JPH0348614B2 - - Google Patents

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JPH0348614B2
JPH0348614B2 JP59205154A JP20515484A JPH0348614B2 JP H0348614 B2 JPH0348614 B2 JP H0348614B2 JP 59205154 A JP59205154 A JP 59205154A JP 20515484 A JP20515484 A JP 20515484A JP H0348614 B2 JPH0348614 B2 JP H0348614B2
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JP
Japan
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slit
piece
movable
piezoelectric element
voltage
Prior art date
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JP59205154A
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Japanese (ja)
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JPS6182649A (en
Inventor
Wataru Ogawa
Shinzo Tanaka
Yasuyoshi Oota
Katsuaki Shirato
Kozo Shimazu
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Shimadzu Corp
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Shimadzu Corp
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J49/00Particle spectrometers or separator tubes
    • H01J49/02Details
    • H01J49/06Electron- or ion-optical arrangements
    • H01J49/067Ion lenses, apertures, skimmers

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
  • Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
  • Electron Tubes For Measurement (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は質量分析装置などで使用されるスリツ
ト機構に関し、特にそのスリツト幅を真空室の外
部から変えることのできるスリツト機構に関する
ものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a slit mechanism used in a mass spectrometer, and more particularly to a slit mechanism whose slit width can be changed from outside a vacuum chamber.

(従来の技術) 分析装置、特に真空中で分析を行なう装置に使
用されている従来のスリツト機構は、機械式可変
幅スリツトか固定幅スリツトが殆んどである。
(Prior Art) Most of the conventional slit mechanisms used in analytical devices, especially devices that perform analysis in vacuum, are mechanical variable width slits or fixed width slits.

機械式可変幅スリツトは、真空室外のノブの回
転により直線運動をするシヤフトを真空シール機
構を介して真空室内に導入し、そのシヤフトの先
端に一対のスリツト片の一方のスリツト片を取り
つけて可動とし、他方の固定されたスリツト片と
の間にスリツトを形成したものであり、そのスリ
ツト幅の変更は、ノブを回してシヤフトを直線運
動させることにより行なう。
Mechanical variable width slits are movable by introducing a shaft into the vacuum chamber via a vacuum seal mechanism that moves linearly by rotating a knob outside the vacuum chamber, and attaching one of a pair of slit pieces to the tip of the shaft. A slit is formed between the shaft and the other fixed slit piece, and the width of the slit is changed by turning a knob to move the shaft linearly.

固定幅スリツトは真空室内に幅寸法の異なつた
複数個のスリツトを用意しておき、真空室外の電
動アクチユエータによりそのうちの最適幅寸法の
スリツトを選択して所定位置へ移動させるもので
ある。
A fixed width slit is one in which a plurality of slits with different widths are prepared in a vacuum chamber, and the slit with the optimum width is selected and moved to a predetermined position by an electric actuator outside the vacuum chamber.

(発明が解決しようとする問題点) 機械式可変幅スリツトや固定幅スリツトは可動
部の真空シールや、回転運動を直線運動に変換す
る機構を必要とするので、構造が複雑になる。
(Problems to be Solved by the Invention) Mechanical variable-width slits and fixed-width slits require vacuum seals for movable parts and a mechanism for converting rotational motion into linear motion, resulting in complicated structures.

また、機械式可変幅スリツトは分析装置の自動
化を推進する上で支障になる。
In addition, mechanically variable width slits pose an obstacle to promoting automation of analytical equipment.

本発明は真空室の外部から内部へ電気信号のみ
を送り、その電気信号により真空室内でスリツト
幅を制御することが可能で、かつ構造の簡単なス
リツト機構を提供することを目的とするものであ
る。
It is an object of the present invention to provide a slit mechanism that is capable of sending only an electric signal from the outside of the vacuum chamber to the inside of the vacuum chamber, and that is capable of controlling the slit width within the vacuum chamber using the electric signal, and that has a simple structure. be.

(問題を解決するための手段) 本発明のスリツト機構は、その一対のスリツト
片の少なくとも一方が可動であつて、その可動の
スリツト片(以下スリツト可動片という)はバイ
モルフ形圧電素子の先端部に取り付けられ、その
バイモルフ形圧電素子の基端部は支持体に固定さ
れ、そのバイモルフ形圧電素子に電圧を印加する
ことにより、一対のスリツト片のスリツト幅を変
更させる。
(Means for solving the problem) In the slit mechanism of the present invention, at least one of the pair of slit pieces is movable, and the movable slit piece (hereinafter referred to as the slit movable piece) is located at the tip of the bimorph piezoelectric element. The base end of the bimorph piezoelectric element is fixed to the support, and the slit width of the pair of slit pieces is changed by applying a voltage to the bimorph piezoelectric element.

