JPH0339952A - Silver halide photographic sensitive material - Google Patents

Silver halide photographic sensitive material

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JPH0339952A
JPH0339952A JP9348490A JP9348490A JPH0339952A JP H0339952 A JPH0339952 A JP H0339952A JP 9348490 A JP9348490 A JP 9348490A JP 9348490 A JP9348490 A JP 9348490A JP H0339952 A JPH0339952 A JP H0339952A
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Kazunobu Kato
加藤 和信
Morio Yagihara
八木原 盛夫
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Abstract

PURPOSE:To obtain a contrasty image with a developing soln. having high stability by forming a photosensitive silver halide emulsion layer contg. a hydrazine deriv. and a hydrophilic colloidal layer contg. a redox compd. capable of releasing a development inhibitor when oxidized. CONSTITUTION:At least one photosensitive silver halide emulsion layer contg. a hydrazine deriv. and a hydrophilic colloidal layer contg. a redox compd. capable of releasing a development inhibitor when oxidized and different from a photosensitive silver halide emulsion layer are formed. The redox group of the redox compd. is preferably selected among hydroquinones, catechols, naphthohydroquinones, aminophenols, pyrazolidones, hydrazines, hydroxylamines and reductones, especially hydrazines. An image can be made contrasty by development with a processing soln. having satisfactory shelf stability.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はハロゲン化銀写真感光材料及びそれを用いた超
硬調ネガ画像形成方法に関するものであり、特に写真製
版工程に用いられるハロゲン化銀写真感光材料に適した
超硬調ネガ型写真感光材料に関するものである。
Detailed Description of the Invention (Industrial Application Field) The present invention relates to a silver halide photographic light-sensitive material and a method for forming an ultra-high contrast negative image using the same, and in particular to a silver halide photograph used in a photolithography process. The present invention relates to ultra-high contrast negative type photographic materials suitable for photosensitive materials.

(従来技術) 写真製版の分野においては、印刷物の多様性、複雑性に
対処するために、オリジナル再現性の良好な写真感光材
料、安定な処理液あるいは、補充の簡易化などの要望が
ある。
(Prior Art) In the field of photoengraving, in order to deal with the diversity and complexity of printed matter, there are demands for photosensitive materials with good original reproducibility, stable processing solutions, and easy replenishment.

特に線画撮影工程における、原稿は写植文字、手書きの
文字、イラスト、網点化された写真などが貼り込まれて
作られる。したがって原稿には、濃度や、線巾の異なる
画像が混在し、これらの原稿を再現よく仕上げる製版カ
メラ、写真感光材料あるいは、画像形成方法が強く望ま
れている。−方、カタログや、大型ポスターの製版には
、網写真の拡大(目伸し)あるいは縮小(目縮め)が広
く行なわれ、網点を拡大して用いる製版では、線数が粗
くなりボケた点の撮影となる。縮小では原稿よりさらに
線数/インキが大きく細い点の撮影になる。従ってm1
iiの再現性を維持するためより一層広いラチチュード
を有する画像形成方法が要求されている。
Particularly in the line drawing process, manuscripts are created by pasting typesetting characters, handwritten characters, illustrations, halftone photographs, etc. Therefore, a document contains images of different densities and line widths, and there is a strong desire for a plate-making camera, a photosensitive material, or an image forming method that can finish these documents with good reproduction. On the other hand, enlarging (stretching) or reducing (shrinking) halftone photographs is widely used in plate making for catalogs and large posters. The point will be photographed. When reduced, the number of lines/ink is larger than that of the original, resulting in a photograph of a thinner point. Therefore m1
In order to maintain the reproducibility of ii., an image forming method having a wider latitude is required.

製版用カメラの光源としては、ハロゲンランプあるいは
、キセノンランプが用いられている。これらの光源に対
して撮影感度を得るために、写真感光材料は通常オルソ
増感が施される。ところがオルソ増感した写真感光材料
はレンズの色収差の影響をより強く受け、そのために画
質が劣化しゃすいことが判明した。またこの劣化はキセ
ノンランプ光源に対してより顕著となる。
A halogen lamp or a xenon lamp is used as a light source for a plate-making camera. In order to obtain sensitivity to these light sources, photographic materials are usually orthosensitized. However, it has been found that ortho-sensitized photographic materials are more strongly affected by the chromatic aberration of the lens, and as a result, image quality tends to deteriorate. Moreover, this deterioration is more noticeable for xenon lamp light sources.

広いラチチュードの要望に応えるシステムとして塩臭化
銀(すくなくとも塩化銀含有率が50%以上)から成る
リス型ハロゲン化銀感光材料を、亜硫酸イオンの有効濃
度をきわめて低くした(通to、1モル/I!、以下)
ハイドロキノン現像液で処理することにより、画像部と
非画像部が明瞭に区別された、高いコントラストと高い
黒化濃度をもつ線画あるいは網点画像を得る方法が知ら
れている。しかしこの方法では現像液中の亜硫酸濃度が
低いため、現像は空気酸化に対して極めて不安定であり
、液活性を安定に保つためにさまざまな努力と工夫がな
されて使用されていたり、処理スピードが著しく遅い、
作業効率を低下させているのが現状であった。
As a system that meets the demands for a wide latitude, we use a lithium-type silver halide photosensitive material made of silver chlorobromide (silver chloride content of at least 50%), with an extremely low effective concentration of sulfite ions (total, 1 mol/min). I!, hereafter)
A method is known in which a line image or a halftone dot image with high contrast and high blackening density, in which image areas and non-image areas are clearly distinguished, is obtained by processing with a hydroquinone developer. However, due to the low concentration of sulfite in the developing solution, this method is extremely unstable to air oxidation, and various efforts and innovations have been made to keep the solution activity stable. is extremely slow,
The current situation was that work efficiency was decreasing.

このため、上記のような現像方法(リス現像システム)
による画像形成の不安定さを解消し、良好な保存安定性
を有する処理液で現像し、超階調な写真特性が得られる
画像形成システムが要望され、その1つとして米国特許
4,166.742号、同4,168,977号、同4
,221,857号、同4,224,401号、同4,
243゜739号、同4,272,606号、同4,3
11.781号にみられるように、特定のアシルヒドラ
ジン化合物を添加した表面潜像型ハロゲン化銀写真感光
材料を、PH11,0〜12.3で亜硫酸保恒剤を0.
15モル/1以上含み、良好な保存安定性を有する現像
液で処理して、Tが10を越える超階調のネガ画像を形
成するシステムが提案された。この新しい画像形成シス
テムには、従来の超硬調画像形成では塩化銀含有率の高
い塩臭化銀しか使用できなかったのに対して、沃臭化銀
や塩沃臭化銀でも使用できるという特徴がある。
For this reason, the above development method (lith development system)
There is a need for an image forming system that eliminates the instability of image formation caused by the method, develops with a processing solution that has good storage stability, and obtains ultra-gradation photographic characteristics, and one example of this is US Pat. No. 4,166. No. 742, No. 4,168,977, No. 4
, No. 221,857, No. 4,224,401, No. 4,
No. 243゜739, No. 4,272,606, No. 4,3
As seen in No. 11.781, a surface latent image type silver halide photographic light-sensitive material to which a specific acylhydrazine compound has been added is prepared at a pH of 11.0 to 12.3 and a sulfite preservative of 0.00.
A system has been proposed in which a super-tone negative image with T of more than 10 is formed by processing with a developer containing 15 mol/1 or more and having good storage stability. This new image forming system has the feature that it can also use silver iodobromide and silver chloroiodobromide, whereas conventional ultra-high contrast image formation could only use silver chlorobromide, which has a high silver chloride content. There is.

上記画像システムはシャープな網点品質、処理安定性、
迅速性およびオリジナルの再現性という点ですぐれた性
能を示すが、近年の印刷物の多様性に対処するためにさ
らにオリジナル再現性の改良されたシステムが望まれて
いる。
The above image system has sharp halftone dot quality, processing stability,
Although it shows excellent performance in terms of speed and original reproducibility, a system with further improved original reproducibility is desired in order to deal with the variety of printed matter in recent years.

特開昭61−213847号およびUS4,684.6
04号の酸化により写真有用基を放出するレドックス化
合物を含む感光材料が示され、階調再現域を広げる試み
が示されている。しかしながら、ヒドラジン誘導体を用
いた超硬調処理システムではこれらのレドックス化合物
は硬調化を阻害する弊害があり、その特性を活すことが
できなかった。
JP 61-213847 and US 4,684.6
No. 04 discloses a photosensitive material containing a redox compound that releases a photographically useful group upon oxidation, and attempts are made to widen the gradation reproduction range. However, in ultra-high contrast processing systems using hydrazine derivatives, these redox compounds have the disadvantage of inhibiting high contrast, and their properties cannot be utilized.

