JPH03503903A - Ｆｃｃシステムにおいて小さい触媒粒子を取り出すための改善された方法および装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ＦＣＣシステムにおいて小さい触媒粒子を取り出すための改善された方法および 装置本発明は、第３の触媒回収装置のための手段無しに流動接触分解（ＦＣＣ） システムにおいて煙道ガスおよび主カラムボトム液体の触媒粒子を減らすための 方法ならびに装置に関する。より特に、本発明は、ＦＣＣシステムの触媒インベ ントリ−（１ｎｖｅｎｔｏｒｙ）から極めて小さい触媒粒子を取り出すための改 善された方法および装置に関する。

接触分解、特に流動接触分解の分野は、主として触媒技術およびそれにより得ら れる製品分布の進歩により相当な発展を遂げた。高活性触媒、特に結晶ゼオライ ト分解触媒の出現により、操作技術の新分野が生じ、高い触媒活性、選択性およ び操作感度を利用するために処理技術の改善が必要となる。

このような背景により、Ｆ’ＣＣ設備で通常採用される炭化水素転化触媒は、流 動可能な粒子寸法の高活性結晶ゼオライト触媒であるハＪＳｔ＾７命　１１−　 　畠ホｈせ？停　　　１４士トｌ峰黍飴【〕１　μ箇吾スぜ一拳；イＰ頷樋　（ ＦＣＣ分解領域）を一般的には北向きに通って炭化水素原料との懸濁または分散 相状態で輸送され、各転化領域における炭化水素の滞留時間は０６５〜１０秒の 範囲、通常８秒以下である。少なくとも５３８°Ｃ（ｌ　ＯＯＯ’Ｆ）またはそ れ以上の温度および０．５〜４秒の炭化水素のライザー内における触媒と接触し た状態の滞留時間において生じる高温ライザーの炭化水素転化が、触媒からの気 体状炭化水素生成物質の分離を始める前の操作のためには望ましい。

ライザー転化領域から排出された炭化水素から触媒を迅速に分離することは、炭 化水素転化時間を限定するのに特に望ましい。炭化水素転化工程の間、炭素質付 着物が触媒粒子に蓄積し、その粒子は、炭化水素転化工程領域から取り出される 際に炭化水素蒸気を同伴する。同伴炭化水素は、更に触媒と接触して機械的手段 であってもよい分離器により、および／または別の触媒ストリッピング領域にお けるストリッピングガスにより触媒から除去される。触媒から分離される炭化水 素転化生成物および触媒からストリップされる物質は、素質物質を含むストリッ プされた触媒をコークスと呼ぶが、次に、触媒再生操作に送られる。

ライザー転化領域、種々の慣性およびサイクロン分離器、触媒ストリ、パーハ、 フルおよび触媒再生器を通る触媒粒子の運動により実質的な触媒粒子の破壊が生 じ、この間、濃厚床貯留領域インベントリ−の触媒粒子の平均寸法が減少する。

良く知られているように、粒子寸法が小さいほど、ある速度の気ｄｔで粒子は容 易に同伴され、反応器から分離器（蒸留塔）へ送られるガス状炭化水素流出物に より、あるいは触媒再生器から大気に行く煙道ガスにより運ばれることがある。

第１図では、典型的なＦＣＣシステムを既知の種々の第３の触媒回収システムと 共に示している。炭化水素反応器原料を再生器１２からの再生触媒および触媒補 給器１１からの新触媒と一緒に触媒反応器１ｏのＦＣＣライザー転化領域１０ａ に供給し、炭化水素原料は、先に説明したようにライザー転化領域を通って送ら れて通常のように接触分解される。いずれも反応器１０内に存在する分離器１Ｏ ｂ（ライザーサイクロンまたは慣性分離器のいずれかであってよい）および第２ サイクロユ／を使用し、て、触媒粒子は分解炭化水素流出物から分離され、これ らの触媒粒子は反応器１０の下方部分にある濃厚床貯留領域に進んで行く。反応 器１０の下方部分にストリッピング領域が存在してもよく、そこでは分離触媒を 通って水蒸気が送られて可能な限り触媒から同伴および／または捕捉炭化水素物 質か除去される。次に、触媒は触媒再生器１２に戻され、そこで空気と混合され て加熱され、触媒中および上に残っている炭化水素不純物が燃焼除去されて再生 触媒が得られる。燃焼プロセスからのガスは、１つまたはそれ以上のサイクロン 分離器に送られ、そこで触媒粒状物が除去され、排出ガスがスタック１４を通っ て大気中に送られる。

