JPH0342429A - Storage/delivery managing system for board - Google Patents

Storage/delivery managing system for board

Info

Publication number
JPH0342429A
JPH0342429A JP1176654A JP17665489A JPH0342429A JP H0342429 A JPH0342429 A JP H0342429A JP 1176654 A JP1176654 A JP 1176654A JP 17665489 A JP17665489 A JP 17665489A JP H0342429 A JPH0342429 A JP H0342429A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
storage
substrate
exposure
shelf
position information
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP1176654A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0790884B2 (en
Inventor
Shunsaku Kodama
児玉 俊作
Yasuhiro Tanaka
康博 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd filed Critical Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority to JP17665489A priority Critical patent/JPH0790884B2/en
Publication of JPH0342429A publication Critical patent/JPH0342429A/en
Publication of JPH0790884B2 publication Critical patent/JPH0790884B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70733Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
    • G03F7/7075Handling workpieces outside exposure position, e.g. SMIF box

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Warehouses Or Storage Devices (AREA)
  • Sheets, Magazines, And Separation Thereof (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

PURPOSE:To deliver or store a required exposure board quickly and correctly by providing a control means controlling the horizontal and vertical movement of a conveying means based on the storage position information and controlling the movement in the depth direction of a board holding means based on the depth position information. CONSTITUTION:When the identification information of an exposure board to be delivered from a storage shelf is designated by a designating means 65, the storage position information corresponding to the identification information is read out from a storage position memory means 62. A control means 60 controls the horizontal and vertical movement of a conveying means based on the storage position information to convey the exposure board held by a board holding means to the designated position of a storage shelf. The board holding means holds and extracts an exposure board stored at this position. The extracted exposure board is conveyed to a board holder by the conveying means and carried in to the required position of the board holder.

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、半導体ウェハや液晶表示装置用ガラス基板な
どの製造工程中のフォトリソグラフィー工程で使用され
る露光用マスクやレチクル等の薄板状の露光用基板を収
納・保管する収納棚と、この収納棚から取り出された露
光用基板を露光機に搬送するために前記露光用基板を一
時的に収納する基板ホルダとの間で、露光用基板の受け
渡しを管理する基板の収納・取り出し管理システムに関
する。
[Detailed Description of the Invention] <Industrial Application Field> The present invention is applicable to thin plate-like materials such as exposure masks and reticles used in photolithography processes during the manufacturing process of semiconductor wafers and glass substrates for liquid crystal display devices. The exposure substrates are stored between a storage shelf that stores and stores the exposure substrates and a substrate holder that temporarily stores the exposure substrates taken out from the storage shelves to transport the exposure substrates to the exposure machine. This invention relates to a board storage/retrieval management system that manages the delivery of boards.

〈従来の技術〉 近年、半導体製造ラインのフォトリソグラフィー工程に
おいて、ラインの自動化が急速に進められている。特に
、少量多品種の製造ラインでは、半導体ウェハに回路パ
ターンを焼き付けるためのマスクやレチクルのような露
光用基板(以下、単に基板という)の数は膨大になり、
これらの基板群の中から所望の基板を間違いなく取り出
し、迅速に露光機にセツティングして、工程の処理能率
を向上させたいという要請が強い。
<Prior Art> In recent years, line automation has been rapidly progressing in the photolithography process of semiconductor manufacturing lines. In particular, in production lines that produce a wide variety of products in small quantities, the number of exposure substrates (hereinafter simply referred to as substrates) such as masks and reticles used to print circuit patterns on semiconductor wafers becomes enormous.
There is a strong demand for improving process efficiency by picking out a desired substrate from a group of substrates without fail and quickly setting it on an exposure machine.

このような要請に応えるために、例えば、特開昭63−
22448号公報に開示されたような基板搬送装置があ
る。
In order to meet such demands, for example,
There is a substrate transport device as disclosed in Japanese Patent No. 22448.

この基板搬送装置は、収納棚から取り出された複数個の
基板を一時的に収納する移動可能なカセットライブラリ
(本発明では、基板ホルダと称する)から、所要の基板
を取り出して露光機に搬送する途中で、基板に付加され
た基板情報を検知し、この基板情報を露光機に伝送して
露光機を予め初期設定しておくことによって、基板の交
換に要する時間を短縮しようとするものである。
This substrate transfer device takes out a required substrate from a movable cassette library (referred to as a substrate holder in the present invention) that temporarily stores a plurality of substrates taken out from a storage shelf and transports it to an exposure machine. During the process, the board information added to the board is detected, and this board information is transmitted to the exposure machine to initialize the exposure machine in advance, thereby reducing the time required to replace the board. .

〈発明が解決しようとする課題〉 上述の基板搬送装置は、カセットライブラリと露光機と
の間の基板の受け渡しを自動化することによって工程の
処理能率を向上させようとするものであり、その点では
有効である。
<Problems to be Solved by the Invention> The above-mentioned substrate transport device is intended to improve processing efficiency of the process by automating the transfer of substrates between the cassette library and the exposure machine. It is valid.

しかし、上記の基板搬送装置を使用しても、多数の基板
が収納された収納棚から所要の基板を取り出してカセッ
トライブラリに収納し、さらには使用済みの基板をカセ
ットライブラリから収納棚に収納するという作業が人手
によって行われているため、基板の取り出し・収納に時
間を要し、しかも間違いが起こりやすいという問題点が
ある。
However, even if the above-mentioned board transfer device is used, it is still necessary to take out the required board from a storage shelf containing a large number of boards, store it in a cassette library, and then store used boards from the cassette library in the storage shelf. Since this work is done manually, there are problems in that it takes time to take out and store the boards, and it is easy to make mistakes.

本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであっ
て、収納棚からの所要の基板の取り出しや、収納棚への
基板の収納を迅速、かつ正確に行うことができる基板の
収納・取り出し管理システムを提供することを目的とし
ている。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and is a storage and storage system for boards that can quickly and accurately take out required boards from a storage shelf and store the boards in a storage shelf. The purpose is to provide a retrieval management system.

く課題を解決するための手段〉 本発明は、このような目的を達成するために、次のよう
な構成をとる。
Means for Solving the Problems> In order to achieve the above objects, the present invention has the following configuration.

即ち、本発明は、複数個の露光用基板を収納・保管する
収納棚と、前記収納棚と露光機との間で所要の露光用基
板を受け渡しするために該露光用基板を一時的に収納す
る基板ホルダとを備え、前記収納棚と基板ホルダとの間
の露光用基板の受け渡しを管理する基板の収納・取り出
し管理システムであって、 前記所要の露光用基板を把持して前記収納棚または基板
ホルダの所要箇所に出し入れする基板把持手段と、 前記基板把持手段を収納棚と基板ホルダとの間で搬送す
る搬送手段と、 前記収納棚の水平および垂直位置情報と、各露光用基板
が!3!置される奥行き位置に係る情報とを記憶する棚
情報記憶手段と、 取り出し・収納すべき露光用基板の識別情報、および/
または該露光用基板の収納位置情報を指定する指定手段
と、 各露光用基板ごとの識別情報に対応した収納位置情報を
記憶する収納位置記憶手段と、前記指定手段から与えら
れた収納位置情報に基づき、あるいは前記指定手段から
与えられた露光用基板の識別情報に応じた収納位置情報
を前記収納位置記憶手段から読み出すことに基づいて、
前記搬送手段の水平・垂直方向の動きを制御し、かつ該
収納位置情報に基づいて前記棚情報記憶手段から読み出
した奥行き位置情報に基づいて前記基板把持手段の奥行
き方向の動きを制御する制御手段と、 を備えたものである。
That is, the present invention provides a storage shelf for storing and storing a plurality of exposure substrates, and a storage shelf for temporarily storing the exposure substrates in order to transfer required exposure substrates between the storage shelf and the exposure machine. A substrate storage/retrieval management system comprising: a substrate holder for controlling the transfer of exposure substrates between the storage shelf and the substrate holder; A substrate gripping means for loading and unloading the substrate at required locations on the substrate holder; A transport means for transporting the substrate gripping means between the storage shelf and the substrate holder; Horizontal and vertical position information of the storage shelf; and information on each exposure substrate! 3! shelf information storage means for storing information relating to the depth position where the exposure substrates are placed, identification information of exposure substrates to be taken out and stored, and/or
or specifying means for specifying storage position information of the exposure substrate; storage position storage means for storing storage position information corresponding to identification information for each exposure substrate; or based on reading storage position information from the storage position storage means according to the identification information of the exposure substrate given from the designation means,
Control means for controlling horizontal and vertical movement of the transport means, and controlling movement of the substrate gripping means in the depth direction based on depth position information read from the shelf information storage means based on the storage position information. It is equipped with the following.