(発明の目的) 従って本発明の目的は、第1に安定性の高い現像液を用
いて硬調な画像が得られる製版用感光材料を提供するこ
とにある。
(Objective of the Invention) Therefore, the first object of the present invention is to provide a photosensitive material for plate making that can produce high-contrast images using a highly stable developer.

第2に網階調の広い製版用感光材料を提供することにあ
る。第3に、ヒドラジン造核剤を用いた硬調感材で網階
調の広い製版用感光材料を提供することにある。
The second object is to provide a photosensitive material for plate making with a wide halftone gradation. Thirdly, it is an object of the present invention to provide a photosensitive material for plate making which is a high-contrast photosensitive material using a hydrazine nucleating agent and has a wide halftone gradation.

(発明の構成) 本発明のこれらの目的は、ヒドラジン誘導体を含む少な
くとも1種の感光性ハロゲン化銀乳剤層と、酸化される
ことにより現像抑制剤を放出しろるレドックス化合物を
含む前記感光性ハロゲン化銀層とは異なる親水性コロイ
ド層を有することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材
料によって連成された。
(Structure of the Invention) These objects of the present invention are to provide at least one photosensitive silver halide emulsion layer containing a hydrazine derivative and a photosensitive silver halide emulsion layer containing a redox compound capable of releasing a development inhibitor upon oxidation. It was coupled with a silver halide photographic light-sensitive material characterized by having a hydrophilic colloid layer different from the silver halide layer.

本発明の酸化されることにより現像抑制剤を放出しうる
レドックス化合物について説明する。
The redox compound of the present invention that can release a development inhibitor when oxidized will be explained.

レドックス化合物のレドックス基としては、ハイドロキ
ノン類、カテコール類、ナフトハイドロキノン類、アミ
ノフェノール類、ビラプリトン類、ヒドラジン類、ヒド
ロキシルアミン類、レダクトン類であることが好ましく
、ヒドラジン類であることがさらに好ましい。
The redox group of the redox compound is preferably hydroquinones, catechols, naphthohydroquinones, aminophenols, birapritons, hydrazines, hydroxylamines, and reductones, and more preferably hydrazines.

本発明の酸化されることにより現像抑制剤を放出しろる
レドックス化合物として用いられるヒドラジン類は好ま
しくは以下の一般式(R−1)、一般式(R−2)、一
般式(R−3)で表わされる。一般式(R−1)で表わ
される化合物が特に好ましい。
The hydrazines used as the redox compound that releases a development inhibitor upon oxidation of the present invention are preferably represented by the following general formulas (R-1), (R-2), and (R-3): It is expressed as A compound represented by general formula (R-1) is particularly preferred.

一般式(R−1) I At 一般式(R−2) 1 A。General formula (R-1) I At General formula (R-2) 1 A.

4 一般式(R−3) 0 これらの式中、 1 は脂肪族基または芳香族基 1 または−P−基を表わす、G3は単なる結合手、Gt 
 R* −O−−S−または−N−を表わし、R8は水t 素原子またはR1を表わす。
4 General formula (R-3) 0 In these formulas, 1 represents an aliphatic group or aromatic group 1 or -P- group, G3 is a simple bond, Gt
R* represents -O--S- or -N-, and R8 represents a hydrogen atom or R1.

A + 、A zは水素原子、アルキルスルホニル基、
アリールスルホニル基またはアシル基を表わし置換され
ていても良い、一般式(R−1)ではAI%Atの少な
くとも一方は水素原子である。A、はA、 と同義また
は−GHzCH−+Time)z−PUGを表わす。
A + , A z are hydrogen atoms, alkylsulfonyl groups,
In general formula (R-1), which represents an arylsulfonyl group or an acyl group and may be substituted, at least one of AI%At is a hydrogen atom. A has the same meaning as A, or represents -GHzCH-+Time)z-PUG.

4 A4はニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、スルホ基
または−G、−G、−R,を表わす。
4 A4 represents a nitro group, a cyano group, a carboxyl group, a sulfo group, or -G, -G, -R.

Timeば二価の連結基を表わし、乙はOまたはlを表
わす、PUGは現像印刷剤を表わす。
Time represents a divalent linking group, O represents O or l, and PUG represents a developing printing agent.

一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)についてさ
らに詳細に説明する。
General formulas (R-1), (R-2), and (R-3) will be explained in more detail.

一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)において、
R,で表される脂肪族基は好ましくは炭素数1〜30の
ものであって、特に炭素数l〜20の直鎮、分岐または
環状のアルキル基である。
In general formulas (R-1), (R-2), (R-3),
The aliphatic group represented by R is preferably one having 1 to 30 carbon atoms, particularly a straight, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms.

ここで分岐アルキル基はその中に1つまたはそれ以上の
へテロ原子を含んだ飽和のへテロ環を形成するように環
化されていてもよい、またこのアルキル基は、アリール
基、アルコキシ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、
カルボンアよド基等の置換基を有していてもよい。
The branched alkyl group may be cyclized to form a saturated heterocycle containing one or more heteroatoms, and the alkyl group may be an aryl group, an alkoxy group, or , sulfoxy group, sulfonamide group,
It may have a substituent such as a carbonate group.

一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)においてR
1で表される芳香族基は単環または2環のアリール基ま
たは不飽和へテロ環基である。ここで不飽和へテロ環基
は単環または2環の7リール基と縮合してヘテロアリー
ル基を形成してもよい。
In general formulas (R-1), (R-2), (R-3), R
The aromatic group represented by 1 is a monocyclic or bicyclic aryl group or an unsaturated heterocyclic group. Here, the unsaturated heterocyclic group may be condensed with a monocyclic or bicyclic 7-aryl group to form a heteroaryl group.

例えばベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環・ピリミ
ジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、キノリン環、
イソキノリン環、ベンズイミダゾール環、チアゾール環
、ベンゾチアゾール環等があるがなかでもベンゼン環を
含むものが好ましい。
For example, benzene ring, naphthalene ring, pyridine ring/pyrimidine ring, imidazole ring, pyrazole ring, quinoline ring,
Examples include isoquinoline ring, benzimidazole ring, thiazole ring, and benzothiazole ring, among which those containing a benzene ring are preferred.

R1として特に好ましいものはアリール基である。Particularly preferred as R1 is an aryl group.

R,のアリール基または不飽和へテロ環基は置換されて
いてもよく、代表的な置換基としては、例えばアルキル
基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アル
コキシ基、アリール基、W換アミノ基、ウレイド基、ウ
レタン基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カル
バモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホ
ニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲンi子
、シアノ基、スルホ基、アリールオキシカルボニル基、
アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、
カルボンアミド基、スルホンアミド基、カルボキシル基
、リン酸アミド基などが挙げられ、好ましい置換基とし
ては直鎮、分岐または環状のアルキル基(好ましくは炭
素数1〜20のもの)、アラルキル基(好ましくはアル
キル部分の炭素数1〜20の単環または2環のもの)、
アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜30のもの)、置
換アミノ基(好ましくは炭素数1〜30のアルキル基で
置換されたアミノ基)、アジルアミノ基(好ましくは炭
素数2〜40を持つもの〉、スルホンアミド基(好まし
くは炭素数1〜40を持つもの)、ウレイド基(好まし
くは炭素数l〜40を持つもの)、リン酸アミド基(好
ましくは炭素数L〜40のもの)などである。
The aryl group or unsaturated heterocyclic group of R may be substituted, and typical substituents include an alkyl group, an aralkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an alkoxy group, an aryl group, a W-substituted amino group, ureido group, urethane group, aryloxy group, sulfamoyl group, carbamoyl group, alkylthio group, arylthio group, sulfonyl group, sulfinyl group, hydroxy group, i-halogen group, cyano group, sulfo group, aryloxycarbonyl group,
Acyl group, alkoxycarbonyl group, acyloxy group,
Examples include carbonamide group, sulfonamide group, carboxyl group, phosphoric acid amide group, etc. Preferred substituents include straight, branched or cyclic alkyl group (preferably one having 1 to 20 carbon atoms), aralkyl group (preferably is a monocyclic or bicyclic alkyl moiety having 1 to 20 carbon atoms),
Alkoxy group (preferably one having 1 to 30 carbon atoms), substituted amino group (preferably an amino group substituted with an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms), azilamino group (preferably one having 2 to 40 carbon atoms) , a sulfonamide group (preferably having 1 to 40 carbon atoms), a ureido group (preferably having 1 to 40 carbon atoms), a phosphoric acid amide group (preferably having 1 to 40 carbon atoms), etc. .