ＦＣＣ転化および再生の間の触媒破壊のために、触媒「微小物」が触媒インベン トｌ）−中に形成されるが、この微小物は直径が１０ミクロン以下の粒子寸法を 有することがある。これらの粒子は非常に容易にガス流により同伴され、一般的 に再生器の第１段階の分離の間に完全には除去されない。これらの粒子がスタッ ク１４を通って大気中に出て行くのは望ましくないので、煙道ガスの触媒「微小 物」の量を減らすために幾つかの異なる種類の装置か従来使用されてきた。電気 集塵機１６をスタ、り１４を通る煙道ガス経路に配置して、触媒粒子を荷電する ことにより、粒子を触媒処理領域に引き付けることができる。更に、第３段階サ イクロン分離器１８を電気集塵機の代わりに、あるいはこれと組み合わせて追加 でき、スタ。

り１４に送られてそこから大気中に送られる触媒「微小物」の体積を更に減らす ことができる。

触媒「微小物」は、反応器１０を出て分離器主カラム（蒸留主塔）２０に送られ る分解炭化水素ガス流出物によっても運ばれる。主カラムでは、「微小物」は、 カラムの最も低い部分に沈降する傾向があり、主カラムボトム（ＭＣＢ）生成物 を汚染するが、例えばカーボンブラ、り油および／または船用ディーゼル燃料油 がそこで生成する。舶用ディーゼル燃料油規格では、一般的に５０ｐｐ１１１以 下の触媒「微小物」にする必要があり、カーボンブラック油規格では、一般的に ５００　ｐｐｍ以下の「微小物」にする必要がある。従って、これらの製品規格 を維持するために、もう１つのまたは第３段階のサイクロン２２、液体電気集塵 機２４、沈降タンク２６またはこれらの３つ全ての組み合わせを使用して分離器 主カラム２０により生成する液体から触媒「微小物」を除去する必要がある。

いずれかの第３の触媒回収装置を加えることは、現存のシステムに対しては費用 を要する追加であり、新たな精製システムを建設する場合には実質的に費用を要 することが予測される。更に、第３段階サイクロンおよび集塵機を通過する煙道 ガスまたはガス状流出物を移動させるには追加のエネルギーが必要であり、精製 生成物のコストが上昇する。更に、多くの精製装置では、煙道ガスを大気中に放 出する前にそれから追加のエネルギーを得るために煙道ガスエキスパンダーを使 用しており、相当量の触媒粒状物の存在は、ブレードを腐食し、タービンエキス パンダーシステムの性能を低下させる。

本発明の１つの要旨では、 触媒「微小物」を含む触媒インベントリ−の一部分を間欠的に取り出す工程およ び取り出した部分を「微小物」の割合がより低い同様量の触媒により置換する工 程によりＦＣＣシステムから触媒微小物を除去する。これらの取り出しおよび置 換工程は触媒インベントリ−の触媒「微小物」の総括濃度を下げるように機能す る。

より特に、本発明は、反応器を有するＦＣＣシステム中の触媒微小物を除去する 方法を提供し、該方法は、ライザー分離器および第１サイクロン分離器を通って 反応器内に配置された第２サイクロン分離器に分解炭化水素流出物を送る工程、 第２サイクロンにより分離された触媒の少なくとも一部分を一時的な触媒保留領 域に送り、そこから残りの触媒を触媒ストリッピング領域に送る工程、一時的な 触媒保留領域の触媒の一部分を反応器から間欠的に取り出す工程、第２サイクロ ン分離器からの流出物として分解炭化水素を下流の分離（蒸留）装置に送る工程 、および分離触媒をストリッピング領域から再生器に送る工程を含んで成る。

再生器を有するＦＣＣシステムにおける本発明の別の態様では、以下の工程によ り触媒「微小物」を除去する：再生器において少なくとも第１の分離器から少な くとも第１のサイクロン分離器を通って再生器内に配置された少なくとも第２の サイクロン分離器にガス状流出物を送る工程、第２サイクロン分離器から再生器 の外部の排出スタックにガス状流出物を送る工程、第２サイクロンにより分離さ れた触媒の少なくとも一部分を一時的触媒保留領域に送り、そこから第２サイク ロンにより分離された残りの触媒を触媒貯留領域に送る工程、ならびに一時的触 媒保留領域内に含まれる触媒の一部分を再生器から間欠的に取り出す工程。

