−メチル−ベンゾト
リアゾール)及びニトロインンダゾール類(例えば5−
ニトロインダゾール)である。また、これらの化合物を
処理液に含有させてもよい。さらに特開昭62-30243に記
載の現像中に抑制剤を放出するような化合物を、安定剤
あるいは黒ポツ防止の目的で含有させることができる。
The light-sensitive material of the present invention may contain various compounds for the purpose of preventing fogging during the manufacturing process, storage or photographic processing of the light-sensitive material or stabilizing photographic performance. That is, azoles such as benzothiazolium salts, nitroindazoles, chlorobenzimidazoles, bromobenzimidazoles, mercaptotetrazoles, mercaptothiazoles, mercaptobenzothiazoles, mercaptothiadiazoles, aminotriazoles, benzothiazoles, nitro Benzotriazoles, etc .; mercaptopyrimidines; mercaptotriazines; thioketo compounds such as oxazolinethione; azaindenes such as triazaindenes, tetraazaindenes (especially 4-hydroxy-substituted (1,3,3a, 7 ) Tetrazaindenes), pentaazaindenes, etc .; as antifoggants or stabilizers such as benzenethiosulfonate, benzenesulfonate, benzenesulfonate, etc. It can be added known many compounds. Among these, preferably benzotriazole (for example, 5-methyl-benzotriazole) and nitroindazoles (for example, 5-
Nitroindazole). Further, these compounds may be contained in the treatment liquid. Further, the compounds described in JP-A-62-30243, which release an inhibitor during development, can be incorporated for the purpose of stabilizing or preventing black spots.

本発明の写真感光材料には安定剤、促進剤等種々の目
的でハイドロキノン誘導体、フエニドン誘導体などの現
像主薬を含有することができる。
The photographic light-sensitive material of the present invention can contain a developing agent such as a hydroquinone derivative or a phenidone derivative for various purposes such as a stabilizer and an accelerator.

本発明の写真感光材料には、写真乳剤層その他の親水
性コロイド層に無機または有機の硬膜剤を含有してよ
い。例えばクロム塩(クロムミヨウバン、酢酸クロムな
ど)、アルデヒド類、(ホルムアルデヒド、グルタール
アルデヒドなど)、N−メチロール化合物(ジメチロー
ル尿素など)、ジオキサン誘導体、活性ビニル化合物
(1,3,5−トリアクリロイル−ヘキサヒドロ−s−トリ
アジン、1,3−ビニルスルホニル−2−プロパノールな
ど)、活性ハロゲン化合物(2,4−ジクロル−6−ヒド
ロキシ−s−トリアジンなど)、ムコハロゲン酸類(モ
コクロル酸など)、などを単独または組み合わせて用い
ることができる。
The photographic light-sensitive material of the present invention may contain an inorganic or organic hardener in the photographic emulsion layer and other hydrophilic colloid layers. For example, chromium salts (chromium vanadium, chromium acetate, etc.), aldehydes, (formaldehyde, glutaraldehyde, etc.), N-methylol compounds (dimethylolurea, etc.), dioxane derivatives, active vinyl compounds (1,3,5-triacryloyl). -Hexahydro-s-triazine, 1,3-vinylsulfonyl-2-propanol, etc.), active halogen compounds (2,4-dichloro-6-hydroxy-s-triazine, etc.), mucohalogen acids (mocochloric acid, etc.), etc. Can be used alone or in combination.

本発明を用いて作られる感光材料の写真乳剤層または
他の親水性コロイド層には塗布助剤、帯電防止、スベリ
性改良、乳化分散、接着防止及び写真特性改良(例え
ば、現像促進、硬調化、増感)等種々の目的で、種々の
界面活性剤を含んでもよい。
The photographic emulsion layer or other hydrophilic colloid layer of the light-sensitive material prepared by using the present invention may have coating aids, antistatic, slipperiness improvement, emulsification / dispersion, adhesion prevention and photographic property improvement (eg, development acceleration, high contrast For various purposes such as sensitization), various surfactants may be contained.