一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)と1 しては−〇−基、−SO,−基が好ましく、−C−基が
最も好ましい。
For general formulas (R-1), (R-2), and (R-3), -0- group and -SO,- group are preferable, and -C- group is most preferable.

At 、Atは水素原子、炭素数20以下のアルキルス
ルホニル基およびアリールスルホニル基(好ましくはフ
ェニルスルホニル基又は)\メットの置換基定数の和が
−0,5以上となるように置換されたフェニルスルホニ
ル基)、炭素数20以下のアシル基(好ましくはベンゾ
イル基、又は)\メットの置換基定数の和が−0,5以
上となるように置換されたベンゾイル基、あるいは直鎖
又は分岐状又は環状の無置換及び置換脂肪族アシル基(
置換基としては例えばハロゲン原子、エーテル基、スル
ホンアミド基、カルボンアミド基、水酸基、カルボキシ
基、スルホン酸基が挙げられる。))が好ましい。
At, At is a hydrogen atom, an alkylsulfonyl group having 20 or less carbon atoms, and an arylsulfonyl group (preferably a phenylsulfonyl group or) \ phenylsulfonyl substituted such that the sum of the substituent constants of Met is -0.5 or more group), an acyl group having 20 or less carbon atoms (preferably a benzoyl group, or) a benzoyl group substituted such that the sum of the substituent constants of Met is -0.5 or more, or a linear, branched, or cyclic group unsubstituted and substituted aliphatic acyl groups (
Examples of the substituent include a halogen atom, an ether group, a sulfonamide group, a carbonamide group, a hydroxyl group, a carboxy group, and a sulfonic acid group. )) is preferred.

At 、Atとしては水素原子が最も好ましい。At, a hydrogen atom is most preferred as At.

A、としては水素原子、−CHz−CH−eTi繻e+
−1PUG4 が最も好ましい。
A is a hydrogen atom, -CHz-CH-eTi+
-1PUG4 is most preferred.

一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)においてT
 imeは二価の連結基を表わし、タイミング!J!!
ff機能を有していてもよい、tはOまたは1を表わす
In general formulas (R-1), (R-2), and (R-3), T
ime represents a divalent linking group, and timing! J! !
It may have an ff function, and t represents O or 1.

Timeで表わされる二価の連結基は酸化還元母核の酸
化体から放出されるTime−PUGから一段階あるい
は、その以上の段階の反応を経てPUGを放出せしめる
基を表わす。
The divalent linking group represented by Time represents a group that releases PUG from Time-PUG released from the oxidized product of the redox mother nucleus through one or more reaction steps.

Timeで表わされる二価の連結基としては、例えば米
国特許第4,248,962号(特開昭54−145,
135号)等に記載のp−ニトロフェノキシ誘導体の分
子内閉環反応によってPUGを放出するもの;米国特許
第4.310゜612号(特開昭55−53.330号
)および同4,358,525号等に記載の環開裂後の
分子内閉環反応によってPUGを放出するもの;米国特
許第4,330,617号、同4.446゜216号、
同4,483,919号、特開昭59−121.328
号等に記載のコハク酸モノエステルまたはその類縁体の
カルボキシル基の分子内閉環反応による酸無水物の生成
を伴って、PUGを放出するもの;米国特許第4.40
9,323号、同4,421.845号、リサーチ・デ
ィスクロージャー誌磁21,228 (1981年12
月)、米国特許第4,416,977号(特開昭57−
135,944号)、特開昭58−209゜736号、
同58−209,738号等に記載の了り−ルオキシ基
またはへテロ環オキシ基が共役した二重結合を介した電
子移動によりキノモノメタン、またはその類縁体を生成
してPUGを放出するもの;米国特許第4,420,5
54号(特開昭57−136.640号)、特開昭57
−■35.945号、同57−188,035号、同5
8−98,728号および同58−209,737号等
に記載の含窒素へテロ環のエナミン構造を有する部分の
電子移動によりエナミンのγ位よりPUGを放出するも
の;特開昭57−56,837号に記載の含窒素へテロ
環の窒素原子と共役したカルボニル基への電子移動によ
り生成したオキシ基の分子内閉環反応によりPUGを放
出するもの;米国特許第4,146,396号(特開昭
52−90932号)、特開昭59−93,442号、
特開昭59−75475号、特開昭60−249148
号、特開昭60−249149号等に記載のアルデヒド
類の生成を伴ってPUGを放出するもの;特開昭51−
146,828号、同57−179,842号、同59
−104.641号に記載のカルボキシル基の脱炭酸を
伴ってPUGを放出するもの; −0−COOCR,R
,−PUG (R、、R5は一価の基を表わす、)の構
造を有し、脱炭酸と引き続くアルデヒド類の生成を伴っ
てPUGを放出するもの;特開昭60−7,429号に
記載のインシアナートの生成を伴ってPUGを放出する
もの;米国特許第4.438.193号等に記載のカラ
ー現像薬の酸化体とのカップリング反応によりPUGを
放出するものなどを挙げることができる。
As the divalent linking group represented by Time, for example, U.S. Pat.
U.S. Pat. Those that release PUG by an intramolecular ring-closing reaction after ring opening as described in US Pat. No. 4,330,617, US Pat.
No. 4,483,919, JP 59-121.328
U.S. Patent No. 4.40, which releases PUG with the production of an acid anhydride through an intramolecular ring-closing reaction of the carboxyl group of a succinic acid monoester or an analogue thereof;
No. 9,323, No. 4,421.845, Research Disclosure Magazine No. 21,228 (December 1981)
), U.S. Patent No. 4,416,977
135,944), JP-A-58-209゜736,
58-209,738, etc., which generates quinomonomethane or its analogues by electron transfer via a double bond conjugated with an oloxy group or a heterocyclic oxy group and releases PUG; U.S. Patent No. 4,420,5
No. 54 (Japanese Patent Publication No. 57-136.640), JP-A-57
- ■ No. 35.945, No. 57-188,035, No. 5
8-98,728 and 58-209,737, etc., which release PUG from the γ-position of the enamine by electron transfer of the moiety having an enamine structure of the nitrogen-containing heterocycle; JP-A-57-56 , 837, which releases PUG through an intramolecular ring-closing reaction of an oxy group generated by electron transfer to a carbonyl group conjugated with the nitrogen atom of a nitrogen-containing heterocycle; US Pat. No. 4,146,396 ( JP-A-52-90932), JP-A-59-93,442,
JP-A-59-75475, JP-A-60-249148
JP-A-60-249149, etc., which release PUG with the production of aldehydes; JP-A-51-
No. 146,828, No. 57-179,842, No. 59
-0-COOCR,R which releases PUG with decarboxylation of the carboxyl group as described in No. 104.641; -0-COOCR,R
, -PUG (R, , R5 represents a monovalent group), and releases PUG with decarboxylation and subsequent generation of aldehydes; disclosed in JP-A-60-7,429 Examples include those that release PUG with the production of incyanate as described; those that release PUG through a coupling reaction with an oxidized color developer described in U.S. Pat. No. 4,438,193, etc. .

一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)のTime
で表わされる二価の基は好ましくは以下の一般式(T−
1)から一般式(T−6)で表わされる。これらにおい
て**はTimeがPUGに結合する部位を表わし、 表わす。
Time of general formulas (R-1), (R-2), (R-3)
The divalent group represented by is preferably represented by the following general formula (T-
1) is represented by general formula (T-6). In these, ** represents the site where Time binds to PUG.