また、本発明は、触媒「微小物」を含む触媒インベントリ−を有するＦＣＣシス テムを提供する。触媒「微小物」をいくらか含む存在する触媒インベントリ−の 一部分を適当な取り出し導管を経由して間欠的に取り出す。取り出した触媒を触 媒補給器からの新触媒により置換する。この場合、新触媒は触媒「微小物」より 大きい粒子寸法を有し、従って、触媒インベントリ−における「微小物」の総括 濃度は減少する。

好ましい態様では、本発明は、少な（とも第１のライザー分離器、少なくとも第 １のサイクロン分離器および少なくとも第２のサイクロン分離器を含む反応器を 有するＦＣＣシステムを提供する。第２分離器触媒排出部を触媒取り出しポット の形態である一時的触媒保留領域に導管が接続する。ポットは第２サイクロンに より分離される触媒粒状物を集める。流動化ガスを用いて、あるいは用いないで 触媒粒状物を取り出しポットから間欠的に取り出せるように導管が設けられてい る。触媒粒子は受容器に送られ、そこで触媒粒子は沈降して冷却され、そして、 収集容器に送られて、その後、処分される。

本発明の第２の態様では、再生器を有するＦＣＣシステムを提供し、失活させる 量の炭化水素を含む触媒を、失活炭化水素粒子の空気混入および燃焼のために再 生器に送る。再生器が少なくとも第１の分離器、少な（とも主たる分離器および 少なくとも第２の分離器を使用して触媒粒子を除去する場合、再生器内の第２サ イクロン分離器からの粒状物の少なくとも一部分を触媒取り出しポｙトの形態の 一時的触媒保留領域に送る。導管が取り出しポットを受容器に接続し、必要なら 流動化窒素ガスにより触媒を取り出しポ・ノドから間欠的に取り出し、受容器に 送ってよい。受容器内で冷却した後、触媒粒子をバルブを介して収集器に送り、 その後、処分する。

上述のいずれの態様においても、本発明は、初めての装置として、あるいは現存 する流動接触分解（ＦＣＣ）反応器／再生器システムの改良として形成される。

本発明のより完全な認識および多くの付随的な利点は、添付図面を参照すること により、より良く理解されるようになることは明白であろう。

第１図は、環境および製品規格に合うように使用される種々の第３の触媒回収装 置を有する従来技術の流動接触分解反応器システムのブロックダイヤグラムであ る。

第２図は、再生器からの触媒除去を示す本発明の１つの態様の側断面図である。

第３図は、反応器からの触媒除去を示す本発明の第２の態様の側断面図である。

第４図は、再生器または反応器のいずれかに適用できる触媒「微小物」取り出し システムの模式図である。

図面を参照する場合、図面を通じて同じ数字は同様の要素を示し、第２図は本発 明の１つの態様を示す。反応器１０は、チューブ状導管ライザー３０を含むライ ザー転化領域を少なくとも部分的に囲んでいる。炭化水素原料はライザー３０の 下方部分に供給され、再生器スタンドバイブ３２からの再生触媒および／または 触媒補給器１１からの新触媒と混合され、得られる混合物はライザー３０の上方 部分に向かって垂直上回きに送られる。ライザー３０に達すると、炭化水素原料 および触媒の混合物は、良く知られているようにライザーサイクロン分離器３４ に送られる。ライザー分離器３４は、濃厚床貯留領域３８の触媒レベルより下方 に出口がある触媒排出部３６を有する。

分離器３４からのガス状炭化水素流出物は（第３図に図示しているが、第２図に は図示していない）導管４０により第１サイクロン分離器４２に送られるか、あ るいは反応器１０の内部に直接、そこから分離器４２の取入口に送られる。触媒 粒子は、第１サイクロン分離器４２から出て、濃厚床貯留領域３８に降下する。

第１サイクロン分離器４２からのガス状流出物は反応器第２サイクロン分離器４ ４の取入口に送られる。第２図の態様の触媒粒子は、第２サイクロン分離器４４ から濃厚床貯留領域３８に送られ、第２分離器からの排出流出物は、ガス状炭化 水素を急冷および／または分離工程に送る導管４６に送られる。