例えばサポニン(ステロイド系)、アルキレンオキサ
イド誘導体(例えばポリエチレングリコール、ポリエチ
レングリコール/ポリプロピレングリコール縮合物、ポ
リエチレングリコールアルキルエーテル類又はポリエチ
レングリコールアルキルアリールエーテル類、ポリエチ
レングリコールエステル類、ポリエチレングリコールソ
ルビタンエステル類、ポリエチレングリコールアルキル
アミン又はアミド類、シリコーンのポリエチレンオキサ
イド付加物類)、グリシドール誘導体(例えばアルケニ
ルコハク酸ポリグリセリド、アルキルフェノールポリグ
リセリド)、多価アルコールの脂肪酸エステル類、等の
アルキルエステル類などの非イオン性界面活性剤;アル
キルカルボン酸塩、アルキルスルフオン酸塩、アルキル
ベンゼンスルフオン酸塩、アルキルナフタレンスルフオ
ン酸塩、アルキル硫酸エステル類、アルキルリン酸エス
テル類、N−アシル−N−アルキルタウリン類、スルホ
コハク酸エステル類、スルホアルキルポリオキシエチレ
ンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンア
ルキルリン酸エステル類などのような、カルボキシ基、
スルホ基、ホスホ基、硫酸エステル基、リン酸エステル
基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤;アミノ酸類、
アミノアルキルスルホン酸類、アミノアルキル硫酸又は
リン酸エステル類、アルキルベタイン類、アミンオキシ
ド類などの両性界面活性剤;アルキルアミン塩類、脂肪
族あるいは芳香族第4級アンモニウム塩類、ピリジニウ
ム、イミダゾリウムなどの複素環第4級アンモニウム塩
類、及び脂肪族又は複素環を含むホスホニウム又はスル
ホニウム塩類などのカチオン界面活性剤を用いることが
できる。
For example, saponins (steroids), alkylene oxide derivatives (eg polyethylene glycol, polyethylene glycol / polypropylene glycol condensates, polyethylene glycol alkyl ethers or polyethylene glycol alkylaryl ethers, polyethylene glycol esters, polyethylene glycol sorbitan esters, polyethylene glycol alkyl). Nonionic surfactants such as amines or amides, polyethylene oxide adducts of silicone), glycidol derivatives (eg, alkenyl succinic acid polyglyceride, alkylphenol polyglyceride), fatty acid esters of polyhydric alcohols, and alkyl esters. ; Alkyl carboxylates, alkyl sulphonates, alkyl benzene sulphonates Salts, alkylnaphthalene sulfonates, alkyl sulfates, alkyl phosphates, N-acyl-N-alkyl taurines, sulfosuccinates, sulfoalkyl polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene alkyl phosphorus A carboxy group, such as acid esters,
Anionic surfactants containing an acidic group such as a sulfo group, a phospho group, a sulfate group, and a phosphate group; amino acids;
Amphoteric surfactants such as aminoalkylsulfonic acids, aminoalkylsulfuric acid or phosphoric acid esters, alkylbetaines and amine oxides; complex compounds such as alkylamine salts, aliphatic or aromatic quaternary ammonium salts, pyridinium and imidazolium Cationic surfactants such as ring quaternary ammonium salts, and phosphonium or sulfonium salts containing aliphatic or heterocyclic rings can be used.

特に本発明において好ましく用いられる界面活性剤は
特公昭58-9412号公報に記載された分子量600以上のポリ
アルキレンオキサイド類である。
Particularly, surfactants preferably used in the present invention are polyalkylene oxides having a molecular weight of 600 or more described in JP-B-58-9412.

また、帯電防止のためには特開昭60-80849号などに記
載された含フツ素系界面活性剤を用いることが好まし
い。
Further, for antistatic, it is preferable to use a fluorine-containing surfactant described in JP-A-60-80849.

本発明の写真感光材料には、写真乳剤層その他の親水
性コロイド層に現像時画像の濃度に対応して、現像抑制
剤を放出するハイドロキノン誘導体(いわゆる、DIR−
ハイドロキノン)を含有してもよい。
The photographic light-sensitive material of the present invention includes a hydroquinone derivative (a so-called DIR-) which releases a development inhibitor in a photographic emulsion layer or other hydrophilic colloid layer in accordance with the density of an image during development.
(Hydroquinone).

それらの具体例は米国特許3,379,529号、米国特許3,6
20,746号、米国特許4,377,634号、米国特許4,332,878
号、特開昭49-129,536号、特開昭54-67,419号、特開昭5
6-153,336号、特開昭56-153,342号、特開昭59-278,853
号、同59-90435号、同59-90436号、同59-138808号など
に記載の化合物を挙げることができる。
Examples thereof are U.S. Pat.No. 3,379,529 and U.S. Pat.
20,746, U.S. Patent 4,377,634, U.S. Patent 4,332,878
JP-A-49-129,536, JP-A-54-67,419, JP-A-5
6-153,336, JP-A-56-153,342, JP-A-59-278,853
No. 59-90435, No. 59-90436, No. 59-138808 and the like.