*は他方の結合部位を 一般式(T−1) 式中、Wは酸素原子、イオウ原子または−N−R+Z 基を表わし、RoおよびR72は水素原子または置換基
を表わし、RIffは置換基を表わし、tは1まRI 
ま たは2を表わす。tが2のとき2つの−W−C−R4 は同しものもしくは異なるものを表わす*RIIおよび
RIzが置換基を表わすときおよびRIzの代表的な例
は各々R0基、R,、CO−基、R,、SO冨−基、R
,、NC〇−基またはIS R,、N S O,−基などが挙げられる。ここでR1
41 は脂肪族基、芳香族基または複素環基を表わし、RI5
は脂肪族基、芳香族基、複素環基または水素原子を表わ
す。
* indicates the other bonding site according to the general formula (T-1), where W represents an oxygen atom, a sulfur atom, or a -N-R+Z group, Ro and R72 represent a hydrogen atom or a substituent, and RIf represents a substituent. where t is 1 or RI
or 2. When t is 2, two -W-C-R4 represent the same or different *When RII and RIz represent a substituent, and typical examples of RIz are R0 group, R,, CO- group, respectively. , R, , SO Tomi-group, R
,,NC〇- group or ISR,,NSO,- group, etc. are mentioned. Here R1
41 represents an aliphatic group, an aromatic group, or a heterocyclic group, and RI5
represents an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group or a hydrogen atom.

Ro、RoおよびR1ffの各々は2価基を表わし、連
結し、環状構造を形成する場合も包含される。
Each of Ro, Ro and R1ff represents a divalent group, and cases in which they are linked to form a cyclic structure are also included.

一般式(T−1)で表わされる基の具体的例としては以
下のような基が挙げられる。
Specific examples of the group represented by general formula (T-1) include the following groups.

本−〇−CI(−率率 CHzCI(z 率−0−C)lz−N−CL−”富 一般式(T−2) *−Nu−Link−E−** 式中、 Nuは求核基を表わし、酸素原子またはイオウ原子が求
核種の例であり、Eは求電子基を表わし、Nuより求核
攻撃を受けて**印との結合を開裂できる基でありLi
nkはNuとEとが分子内求核置換反応することができ
るように立体的に関係づける連結基を表わす、一般式(
T−2)で表わされる基の具体例としては例えば以下の
ものである。
This-〇-CI(-rate CHzCI(z rate-0-C)lz-N-CL-" rich general formula (T-2) *-Nu-Link-E-** In the formula, Nu is a nucleophilic group, an oxygen atom or a sulfur atom is an example of a nucleophilic species, and E represents an electrophilic group, which is a group that can cleave the bond with the mark ** upon receiving a nucleophilic attack from Nu.
nk represents a linking group that sterically relates Nu and E so that they can undergo an intramolecular nucleophilic substitution reaction, and is represented by the general formula (
Specific examples of the group represented by T-2) are as follows.

一般式(T−3) 式中、W、R++、R4およびLは(T−1)について
説明したのと同じ意味を表わす、具体的には以下のよう
な基が挙げられる。
General Formula (T-3) In the formula, W, R++, R4 and L have the same meanings as explained for (T-1), and specifically include the following groups.

■uz 一般式(T−4) 一般式(T−5) 一般式(T−6) 式中、WおよびRoは一般式(T−1)において説明し
たのと同じ意味である。一般式(T−6)で表わされる
基の具体例としては以下の基が挙げられる。
■uz General formula (T-4) General formula (T-5) General formula (T-6) In the formulas, W and Ro have the same meanings as explained in the general formula (T-1). Specific examples of the group represented by general formula (T-6) include the following groups.

本−〇−C−傘宰 傘−5−C−** またTimeとしては一般式(T−1)〜−一般式T−
6)で表わされる基を複数組み合わせてできる基も有用
である。それらの好ましい具体例を以下に示す、*、*
*は一般式(T−1)〜−一般式T−6)の場合と同義
である。
Book-〇-C-Umbrella-5-C-** Also, as Time, general formula (T-1) ~ -general formula T-
A group formed by combining two or more groups represented by 6) is also useful. Preferred specific examples thereof are shown below: *, *
* has the same meaning as in general formulas (T-1) to -general formula T-6).

傘−04Hz Js / C!Is 寧−0−C111 C冨US CzHs CH。Umbrella-04Hz Js / C! Is Ning-0-C111 C Tomi US CzHs CH.

OCHx 1 傘−0−C−N+C11tう−r−N−C−麿率11 CO,。OCHx 1 Umbrella-0-C-N+C11t U-r-N-C-Mari rate 11 C.O.

(1、CH2O II        I    I+ $−0−C−0←CHt+−rN    C−*寒 C
zHs これらTimeで表わされる二価の連結基の具体例につ
いてはまた特開昭61−236,549号、特開昭64
−88451号、特願昭63−98.803号等にも詳
細に記載されている。
(1, CH2O II I I+ $-0-C-0←CHt+-rN C-*Cold C
zHs For specific examples of these divalent linking groups represented by Time, see JP-A-61-236,549 and JP-A-64.
-88451, Japanese Patent Application No. 63-98.803, etc. are also described in detail.

PUGは(Time)−、PtJC;またはPUGとし
て現像抑制効果を有する基を表わす。
PUG represents (Time)-, PtJC; or a group having a development inhibiting effect as PUG.

PUGまたは(Ttme)−t PUGで表わされる現
像抑制剤はへテロ原子を有し、ヘテロ原子を介して結合
している公知の現像抑制剤であり、これらはたとえばシ
ー・イー・チー・ミース(C,E。
The development inhibitor represented by PUG or (Ttme)-t PUG is a known development inhibitor that has a heteroatom and is bonded via the heteroatom, and these are described, for example, by C.E.C. C,E.

K、Mess)及びチー・エッチ・ジェームズ(↑、H
1James)著「ザ・セオリー・オブ・ザ・フォトグ
ラフィ7り・プロセス(The Theory of 
PhotographicProcesses) J第
3版、1966年マクミラン(MacIIIil fa
n)社刊、344頁〜346頁などに記載されている。
K, Mess) and Chi H James (↑, H
The Theory of the Photography Process (1 James)
Photographic Processes) J 3rd edition, 1966 Macmillan (MacIII fa)
n) Published by Sha, pages 344 to 346, etc.

具体的にはメルカプトテトラゾール類、メルカプトトリ
アゾール類、メルカプトイミダゾール類、メルカプトピ
リミジン類、メルカプトベンズチアゾール類、メルカプ
トベンズチアゾール類、メルカプトベンズオキサゾール
類、メルカプトチアジアゾール捕、ベンズトリアゾール
類、ベンズイミダゾール類、インダゾール類、アデニン
類、グアニン類、テトラゾール類、テトラアザインデン
類、トリアザインデン煩、メルカプトアレーン類等を挙
げることができる。
Specifically, mercaptotetrazoles, mercaptotriazoles, mercaptoimidazoles, mercaptopyrimidines, mercaptobenzthiazoles, mercaptobenzthiazoles, mercaptobenzoxazoles, mercaptothiadiazoles, benztriazoles, benzimidazoles, indazoles, Examples include adenines, guanines, tetrazoles, tetraazaindenes, triazaindenes, and mercaptoarenes.

PUGで表わされる現像抑制剤は置換されていてもよい
、置換基としては、例えば以下のものが挙げられるが、
これらの基はさらに置換されていてもよい。
The development inhibitor represented by PUG may be substituted. Examples of substituents include the following:
These groups may be further substituted.

例えばアルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、アルコキシ基、アリール基、置換アミノ基、
アジルア亀ノ基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、ウ
レタン基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カル
バモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホ
ニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子
、シアノ基、スルホ基、アリールオキシカルボニル基、
アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、
カルボンアミド基、スルホンアミド基、カルボキシル基
、スルホオキシ基、ホスホノ基、ホスフィニコ基、リン
酸アミド基などである。
For example, alkyl groups, aralkyl groups, alkenyl groups, alkynyl groups, alkoxy groups, aryl groups, substituted amino groups,
Azylacameno group, sulfonylamino group, ureido group, urethane group, aryloxy group, sulfamoyl group, carbamoyl group, alkylthio group, arylthio group, sulfonyl group, sulfinyl group, hydroxy group, halogen atom, cyano group, sulfo group, aryl oxycarbonyl group,
Acyl group, alkoxycarbonyl group, acyloxy group,
These include a carbonamide group, a sulfonamide group, a carboxyl group, a sulfoxy group, a phosphono group, a phosphinico group, a phosphoamide group, and the like.

好ましい置換基としてはニトロ基、スルホ基、カルボキ
シル基、スルファモイル基、ホスホノ基、ホスフィニコ
基、スルホンアミド基である。
Preferred substituents include a nitro group, a sulfo group, a carboxyl group, a sulfamoyl group, a phosphono group, a phosphinico group, and a sulfonamide group.

主な現像抑制剤を以下に示す。The main development inhibitors are shown below.