濃厚床触媒貯留領域３８内に蓄積する触媒粒子は、主ス）ｌルノビングガスとし て水蒸気が供給される触媒ストリッピング領域５０に位置する下向きバストバッ フル（ｐａｓｔ　　ｂａｆｆｌｅ）　４　Ｂを通る。触媒粒子に同伴・される炭 化水素物質は、触媒からストｌルノプされて反応器１０に上方に送られ、そこで 、第２図に示すように第１サイクロン分離器４２の入口に出て行く。

ストリッピングの後、触媒粒子は反応器スタンドバイブ５２に送られ、そこから 再生器１２、特に再生器の下方部分５４に送られる。

触媒粒子は空気と混合され、十分な熱が加えられて残留する炭化水素粒子または 触媒により同伴される成分が急速に酸化され、混合物は再生器導管５８中を上昇 し、慣性分離器６０の形態の第１分離器に送られる。ここで、再生触媒は、分離 器触媒排出部６２を降下して再生触媒貯留領域６４に達する。いくらかの同伴触 媒粒子を伴うガス状成分（以後、煙道ガスと呼ぶ）は、再生器の上の内側部分に 送られ、そこから再生型第１サイクロン分離器６６に取り込まれ、分離器６６は 、分離触媒粒子を触媒貯留領域に排出し、再生型第２サイクロン分離器６８に煙 道ガスを供給する。第２サイクロン分離器６８は、煙道ガスからより小さい触媒 粒子を除去し、煙道ガスをブレナム７０に排出する。ブレナムはそこからスタ・ ツク１４（第２図に図示せず）を通って大気につながっている。

本発明によれば、触媒インベントリ−（再生器、反応器、接続導管およびスタン ドパイプ等に保持されている触媒）のいずれの取り出しもシステムからの微小物 の取り出しを意味する。取り出した触媒をより少量の「微小物」を含む触媒補給 器１１からの触媒により置換するなら、インベントリ−の微小物の総括濃度は減 少し、より少量の「微小物」しか再生型煙道ガスまたはＭＣＢ生成物を汚染する に寄与しないであろう。しかしながら、非選択的な触媒取り出しが非「微小物」 またはより大きい触媒粒子をも処分する限りに対して、「微小物」が高濃度の触 媒のみを取り出すのが好ましい。

再度第２図を参照すると、２つの先行する分離システム（慣性分離器６０および 第１サイクロン分離器６６）のために、第２サイクロン分離器６８に存在する触 媒の粒子寸法は、非常に小さく、従って、「微小物」が高濃度である。触媒取り 出しポット７２の形態の一時的触媒保留領域は、一時的にこれらの触媒「微小物 Ｊを保留するために、第２サイクロン分離器６８の触媒出口の直下に設けられて いる。取り出し導管４４は、触媒取り出しポット７２に集められている触媒「微 小物」をコントロールして取り出すように機能する。

そのような触媒取り出しは連続的に操作できるが、ある非常に小さい粒子寸法を 維持するために定常状態の流量は困難であり、非常に小さい導管寸法で生じる沈 降および閉塞の問題があるので、好ましい態様では比較的大きい体積流量で間欠 的に操作する。触媒取り出しボットがいっばいになると、過剰の触媒だけが再生 触媒貯留領域にオーバーフローし、触媒再循環スタンドパイプ７６を通過させる ことにより再生器を経由して再循環できる。

導管４６から下流の分離工程へ行く炭化水素流出物またはブレナム７０を通って スタック１４に送られて大気中に放出される煙道ガスのいずれかにより同伴され る触媒「微小物コを有効に最小限にするように、反応器触媒貯留領域３８および 再生型触媒貯留領域６４に含まれる触媒インベントリ−の触媒「微小物」の里を フントロールできることか理解されよう。触媒「微小物」の割合か減少するので 、炭化水素流または煙道ガス流中に同伴され得る寸法の粒子がより少なくなる。

これらの粒子が閉鎖システムから取り出されるので、触媒インヘントリー中に存 在して分離装置の主力ラムホトム（ＭＣＢ）生成物または再生器からの煙道ガス を汚染するこの寸法の粒子の数を厳密に監視してコントロールできる。従って、 ＦＣＣシステムにおける触媒インベントリ−からの触媒「微小物乙の選択的な取 り出しにより、第３段階サイクロン、電気ガスおよび液体果墜機、沈降タンクな どのような第３の触媒回収システムの必要性は減るが、あるいは完全に除去され る。