本発明の写真感光材料には写真乳剤層その他の親水性
コロイド層に接着防止の目的でシリカ、酸化マグネシウ
ム、ポリメチルメタクリレート等のマット剤を含むこと
ができる。
The photographic light-sensitive material of the present invention may contain a matting agent such as silica, magnesium oxide, or polymethyl methacrylate for the purpose of preventing adhesion to a photographic emulsion layer or other hydrophilic colloid layers.

本発明で用いられる感光材料には寸度安定性の目的で
水不溶または難溶性合成ポリマーの分散物を含むことが
できる。たとえばアルキル(メタ)アクリレート、アル
コキシアクリル(メタ)アクリレート、グリシジル(メ
タ)アクリレート、などの単独もしくは組合わせ、また
はこれらとアクリル酸、メタアクリル酸、などの組合せ
を単量体成分とするポリマーを用いることができる。
The light-sensitive material used in the present invention may contain a dispersion of a water-insoluble or hardly soluble synthetic polymer for the purpose of dimensional stability. For example, use is made of a polymer having, as a monomer component, an alkyl (meth) acrylate, an alkoxyacryl (meth) acrylate, a glycidyl (meth) acrylate, or the like alone or in combination, or a combination thereof with acrylic acid, methacrylic acid, or the like. be able to.

本発明の写真感光材料のハロゲン化銀乳剤層及びその
他の層には酸基を有する化合物を含有することが好まし
い。酸基を有する化合物としてはサリチル酸、酢酸、ア
スコルビン酸等の有機酸及びアクリル酸、マレイン酸、
フタル酸の如き酸モノマーをくり返し単位として有する
ポリマー又はコポリマーを挙げることができる。これら
の化合物に関しては特開昭61-223834号、同61-228437
号、同62-25745号、及び同62-55642号明細書の記録を参
考にすることができる。これらの化合物の中でも特に好
ましいのは、低分子化合物としてはアスコルビン酸であ
り、高分子化合物としてはアクリル酸の如き酸モノマー
とジビニルベンゼンの如き2個以上の不飽和基を有する
架橋性モノマーからなるコポリマーの水分散性ラテック
スである。
The silver halide emulsion layer and other layers of the photographic light-sensitive material of the present invention preferably contain a compound having an acid group. Examples of the compound having an acid group include salicylic acid, acetic acid, organic acids such as ascorbic acid and acrylic acid, maleic acid,
Examples thereof include polymers or copolymers having an acid monomer such as phthalic acid as a repeating unit. Regarding these compounds, JP-A Nos. 61-223834 and 61-228437.
Nos. 62-25745 and 62-55642 specifications can be referred to. Among these compounds, particularly preferred are ascorbic acid as a low molecular compound, and a high molecular compound composed of an acid monomer such as acrylic acid and a crosslinkable monomer having two or more unsaturated groups such as divinylbenzene. It is a water-dispersible latex of a copolymer.

本発明に用いられる乳剤は、適当な支持体、例えば硝
子、酢酸、セルロースフィルム、ポリエチレンテレフタ
レートフィルム、紙、バライタ塗覆紙、ポリオレフイン
被覆紙の如きものの上に塗布される。
The emulsion used in the present invention is coated on a suitable support such as glass, acetic acid, cellulose film, polyethylene terephthalate film, paper, baryta-coated paper, polyolefin-coated paper.

本発明のハロゲン化銀感光材料を用いて超硬調で高感
度の写真特性を得るには、従来の伝染現像液や米国特許
2,419,975号に記載されたpH13に近い高アルカリ現像液
を用いる必要はなく、安定な現像液を用いることができ
る。
To obtain ultra-high contrast and high sensitivity photographic characteristics using the silver halide light-sensitive material of the present invention, a conventional infectious developer or a US patent
There is no need to use a highly alkaline developer close to pH 13 described in 2,419,975, and a stable developer can be used.

すなわち、本発明のハロゲン化銀感光材料は、保恒剤
としての亜硫酸イオンを0.15モル/l以上含み、pH10.5〜
12.3、特にpH11.0〜12.0の現像液によつて充分に超硬調
のネガ画像を得ることができる。
That is, the silver halide light-sensitive material of the present invention contains sulfite ions as a preservative in an amount of 0.15 mol / l or more, and has a pH of 10.5 to
With a developer having a pH of 12.3, especially pH 11.0 to 12.0, a negative image having a sufficiently high contrast can be obtained.

本発明に使用する現像液に用いる現像主薬には特別な
制限はないが、良好な網点品質を得やすい点で、ジヒド
ロキシベンゼン類を含むことが好ましく、ジヒドロキシ
ベンゼン類と1−フェニル−3−ピラゾリドン類の組合
せまたはジヒドロキシベンゼン類とp−アミノフェノー
ル類の組合せを用いる場合もある。
The developing agent used in the developing solution used in the present invention is not particularly limited, but preferably contains dihydroxybenzenes in that good halftone dot quality can be easily obtained. Combinations of pyrazolidones or combinations of dihydroxybenzenes and p-aminophenols may be used.