く作用〉 本発明の作用は次のとおりである。Effect〉 The effects of the present invention are as follows.

蕗11」■u□阻チ也旦 収納棚から取り出すべき露光用基板の識別情報が指定手
段によって指定されると、収納位置記憶手段から当該識
別情報に対応する収納位置情報が読み出される。制御手
段は、この収納位置情報に基づき、搬送手段の水平・垂
直方向の動きを制御して、基板把持手段に把持された露
光用基板を収納棚の指定位置に搬送する。基板把持手段
は、その位置に保管されている露光用基板を把持して取
り出す。取り出された露光用基板は、搬送手段によって
基板ホルダにまで搬送されて、基板ホルダの所要位置に
搬入される。
When the identification information of the exposure substrate to be taken out from the storage shelf is specified by the specifying means, the storage position information corresponding to the identification information is read from the storage position storage means. The control means controls the movement of the transport means in the horizontal and vertical directions based on this storage position information, and transports the exposure substrate gripped by the substrate grip means to a specified position on the storage shelf. The substrate gripping means grips and takes out the exposure substrate stored at that position. The taken out exposure substrate is conveyed to the substrate holder by the conveyance means, and is carried into a desired position of the substrate holder.

江見五茎板且塁豊 露光用基板を収納棚の所定位置に収納する態様としては
、次のような態様がある。例えば、指定手段から、その
露光用基板の収納位置を直接指定する態様であり、他の
例としては、指定手段から露光用基板の識別情報を指定
する場合である。
There are the following modes for storing the Emi Gosku board and Ruitoyo exposure substrate in a predetermined position on the storage shelf. For example, there is a mode in which the storing position of the exposure substrate is directly specified from the specifying means, and another example is a case where identification information of the exposure substrate is specified from the specifying means.

指定手段によって露光用基板の収納位置情報が与えられ
た場合はその収納位置情報に基づき、あるいは指定手段
によって露光用基板の識別情報が与えられた場合には、
その識別情報に対応した収納位置情報を収納位置記憶手
段から読み出すことに基づき、制御手段は、搬送手段の
水平・垂直方向の動きを制御して、基板把持手段に把持
された露光用基板を収納棚の所定位置にまで搬送する。
When storage position information of the exposure substrate is given by the designation means, based on the storage position information, or when identification information of the exposure board is given by the designation means,
Based on reading storage position information corresponding to the identification information from the storage position storage means, the control means controls the horizontal and vertical movement of the transport means to store the exposure substrate gripped by the substrate gripping means. Transport it to the specified position on the shelf.

そして、その収納位置情報に対応する奥行き位置情報を
棚情報記憶手段から読み出し、この情報に基づき基板把
持手段の奥行き方向の動きを制御して、その露光用基板
を収納棚内の所定の奥行き位置にNIi置する。
Then, depth position information corresponding to the storage position information is read from the shelf information storage means, and based on this information, the movement of the substrate gripping means in the depth direction is controlled, and the exposure substrate is moved to a predetermined depth position within the storage shelf. Place NIi on.

〈実施例〉 以下、本発明の一実施例を詳細に説明する。<Example> Hereinafter, one embodiment of the present invention will be described in detail.

第1図は、実施例に係る基板の収納・取り出し管理シス
テムのM1略図であり、同図(a)は平面図、同図(b
)は正面図である。
FIG. 1 is an M1 schematic diagram of the board storage/retrieval management system according to the embodiment, where (a) is a plan view and (b) is a plan view.
) is a front view.

図中、符号lは複数個の露光用基板を水平・垂直方向に
それぞれ区画して収納・保管する収納棚である。この収
納棚lには、露光用基板としての例えばレチクルが収納
される。レチクルは第2図に示すようなレチクルケース
4に収納されている。
In the figure, reference numeral 1 denotes a storage shelf that stores and stores a plurality of exposure substrates by dividing them horizontally and vertically. This storage shelf l stores, for example, a reticle as an exposure substrate. The reticle is housed in a reticle case 4 as shown in FIG.

レチクルケース4には、開閉自在の前蓋3が設けられて
おり、この前蓋3の前面に、収納されているレチクル2
の機種や属性などを識別するための識別情報としてのバ
ーコード5が貼り付けられている。レチクルケース4の
両側面には、レチクルケース4の受渡し時に係止される
ツメ6と案内用のガイド7とが形成されている。
The reticle case 4 is provided with a front lid 3 that can be opened and closed, and the reticle 2 stored therein is provided on the front of the front lid 3.
A barcode 5 is pasted as identification information for identifying the model, attributes, etc. of the device. On both sides of the reticle case 4, there are formed claws 6 that are engaged when the reticle case 4 is delivered, and guides 7 for guiding.

収納棚1の細部構造を第3図に示す。各レチクルケース
4が個別に載置される棚は、左右一対の棚ガイド8から
構成されており、各硼ガイド8の底面にはレチクルケー
ス4を支える支持ビン9と、レチクルケース4の左右方
向の動きを規制するガイドビンIOとが立設されている
The detailed structure of the storage shelf 1 is shown in FIG. The shelf on which each reticle case 4 is individually placed is composed of a pair of left and right shelf guides 8, and on the bottom of each guide 8 there is a support bin 9 that supports the reticle case 4, and a support bin 9 that supports the reticle case 4 in the left and right direction. A guide bin IO is installed upright to regulate the movement of the guide bin IO.

第1図に戻って、符号11は収納棚1から取り出された
レチクルケース4を、図示しない露光機に移送するため
に、これを−次的に収納する基板ホルダである。この基
板ホルダ11は螺軸12に螺合されたホルダ載置台13
に載置され、前記螺軸12をパルスモータ80で回転駆
動することにより、基板ホルダ11を所定の基板受渡し
高さに設定できるように構成されている。
Returning to FIG. 1, the reference numeral 11 designates a substrate holder that temporarily stores the reticle case 4 taken out from the storage shelf 1 in order to transfer it to an exposure machine (not shown). This substrate holder 11 has a holder mounting base 13 screwed onto a screw shaft 12.
By rotating the screw shaft 12 with a pulse motor 80, the substrate holder 11 can be set at a predetermined substrate delivery height.

符号14は、レチクルケース4を把持して収納棚Iに出
し入れする基板把持手段としての基板把持機構である。
Reference numeral 14 denotes a substrate gripping mechanism as a substrate gripping means for gripping the reticle case 4 and taking it in and out of the storage shelf I.

この基板把持機構14は、搬送機構15によって収納棚
1の水平(図中、X方向)・垂直方向(図中、Y方向)
の任意の位置に搬送される。
This substrate gripping mechanism 14 is moved horizontally (in the X direction in the figure) and vertically (in the Y direction in the figure) on the storage shelf 1 by the transport mechanism 15.
transported to any location.