第２サイクロン６８から出て来る触媒は、分離器排出部６２および第１サイクロ ン分離器６６の粒子出口からの実質的により大きい触媒粒子が供給される再生触 媒貯留領域６４より遥かに大きい割合の触媒「微小物」を含んでいるので、第２ 図の取り出しボットに供給するために使用される。しかしながら、「微小物」取 り出しを再生器のみに限定する必要はなく、実際、第３図に示すように、反応器 の第２サイクロン分離器４４も「微小物」取り出し源として使用できる。

第３図は、ライザー分離器３４からの流出物が直接的に導管４゜を通って第１サ イクロン分離器４２の入口に送られる閉鎖サイクロンシステムとして反応器が操 作されることを除いて、本質的に第２図と同じＦＣＣシステムを示している。唯 一の他の相当具なる点は、触媒取り出しボット７２の位置が第２図に示すように 再生器筒２サイクロン分離器の下ではなく、反応器第２サイクロン分離器４４の 下であることである。他の点については、触媒取り出しシステムの操作ならびに それによる煙道ガスおよびＭＣＢ生成物の触媒「微小物Ｊの減少の効果は、第２ 図を参照して先に説明したものと同様である。実際、ある状況では、再生器およ び反応器の両方で「微小物」取り出しシステムを有するのが望ましいことがあり 、これは第２図および第３図を単に組み合わせるだけである。

触媒インベントリ−から「微小物」を取り出す特別の装置に関して、第４図はそ のようなシステムの１つの態様を示す。第４図では、「微小物」取り出しシステ ムが反応器１０または再生器１２に配置されているかどうかに応じて、第２サイ クロン分離器の触媒導管８０か反応器第２サイクロン分離器４４または再生器筒 ２サイクロン分離器６Ｂからつながっている。触媒取り出しボット７２は触媒導 管８０の下に位置し、それを通って流れる触媒か少なくとも一時的に触媒取り出 し、ｆノド７２に蓄積するようにな１．ている。

取り出すべき微小物の量は取り出しボットに蓄積する量に比較して少ないことが 見出されている。連続取り出しの場合、内径３．２ｍｍ　（１／　８インチ）オ ーダーの制限オリフィスを設けるか、「微小物」を取り出しボットから小さい直 径のオリフィスを通して流そうとする場合、非常に困難である。しかしながら、 より大きい直径の場合の間欠的な操作では所望の取り出しが容易になり、望まし い範囲で取り出される触媒の全体量が維持される。

先に説明したように、粒子寸法は非常に小さく、触媒粒子が小さい直径のオリフ ィスまたはバイブの圧縮および閉塞しやすいので、１つの態様における触媒取り 出し導管７４は直径が１インチ、スケジュール８０．タイプ３０４のステンレス スチールのパイプである。

追加のパージ導管８２は、圧力下、複数の穴が周囲にあるリング８４に窒素を供 給する。触媒取り出しボッドア２で触媒「微小物」が取り出し導管７４への開口 部をふさぐ場合、パージ導管８２およびリング８４ならびに／または導管７４を 経由する高圧の窒素を噴射することにより凝集粒子が壊れ、触媒取り出し導管７ ４を通って容易に降下して流れる。

第４図のバルブ８６により、取り出しボット７２に蓄積する「微小物」の間欠取 り出しが可能となる。取り出し導管７４は受容器８８に開き、取り出しポットか ら「微小物」を取り出すために、受容器８８は大気に対して閉鎖されている。バ ルブ８６を開くと、取り出しポットが中に位置する容器（反応器または触媒再生 器）の圧力がより高いので、「微小物コが取１）出しポット７２から受容器８８ に流れ始める。受容器８８が触媒取り出しポット７２の圧力と同じになると、取 り出し導管７４を通る流れは停止する。取り出し導管７４の粒子流を助長するた めに窒素ガスをローターメーター９０を経由して供給し、触媒取り出し５ボツト ７２用の流動化窒素をローターメーター９２およびパージ導管８２を経由して供 給する。先に説明したように、噴射接続９４および９６を使用して取り出し導管 ７４の閉塞部分を解放するか、あるいは取り出しポット７２もしくは受容器８８ 内でふさいでいる微小物を壊す。