本発明に用いるジヒドロキシベンゼン現像主薬として
はハイドロキノン、クロロハイドロキノン、ブロムハイ
ドロキノン、イソプロピルハイドロキノン、メチルハイ
ドロキノン、2,3−ジクロロハイドロキノン、2,5−ジク
ロロハイドロキノン、2,3−ジブロムハイドロキノン、
2,5−ジメチルハイドロキノンなどがあるが特にハイド
ロキノンが好ましい。
As the dihydroxybenzene developing agent used in the present invention, hydroquinone, chlorohydroquinone, bromohydroquinone, isopropylhydroquinone, methylhydroquinone, 2,3-dichlorohydroquinone, 2,5-dichlorohydroquinone, 2,3-dibromohydroquinone,
Although there are 2,5-dimethylhydroquinone and the like, hydroquinone is particularly preferred.

本発明に用いる1−フェニル−3−ピラゾリドン又は
その誘導体の現像主薬としては1−フェニル−3−ピラ
ゾリドン、1−フェニル−4,4−ジメチル−4−ピラゾ
リドン、1−フェニル−4−メチル−4−ヒドロキシメ
チル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4,4−ジヒド
ロキシメチル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−5−
メチル−3−ピラゾリドン、1−p−アミノフェニル−
4,4−ジメチル−3−ピラゾリドン、1−p−トリル−
4,4−ジメチル−3−ピラゾリドンなどがある。
As the developing agents of 1-phenyl-3-pyrazolidone or a derivative thereof used in the present invention, 1-phenyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-4,4-dimethyl-4-pyrazolidone, 1-phenyl-4-methyl-4 -Hydroxymethyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-4,4-dihydroxymethyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-5-
Methyl-3-pyrazolidone, 1-p-aminophenyl-
4,4-dimethyl-3-pyrazolidone, 1-p-tolyl-
4,4-dimethyl-3-pyrazolidone and the like.

本発明に用いるp−アミノフェノール系現像主薬とし
てはN−メチル−p−アミノフェノール、p−アミノフ
ェノール、N−(β−ヒドロキシエチル)−p−アミノ
フェノール、N−(4−ヒドロキシフェニル)グリシ
ン、2−メチル−p−アミノフェノール、p−ベンジル
アミノフェノール等があるが、なかでもN−メチル−p
−アミノフェノールが好ましい。
Examples of the p-aminophenol-based developing agent used in the present invention include N-methyl-p-aminophenol, p-aminophenol, N- (β-hydroxyethyl) -p-aminophenol, and N- (4-hydroxyphenyl) glycine. , 2-methyl-p-aminophenol and p-benzylaminophenol, among which N-methyl-p
-Aminophenol is preferred.

現像主薬は通常0.05モル/l〜0.08モル/lの量で用いら
れるのが好ましい。またジヒドロキシベンゼン類と1−
フェニル−3−ピラゾリドン類又はp・アミノ・フェノ
ール類との組合せを用いる場合には前者を0.05モル/l〜
0.5モル/l、後者を0.06モル/l以下の量で用いるのが好
ましい。
The developing agent is preferably used usually in an amount of 0.05 mol / l to 0.08 mol / l. Also, dihydroxybenzenes and 1-
When a combination with phenyl-3-pyrazolidones or p-amino-phenols is used, the former is used in an amount of 0.05 mol / l to
It is preferred to use 0.5 mol / l and the latter in an amount of 0.06 mol / l or less.

本発明に用いる亜硫酸塩の保恒剤としては亜硫酸ナト
リウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸アン
モニウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸カリウ
ム、ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウムなどがある。
亜硫酸塩は0.15モル/l以上特に0.5モル/l以上が好まし
い。また上限は2.5モル/lまでとするのが好ましい。
Examples of the sulfite preservative used in the present invention include sodium sulfite, potassium sulfite, lithium sulfite, ammonium sulfite, sodium bisulfite, potassium metabisulfite, and formaldehyde sodium bisulfite.
The sulfite is preferably at least 0.15 mol / l, particularly preferably at least 0.5 mol / l. The upper limit is preferably up to 2.5 mol / l.

pHの設定のために用いるアルカリ剤には水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、第三リン酸ナトリウム、第三リン酸カリウムの如き
pH調節剤や緩衝剤を含む。現像液のpHは10.5〜12.3の間
に設定される。
Alkaline agents used for setting the pH include sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium phosphate tribasic, and potassium phosphate tribasic.
Contains pH adjusters and buffers. The pH of the developer is set between 10.5-12.3.