搬送機構15は、垂直搬送機構として基板把持機構14
に螺合された螺軸16とこれを駆動するパルスモータ1
7を含み、また、水平搬送機構としてランク・ビニオン
機構18とこれを駆動するパルスモータ19などを含む
The transport mechanism 15 includes a substrate gripping mechanism 14 as a vertical transport mechanism.
A screw shaft 16 screwed into the screw shaft 16 and a pulse motor 1 driving the screw shaft 16
7, and also includes a rank-binion mechanism 18 and a pulse motor 19 for driving the same as a horizontal conveyance mechanism.

基板把持機構14のtlI戒を第4図に示す。The tlI command of the substrate gripping mechanism 14 is shown in FIG.

同図(a)は基板把持機構14の平面図、同図(b)は
その正面図である。
3A is a plan view of the substrate gripping mechanism 14, and FIG. 1B is a front view thereof.

基板把持機構14のベース板20は、上述した螺軸16
と、ガイド棒21に沿って昇降し、このベース板20に
、基板把持機構14を収納棚1の奥行き方向(図中、Z
方向)に移動させるための駆動機構として、パルスモー
タ22と、このパルスモータ22によって駆動される螺
軸23が取付けられている。24は、レチクルケース4
を下方から支えるための支持プレートであり、この支持
プレート24に螺軸23が螺合されているとともに、ガ
イド棒23aが挿通されている。支持プレート24には
、レチクルケース4の端部を上方から押さえ込んで、そ
の動きを規制するための押さえプレート25と、これに
ピン結合されたエアーシリンダ26とが設けられている
The base plate 20 of the substrate gripping mechanism 14 has the screw shaft 16 described above.
The substrate gripping mechanism 14 is moved up and down along the guide rod 21 and attached to the base plate 20 in the depth direction of the storage shelf 1 (Z in the figure).
A pulse motor 22 and a screw shaft 23 driven by the pulse motor 22 are installed as a drive mechanism for moving the robot in the direction (direction). 24 is reticle case 4
A screw shaft 23 is screwed onto this support plate 24, and a guide rod 23a is inserted therethrough. The support plate 24 is provided with a press plate 25 for pressing the end of the reticle case 4 from above and regulating its movement, and an air cylinder 26 connected to the press plate with a pin.

押さえプレート25は先端部がr T Jの字形状をし
ており、その基部に遊嵌された軸27の両端が支持プレ
ート28のガイド孔29に挿通・支持されている。
The tip of the holding plate 25 has an r T J shape, and both ends of a shaft 27 loosely fitted to the base thereof are inserted into and supported by the guide holes 29 of the supporting plate 28 .

ガイド穴29は水平の長孔状で、その前方端部(第4図
(b)における左側端部)が傾斜状に下方に屈曲してい
る。これによりエアーシリンダ26のロッド26aが縮
退したときには、押さえプレート25は上方に位置し、
ロッド26aが伸長したときには、輪軸27の端部がガ
イド孔29の前方端部の窪みに落ち込んで、押さえプレ
ート25が下降し、レチクルケース4を押さえ込むよう
になっている。
The guide hole 29 is in the form of a horizontal long hole, and its front end (the left end in FIG. 4(b)) is bent downward in an inclined manner. As a result, when the rod 26a of the air cylinder 26 is retracted, the holding plate 25 is located upward,
When the rod 26a is extended, the end of the wheel shaft 27 falls into the recess at the front end of the guide hole 29, and the holding plate 25 descends to hold down the reticle case 4.

なお、基板把持機構14の支持プレート24には、レチ
クルケース4を検出するための光学センサS1、S2と
、レチクルケース4に貼着されたバーコード5を3売み
取るためのバーコードリーダS3が付設されている。こ
のバーコードリーダS3は、収納槽1に収納すべきレチ
クル2の識別情報を指定するための指定手段に相当して
いる。
Note that the support plate 24 of the substrate gripping mechanism 14 includes optical sensors S1 and S2 for detecting the reticle case 4, and a barcode reader S3 for selling the barcode 5 affixed to the reticle case 4. is attached. This barcode reader S3 corresponds to a specifying means for specifying identification information of the reticle 2 to be stored in the storage tank 1.

第1図に戻って、符号30は、基板把持機構14と基板
ホルダItとの間でレチクルケース4の受渡しを行うた
めの受渡し機構である。この受渡し機構30の構成を第
5図に示す、同図(a)は平面図、同図(ロ)は(a)
図の1−[矢視図、同図(C)は(81図の■−■矢視
図である。
Returning to FIG. 1, reference numeral 30 is a transfer mechanism for transferring the reticle case 4 between the substrate gripping mechanism 14 and the substrate holder It. The configuration of this delivery mechanism 30 is shown in FIG. 5, where (a) is a plan view and (b) is a plan view.
1-[arrow view in the figure, the same figure (C) is a (■-■ arrow view in Figure 81).

第5図において、符号31はレチクルケース4を側面側
から把持する一対の把持アームである。各把持アーム3
1の先端部内側には、レチクルケース4の側面に形成さ
れたツメ6に係合する凹部32が形成されている。各把
持アーム31の基部は、ロークリアクチュエータ33に
それぞれ連結されており、このロークリアクチュエータ
33を駆動することにより、把持アーム31が開閉動作
するように構成されている。
In FIG. 5, reference numeral 31 denotes a pair of gripping arms that grip the reticle case 4 from the side. Each gripping arm 3
A recess 32 that engages with a tab 6 formed on the side surface of the reticle case 4 is formed inside the tip of the reticle case 4 . The base of each gripping arm 31 is connected to a row rear actuator 33, and by driving this row rear actuator 33, the gripping arm 31 is configured to open and close.

各ロークリアクチュエータ33は、移動ベース34に取
付けられている。移動ベース34には、螺軸35が螺合
されているとともに、ガイド棒36が挿通されており、
螺軸35に連結されたパルスモータ37を駆動すること
により、把持アーム31が移動ベース34と一体となっ
て前後動(Z方向に移動)するように構成されている。
Each row reactuator 33 is attached to a moving base 34. A screw shaft 35 is screwed into the moving base 34, and a guide rod 36 is inserted therethrough.
By driving a pulse motor 37 connected to a screw shaft 35, the grip arm 31 is configured to move back and forth (move in the Z direction) integrally with the moving base 34.

38は、螺軸35およびガイド捧36が取付けられてい
るベース板であり、このベース板38に螺軸51が螺合
されるとともに、ガイド棒52が挿通されおり、前記螺
軸51がパルスモータ53(第1図(a)参照)に回転
駆動されることにより、受渡し機構30がX方向に移動
するように構成されている。ベース板3日の長手方向側
面には側板39がそれぞれ設けられており、各側板39
には、レチクルケース4の受渡し時にレチクルケース4
のガイド7を下方から支持する複数個のガイドローラ4
0と、レチクルケース4の底面を支持する支持ローラ4
1とが取付けられている。
38 is a base plate to which a screw shaft 35 and a guide bar 36 are attached; a screw shaft 51 is screwed onto this base plate 38, and a guide rod 52 is inserted through the base plate 38; 53 (see FIG. 1(a)), the delivery mechanism 30 is configured to move in the X direction. Side plates 39 are provided on the longitudinal side surfaces of the base plate 3, and each side plate 39
When the reticle case 4 is delivered, the reticle case 4
A plurality of guide rollers 4 support the guide 7 from below.
0 and a support roller 4 that supports the bottom surface of the reticle case 4.
1 is attached.