(作用) バイモルフ形圧電素子は印加される電界に応じ
て変位するため、その圧電素子に取りつけられて
いるスリツト可動片もともに変位し、そのスリツ
ト可動片と対向してスリツトを形成している他方
のスリツト片との間の相対距離、すなわちスリツ
ト幅が印加電界に応じたものになる。
(Function) Since the bimorph piezoelectric element is displaced in accordance with the applied electric field, the movable slit piece attached to the piezoelectric element is also displaced, and the other movable slit piece that faces the movable slit piece and forms the slit. The relative distance between the slit piece and the slit piece, that is, the slit width, depends on the applied electric field.

(実施例) 第1図はバイモルフ形圧電素子を使用した一実
施例を表わし、同図A、同図B及び同図Cはそれ
ぞれ平面図、正面図及び側面図である。
(Embodiment) FIG. 1 shows an embodiment using a bimorph piezoelectric element, and FIG. 1A, FIG. 1B, and FIG. 1C are a plan view, a front view, and a side view, respectively.

2はスリツトSを形成する一対のスリツト片の
一方をなす固定されたスリツト片(以下スリツト
固定片という)で、金属製支持体4に固定されて
いる。6はスリツトSを構成する一対のスリツト
片の他方をなすスリツト可動片で、その一部に溝
8が設けられ、この溝8にバイモルフ形圧電素子
10の先端部が嵌め込まれ接着剤により固着され
ることにより、スリツト可動片6がバイモルフ形
圧電素子10の先端部に取りつけられている。バ
イモルフ形圧電素子10はスリツト可動片6とス
リツト固定片2とが対向してスリツトSを形成す
るように、その基端部が金属製クランパ12によ
り支持体4に固定されている。
Reference numeral 2 denotes a fixed slit piece (hereinafter referred to as a slit fixing piece) which is one of a pair of slit pieces forming the slit S, and is fixed to the metal support 4. Reference numeral 6 denotes a movable slit piece which is the other of the pair of slit pieces constituting the slit S. A groove 8 is provided in a part of the movable slit piece, and the tip of the bimorph piezoelectric element 10 is fitted into this groove 8 and fixed with adhesive. As a result, the movable slit piece 6 is attached to the tip of the bimorph piezoelectric element 10. The base end of the bimorph piezoelectric element 10 is fixed to the support 4 by a metal clamper 12 so that the slit movable piece 6 and the slit fixed piece 2 face each other to form a slit S.

バイモルフ形圧電素子10は中間電極を挟んで
同一方向に分極した2枚の圧電素子が貼り合わさ
れて構成されており、金属製の支持体4とクラン
パ12を両圧電素子に共通の一方の電極とし、中
間電極との間に所定の電界が印加されるようにな
つている。
The bimorph piezoelectric element 10 is constructed by bonding two piezoelectric elements polarized in the same direction with an intermediate electrode in between, and a metal support 4 and a clamper 12 are used as one electrode common to both piezoelectric elements. A predetermined electric field is applied between the electrode and the intermediate electrode.

14はスリツト可動片6の位置を検出する位置
センサとしてのホトインタラプタで、支持体4に
固定されており、その対向する発光部と受光部と
の間隙16にはスリツト可動片6の一部18が挿
入され、その部分18が発光部から受光部への光
を遮ることによりスリツト可動片6の位置が検出
される。
A photointerrupter 14 serves as a position sensor for detecting the position of the movable slit piece 6, and is fixed to the support 4. A part 18 of the movable slit piece 6 is located in the gap 16 between the light emitting part and the light receiving part that face each other. is inserted, and the position of the movable slit piece 6 is detected by the portion 18 blocking light from the light emitting section to the light receiving section.

第2図に本実施例に使用されるスリツト幅制御
系の一例を示す。
FIG. 2 shows an example of the slit width control system used in this embodiment.

20はスリツト幅設定信号と位置センサ14か
らの位置信号とを入力し、両信号を比較してバイ
モルフ形圧電素子10に加える最適な直流電圧の
基になる直流電圧(以下制御電圧という)を発生
させるための制御回路であり、高い増幅率の比例
要素を含んでいるが、オフセツトを完全にとり除
く必要のある場合には、さらに積分要素を含めて
もよい。22は直流電圧発生回路で、制御回路2
0からの信号を受けてバイモルフ形圧電素子10
を駆動するに必要な直流高電圧を発生し、バイモ
ルフ形圧電素子10に印加する。
20 inputs the slit width setting signal and the position signal from the position sensor 14, compares both signals, and generates a DC voltage (hereinafter referred to as control voltage) that is the basis of the optimal DC voltage to be applied to the bimorph piezoelectric element 10. Although this control circuit includes a proportional element with a high amplification factor, it may further include an integral element if it is necessary to completely eliminate the offset. 22 is a DC voltage generation circuit, and control circuit 2
Bimorph type piezoelectric element 10 receives a signal from 0
A high DC voltage necessary to drive the bimorph piezoelectric element 10 is generated and applied to the bimorph piezoelectric element 10.