ル (2)1−(4−ヒドロキシフェニル)−5−メルカプ
トテトラゾール (3)1−(4−アミノエチル)−5−メルカプトテト
ラゾール (4)1−(4−カルボキシフェニル)−5−メルカプ
トテトラゾール (5)l−(4−クロロフェニル)−5−メルカプトテ
トラゾール (6)L−(4−メチルフェニル)−5−メルカプトテ
トラゾール (7)1−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−5−メ
ルカプトテトラゾール (8)1−(4−スルファモイルフェニル)−5−メル
カプトテトラゾール (9)I−(3−カルボキシフェニル)−5−メルカプ
トテトラゾール (to)1−(3,5−ジカルボキシフェニル)=5−
メルカプトテトラゾール (IDI−(4−メトキシフェニル)−5−メルカプト
テトラゾール QZI−(2−メトキシフェニル)−5−メルカプトテ
トラゾール Qm  1−(4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニ
ル〕−5−メルカプトテトラゾールa4 L−(2,4
−ジクoo7zニル)−5−メルカプトテトラゾール Q511−(4−ジエチルアミノエチル)−5−メルカ
プトテトラゾール 0611−(4−ニトロフェニル)−5−メルカプトテ
トラゾール 07)1,4−ビス(5−メルカプト−1−テトラゾリ
ル)ベンゼン (lfl)1−(α−ナフチル)−5−メルカプトテト
ラゾール 09)1−(4−スルホフェニル)−5−メルカプトテ
トラゾール eel−(3−スルホフェニル)−5−メルカプトテト
ラゾール (21)1−(β−ナフチル)−5−メルカプトテトラ
ゾール (22)  1−メチル−5−メルカプトテトラゾール
(23)  1−エチル−5−メルカプトテトラゾール
(24)  1−プロピル−5−メルカプトテトラゾー
ル (25)  1−オクチル−5−メルカプトテトラゾー
ル (26)  1−ドデシル−5−メルカプトテトラゾ−
(27)  1−シクロヘキシル−5−メルカプトテト
ラゾール (28)  1−パル逅チルー5−メルカプトテトラゾ
ール (29)  1−カルボキシエチル−5−メルカプトテ
トラゾール (30)1− (2,2−ジェトキシエチル)−5−メ
ルカプトテトラゾール (31)1−(2−アミノエチル)−5−メルカプトテ
トラゾール塩酸塩 (32)1−(2−ジエチルアミノエチル)−5−メル
カプトテトラゾール (33)2−(5−メルカプト−1−テトラゾリル)エ
チルトリメチルアンモニウムクロリド<34)1−(3
−フェノキシカルボニルフェニル)−5−メルカプトテ
トラゾール (35)1−(3−マレインイミドフェニル)−6−メ
ルカプトテトラゾール メルカプト  アゾール6 (1)4−フェニル−3−メルカブトトリアゾー(2)
4−フェニル−5−メチル−3−メルカプトトリアゾー
ル (3)4,5−ジフェニル−3−メルカプトトリアゾー
ル (4)4−(4−カルボキシフェニル)−3−メルカプ
トトリアゾール (5)4−メチル−3−メルカプトトリアゾール(6)
4−(2−ジメチルアミノエチル)−3−メルカプトト
リアゾール (7) 4−(α−ナフチル)−3−メルカプトトリア
ゾール (8)4−(4−スルホフェニル〉−3−メルカプトト
リアゾール (9)4−(3−ニトロフェニル)−3−メルカプトト
リアゾール ル (2) 1゜ 5−ジフェニル−2−メルカプトイミ ダゾール (3)1−(4−カルボキシフェニル)−2−メルカプ
トイミダゾール (4)1−(4−へキシルカルバモイル)−2−メルカ
プトイごダゾール (5)1−(3−ニトロフェニル)−2−メルカプトイ
ミダゾール (6)1−(4−スルホフェニル)−2−メルカプトイ
ミダゾール ルカ  ビ ジジン績 チオウラシル メチルチオウラシル エチルチオウラシル プロビルチオウラシル ノニルチオウラシル アミノチオウラシル ヒドロキシチオウラシル ルカ トベンズイξ ゾール (1)2−メルカプトベンズイミダゾール(2)5−カ
ルボキシ−2−メルカプトベンズイミダゾール (3)5−ア主ノー2−メルカプトベンズイミダゾール (4)5−ニトロ−2−メルカプトベンズイミダゾール (5)5−クロロ−2−メルカプトベンズイミダゾール (6)5−メトキシ−12−メルカプトベンズイミダゾ
ール (7) 2−メルカプトナフトイミダゾール(8)2−
メルカプト−5−スルホベンズイミダゾール (9)1−(2−ヒドロキシエチル)−2−メルカプト
ベンズイミダゾール aω 5−カプロアミド−2−メルカプトベンズイミダ
ゾール 0115−(2−エチルヘキサノイルアミノ)−2−メ
ルカプトベンズイミダゾール メルカ  チアジアゾール論 (1)5−メチルチオ−2−メルカプト−1,3゜4−
チアジアゾール (2)5−エチルチオ−2−メルカプト−1,3゜4−
チアジアゾール (3)5−(2−ジメチルアミノエチルチオ)−2−メ
ルカプト−1,3,4−チアジアゾール (4)5−(2−カルボキシプロピルチオ)−2−メル
カプト−1,3,4−チアジアゾール(5)2−フェノ
キシカルボニルメチルチオ−5−メルカプト−1,3,
4−チアジアゾール7  ルカ  ベンズチアゾール6 (1)2−メルカプトベンズチアゾール(2)  5−
ニトロ−2−メルカプトベンズチアゾール (3)5−カルボキシ−2−メルカプトベンズチアゾー
ル 5−スルホ−2−メルカプトベンズチアゾ(4) 一ル メルカプトベンズオキサゾール− (1)2−メルカプトベンズオキサゾール(2)5−ニ
トロ−2−メルカプトベンズオキサゾール (3)5−カルボキシ−2−メルカプトベンズオキサゾ
ール (4)5−スルホ−2−メルカプトベンズオキサゾール ベンゾ iアゾールμ (115,6−シメチルベンゾトリアゾール(2)5−
ブチルベンゾトリアゾール (3)5−メチルベンゾトリアゾール (4)  5−クロロベンゾトリアゾール(5)5−ブ
チルベンゾトリアゾール f6)5.6−ジクロロベンゾトリアゾール(7)4,
6−ジクロロベンゾトリアゾール(8)  5−二トロ
ベンゾトリアゾール(9)  4−二)rJ−6−クロ
ロ−ベンゾトリアゾール Ql  4,5.6−)リクロロベンゾトリアゾール aos−sルポキシベンゾトリアゾール21 5−スルホベンゾトリアゾール Naaos 5−メトキシカルボニルベンゾトリア7’ −ル 5−アミノベンゾトリアゾール 5−ブトキシベンゾトリアゾール 5−ウレイドベンゾトリアゾール ベンゾトリアゾール 5−フェノキシカルボニルベンゾトリアゾール (1!D5−(2,3−ジクロロプロピルオキシカルボ
ニル)ベンゾトリアゾール Oベンズイ≧ ゾール績 ベンズイミダゾール 5−クロロベンズイミダゾール 5−ニトロベンズイミタソール 5−n−プチルベンズイξタソール 5−メチルベンズイミダゾール 4−クロロベンズイミダゾール 5.6−シメチルベンズイミダゾール 5−ニトロ−2−()リフルオロメチル)ベンズイミダ
ゾール イン ゾール績 (I)5−二トロインダゾール (2)6−ニトロインダゾール (3)5−アミノインダゾール (4)6−アミノインダゾール (5)インダゾール (6)3−ニトロインダゾール (7)  5−ニトロ−3−クロロインタソール(81
3−70ロー5−二トロインタソール(9)  3−カ
ルボキシ−5−ニトロインダゾール2−トーゾール纒 (1)5−(4−ニトロフェニル)テトラゾール(2)
5−フェニルテトラゾール (3)5−(3−カルボキシフェニル)−テトラゾール 1 −−ザインーンー (1)4−ヒドロキシ−6−メチル−5−二トロー1 
3,3a、7−チトラアザインデン(2)4−メルカプ
ト−6−メチル−5−二トローl、3,3a、7−チト
ラアザインデンルカ  ト   −ル峰 (1)4−ニトロチオフェノール (2)  チオフェノール (3)2−カルボキシチオフェノール また一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)におい
て、R,または(Time)−t PUGは、その中に
カプラー等の不動性写真用添加剤において常用されてい
るバラストzや一般式(R−1)、(R−2)、(R−
3)で表わされる化合物がハロゲン化銀に吸着すること
を促進する基が組み込まれていてもよい。
(2) 1-(4-hydroxyphenyl)-5-mercaptotetrazole (3) 1-(4-aminoethyl)-5-mercaptotetrazole (4) 1-(4-carboxyphenyl)-5-mercaptotetrazole ( 5) L-(4-chlorophenyl)-5-mercaptotetrazole (6) L-(4-methylphenyl)-5-mercaptotetrazole (7) 1-(2,4-dihydroxyphenyl)-5-mercaptotetrazole (8 ) 1-(4-sulfamoylphenyl)-5-mercaptotetrazole (9) I-(3-carboxyphenyl)-5-mercaptotetrazole (to) 1-(3,5-dicarboxyphenyl) = 5-
Mercaptotetrazole (IDI-(4-methoxyphenyl)-5-mercaptotetrazole QZI-(2-methoxyphenyl)-5-mercaptotetrazole Qm 1-(4-(2-hydroxyethoxy)phenyl)-5-mercaptotetrazole a4 L -(2,4