また、第5図(C)に示すように、側板39には、L形
リンク43が揺動自在に支持されており、各り形リンク
43の先端部には、レチクルケース4が基板ホルダ11
または基板把持機構14から受け渡されたときに、レチ
クルケース4の側面に当接してこれを位置決めする位置
決めローラ42が取付けられている。このL形リンク4
3の下端は棒状カム44に当接している。第5図(b)
に示すように、移動ベース34に取付けられたカムホロ
ワ45に当接している棒状カム44のカム面の原点側(
第5図(b)における右!@)には凹部46が形成され
ている。このカム面に当接してカムホロワ45が転勤す
ることにより、棒状カム44が上下動して、位置決めロ
ーラ42を開閉動作するように構成されている。
Further, as shown in FIG. 5(C), an L-shaped link 43 is swingably supported on the side plate 39, and a reticle case 4 is attached to the substrate holder 11 at the tip of each L-shaped link 43.
Alternatively, a positioning roller 42 is attached that contacts the side surface of the reticle case 4 to position it when it is delivered from the substrate gripping mechanism 14. This L-shaped link 4
The lower end of 3 is in contact with a rod-shaped cam 44. Figure 5(b)
As shown in FIG. 3, the origin side (
Right in Figure 5(b)! A recess 46 is formed in @). When the cam follower 45 comes into contact with this cam surface and moves, the rod-shaped cam 44 moves up and down, and the positioning roller 42 is opened and closed.

上述した棒状カム44は、ベース板38に上下動自在に
支持されたブツシュロッド47の先端に当接している。
The above-mentioned rod-shaped cam 44 is in contact with the tip of a bushing rod 47 that is supported by the base plate 38 so as to be movable up and down.

ブツシュロッド47の下端にはカムホロワ48が取付け
られており、このカムホロワ48が固定ベース49上で
X方向に取付けられた棒状カム50上を転勤することに
より、ブツシュロッド47の作用によっても棒状カム4
4を上下動できるように構戒されている。
A cam follower 48 is attached to the lower end of the bushing rod 47. By moving the cam follower 48 over a bar-shaped cam 50 mounted in the X direction on a fixed base 49, the action of the bushing rod 47 also causes the bar-shaped cam to
4 can be moved up and down.

次に、第6図を参照して、本実施例の制御系の構成を説
明する。
Next, the configuration of the control system of this embodiment will be explained with reference to FIG.

60は、本発明における制御手段に相当するCPUであ
り、このCPtJ60は入出力インターフェイス67を
介して、上述した基板の収納・取り出し装置のパルスモ
ータI7.19.22.37.53、エアーシリンダ2
6、ロークリアクチュエータ33、バーコードリーダS
3、および装置の各所に設置されたセンサ群に接続され
ている。
60 is a CPU corresponding to the control means in the present invention, and this CPtJ60 controls the pulse motor I7, 19, 22, 37, 53 and the air cylinder 2 of the above-mentioned substrate storage/retrieval device via the input/output interface 67.
6. Row reactuator 33, barcode reader S
3, and is connected to a group of sensors installed at various locations on the device.

61は装置の動作プログラムを記憶するROM、62は
棚情報記憶部63と収納位置記憶部64を含むRAMで
ある。棚情報記憶部63には、収納1IItの各機の水
平および垂直位置情報と、レチクルケース4が各棚内に
配置されるべき奥行き位置情報とが記憶されている。こ
の奥行き位置情報は、レチクルケース4が柵におけるi
3!置位置の基準としての支持ピン9に対して、各機の
奥行き方向の一定の位置に載置されるよう、各機ごとに
予め作成されて設定されるデータである(第3図参照)
、また、収納位置記憶部64には、各レチクルケース4
の識別情報に対応付けて、各レチクルケース4を収納す
べき収納棚1の水平・垂直の収納位置情報が記憶されて
いる。
Reference numeral 61 represents a ROM that stores an operation program for the apparatus, and reference numeral 62 represents a RAM that includes a shelf information storage section 63 and a storage position storage section 64. The shelf information storage unit 63 stores horizontal and vertical position information of each machine in the storage 1IIt, and depth position information at which the reticle case 4 should be placed in each shelf. This depth position information indicates that the reticle case 4 is located at the fence i.
3! This data is created and set in advance for each machine so that each machine is placed at a fixed position in the depth direction with respect to the support pin 9 that serves as a reference for the placement position (see Figure 3).
In addition, each reticle case 4 is stored in the storage position storage section 64.
Horizontal and vertical storage position information of the storage shelf 1 in which each reticle case 4 is to be stored is stored in association with the identification information.

65は、レチクル2の識別情報や、そのレチクル2の収
納位置情報を指定するキーボードであり、このキーボー
ド65は上述したバーコードリーダS3と相まって、本
発明における指定手段に対応している。66は人力され
た情報やオペレータに対するメツセージなどを表示する
CRTである。
Reference numeral 65 denotes a keyboard for specifying identification information of the reticle 2 and storage position information of the reticle 2. This keyboard 65, together with the above-mentioned barcode reader S3, corresponds to the specifying means in the present invention. Reference numeral 66 is a CRT for displaying manually entered information and messages for the operator.

68は、複数台のレチクル収納棚を管理する工程コント
ローラ70を介してホストコンピュータ71との間で通
信するための通信インターフェイスである。ホストコン
ピュータ7Iは、例えば半導体装置製造ラインの全体を
管理するものである。
68 is a communication interface for communicating with a host computer 71 via a process controller 70 that manages a plurality of reticle storage shelves. The host computer 7I manages, for example, the entire semiconductor device manufacturing line.

次に、上述した構成を備えたシステムの動作について説
明する。
Next, the operation of the system having the above configuration will be explained.

(A)レチクル2の取り出し動作 (1)  レチクル2の識別情報の入力収納m1に収納
・保管されている多数のレチクル2の中から、所望のレ
チクル2を取り出すために、キーボード65から取り出
したいレチクル2の識別情報をキー人力する。あるいは
、所望のレチクル2を取り出すべき時刻が予め決まって
いるような管理された工程では、そのレチクル2の識別
情報と取り出し時刻を、ホストコンピュータ71から工
程コントローラ70および通信インターフェイス68を
介して伝送して、RAM62内に記憶させておき、予め
定められた取り出し時刻になったときに、RAM62内
に記憶された所要のレチクル2の識別情報を自動的に読
み出すようにすることもできる。
(A) Reticle 2 Retrieval Operation (1) Reticle 2 Identification Information Input Reticle to be retrieved from the keyboard 65 in order to retrieve the desired reticle 2 from among the large number of reticles 2 stored in storage m1. Enter the identification information in step 2. Alternatively, in a controlled process where the time at which a desired reticle 2 is to be taken out is determined in advance, the identification information and the time to take out the reticle 2 may be transmitted from the host computer 71 via the process controller 70 and the communication interface 68. It is also possible to store the identification information in the RAM 62 and automatically read out the identification information of the required reticle 2 stored in the RAM 62 when a predetermined take-out time comes.

(2)搬送機構15の水平・垂直方向移動上述のように
して取り出すべきレチクル2の識別情報が与えられると
、CPtJ60はその識別情報に対応したレチクル2の
水平・垂直位置情報をRAM62の収納位置記憶部64
から読み出し、この水平・垂直位置情報に基づき、搬送
機構15の水平方向駆動用のパルスモータ19と垂直方
向駆動用のパルスモータ17とをそれぞれ駆動制御nシ
て、基板把持機構14を該レチクル2が収納された棚位
置に移動させる。
(2) Horizontal and vertical movement of the transport mechanism 15 When the identification information of the reticle 2 to be taken out is given as described above, the CPtJ 60 stores the horizontal and vertical position information of the reticle 2 corresponding to the identification information in the storage position of the RAM 62. Storage section 64
Based on this horizontal and vertical position information, drive control of the horizontal drive pulse motor 19 and vertical drive pulse motor 17 of the transport mechanism 15 is performed to move the substrate gripping mechanism 14 to the reticle 2. Move it to the shelf where it is stored.