本実施例の動作を第1図及び第2図により説明
する。いまスリツト可動片6が第1図で実線で示
される状態にあるものとして、スリツト幅を他の
所望の一定幅に変えるためにそれに対応したスリ
ツト幅設定信号を制御回路20に入力すると、制
御回路20でそのスリツト幅設定信号と位置セン
サ14からの信号とが比較され、直流電圧発生回
路22からバイモルフ形圧電素子10へ所定の直
流電圧が印加されて、バイモルフ形圧電素子10
が例えば第1図に鎖線で示される状態に変位しス
リツト可動片6も変位する。このスリツト可動片
6の位置は位置センサ14により検出され、その
検出信号が制御回路20へフイードバツクされる
ことにより、スリツト可動片6の位置が所望の設
定位置になるように精度よく制御される。
The operation of this embodiment will be explained with reference to FIGS. 1 and 2. Assuming that the slit movable piece 6 is now in the state shown by the solid line in FIG. 1, when a corresponding slit width setting signal is input to the control circuit 20 in order to change the slit width to another desired constant width, the control circuit At 20, the slit width setting signal and the signal from the position sensor 14 are compared, and a predetermined DC voltage is applied from the DC voltage generation circuit 22 to the bimorph piezoelectric element 10.
is displaced, for example, to the state shown by the chain line in FIG. 1, and the slit movable piece 6 is also displaced. The position of the movable slit piece 6 is detected by a position sensor 14, and the detection signal is fed back to the control circuit 20, whereby the position of the movable slit piece 6 is accurately controlled to a desired set position.

第2図における直流電圧発生回路の例を第3図
〜第5図に示す。
Examples of the DC voltage generating circuit in FIG. 2 are shown in FIGS. 3 to 5.

第3図の例は発振用IC24と逓倍電圧回路2
6とからなるものである。制御回路20の出力信
号である直流の制御電圧を発振用IC24の電源
電圧として入力して低電圧の交流信号を作り、そ
の交流出力信号を逓倍電圧回路26に入力して昇
圧し、整流し、平滑化する。
The example in Figure 3 is the oscillation IC 24 and the voltage multiplier circuit 2.
It consists of 6. The DC control voltage, which is the output signal of the control circuit 20, is input as the power supply voltage of the oscillation IC 24 to create a low-voltage AC signal, and the AC output signal is input to the voltage multiplier circuit 26, where it is boosted and rectified. Smooth.

ここで、発振用IC24としては、直流の供給
電源電圧を広範囲(例えば5〜15V程度)にとれ
るものが適する。また、逓倍電圧回路26は何段
にも重ねて使用することができる。
Here, as the oscillation IC 24, one that can handle a DC power supply voltage over a wide range (for example, about 5 to 15 V) is suitable. Furthermore, the voltage multiplier circuit 26 can be used in multiple stages.

第4図の例は発振用IC24からの低電圧交流
信号をトランス28により昇圧した後、整流平滑
回路30により直流電圧にするものである。
In the example shown in FIG. 4, a low voltage AC signal from an oscillating IC 24 is boosted by a transformer 28 and then converted to a DC voltage by a rectifier and smoothing circuit 30.

また、第5図の例は第4図と同じく発振用IC
24からの低電圧交流信号をトランス28で昇圧
した後、逓倍電圧回路26により更に昇圧し、整
流平滑を行なうものである。
Also, the example in Figure 5 is the same as in Figure 4, where the oscillation IC
After the low voltage alternating current signal from 24 is boosted by a transformer 28, it is further boosted by a voltage multiplier circuit 26 and rectified and smoothed.

これらの直流電圧発生回路の例において、発振
用ICを使用すると制御系の構成が簡単になり小
型化する利点があるが、発振用ICに代えてトラ
ンジスタ、抵抗、コンデンサなどの個別部品を組
み合せて構成された発振回路を使用してもよい。
In these examples of DC voltage generation circuits, using an oscillation IC has the advantage of simplifying the configuration of the control system and making it more compact. A configured oscillator circuit may also be used.

再び第1図に戻つて説明すると、この実施例で
は一対のスリツト片の一方は可動、他方は固定と
しているが、両スリツト片を2個のバイモルフ形
圧電素子でそれぞれ支持してともに可動になるよ
うにしてもよい。その場合、第1図の実施例と同
じスリツト幅変化量を生じさせるには、バイモル
フ形圧電素子に印加される電圧は約1/2で済む利
点がある。
Returning to FIG. 1 again, in this embodiment, one of the pair of slit pieces is movable and the other is fixed, but both slit pieces are supported by two bimorph piezoelectric elements so that both slit pieces are movable. You can do it like this. In this case, there is an advantage that the voltage applied to the bimorph piezoelectric element can be reduced to about 1/2 in order to produce the same amount of change in slit width as in the embodiment shown in FIG.