-dikuoo7znyl)-5-mercaptotetrazole Q511-(4-diethylaminoethyl)-5-mercaptotetrazole 0611-(4-nitrophenyl)-5-mercaptotetrazole 07) 1,4-bis(5-mercapto-1- Tetrazolyl)benzene (lfl) 1-(α-naphthyl)-5-mercaptotetrazole 09) 1-(4-sulfophenyl)-5-mercaptotetrazole eel-(3-sulfophenyl)-5-mercaptotetrazole (21) 1 -(β-naphthyl)-5-mercaptotetrazole (22) 1-methyl-5-mercaptotetrazole (23) 1-ethyl-5-mercaptotetrazole (24) 1-propyl-5-mercaptotetrazole (25) 1-octyl -5-mercaptotetrazole (26) 1-dodecyl-5-mercaptotetrazo-
(27) 1-cyclohexyl-5-mercaptotetrazole (28) 1-pal-thi-5-mercaptotetrazole (29) 1-carboxyethyl-5-mercaptotetrazole (30) 1-(2,2-jethoxyethyl)- 5-mercaptotetrazole (31) 1-(2-aminoethyl)-5-mercaptotetrazole hydrochloride (32) 1-(2-diethylaminoethyl)-5-mercaptotetrazole (33) 2-(5-mercapto-1- Tetrazolyl)ethyltrimethylammonium chloride<34)1-(3
-phenoxycarbonylphenyl)-5-mercaptotetrazole (35) 1-(3-maleinimidophenyl)-6-mercaptotetrazole mercapto azole 6 (1) 4-phenyl-3-mercaptotetrazole (2)
4-phenyl-5-methyl-3-mercaptotriazole (3) 4,5-diphenyl-3-mercaptotriazole (4) 4-(4-carboxyphenyl)-3-mercaptotriazole (5) 4-methyl-3- Mercaptotriazole (6)
4-(2-dimethylaminoethyl)-3-mercaptotriazole (7) 4-(α-naphthyl)-3-mercaptotriazole (8) 4-(4-sulfophenyl>-3-mercaptotriazole (9) 4- (3-nitrophenyl)-3-mercaptotriazole (2) 1゜5-diphenyl-2-mercaptoimidazole (3) 1-(4-carboxyphenyl)-2-mercaptoimidazole (4) to 1-(4- xylcarbamoyl)-2-mercaptoimidazole (5) 1-(3-nitrophenyl)-2-mercaptoimidazole (6) 1-(4-sulfophenyl)-2-mercaptoimidazole Ethylthiouracilprobylthiouracilnonylthiouracylaminothiouracilhydroxythiouracillukatobenziξ zole (1) 2-mercaptobenzimidazole (2) 5-carboxy-2-mercaptobenzimidazole (3) 5-mercapto Benzimidazole (4) 5-nitro-2-mercaptobenzimidazole (5) 5-chloro-2-mercaptobenzimidazole (6) 5-methoxy-12-mercaptobenzimidazole (7) 2-mercaptonaphthoimidazole (8) 2 −
Mercapto-5-sulfobenzimidazole (9) 1-(2-hydroxyethyl)-2-mercaptobenzimidazole aω 5-caproamido-2-mercaptobenzimidazole 0115-(2-ethylhexanoylamino)-2-mercaptobenzimidazole Mercatothiadiazole theory (1) 5-methylthio-2-mercapto-1,3゜4-
Thiadiazole (2) 5-ethylthio-2-mercapto-1,3゜4-
Thiadiazole (3) 5-(2-dimethylaminoethylthio)-2-mercapto-1,3,4-thiadiazole (4) 5-(2-carboxypropylthio)-2-mercapto-1,3,4-thiadiazole (5) 2-phenoxycarbonylmethylthio-5-mercapto-1,3,
4-thiadiazole 7 Luca benzthiazole 6 (1) 2-mercaptobenzthiazole (2) 5-
Nitro-2-mercaptobenzthiazole (3) 5-carboxy-2-mercaptobenzthiazole 5-sulfo-2-mercaptobenzthiazo (4) 1-mercaptobenzoxazole- (1) 2-mercaptobenzoxazole (2) 5 -Nitro-2-mercaptobenzoxazole (3) 5-carboxy-2-mercaptobenzoxazole (4) 5-sulfo-2-mercaptobenzoxazole benzo i azole μ (115,6-dimethylbenzotriazole (2) 5-
Butylbenzotriazole (3) 5-methylbenzotriazole (4) 5-chlorobenzotriazole (5) 5-butylbenzotriazole f6) 5.6-dichlorobenzotriazole (7) 4,
6-dichlorobenzotriazole (8) 5-nitrobenzotriazole (9) 4-2)rJ-6-chloro-benzotriazole Ql 4,5.6-)lichlorobenzotriazole aos-s lupoxybenzotriazole 21 5 -Sulfobenzotriazole Naaos 5-methoxycarbonylbenzotriazole 7' -l 5-aminobenzotriazole 5-butoxybenzotriazole 5-ureidobenzotriazole benzotriazole 5-phenoxycarbonylbenzotriazole (1!D5-(2,3-dichloropropyl (oxycarbonyl) benzotriazole O benzyl ≧ Benzimidazole 5-chlorobenzimidazole 5-nitrobenzimitazole 5-n-butylbenzitazol 5-methylbenzimidazole 4-chlorobenzimidazole 5.6-dimethylbenzimidazole 5 -Nitro-2-()rifluoromethyl)benzimidazole inzole (I) 5-nitroindazole (2) 6-nitroindazole (3) 5-aminoindazole (4) 6-aminoindazole (5) Indazole ( 6) 3-nitroindazole (7) 5-nitro-3-chlorointasole (81
3-70 rho 5-nitrointasol (9) 3-carboxy-5-nitroindazole 2-tosol (1) 5-(4-nitrophenyl)tetrazole (2)
5-phenyltetrazole (3) 5-(3-carboxyphenyl)-tetrazole 1 --Zaine-(1) 4-hydroxy-6-methyl-5-nitro 1
3,3a,7-thitraazaindene (2) 4-mercapto-6-methyl-5-nitrol, 3,3a,7-thitraazaindene (1) 4-nitrothiophenol (2 ) Thiophenol (3) 2-carboxythiophenol Also, in the general formulas (R-1), (R-2), and (R-3), R or (Time)-t PUG contains a coupler, etc. Ballast z, which is commonly used in immobile photographic additives, and general formulas (R-1), (R-2), (R-
A group that promotes adsorption of the compound represented by 3) to silver halide may be incorporated.