(3)基板把持機構14の奥行き方向移動基板把持機$
114が収納mlの所定位置に移動すると、パルスモー
タ22が駆動されることにより、支持プレート24が収
納JIIlの奥行き方向に移動されて、棚内のレチクル
ケース4の下方に挿入される。このとき、エアーシリン
ダ26のロンド26aは縮退して、押さえプレート25
は上方の位置にある。
(3) Board gripping machine that moves in the depth direction of the board gripping mechanism 14 $
114 is moved to a predetermined position in the storage ml, the pulse motor 22 is driven, so that the support plate 24 is moved in the depth direction of the storage JIIl and inserted below the reticle case 4 in the shelf. At this time, the iron 26a of the air cylinder 26 retracts, and the holding plate 25
is in the upper position.

支持プレート24が移動しているときに、光学センサS
lの検出信号により、その棚内にレチクルケース4が収
納されているどうかが確認される。レチクルケース4が
収納されていることが確認されると、基板把持機構14
はさらに奥方向に駆動される。そして、レチクルケース
4の先端部が支持プレート24の前の光学センサS2の
位置にまで達したときに、光学センサS2の検出信号に
基づきパルスモータ22が停止される。このとき、基板
把持II tI 14に設けられたバーコードリーダS
3によって、そのレチクルケース4のバーコード5を読
み取り、指定されたレチクル2の識別情報と比較して、
誤りがないかどうかを確認するようにしてもよい。
When the support plate 24 is moving, the optical sensor S
Based on the detection signal 1, it is confirmed whether the reticle case 4 is stored in the shelf. When it is confirmed that the reticle case 4 is stored, the board gripping mechanism 14
is driven further inward. Then, when the tip of the reticle case 4 reaches the position of the optical sensor S2 in front of the support plate 24, the pulse motor 22 is stopped based on the detection signal of the optical sensor S2. At this time, the barcode reader S provided on the substrate grip II tI 14
3 reads the barcode 5 of the reticle case 4 and compares it with the specified identification information of the reticle 2.
You may also check to see if there are any errors.

(4)  レチクルケース4の把持動作パルスモータ2
2が停止すると、搬送機構15の垂直方向搬送用のパル
スモーク17が駆動されて、支持プレート24が僅かに
上昇駆動される。これにより、棚ガイド8の支持ピン9
にia置されていたレチクルケース4が支持プレート2
4に移載される。
(4) Grasping operation pulse motor 2 of reticle case 4
2 stops, the pulse smoke 17 for vertical conveyance of the conveyance mechanism 15 is driven, and the support plate 24 is driven slightly upward. As a result, the support pin 9 of the shelf guide 8
The reticle case 4 that was placed on the support plate 2
Transferred to 4th.

そして、エアーシリンダ26のロッド26aが伸長駆動
されることにより、押さえプレート25が前方に押し出
される。押さえプレート25の軸27がガイド孔29に
沿って前進して、その先端部窪みに落ち込むと、押さえ
プレート25が下降し、支持プレート24と押さえプレ
ート25とによってレチクルケース4の端部が把持され
る。
Then, the rod 26a of the air cylinder 26 is driven to extend, thereby pushing the holding plate 25 forward. When the shaft 27 of the holding plate 25 moves forward along the guide hole 29 and falls into the recess at its tip, the holding plate 25 descends and the end of the reticle case 4 is gripped by the support plate 24 and the holding plate 25. Ru.

(5)  レチクルケース4の搬送動作レチクルケース
4が基板把持機構14に把持されると、パルスモータ2
2が逆転駆動されることにより、基板把持機構14に把
持されたレチクルケース4が収納[M 1から取り出さ
れる。そして、搬送機構15のパルスモータ19とパル
スモータ17とが駆動されることにより、基板把持機構
14はレチクルケース4の受渡し位W(第1図に実線で
示す基板把持機構14の位置)にまで搬送される。
(5) Transporting operation of reticle case 4 When the reticle case 4 is gripped by the substrate gripping mechanism 14, the pulse motor 2
2 is reversely driven, the reticle case 4 gripped by the substrate gripping mechanism 14 is taken out from the storage [M1]. Then, by driving the pulse motor 19 and the pulse motor 17 of the transport mechanism 15, the substrate gripping mechanism 14 reaches the transfer position W of the reticle case 4 (the position of the substrate gripping mechanism 14 indicated by a solid line in FIG. 1). transported.

(6)基板把持機構14から受渡し機構30へのレチク
ルケース4の受渡し動作 基板把持機構14が受渡し位置に搬送されたことが、図
示しないセンサで検出されると、同じく受渡し位置で待
機している受渡し機構30のパルスモータ′37が駆動
されることにより、移動ベース34が前方に繰り出され
る。このとき、ロークリアクチュエータ33は把持アー
ム31が開状態になるように設定されている。移動ベー
ス34が所定位置にまで繰り出されるとパルスモータ3
7が停止するとともに、ロークリアクチュエータ33が
駆動されて把持アーム31が閉状態になり、把持アーム
31の凹部32がレチクルケース4のツメ6に係合する
(6) Delivery operation of the reticle case 4 from the substrate gripping mechanism 14 to the delivery mechanism 30 When a sensor (not shown) detects that the substrate gripping mechanism 14 has been transported to the delivery position, the reticle case 4 is also placed on standby at the delivery position. By driving the pulse motor '37 of the delivery mechanism 30, the movable base 34 is moved forward. At this time, the row reactuator 33 is set so that the gripping arm 31 is in the open state. When the moving base 34 is extended to a predetermined position, the pulse motor 3
7 stops, the row rear actuator 33 is driven to bring the grip arm 31 into the closed state, and the recess 32 of the grip arm 31 engages with the claw 6 of the reticle case 4.

レチクルケース4が把持アーム31に把持されると、基
板把持機構14の押さえプレート25が上昇駆動される
。そして、受渡し機構30のパルスモータ37が逆転駆
動されることにより移動ベース34が後退する。基板把
持機構14から受渡し機構30へレチクルケース4が移
載されるとき、レチクルケース4のガイド7がガイドロ
ーラ40で案内され、続いてレチクルケース4の底面が
支持ローラ41で支持されて所定位置にまで移動される
When the reticle case 4 is gripped by the gripping arm 31, the holding plate 25 of the substrate gripping mechanism 14 is driven upward. Then, the pulse motor 37 of the delivery mechanism 30 is driven in reverse, so that the movable base 34 is moved backward. When the reticle case 4 is transferred from the substrate gripping mechanism 14 to the delivery mechanism 30, the guide 7 of the reticle case 4 is guided by the guide roller 40, and then the bottom surface of the reticle case 4 is supported by the support roller 41 and held at a predetermined position. will be moved to.

レチクルケース4が所定位置にまで移動して停止される
と、移動ベース34に取付けられたカムホロワ45が棒
状カム44の凹部46に達することにより棒状カム44
が下降する。こうして、棒状カム44の上面に当接して
いるL形リンク43が内側に変位して、位置決めローラ
42がレチクルケース4の側面に当接し、レチクルケー
ス4の左右位置が位置決めされる。
When the reticle case 4 moves to a predetermined position and is stopped, the cam follower 45 attached to the moving base 34 reaches the recess 46 of the bar-shaped cam 44, causing the bar-shaped cam 44 to
descends. In this way, the L-shaped link 43 that is in contact with the upper surface of the rod-shaped cam 44 is displaced inward, the positioning roller 42 is brought into contact with the side surface of the reticle case 4, and the left and right positions of the reticle case 4 are determined.