上記成分以外に用いられる添加剤としてはホウ酸、ホ
ウ砂などの化合物、臭化ナトリウム、臭化カリウム、沃
化カリウムの如き現像抑制剤:エチレングリコール、ジ
エチレングリコール、トリエチレングリコール、ジメチ
ルホルムアミド、メチルセロソルブ、ヘキシレングリコ
ール、エタノール、メタノールの如き有機溶剤:1−フェ
ニル−5−メルカプトテトラゾール、5−ニトロインダ
ゾール等のインダゾール系化合物、5−メチルベンツト
リアゾール等のベンツトリアゾール系化合物などのカブ
リ防止剤又は黒ポツ(black pepper)防止剤:を含んで
もよく、更に必要に応じて色調剤、界面活性剤、消泡
剤、硬水軟化剤、硬膜剤、特開昭56-106244号記載のア
ミノ化合物などを含んでもよい。
As additives used in addition to the above components, compounds such as boric acid and borax, development inhibitors such as sodium bromide, potassium bromide, potassium iodide: ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, dimethylformamide, methyl cellosolve Organic solvents such as hexylene glycol, ethanol, and methanol: 1-phenyl-5-mercaptotetrazole, indazole-based compounds such as 5-nitroindazole, benztriazole-based compounds such as 5-methylbenztriazole, and antifoggants or black Anti-potting agent (black pepper): may be contained, and if necessary, a toning agent, a surfactant, an antifoaming agent, a water softener, a hardener, an amino compound described in JP-A-56-106244, and the like. May be included.

本発明の現像液には銀汚れ防止剤として特開昭56-24,
347号に記載の化合物を用いることができる。現像液中
に添加する溶解助剤として特願昭60-109,743号に記載の
化合物を用いることができる。さらに現像液に用いるpH
緩衝剤として特開昭60-93,433号に記載の化合物あるい
は特願昭61-28708号に記載の化合物を用いることができ
る。
JP-A-56-24, as a silver stain inhibitor in the developer of the present invention,
The compound described in No. 347 can be used. Compounds described in Japanese Patent Application No. 60-109,743 can be used as a solubilizing agent to be added to the developer. Further pH used for developer
As the buffer agent, the compounds described in JP-A-60-93,433 or the compounds described in Japanese Patent Application No. 61-28708 can be used.

定着剤としては一般に用いられる組成のものを用いる
ことができる。定着剤としてはチオ硫酸塩、チオシアン
酸塩のほか、定着剤としての効果の知られている有機硫
黄化合物を用いることができる。定着液には硬膜剤とし
て水溶性アルミニウム(例えば硫酸アルミニウム、明バ
ンなど)を含んでもよい。ここで水溶性アルミニウム塩
の量としては通常0.4〜2.0g-Al/lである。さらに三価の
鉄化合物を酸化剤としてエチレンジアミン4酢酸との錯
体として用いることもできる。
As the fixing agent, those having a commonly used composition can be used. As a fixing agent, thiosulfates and thiocyanates, and organic sulfur compounds known to have an effect as a fixing agent can be used. The fixing solution may contain water-soluble aluminum (for example, aluminum sulfate, bright bun, etc.) as a hardener. Here, the amount of the water-soluble aluminum salt is usually 0.4 to 2.0 g-Al / l. Further, a trivalent iron compound can be used as an oxidizing agent as a complex with ethylenediaminetetraacetic acid.

現像処理温度は普通18℃から50℃の間で選ばれるがよ
り好しくは25℃から43℃である。
The development temperature is usually selected between 18 ° C and 50 ° C, but is more preferably between 25 ° C and 43 ° C.

(実施例) 次に、本発明について実施例にもとづいてより具体的
に説明する。現像液は下記に記載の処方を用いた。
(Examples) Next, the present invention will be described more specifically based on examples. The following formulation was used for the developer.