バラスト基は一般式(R−1)、(R−2)、(R−3
)で表わされる化合物が実質的に他層または処理液中へ
拡散できないようにするのに十分な分子量を与える有m
基であり、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、エー
テル基、チオエーテル基、アミド基、ウレイド基、ウレ
タン基、スル水ンアミド基などの一つ以上の組合せから
なるものである。バラスト基として好ましくは置換ベン
ゼン環を有するバラスト基であり、特に分岐状アルキル
基で置換されたベンゼン環を有するバラスト基が好まし
い。
The ballast group has the general formula (R-1), (R-2), (R-3
) has a molecular weight sufficient to substantially prevent the compound represented by the formula from diffusing into other layers or into the processing solution.
It is a group consisting of a combination of one or more of an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an ether group, a thioether group, an amide group, a ureido group, a urethane group, a sulfuramide group, etc. The ballast group is preferably a ballast group having a substituted benzene ring, particularly a ballast group having a benzene ring substituted with a branched alkyl group.

ハロゲン化線への吸着促進基としては、具体的には4−
チアゾリン−2−チオン、4−イミダシリン−2−チオ
ン、2−チオヒダントイン、ローダニン、チオバルビッ
ール酸、テトラゾリン−5−チオン、1,2.4−)リ
アゾリン−3−チオン、l、  3. 4−オキサプリ
ン−2−チオン、ベンズイミダシリン−2−チオン、ベ
ンズオキサゾリン−2−千オン、ベンゾチアゾリン−2
−チオン、チオトリアジン、1.3−イミダシリン−2
−チオンのような環状チオンくド基、鎮状チオアミド基
、脂肪族メルカプト基、芳香族メルカプト基、ヘテロ環
メルカプト基(−3H基が結合した炭素原子の隣が窒素
原子の場合はこれと互変異性体の関係にある環状チオア
ミド基と同義であり、この基の具体例は上に列挙したも
のと同じである。)、ジスルフィド結合を有する基、ベ
ンゾトリアゾール、トリアゾール、テトラゾール、イン
ダゾール、ベンズイミダゾール、イミダゾール、ベンゾ
チアゾール、チアゾール、チアゾリン、ベンゾオキサゾ
ール、オキサゾール、オキサゾリン、チアジアゾール、
オキサチアゾール、トリアジン、アザインデンのような
窒素、酸素、硫黄及び炭素の組合せからなる5員ないし
6員の含窒素へテロ環基、及びベンズイミダシリニウム
のような復累環四級塩などが挙げられる。
Specifically, the adsorption promoting group to halogenated radiation is 4-
Thiazoline-2-thione, 4-imidacyline-2-thione, 2-thiohydantoin, rhodanine, thiobarbital acid, tetrazoline-5-thione, 1,2.4-) liazoline-3-thione, 1, 3. 4-oxaprine-2-thione, benzimidacillin-2-thione, benzoxazoline-2-thousone, benzothiazoline-2
-thione, thiotriazine, 1,3-imidacillin-2
- Cyclic thione group such as thione, dehydrated thioamide group, aliphatic mercapto group, aromatic mercapto group, heterocyclic mercapto group (if the carbon atom to which the -3H group is bonded is adjacent to a nitrogen atom, it is interchangeable with this group) Synonymous with the cyclic thioamide group related to the mutant, and specific examples of this group are the same as those listed above), group having a disulfide bond, benzotriazole, triazole, tetrazole, indazole, benzimidazole , imidazole, benzothiazole, thiazole, thiazoline, benzoxazole, oxazole, oxazoline, thiadiazole,
5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic groups consisting of a combination of nitrogen, oxygen, sulfur, and carbon such as oxathiazole, triazine, and azaindene, and cyclic quaternary salts such as benzimidasilinium. Can be mentioned.

これらはさらに適当な置換基で置換されていてもよい。These may be further substituted with a suitable substituent.

直換基としては、例えばR1の置換基として述べたもの
が挙げられる。
Examples of direct substituents include those described as substituents for R1.

以下に本発明に用いられる化合物の具体例を列記するが
本発明はこれに限定されるものではない。
Specific examples of compounds used in the present invention are listed below, but the present invention is not limited thereto.

CJt (n) 17゜ 1 日。CJt (n) 17° 1 day.

NO電 21゜ O NO! 22゜ 26゜ 27゜ 9 30゜ 3日 39゜ 40゜ 42゜ Of 43゜ 44゜ 45゜ SOコNa 46゜ 47゜ 4日。NO electric 21° O NO! 22゜ 26° 27° 9 30° 3 days 39° 40° 42° Of 43° 44° 45° SO co Na 46° 47° 4 days.

NLI。N.L.I.

49゜ 50゜ 1 2 3 4 55 6 7 8 9 0 1 C411目 CJ+s 2 3 4 N−台テN 5 66 8 9 O O1 本発明のレドックス化合物を含む層は、ヒドラジン造核
剤を含む感光乳剤層の上層、または下層に設けられる0
本発明のレドックス化合物を含む層は、さらに感光性も
しくは非感光性ハロゲン化銀乳剤粒子を含んでもよい0
本発明のレドックス化合物を含む層と、ヒドラジン造核
剤を含む感光乳剤層との間にゼラチンまたは台底ポリマ
ー(ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコールなど)を含
む中間層を設けてもよい。
49゜50゜1 2 3 4 55 6 7 8 9 0 1 C411 CJ+s 2 3 4 N-base N 5 66 8 9 O O1 The layer containing the redox compound of the present invention is a photosensitive emulsion containing a hydrazine nucleating agent. 0 provided on the upper or lower layer of the layer
The layer containing the redox compound of the present invention may further contain photosensitive or non-photosensitive silver halide emulsion grains.
An intermediate layer containing gelatin or a base polymer (polyvinyl acetate, polyvinyl alcohol, etc.) may be provided between the layer containing the redox compound of the present invention and the photosensitive emulsion layer containing the hydrazine nucleating agent.

本発明に用いられるヒドラジン造核剤体は、下記−FI
Q式(1)によって表される化合物が好ましい。
The hydrazine nucleating agent used in the present invention has the following -FI
A compound represented by Q formula (1) is preferred.

一般式(1) 式中、R+ は脂肪族基または芳香族基を表わし、R8
は水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、
アリールオキシ基、アミノ基、カルバモイル基又はオキ
シカルボニル基を表わし、GIはカルバモイル基、スル
ホニル基、スルホキシ基、1 −P−基、又はイミノメチレン基を表わし、2 A、 、A、はともに水素原子あるいは一方が水素原子
で他方が置換もしくは素置(奥のアルキルスルホニル基
、又は置換もしくは無置換のアリールスルホニル基、又
は置換もしくは無置換のアシル基を表わす。
General formula (1) In the formula, R+ represents an aliphatic group or an aromatic group, and R8
is a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group,
GI represents a carbamoyl group, sulfonyl group, sulfoxy group, 1-P- group, or iminomethylene group, and 2 A, , A are both hydrogen atoms. Alternatively, one is a hydrogen atom and the other is a substituted or unsubstituted alkylsulfonyl group, a substituted or unsubstituted arylsulfonyl group, or a substituted or unsubstituted acyl group.

一般式(1)において、R1で表される脂肪族基は好ま
しくは炭素数1〜3oのものであって、特に炭素数1〜
20の直鎖、分岐または環状のアルキル基である。ここ
で分岐アルキル基はその中に1つまたはその以上のへテ
ロ原子を含んだ飽和のへテロ環を形成するように環化さ
れていてもよい、またこのアルキル基は、アリール基、
アルコキシ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、カル
ボンアミド基等の置換基を有していてもよい。
In general formula (1), the aliphatic group represented by R1 preferably has 1 to 3 carbon atoms, particularly 1 to 3 carbon atoms.
20 straight chain, branched or cyclic alkyl groups. The branched alkyl group may be cyclized to form a saturated heterocycle containing one or more heteroatoms therein, and the alkyl group may be an aryl group,
It may have a substituent such as an alkoxy group, a sulfoxy group, a sulfonamide group, or a carbonamide group.

一般式(1)においてR1で表される芳香族基は単環ま
たは2環のアリール基または不飽和へテロ環基である。
The aromatic group represented by R1 in general formula (1) is a monocyclic or bicyclic aryl group or an unsaturated heterocyclic group.

ここで不飽和へテロ環基は単環または2環の了り−ル基
と縮合してヘテロアリール基を形成してもよい。
Here, the unsaturated heterocyclic group may be condensed with a monocyclic or bicyclic ring group to form a heteroaryl group.

例えぽベンゼン環、ナフクレン環、ピリジン環、ピリミ
ジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、キノリン環、
イソキノリン環、ベンズイミダゾール環、チアゾール環
、ベンゾチアゾール環等があるがなかでもベンゼン環を
含むものが好ましい。
Examples include benzene ring, napucrene ring, pyridine ring, pyrimidine ring, imidazole ring, pyrazole ring, quinoline ring,
Examples include isoquinoline ring, benzimidazole ring, thiazole ring, and benzothiazole ring, among which those containing a benzene ring are preferred.

R3として特に好ましいものはアリール基である。Particularly preferred as R3 is an aryl group.