(7)受渡し機構30から基板ホルダ11へのレチクル
ケース4の搬入動作 前記(6)のようにしてレチクルケース4が受渡し機構
30に移載されると、受渡し機構30のパルスモータ5
3が駆動されることにより、受渡し機構30が基板ホル
ダ11の待機位置方向に水平駆動される。
(7) Operation of carrying the reticle case 4 from the delivery mechanism 30 to the substrate holder 11 When the reticle case 4 is transferred to the delivery mechanism 30 as described in (6) above, the pulse motor 5 of the delivery mechanism 30
3 is driven, the delivery mechanism 30 is horizontally driven in the direction of the standby position of the substrate holder 11.

受渡し機構30が基板ホルダ11に対向する位置に達し
たことが、図示しないセンサで検出されるとパルスモー
タ53が停止される。受渡し機構30の停止位置におい
て、固定ベース49上の棒状カム50は凸面になってい
る。そのため、受渡し機構30が停止位置にきたとき、
棒状カム50によってブツシュロッド47が突き上げら
れて棒状カム44が上昇し、■、形リンク43が外側に
変位することにより、位置決めローラ42とレチクルケ
ース4との接触状態が解除される。
When a sensor (not shown) detects that the transfer mechanism 30 has reached a position facing the substrate holder 11, the pulse motor 53 is stopped. At the stop position of the delivery mechanism 30, the rod-shaped cam 50 on the fixed base 49 has a convex surface. Therefore, when the delivery mechanism 30 comes to the stop position,
The bush rod 47 is pushed up by the bar-shaped cam 50, the bar-shaped cam 44 is raised, and the shaped link 43 is displaced outward, thereby releasing the contact between the positioning roller 42 and the reticle case 4.

レチクルケース4の基板ホルダ11への搬入に際しては
、パルスモータ37が駆動されて移動ベース34が前方
に繰り出されることにより、基板ホルダ11内へレチク
ルケース4が挿入される。レチクルケース4が基板ホル
ダll内へ挿入されると、ロークリアクチュエータ33
が駆動されて把持アーム31が開状態に変位される。そ
して、パルスモータ37が逆転駆動されて移動ベース3
4が定位置に戻されると、さらにパルスモータ53が逆
転駆動されて受渡し機構30が元の受渡し位置(第1図
(a)の実線で示した受渡し機構30の位置)に戻され
る。
When carrying the reticle case 4 into the substrate holder 11, the pulse motor 37 is driven to move the moving base 34 forward, thereby inserting the reticle case 4 into the substrate holder 11. When the reticle case 4 is inserted into the substrate holder ll, the row reactuator 33
is driven, and the gripping arm 31 is displaced to the open state. Then, the pulse motor 37 is driven in reverse, and the moving base 3
4 is returned to the normal position, the pulse motor 53 is further driven in the reverse direction, and the delivery mechanism 30 is returned to the original delivery position (the position of the delivery mechanism 30 shown by the solid line in FIG. 1(a)).

以上のような動作が繰り返し行われることにより、指定
されたレチクル2が収納11111から順次に取り出さ
れて、基板ホルダIIに搬入される。
By repeating the above operations, the designated reticles 2 are sequentially taken out from the storage 11111 and carried into the substrate holder II.

必要なレチクル2が基板ホルダH内に全て搬入されると
、人手あるいは自動搬送によって、基板ホルダ11が露
光機にまで移送される。
When all the necessary reticles 2 are carried into the substrate holder H, the substrate holder 11 is transferred to the exposure machine by hand or automatic transportation.

CB)次に、基板ホルダ11に入れられた使用済みレチ
クル2を収納棚1に収納するための動作について説明す
る。
CB) Next, the operation for storing the used reticle 2 placed in the substrate holder 11 in the storage shelf 1 will be explained.

(11基4反ホルダ11からのレチクルケース4の取り
出し動作 基板ホルダ11からレチクルケース4を取り出すときは
、受渡し機構30を基板ホルダ11に対向する位置に設
定し、パルスモータ37を駆動して移動ベース34を前
進させ、把持アーム31によって基板ホルダ11内のレ
チクルケース4を把持して基板ホルダ11から搬出する
。次にパルスモーク53が駆動され、レチクルケース4
は基板把持機構14への受渡し位置に搬送される。
(Operation for taking out the reticle case 4 from the holder 11) When taking out the reticle case 4 from the substrate holder 11, the delivery mechanism 30 is set to a position facing the substrate holder 11, and the pulse motor 37 is driven to move it. The base 34 is advanced, and the gripping arm 31 grips the reticle case 4 in the substrate holder 11 and carries it out from the substrate holder 11. Next, the pulse smoke 53 is driven, and the reticle case 4 is removed from the substrate holder 11.
is transported to a delivery position to the substrate gripping mechanism 14.

(2)受渡し機構30から基板把持機構14へのレチク
ルケース4の受渡し 受渡し機構30が基板把持機構14への受渡し位置に達
して停止すると、パルスモータ37が駆動されて移動ベ
ース34が繰り出される。このとき、基板把持機構14
の押さえプレート25が開状態で待機しており、受渡し
8g横30から繰り出されたレチクルケース4がセンサ
S2で検出されることにより、押さえプレート25が閉
状態に駆動される。レチクルケース4が基板把持機構1
4に把持されると、把持アーム31は開状態に駆動され
、続いて移動ベース34が後退した後、基板ホルダ11
への受渡し位置にまで駆動されて、次のレチクルケース
4を搬出する。
(2) Delivery of the reticle case 4 from the delivery mechanism 30 to the substrate gripping mechanism 14 When the delivery mechanism 30 reaches the delivery position to the substrate gripping mechanism 14 and stops, the pulse motor 37 is driven and the movable base 34 is extended. At this time, the substrate gripping mechanism 14
The holding plate 25 is waiting in an open state, and the sensor S2 detects the reticle case 4 drawn out from the 8g side 30, and the holding plate 25 is driven to the closed state. The reticle case 4 is the substrate gripping mechanism 1
4, the gripping arm 31 is driven to the open state, and then, after the movable base 34 retreats, the substrate holder 11
The reticle case 4 is driven to the delivery position to carry out the next reticle case 4.

(3)  レチクルケース4の識別情報の読み取りレチ
クルケース4が基板把持機構14に受け取られると、基
板把持機構14に設けられたバーコードリーダS3によ
って、レチクルケース4の貼り付けられたバーコード5
が読み取られる。バーコード5を読み取ることによって
得られたレチクル2の識別情報はCPU60に送られる
。CPU60は、この識別情報に対応するレチクル2の
収納位置情報(収納棚1の水平・垂直位置情報)をRA
M62の収納位置記憶部64から読み出す。
(3) Reading the identification information of the reticle case 4 When the reticle case 4 is received by the substrate gripping mechanism 14, the barcode reader S3 provided in the substrate gripping mechanism 14 reads the barcode 5 pasted on the reticle case 4.
is read. Identification information of the reticle 2 obtained by reading the barcode 5 is sent to the CPU 60. The CPU 60 sends the storage position information of the reticle 2 (horizontal and vertical position information of the storage shelf 1) corresponding to this identification information to the RA.
Read from the storage position storage section 64 of M62.

(4)  レチクルケース4の搬送動作CP[J60は
、収納位置記憶部64から読み出した当該レチクル2の
水平・垂直位置情報に基づき、搬送機!115のパルス
モータ17.19を駆動して、基レチクルケース4を所
定の棚位置にまで搬送する。
(4) The transport operation CP of the reticle case 4 [J60 is the transport machine! The pulse motors 17 and 19 of 115 are driven to transport the base reticle case 4 to a predetermined shelf position.