(現像液処方) ハイドロキノン 45.0g N−メチル−P−アミノフェノール1/2硫酸塩 0.8g 水酸化ナトリウム 18.0g 水酸化カリウム 55.0g 5−スルホサリチル酸 45.0g ホウ酸 25.0g 亜硫酸カリウム 110.0g エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩 1.0g 臭化カリウム 6.0g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.6g n−ブチル−ジエタノールアミン 15.0g 水を加えて 1 (pH=11.6) 実施例−1 コントロールダブルジエツト法を用いて粒子サイズ0.
25μの立方体単分散沃臭化銀乳剤(変動係数0.15、沃化
銀0.5モル%、ヨード分布は均一)を調製した。この沃
臭化銀乳剤にはK3IrCl6を4×10-7モル/Agモル含有する
よう添加した。
(Developer formulation) Hydroquinone 45.0g N-methyl-P-aminophenol 1/2 sulfate 0.8g Sodium hydroxide 18.0g Potassium hydroxide 55.0g 5-Sulfosalicylic acid 45.0g Boric acid 25.0g Potassium sulfite 110.0g Ethylenediaminetetraacetic acid Disodium salt 1.0 g Potassium bromide 6.0 g 5-Methylbenzotriazole 0.6 g n-Butyl-diethanolamine 15.0 g Water was added 1 (pH = 11.6). Example-1 Controlled particle size was measured using the double jet method.
A 25 μm cubic monodisperse silver iodobromide emulsion (coefficient of variation 0.15, silver iodide 0.5 mol%, iodine distribution uniform) was prepared. K 3 IrCl 6 was added to this silver iodobromide emulsion so as to contain 4 × 10 -7 mol / Ag mol.

この乳剤をフロキュレーション法により脱塩を行ない
その後50℃に保ち増感色素として下記化合物(a)を銀
1モル5×10-4モルと、銀1モル当り10-3モルのヨウ化
カリ溶液を加え15分間経時させた後降温した。
This emulsion was desalted by the flocculation method and then kept at 50 ° C. to serve as a sensitizing dye, the compound (a) shown below was used in an amount of 5 × 10 −4 mol of silver and 10 −3 mol of potassium iodide per mol of silver. The solution was added, and the mixture was allowed to stand for 15 minutes and then cooled.

この乳剤に安定剤として4−ヒドロキシ−2−メチル
−1,3,3a,7−テトラザインデン、5−メチルベンズトリ
アゾール、下記化合物(b)及び (b)をそれぞれ5mg/m2塗布される様添加した。ヒドラ
ジン化合物として(I−19)(1×10-5モル/モルAg)
(I−5)(5×10-5モル/モルAg)を添加し、さらに
平均分子量600のポリエチレングリコールを75mg/m2にな
るように加え、ポリエチレングリコールの分散物を固型
分で対ゼラチン比30wt%、硬膜として1,3−ジビニル−
スルホニル−2−プロパノールに加えポリエチレンテレ
フタレートフィルム上に銀3.6g/m2になる様に塗布し
た。この上に保護層としてゼラチン1.2g/m2、粒子サイ
ズ約3μの不定型なSiO2マット剤40mg/m2、メタノール
シリカ0.1g/m2、ポリアクリルアミド100mg/m2、ハイド
ロキノン200mg/m2とシリコーンオイル及び塗布助剤とし
て下記構造式で示されるフッ素界面活性剤 とドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを含む層を同
時に塗布行ない表1のような試料を作製した。
In this emulsion, 4-hydroxy-2-methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene, 5-methylbenztriazole, the following compound (b) and a stabilizer were added as stabilizers. (B) was added so as to be coated at 5 mg / m 2 . As a hydrazine compound (I-19) (1 x 10 -5 mol / mol Ag)
(I-5) (5 × 10 -5 mol / mol Ag) was added, and further polyethylene glycol having an average molecular weight of 600 was added so as to be 75 mg / m 2 , and the polyethylene glycol dispersion was added to gelatin in a solid form. 30 wt% ratio, 1,3-divinyl-
In addition to sulfonyl-2-propanol, it was coated on a polyethylene terephthalate film to give silver of 3.6 g / m 2 . Gelatin 1.2 g / m 2 as a protective layer thereon, irregular an SiO 2 matting agent 40 mg / m 2 of particle size about 3.mu., methanol silica 0.1 g / m 2, polyacrylamides 100 mg / m 2, hydroquinone 200 mg / m 2 And silicone oil and a fluorosurfactant represented by the following structural formula as a coating aid And a layer containing sodium dodecylbenzenesulfonate were simultaneously applied to prepare samples as shown in Table 1.

またバック層は次に示す処方にて塗布した。 The back layer was applied according to the following formulation.