第1図の実施例では位置センサ14としてホト
インタラプタを使用しているが、他の位置センサ
を使用してもよい。そして、位置センサ14を使
用するとスリツト幅制御が精度よく行なわれる利
点がある。しかしながら、スリツト幅制御が粗く
てもよい場合には位置センサを省くことができ
る。その場合、制御回路20はスリツト幅設定値
のみを入力して制御電圧を発生するような回路構
成とすればよい。
Although a photointerrupter is used as the position sensor 14 in the embodiment of FIG. 1, other position sensors may be used. The use of the position sensor 14 has the advantage that the slit width can be controlled with high accuracy. However, if coarse slit width control is acceptable, the position sensor can be omitted. In that case, the control circuit 20 may be configured to generate a control voltage by inputting only the slit width setting value.

また、第1図において、バイモルフ形圧電素子
10への印加電圧がスリツト通過ビームに影響を
及ぼす場合には、例えばバイモルフ形圧電素子1
0の全外周部に導電性塗料を塗布し、接地するよ
うにすればよい。
In addition, in FIG. 1, if the voltage applied to the bimorph piezoelectric element 10 affects the beam passing through the slit, for example, the bimorph piezoelectric element 1
It is sufficient to apply conductive paint to the entire outer periphery of 0 and ground it.

(発明の効果) 本発明のスリツトはスリツト幅を電気信号のみ
で制御できるので装置の自動化に有効である。そ
して、バイモルフ形圧電素子によりスリツト片を
直接動かすので、その構造は簡単であり、しかも
低い印加電圧でスリツト幅の変更を行なうことが
できる。
(Effects of the Invention) The slit of the present invention is effective in automating the device because the slit width can be controlled only by electrical signals. Since the slit piece is directly moved by the bimorph type piezoelectric element, the structure is simple and the slit width can be changed with a low applied voltage.

真空室の外部から内部へは電気信号を送るだけ
でよいので、真空シール部は電気信号授受用コネ
クタとすることができ、この点でも構造が簡単に
なる。
Since it is only necessary to send an electric signal from the outside to the inside of the vacuum chamber, the vacuum seal portion can be used as a connector for sending and receiving electric signals, and the structure is simplified in this respect as well.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図A、同図B及び同図Cは本発明の一実施
例を示すそれぞれ平面図、正面図及び側面図、第
2図は同実施例のスリツト幅制御系を示すブロツ
ク図、第3図ないし第5図はそれぞれ第2図にお
ける直流電圧発生回路の例を示すブロツク図であ
る。 2……スリツト固定片、6……スリツト可動
片、10……バイモルフ形圧電素子。
1A, B and C are respectively a plan view, a front view and a side view showing one embodiment of the present invention, FIG. 2 is a block diagram showing a slit width control system of the same embodiment, and FIG. 5 through 5 are block diagrams showing examples of the DC voltage generating circuit shown in FIG. 2, respectively. 2...Slit fixed piece, 6...Slit movable piece, 10...Bimorph type piezoelectric element.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 少くとも一方のスリツト片が可動で一対のス
リツト片によつてスリツトを形成する機構におい
て、前記可動のスリツト片がバイモルフ形圧電素
子の先端部に取り付けられ、前記バイモルフ形圧
電素子の基端部は支持体に固定され、前記バイモ
ルフ形圧電素子に電圧を印加することにより、前
記一対のスリツト片のスリツト幅を変更させるこ
とを特徴とするスリツト機構。
1. In a mechanism in which at least one slit piece is movable and a pair of slit pieces form a slit, the movable slit piece is attached to the tip of a bimorph piezoelectric element, and the movable slit piece is attached to a base end of the bimorph piezoelectric element. is fixed to a support body, and the slit width of the pair of slit pieces is changed by applying a voltage to the bimorph piezoelectric element.
JP59205154A 1984-09-29 1984-09-29 Slit mechanism Granted JPS6182649A (en)

Priority Applications (1)

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JP59205154A JPS6182649A (en) 1984-09-29 1984-09-29 Slit mechanism

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JPS6182649A JPS6182649A (en) 1986-04-26
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JPS63127200A (en) * 1986-11-17 1988-05-31 株式会社島津製作所 Slit device
DE10323923A1 (en) * 2003-05-22 2004-12-16 Carl Zeiss Jena Gmbh Adjustable pinhole, especially for a laser scanning microscope
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