(5)  レチクルケース4の収納動作レチクルケース
4が所定の棚位置にまで達すると、CPU60はそのレ
チクル2の収納位置情報に基づき、当該棚位置の奥行き
位置情報をRAM62の棚情報記憶部63から読み出す
、CPU60ば、この奥行き位置情報に基づき、基板把
持機構14のパルスモータ22を駆動することにより、
支持プレート24と押さえプレート25で把持されてい
るレチクルケース4を前方に繰り出して、その棚内に挿
入する。このとき、支持プレート24の先端部に取付け
られた光学センサS1によって、その棚位置に他のレチ
クルケース4が入っていないかどうかが確認される。他
のレチクルケース4が入っていなければ、把持されたレ
チクルケース4がさらに繰り出されて所定の奥行き位置
にまで移送される。
(5) Storing operation of reticle case 4 When the reticle case 4 reaches a predetermined shelf position, the CPU 60 stores the depth position information of the shelf position from the shelf information storage section 63 of the RAM 62 based on the storage position information of the reticle 2. The read CPU 60 drives the pulse motor 22 of the substrate gripping mechanism 14 based on this depth position information.
The reticle case 4 held by the support plate 24 and the holding plate 25 is fed forward and inserted into the shelf. At this time, the optical sensor S1 attached to the tip of the support plate 24 confirms whether or not another reticle case 4 is in the shelf position. If no other reticle case 4 is contained, the gripped reticle case 4 is further extended and transported to a predetermined depth position.

レチクルケース4が所定位置に達すると、パルスモータ
22が停止されるとともに、押さえプレート25が上方
に駆動されて、レチクルケース4の把持状態が解除され
る。続いて、搬送機構15のパルスモータ17が駆動さ
れて、支持プレート24が僅かに下降される。これによ
り支持プレート24上のレチクルケース4が、棚ガイド
8の支持ピン9上に移載される。
When the reticle case 4 reaches a predetermined position, the pulse motor 22 is stopped, the presser plate 25 is driven upward, and the gripping state of the reticle case 4 is released. Subsequently, the pulse motor 17 of the transport mechanism 15 is driven, and the support plate 24 is slightly lowered. As a result, the reticle case 4 on the support plate 24 is transferred onto the support pins 9 of the shelf guide 8.

レチクルケース4が収納棚1の所定位置に収納されと、
パルスモータ22が逆転して支持プレート24が後退し
、続いて搬送機構15のパルスモータl719が駆動さ
れることにより、基板把持機構14は次のレチクルケー
ス4を受けるために受渡し機構30との受渡し位置に戻
される。
When the reticle case 4 is stored in a predetermined position on the storage shelf 1,
The pulse motor 22 reverses and the support plate 24 retreats, and then the pulse motor 1719 of the transport mechanism 15 is driven, so that the substrate gripping mechanism 14 transfers to and from the transfer mechanism 30 to receive the next reticle case 4. returned to position.

以上の動作が繰り返し行われることにより、基仮ホルダ
11内のレチクルケース4が、各々に対応した棚位置に
順に収納される。
By repeating the above operations, the reticle cases 4 in the base temporary holder 11 are stored in the corresponding shelf positions in order.

なお、上述の動作説明では、レチクルケース4を収納棚
lの所定に収納する場合に、レチクルケース4のバーコ
ード5をt売み取ることによって、そのレチクル2の収
納位置情報をRAM62から読み出すようにしたが、こ
れは収納位置情報をキーボード65から直接に入力する
ようにしてもよい。
In the above operation description, when the reticle case 4 is stored in a predetermined position on the storage shelf l, the storage position information of the reticle 2 is read out from the RAM 62 by selling the barcode 5 of the reticle case 4. However, the storage position information may be input directly from the keyboard 65.

また、上述した実施例では基板ホルダ11を前方に引き
出せるようにするために、基板ホルダ11と基板把持機
構14との間のレチクルケース4の受渡しを、受渡し機
構30を介して行った。このようにすることるより、第
1図に示す装置を工程内の壁面に取付けすることができ
るので、省スペース化を図ることができる。一方、基板
ホルダ11を後方から引き出すことが許容される場合に
は、受渡し機構30を設ける必要はなく、基板ホルダ1
1と基板把持機構14との間で、レチクルケース4を直
接に受渡しするように構成してもよい、このような装置
によれば、受渡し機構30を設けない分だけ、装置の構
成を簡略化することができる。
Further, in the embodiment described above, in order to be able to pull out the substrate holder 11 forward, the reticle case 4 is transferred between the substrate holder 11 and the substrate gripping mechanism 14 via the transfer mechanism 30. By doing this, the apparatus shown in FIG. 1 can be attached to the wall within the process, thereby saving space. On the other hand, if it is allowed to pull out the substrate holder 11 from the rear, there is no need to provide the delivery mechanism 30 and the substrate holder 1
1 and the substrate gripping mechanism 14. According to such an apparatus, the configuration of the apparatus is simplified by not providing the transfer mechanism 30. can do.

さらに、実施例では露光用基板としてレチクルを例にと
って説明したが、露光用マスクの場合も同様であること
はいうまでもない。
Furthermore, although the embodiments have been described using a reticle as an example of an exposure substrate, it goes without saying that the same applies to an exposure mask.

また、実施例ではレチクルケース4を収納棚1から取り
出す際に、基板把持機構14の支持プレート24に設け
られた光学センサS2の検出信号に基づきパルスモータ
22の動きを制御しているが、レチクルケース4の収納
時と同様に種情報記憶部63に記憶された奥行き位置情
報に基づいてパルスモータ22の動きを制御してレチク
ルケース4を取り出すようにしてもよい。
Further, in the embodiment, when taking out the reticle case 4 from the storage shelf 1, the movement of the pulse motor 22 is controlled based on the detection signal of the optical sensor S2 provided on the support plate 24 of the substrate gripping mechanism 14. The reticle case 4 may be taken out by controlling the movement of the pulse motor 22 based on the depth position information stored in the seed information storage section 63 in the same way as when the case 4 is stored.

〈発明の効果〉 以上の説明から明らかなように、本発明によれば、収納
棚からの露光用基板の取り出しや、収納棚への露光用基
板の収納を自動的に行なえるように構成したから、人手
によって行っていた従来と比較して、所要の露光用基板
を迅速、かつ正確に取り出し・収納することができ、フ
ォトリソグラフィー工程の処理効率が向上する。
<Effects of the Invention> As is clear from the above description, according to the present invention, the structure is such that the exposure substrate can be automatically taken out from the storage shelf and the exposure substrate can be stored in the storage shelf. Therefore, compared to the conventional method in which the process was performed manually, the required exposure substrates can be taken out and stored quickly and accurately, and the processing efficiency of the photolithography process is improved.