〔バック層処方〕(Back layer formulation)

ゼラチン 4g/m2 マット剤 ポリメチルメタアクリレート(粒子径3.0〜
4.0μ) 10mg/m2 ラテックス ポリエチルアクリレート 2g/m2 界面活性剤 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウ
ム 40mg/m2 フッ素系界面活性剤 ゼラチン硬化剤 染料 染料〔a〕、〔b〕、及び〔c〕の混合物 染料〔a〕 50mg/m2 染料〔b〕 100mg/m2 染料〔c〕 50mg/m2 なお、評価は以下のテスト方法になった。
Gelatin 4g / m 2 Matting agent polymethyl methacrylate (particle size 3.0
4.0μ) 10mg / m 2 latex Polyethyl acrylate 2g / m 2 Surfactant Sodium p-dodecylbenzenesulfonate 40mg / m 2 Fluorosurfactant Gelatin hardener Dye Mixture of dyes [a], [b], and [c] Dye [a] 50 mg / m 2 Dye [b] 100 mg / m 2 Dye [c] 50 mg / m 2 The evaluation used the following test method.

(写真特性) 写真特性1は、上記処方の現像液でFG-660F自動現像
機(富士写真フイルム株式会社製)を用いて38℃30″処
理を行なった結果である。
(Photographic Properties) Photographic properties 1 are the results of processing at 38 ° C. for 30 ″ using an FG-660F automatic developing machine (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) with the developer having the above formulation.

写真特性2は100%黒化のフジリスオルソフィルムGA-
100大全サイズ(50.8cm×61cm)を150枚処理した後の現
像液で写真特性1と同様の方法で処理した結果である。
Photograph characteristic 2 is 100% blackened Fujiris Ortho Film GA-
The results are obtained by processing 150 sheets of 100 large all sizes (50.8 cm × 61 cm) with a developer in the same manner as in Photographic Properties 1.

〔画質〕〔image quality〕

1.目伸ばし画質の評価 (1) 原稿の作成 富士写真フイルム株式会社製モノクロスキャナーSCAN
ART30及び専用感材SF-100を使って網点よりなる人物の
透過画像及び網パーセントを階段的に変えたステップウ
ェッジを作成した。この時スクリーン線数は150線/イ
ンチで行なった。
1. Evaluation of stretched image quality (1) Manuscript preparation SCAN, a monochrome scanner manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.
A transparent image of a person consisting of halftone dots and a step wedge in which the halftone percentage was changed stepwise were created using ART30 and special sensitive material SF-100. At this time, the screen frequency was set to 150 lines / inch.

(2) 撮影 大日本スクリーン(株)製製版カメラC−440に上記
原稿を目伸ばし倍率が等倍になる様にセットした後Xeラ
ンプを照射することにより評価サンプルに露光を与え
た。
(2) Photographing The original was set on a plate making camera C-440 manufactured by Dainippon Screen Co., Ltd. so that the magnification was equal, and the Xe lamp was irradiated to expose the evaluation sample to exposure.

この時原稿のステップウェッジの95%の部分が5%と
なる様にして露光を行なった。なお本発明のフィルター
は原稿と光源の間に設置した。
At this time, the exposure was performed such that 95% of the step wedge of the original became 5%. The filter of the present invention was installed between the original and the light source.

(3) 評価 (2)の様に露光量を調節して小点側(ハイライト
部)の網点%を合わせたサンプルのシャードウ部の階調
再現性(網点のつぶれ難さ)の良いものから順に5段階
評価(5〜1)を行なった。
(3) Evaluation As shown in (2), the exposure amount is adjusted and the gradation reproducibility (hardness of halftone dots) of the shard portion of the sample in which the halftone dot% on the small dot side (highlight portion) is matched is good. Five-level evaluation (5 to 1) was performed in order from the ones.

2.線画の画質の評価 反射濃度が0.5〜1.2の範囲にある7級の明朝体、ゴシ
ック体の写植文字からなる原稿を、大日本スクリーン製
カメラ(DSC351)で撮影後、写真特性と同一の条件で、
現像処理(38℃30″)を行なった結果である。評価は、
5段階で行ない、「5」が最もよく「1」が最も悪い品
質を表わす。「5」又は「4」は実用可能で「3」は粗
悪だが、ぎりぎり実用でき「2」又は「1」は実用不可
である。
2.Evaluation of image quality of line drawing Same as the photographic characteristics after taking an image of type 7 Mincho and Gothic typeset letters with reflection density in the range of 0.5 to 1.2 using Dainippon Screen camera (DSC351) Under the condition of
This is the result of development processing (38 ° C 30 ″).
Performed in five stages, "5" represents the best and "1" represents the worst quality. "5" or "4" is practical and "3" is bad, but practically available, "2" or "1" is practically impossible.