受容器８８と触媒取り出しポット７２との間の圧力平衡により受容器８８への流 入が停止した後、バルブ８６を閉止して受容器８８に送られて来た触媒「微小物 」を冷却空気または窒素をバルブ９８を介して導入し、ベント１００を通って出 すことにより、あるいは受容器８８の壁を通って周辺大気への熱移動により冷却 する。

ベント１００を閉じてバルブ９８を介して受容器８８を加圧することにより、収 集器１０４へのバルブ１０２を介して受容器８８を空にする。要すれば、ペン） １００および収集器ベント１０６をダストフィルターまたは他の粒状物捕集手段 に接続してよい。受容器８８および収集器１０４は、「微小物」取り出し頻度に 基づいてゴ法が決められる。典型的には、１つの第２サイクロンジツプレツグか ら流れて来る「微小物」は、望ましい取り出し流量を上回り、従って、過剰「微 小物」は、取り出しポットがいっばいになった後は、それからオーバーフローす る。

上述の開示事項に基づいて、この触媒「微小物」取り出しシステムに関する多（ の修正および変形は、当業者には明白となるであろう。例えば、「微小物」取り 出しシステムを反応器または再生器のいずれかに設けることができ、あるいはい ずれも大容量の「微小物」取り出し割合が望ましい。「微小物」取り出しを触媒 供給システムと組み合わせて配置して、閉鎖反応器／再生器システム内で所望の 触媒インベントリ−を保持でき、一方、触媒インベントリ−中の微小物のレベル が下がる。上記開示に基づくと、取り出しポットから触媒「微小物」を除去する ための種々の他の一時的な保留システムおよび装置か明白であろう。従って、本 発明は」二記開示事項により限定されるものではなく、本明細書に添付の請求の 範囲によってのみ限定される。