また、本発明は、収納棚の各棚位置の水平・垂直位置情
報ととともに、各々の棚位置に応じて露光用基板を載置
すべき奥行き位置情報を予め記憶しておき、露光用基板
の収納時には、この奥行き情報に対応した位置に露光用
基板を載置するようにしたから、個々の棚位置にセンサ
を設置して、奥行き位置を決める場合に比較して、装置
の構成が簡単になる。
Further, the present invention stores in advance the horizontal and vertical position information of each shelf position of the storage shelf as well as the depth position information at which the exposure substrate should be placed according to each shelf position, and During storage, the exposure substrate is placed at a position corresponding to this depth information, which simplifies the configuration of the device compared to installing sensors at individual shelf positions to determine the depth position. Become.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図ないし第6図は本発明の一実施例に係り、第1図
は基板の収納・取り出し管理システムを構成する各機構
部を示した概略図、第2図はレチクルケースの外観斜視
図、第3図は収納棚の柵ガイドの斜視図、第4図は基板
把持機構の説明図、第5図は受渡し機構の説明図、第6
図は制御系の概略構成を示したブロック図である。
Figures 1 to 6 relate to one embodiment of the present invention, with Figure 1 being a schematic diagram showing each mechanical part constituting the board storage/retrieval management system, and Figure 2 being an external perspective view of the reticle case. , Figure 3 is a perspective view of the fence guide of the storage shelf, Figure 4 is an explanatory diagram of the board gripping mechanism, Figure 5 is an explanatory diagram of the delivery mechanism, and Figure 6 is an explanatory diagram of the delivery mechanism.
The figure is a block diagram showing a schematic configuration of a control system.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)複数個の露光用基板または露光用基板を収納した
収納ケース(以下、単に露光用基板と記す)を収納・保
管する収納棚と、前記収納棚と露光機との間で所要の露
光用基板を受け渡しするために該露光用基板を一時的に
収納する基板ホルダとを備え、前記収納棚と基板ホルダ
との間の露光用基板の受け渡しを管理する基板の収納・
取り出し管理システムであって、 前記所要の露光用基板を把持して前記収納棚または基板
ホルダの所要箇所に出し入れする基板把持手段と、 前記基板把持手段を収納棚と基板ホルダとの間で搬送す
る搬送手段と、 前記収納棚の水平および垂直位置情報と、各露光用基板
が載置される奥行き位置に係る情報とを記憶する棚情報
記憶手段と、 取り出し・収納すべき露光用基板の識別情報、および/
または該露光用基板の収納位置情報を指定する指定手段
と、 各露光用基板ごとの識別情報に対応した収納位置情報を
記憶する収納位置記憶手段と、 前記指定手段から与えられた収納位置情報に基づき、あ
るいは前記指定手段から与えられた露光用基板の識別情
報に応じた収納位置情報を前記収納位置記憶手段から読
み出すことに基づいて、前記搬送手段の水平・垂直方向
の動きを制御し、かつ該収納位置情報に基づいて前記棚
情報記憶手段から読み出した奥行き位置情報に基づいて
前記基板把持手段の奥行き方向の動きを制御する制御手
段と、 を備えたことを特徴とする基板の収納・取り出し管理シ
ステム。
(1) A storage shelf that houses and stores a plurality of exposure substrates or a storage case containing exposure substrates (hereinafter simply referred to as exposure substrates), and the required exposure between the storage shelf and the exposure machine. a substrate holder for temporarily storing the exposure substrate in order to transfer the exposure substrate, and a substrate storage/holder for managing the transfer of the exposure substrate between the storage shelf and the substrate holder.
A take-out management system, comprising: a substrate gripping means for gripping the required exposure substrate and taking it in and out of the storage shelf or the substrate holder at a required location; and transporting the substrate gripping means between the storage shelf and the substrate holder. a transport means, a shelf information storage means for storing horizontal and vertical position information of the storage shelf, information regarding the depth position at which each exposure substrate is placed, and identification information of the exposure substrate to be taken out and stored. ,and/
or specifying means for specifying storage position information of the exposure substrate; storage position storage means for storing storage position information corresponding to identification information for each exposure substrate; and storage position information given from the specification means. controlling horizontal and vertical movement of the conveying means based on the storage position storage means, or based on reading storage position information according to the identification information of the exposure substrate given from the designation means from the storage position storage means; A control means for controlling the movement of the substrate gripping means in the depth direction based on the depth position information read from the shelf information storage means based on the storage position information. management system.
JP17665489A 1989-07-08 1989-07-08 Board storage / removal management system Expired - Lifetime JPH0790884B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17665489A JPH0790884B2 (en) 1989-07-08 1989-07-08 Board storage / removal management system

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17665489A JPH0790884B2 (en) 1989-07-08 1989-07-08 Board storage / removal management system

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0342429A true JPH0342429A (en) 1991-02-22
JPH0790884B2 JPH0790884B2 (en) 1995-10-04

Family

ID=16017360

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP17665489A Expired - Lifetime JPH0790884B2 (en) 1989-07-08 1989-07-08 Board storage / removal management system

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0790884B2 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04299551A (en) * 1991-03-27 1992-10-22 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Rotary type substrate processing equipment
JP2010013237A (en) * 2008-07-04 2010-01-21 Tsubakimoto Chain Co Automatic high-rise warehouse
JP2020136440A (en) * 2019-02-18 2020-08-31 台湾大福高科技設備股▲分▼有限公司 Article storage facility

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59181550A (en) * 1983-03-31 1984-10-16 Toshiba Corp Equipment for management of incomings and outgoings of photomask
JPS61197303A (en) * 1985-02-25 1986-09-01 Toyota Motor Corp Inventory machine
JPS62121103A (en) * 1985-11-18 1987-06-02 Daifuku Co Ltd Computer control method in automated warehouse
JPS62136402A (en) * 1985-12-10 1987-06-19 Mitsubishi Metal Corp Device for conveying and storing article

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59181550A (en) * 1983-03-31 1984-10-16 Toshiba Corp Equipment for management of incomings and outgoings of photomask
JPS61197303A (en) * 1985-02-25 1986-09-01 Toyota Motor Corp Inventory machine
JPS62121103A (en) * 1985-11-18 1987-06-02 Daifuku Co Ltd Computer control method in automated warehouse
JPS62136402A (en) * 1985-12-10 1987-06-19 Mitsubishi Metal Corp Device for conveying and storing article

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04299551A (en) * 1991-03-27 1992-10-22 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Rotary type substrate processing equipment
JP2598720B2 (en) * 1991-03-27 1997-04-09 大日本スクリーン製造株式会社 Rotary substrate processing equipment
JP2010013237A (en) * 2008-07-04 2010-01-21 Tsubakimoto Chain Co Automatic high-rise warehouse
JP2020136440A (en) * 2019-02-18 2020-08-31 台湾大福高科技設備股▲分▼有限公司 Article storage facility

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0790884B2 (en) 1995-10-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4775281A (en) Apparatus and method for loading and unloading wafers
WO2021036064A1 (en) Computer mainframe box assembly apparatus
CA1093379A (en) Automatic plate feeding device for embossing machines
CN209142942U (en) SMT surface-mounted device charging tray goes out Input System automatically
JP4368612B2 (en) Component supply apparatus and control method thereof
JPH09329774A (en) Appearance inspecting device for liquid crystal display substrate
JPH0342429A (en) Storage/delivery managing system for board
JP2912108B2 (en) Semiconductor wafer production management system
JPH0659579B2 (en) Automatic article feeder
US20020003994A1 (en) Component source interchange gantry
JPS60153308A (en) Device for supplying and discharging print circuit board
JP2740441B2 (en) Playboard manufacturing equipment
JP3119041B2 (en) Electronic component supply device and electronic component supply method
JPH10291131A (en) Article supply device and its method
JPH07115094B2 (en) Plate processing method
JP2691844B2 (en) Nail inspection equipment for game board manufacturing
JP2011040478A (en) Electronic component mounting device
JPH0430549A (en) Substrate conveyance device
CN218520583U (en) Circuit board conveyer
JP2647788B2 (en) Drilling machine for playing board production
JP2589927B2 (en) Nail hitting work line for ball game machines
JP2542155B2 (en) Nail supply device for play board manufacturing
JP2711034B2 (en) Photosensitive plate storage and transport device
JPH0430553A (en) Substrate aligning supporting device
JPS6036205A (en) Housing device