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】支持体上に少なくとも1層の感光性ハロゲ
ン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料におい
て、該乳剤層又はその他の親水性コロイド層にヒドラジ
ン誘導体、チオアミド結合を有する化合物および酸化さ
れることにより現像抑制剤を放出するレドックス化合物
をそれぞれ少なくとも1種含有することを特徴とするハ
ロゲン化銀写真感光材料。
1. A silver halide photographic light-sensitive material having at least one light-sensitive silver halide emulsion layer on a support, wherein the emulsion layer or other hydrophilic colloid layer has a hydrazine derivative, a compound having a thioamide bond, and A silver halide photographic light-sensitive material comprising at least one redox compound which releases a development inhibitor upon being oxidized.
【請求項2】レドックス化合物がレドックス基としてハ
イドロキノン類、カテコール類、ナフトハイドロキノン
類、アミノフェノール類、ピラゾリドン類、ヒドラジン
類、ヒドロキシルアミン類、レダクトン類を有すること
を特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載のハロゲン
化銀写真感光材料。
2. The redox compound according to claim 1, wherein said redox group includes hydroquinones, catechols, naphthohydroquinones, aminophenols, pyrazolidones, hydrazines, hydroxylamines, and reductones. The silver halide photographic light-sensitive material according to the above 1).
【請求項3】レドックス化合物がレドックス基としてヒ
ドラジン類を有することを特徴とする特許請求の範囲第
(1)項記載のハロゲン化銀写真感光材料。
3. The silver halide photographic material according to claim 1, wherein the redox compound has a hydrazine as a redox group.
【請求項4】レドックス化合物が下記一般式(R−
1)、(R−2)および(R−3)で表わされる化合物
から選ばれる少なくとも1種の化合物であることを特徴
とする特許請求の範囲第(1)項記載のハロゲン化銀写
真感光材料。 これらの式中、R1は脂肪族基または芳香族基を表わ
す。G1 −SO−基、−SO2−基または を表わす。G2は単なる結合手、−O−、−S−または を表わし、R2は水素原子またはR1を表わす。 A1、A2は水素原子、アルキルスルホニル基、アリール
スルホニル基またはアシル基を表わし置換されていても
良い。一般式(R−1)ではA1、A2の少なくとも一方
は水素原子である。A3はA1と同義または を表わし、 A4はニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、スルホ基
または-G1-G2-R1-を表わす。 Timeは二価の連結基を表わし、tは0または1を表わ
す。PUGは現像抑制剤を表わす。
4. A redox compound represented by the following general formula (R-
1) The silver halide photographic light-sensitive material according to claim 1, which is at least one compound selected from compounds represented by (R-2) and (R-3). . In these formulas, R 1 represents an aliphatic group or an aromatic group. G 1 is -SO- group, -SO 2 - group or Represents G 2 is a mere bond, -O-, -S- or And R 2 represents a hydrogen atom or R 1 . A 1 and A 2 represent a hydrogen atom, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group or an acyl group, and may be substituted. In the general formula (R-1), at least one of A 1 and A 2 is a hydrogen atom. A 3 is synonymous with A 1 or And A 4 represents a nitro group, a cyano group, a carboxyl group, a sulfo group or -G 1 -G 2 -R 1- . Time represents a divalent linking group, and t represents 0 or 1. PUG represents a development inhibitor.
【請求項5】レドックス化合物が下記一般式(R−1)
で表わされることを特徴とする特許請求の範囲第(1)
項記載のハロゲン化銀写真感光材料。 (式中、A1、A2はともに水素原子又は一方が水素原子
で他方はスルフィン酸残基もしくは (式中、R0はアルキル基、アルケニル基、アリール
基、アルコキシ基またはアリールオキシ基を表わし、l
は1または2を表わす。) を表わす。Timeは二価の連結基を表わし、tは0または
1を表わす。PUGは現像抑制剤を表わす。G1はカルボニ
ル基、 スルホニル基、スルホキシ基、 (R1はアルコキシ基、またはアリールオキシ基を表わ
す。)、イミノメチレン基、またはチオカルボニル基を
表わす。Rは脂肪族基、芳香族基またはヘテロ環基を表
わす。)
5. A redox compound represented by the following general formula (R-1)
Claims (1) characterized by the following:
The silver halide photographic light-sensitive material according to the above item. (Wherein A 1 and A 2 are both hydrogen atoms or one is a hydrogen atom and the other is a sulfinic acid residue or (In the formula, R 0 represents an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, an alkoxy group or an aryloxy group;
Represents 1 or 2. ). Time represents a divalent linking group, and t represents 0 or 1. PUG represents a development inhibitor. G 1 is a carbonyl group, Sulfonyl group, sulfoxy group, (R 1 represents an alkoxy group or an aryloxy group), an iminomethylene group, or a thiocarbonyl group. R represents an aliphatic group, an aromatic group or a heterocyclic group. )
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