独占的な財産または特権が請求されている本発明の態様は以下のように規定され る・ 国際調査報告

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. １．反応器および再生器の少なくとも一方内に含まれている触媒インベントリー を含む流動床処理における触媒「微小物」による汚染を減らすための方法であっ て、 少なくともいくらかの触媒「微小物」を含む少なくとも第１部分の触媒をインベ ントリーから間欠的に取り出す工程、および第１部分より少なくともより少ない 割合で触媒「微小物」を含む同様の第２部分の触媒により第１部分の触媒を置換 する工程を含んで成る方法。
2. ２．炭化水素原料および触媒の混合物がライザー転化領域を経由して送られて炭 化水素原料を分解する反応器を含む流動接触分解処理において触媒粒子汚染を減 らすための方法であって、少なくとも第１の分離器を経由して少なくとも第２の サイクロン分離器に分解炭化水素流出物を送る工程、第２のサイクロン分離器に より分離された触媒の少なくとも一部分を一時的触媒保留領域に送り、そこから 触媒ストリッピング領域に送る工程、 一時的保留領域に保留されている触媒の少なくとも一部分を反応器から間欠的に 取り出す工程、 第２のサイクロン分離器から下流の分離装置に分解炭化水素を流出物として送る 工程、および 分離された触媒をストリッピング領域から再生器に送る工程を含んで成る方法。
3. ３．分解炭化水素を送る工程の前に、追加の工程として反応器内に含まれるライ ザー転化領域を経由して炭化水素原料および触媒の混合物を懸濁物として送り、 ライザー転化領域領域内で炭化水素原料を分解する工程、 ライザー転化領域から反応器内に位置するライザー分離器に混合物を送る工程、 ライザー分離器内で混合物から少なくとも一部分の触媒を分離する工程、 ライザー分離器から反応器内に位置する第１のサイクロン分離器にガス状流出物 を送る工程、および 反応器内に位覆し、ストリッピングガスを使用して分離された触媒に同伴される 炭化水素を除去するストリッピング領域に第１のサイクロンにより分離された触 媒を送る工程が存在する請求の範囲第２項記載の方法。
4. ４．反応器を経由して送られ、失活炭化水素が蓄積した触媒を再生器に送る、流 動接触分解処理における触媒粒状物汚染を減らすための方法であって、 再生器内において少なくとも第１の分離器から少なくとも第１のサイクロン分離 器を経由して再生器内に位置する少なくとも第２のサイクロン分離器にガス状流 出物を送る工程、第２のサイクロン分離器から再生器の外部の排出部にガス流出 物を送る工程、 第２のサイクロンにより分離された触媒の少なくとも一部分を一時的触媒保留領 域に送り、そこから触媒貯留領域に送る工程、および 一時的触媒保留領域に含まれる触媒の一部分を再生器から間欠的に取り出す工程 を含んで成る方法。
5. ５．ガス状流出物を送る工程の前に、追加の工程として反応器内に含まれるライ ザー転化領域を経由して炭化水素原料および触媒の混合物を懸濁物として送り、 ライザー転化領域内で炭化水素原料を分解する工程、 ライザー転化領域から反応器内に位置する分離器に混合物を送る工程、 分離器内で混合物から触媒を分離する工程、分離器からのガス状流出物を下流の 分離装置に送る工程、分離器により分離された触媒を反応器内に位置する触媒ス トリッピング領域に送る工程、 ストリッピングガスを使用して分離された触媒により同伴された炭化水素を除去 する工程、 分離された触媒をストリッピング領域から再生器に送る工程、分離された触媒を 空気と高温で混合することにより再生器で触媒を再生し、触媒に保持されている 炭化水素を酸化する工程、再生触媒を少なくとも第１の分離器に送り、触媒を触 媒貯留領域に送る工程、 分離器流出物を第１の分離器から再生器内に位置する少なくとも第１のサイクロ ン分離器に送る工程、ならびに第１のサイクロンにより分離された触媒の少なく とも一部分を触媒貯留領域に送る工程 を含んで成る請求の範囲第４項記載の方法。
6. ６．反応器および再生器の少なくとも一方内に含まれる触媒インベントリーを含 む流動床処理システムにおける触媒微小物汚染を減らすための装置であって、 第１部分が少なくともいくらかの触媒「微小物」を含み、インベントリーの触媒 の少なくとも第１部分を間欠的に取り出すための手段、および 触媒の第１部分を該第１部分より少なくともより少ない量の触媒「微小物」を含 む同様の触媒の第２部分により置換するための手段を有して成る装置。
7. ７．少なくとも第１の分離器および少なくとも第２のサイクロン分離器が内部に 位置する反応器を含み、炭化水素原料および触媒の混合物が反応器内のライザー 転化領域を経由して送られて炭化水素原料が分解される流動接触分解処理におい て触媒粒状物汚染を減らすための装置であって、 分解炭化水素流出物を第１の分離器を経由して第２のサイクロン分離器に送るた めの手段、 反応器に供給される触媒を一時的に保留するために反応器内に位置する手段、 第２のサイクロン分離器により分離された触媒の少なくとも一部分を一時的触媒 保留手段に送り、そこから触媒ストリッピング領域に送る手段、 一時的触媒保留手段に含まれる触媒の少なくとも一部分を反応器から間欠的に取 り出すための手段、 第２のサイクロン分離器から下流の分離装置に分解炭化水素を流出物として送る ための手段、および 分離された触媒をストリッピング領域から再生器に送るための手段 を有して成る装置。
8. ８．触媒を一時的に保留するための手段が触媒取り出しポットおよび取り出し手 段を有して成り、 取り出しポットの下方部分を反応器の外部の位置に接続する導管手段、および 取り出しポット内に含まれる触媒を流動化するための手段を有して成る請求の範 囲第７項記載の装置。
9. ９．反応器を経由して送られ、失活炭化水素が蓄積した触媒を再生器に送り、再 生器はその中に位置する少なくとも第１の分離器および少なくとも第２のサイク ロン分離器を含むＦＣＣ処理における触媒粒状物汚染を減らすための装置であっ て、再生器内においてガス状流出物を第１の分離器から該第２のサイクロン分離 器に送るための手段、 ガス状流出物を第２のサイクロン分離器から再生器の外部の排出スタックに送る ための手段、 再生器に供給される触媒を一時的に保留するための手段、第２のサイクロンによ り分離された触媒の少なくとも一部分を一時的触媒保留手段に送り、そこから触 媒貯留領域に送るための手段、および 該一時的触媒保留手段内に含まれる触媒の少なくとも一部分を再生器から間欠的 に取り出すための手段 を有して成る装置。
10. １０．触媒を一時的に保留するための手段が触媒取り出しポットおよび取り出し 手段を有して成り、 取り出しポットの下方部分を再生器の外部の位置に接続する導管手段、および 取り出しポット内に含まれる触媒を流動化するための手段を有して成る請求の範 囲第９項記載の装置。