R+ の7リール基または不飽和へテロ環基は置換され
ていてもよく、代表的な置換基としては、例えばアルキ
ル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ア
ルコキシ基、アリール基、置換アくノ基、アシルアミノ
基、スルホニルア稟ノ基、ウレイド基、ウレタン基、ア
リールオキシ基、スルファモイル基、カルバモイル基、
アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホニル基、スル
フィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、
スルホ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキ
シカルボニル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、
アシルオキシ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基
やカルボキシル基、リン酸アミド基、ジアシルアミノ基
、イくド基などが挙げられる、好ましい置換基としては
直鎖、分岐または環状のアルキル基(好ましくは炭素数
1〜20のもの〉、アラルキル基(好ましくはアルキル
部分の炭素数が1〜3の単環または2環のもの)、アル
コキシ基(好ましくは炭素数1〜20のもの)、置換ア
ミノ基(好ましくは炭素数1〜20のアルキル基で置換
されたアミノ基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数
2〜30を持つもの)、スルホンアミド基(好ましくは
炭素数l〜30を持つもの)、ウレイド基(好ましくは
炭素数1〜30を持つもの)、リン酸アミド基(好まし
くは炭素数1〜30のもの)などである。
The 7-aryl group or unsaturated heterocyclic group of R+ may be substituted, and typical substituents include an alkyl group, an aralkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an alkoxy group, an aryl group, a substituted acylamino group, sulfonylamino group, ureido group, urethane group, aryloxy group, sulfamoyl group, carbamoyl group,
Alkylthio group, arylthio group, sulfonyl group, sulfinyl group, hydroxy group, halogen atom, cyano group,
Sulfo group, alkyloxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, acyl group, alkoxycarbonyl group,
Preferred substituents include an acyloxy group, a carbonamide group, a sulfonamide group, a carboxyl group, a phosphoamide group, a diacylamino group, and an Ikudo group. Preferred substituents include a straight chain, branched or cyclic alkyl group (preferably a carbon 1 to 20>, aralkyl group (preferably a monocyclic or bicyclic alkyl group with 1 to 3 carbon atoms), alkoxy group (preferably one with 1 to 20 carbon atoms), substituted amino group (preferably one with 1 to 20 carbon atoms), (preferably an amino group substituted with an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms), an acylamino group (preferably one having 2 to 30 carbon atoms), a sulfonamide group (preferably one having 1 to 30 carbon atoms), a ureido group group (preferably having 1 to 30 carbon atoms), a phosphoric acid amide group (preferably having 1 to 30 carbon atoms), and the like.

一般式(1)においてRzで表わされるアルキル基とし
ては、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基であって、
ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシ基、スルホ基、ア
ルコキシ基、フェニル基、スルホニル基などの置換基を
有していてもよい。
The alkyl group represented by Rz in general formula (1) is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms,
It may have a substituent such as a halogen atom, cyano group, carboxy group, sulfo group, alkoxy group, phenyl group, or sulfonyl group.

了り−ル基としては単環または2環のアリール基が好ま
しく、例えばベンゼン環を含むものである。このアリー
ル基は、例えばハロゲン原子、アルキル基、シアノ基、
カルボキシル基、スルホ基、スルホニル基などで置換さ
れていてもよい。
The aryl group is preferably a monocyclic or bicyclic aryl group, such as one containing a benzene ring. This aryl group is, for example, a halogen atom, an alkyl group, a cyano group,
It may be substituted with a carboxyl group, a sulfo group, a sulfonyl group, etc.

アルコキシ基としては炭素数1〜8のアルコキシ基のも
のが好ましく、ハロゲン原子、アリール基などで置換さ
れていてもよい。
The alkoxy group is preferably an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, and may be substituted with a halogen atom, an aryl group, or the like.

アリールオキシ基としては単環のものが好ましく、また
置換基としてはハロゲン原子などである。
The aryloxy group is preferably a monocyclic one, and the substituent is a halogen atom or the like.

アミノ基としては無置換アミノ基及び、炭素数1〜10
のアルキルアミノ基、アリールアミノ基が好ましく、ア
ルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルボ
キシ基などで置換されていてもよい。
The amino group includes an unsubstituted amino group and a carbon number of 1 to 10.
An alkylamino group or an arylamino group is preferred, and may be substituted with an alkyl group, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a carboxy group, or the like.

カルバモイル基としては、無置換カルバモイル基及び炭
素数1〜10のアルキルカルバモイル基、アリールカル
バモイル基が好ましく、アルキル基、ハロゲン原子、シ
アノ基、カルボキシ基なとで置換されていてもよい。
The carbamoyl group is preferably an unsubstituted carbamoyl group, an alkylcarbamoyl group having 1 to 10 carbon atoms, or an arylcarbamoyl group, and may be substituted with an alkyl group, a halogen atom, a cyano group, a carboxy group, or the like.

オキシカルボニル基としては、炭素数1〜10のアルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基が好ま
しく、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基
などで置換されていてもよい。
The oxycarbonyl group is preferably an alkoxycarbonyl group or an aryloxycarbonyl group having 1 to 10 carbon atoms, and may be substituted with an alkyl group, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, or the like.

R2で表わされる基のうち好ましいものは、G。Among the groups represented by R2, preferred is G.

がカルボニル基の場合には、水素原子、アルキル基(例
えば、メチル基、トリフルオロメチル基6.3−ヒドロ
キシプロピル基、3−メタンスルホンアミドプロピル基
、フェニルスルホニルメチル基なと)、アラルキル基(
例えIJ、O−とト′ロキシベンジル基など)、アリー
ル基(例えぽ、フェニル基、3.5−ジクロロフェニル
基、O−メタンスルホンアミドフェニル基、4−メタン
スルホニルフェニル基など)などであり、特に水素原子
が好ましい。
is a carbonyl group, a hydrogen atom, an alkyl group (for example, a methyl group, a trifluoromethyl group, a 6,3-hydroxypropyl group, a 3-methanesulfonamidopropyl group, a phenylsulfonylmethyl group), an aralkyl group (
(eg, IJ, O- and troxybenzyl groups, etc.), aryl groups (eg, phenyl group, 3,5-dichlorophenyl group, O-methanesulfonamidophenyl group, 4-methanesulfonylphenyl group, etc.), Particularly preferred is a hydrogen atom.

またG、かスルホニル基の場合には、R2はアルキル基
(例えば、メチル基など)、アラルキル基(例えば、0
−ヒドロキシフェニルメチル基など)、アリール基(例
えば、フェニル基など)または置換アミノ基(例えば、
ジメチルアミキ基など)などが好ましい。
In addition, in the case of G or a sulfonyl group, R2 is an alkyl group (e.g., methyl group, etc.), an aralkyl group (e.g., 0
-hydroxyphenylmethyl group), aryl group (e.g. phenyl group) or substituted amino group (e.g.
(dimethylamiki group, etc.) are preferred.

G1がスルホキシ基の場合、好ましいR2はシアミベン
ジル基、メチルチオベンジル基などであはメトキシ基、
エトキシ基、ブトキシ基、フェノキシ基、フェニル基が
好ましく、特に、フェノキシ基が好適である。
When G1 is a sulfoxy group, R2 is preferably a cyamibenzyl group, a methylthiobenzyl group, a methoxy group,
An ethoxy group, a butoxy group, a phenoxy group, and a phenyl group are preferred, and a phenoxy group is particularly preferred.

G、がN−置換または無置換イミノメチレン基の場合、
好ましいR2はメチル基、エチル基、置換または無置換
のフェニル基である。
When G is an N-substituted or unsubstituted iminomethylene group,
Preferred R2 is a methyl group, an ethyl group, or a substituted or unsubstituted phenyl group.

R2の置換基としては、R,に関して列挙した置換基が
適用できる。
As the substituent for R2, the substituents listed for R can be applied.

−m式(1)のGとしてはカルボニル基が最も好ましい
-m G in formula (1) is most preferably a carbonyl group.

又、R□はG、−R,部分を残余分子から分裂させ、 
GI   R2部分の原子を含む環式構造を生成させる
環化反応を生起するようなものであってもよく、具体的
には一般式(a)で表わすことができるようなものであ
る。
Also, R□ splits the G, -R, part from the remaining molecule,
It may be one that causes a cyclization reaction to produce a cyclic structure containing an atom of the GI R2 moiety, and specifically, one that can be represented by general formula (a).

一般式(a) −Rs−Z+ 式中、ZlはG1に対し求核的に攻撃し、GI −R1
−L部分を残余分子から分裂させえる基であり、R1は
Rzから水素原子1細隙いたもので、ZIがG、に対し
求核攻撃し、GI、R3Zlで環式構造が生成可能なも
のである。
General formula (a) -Rs-Z+ In the formula, Zl attacks G1 nucleophilically and GI -R1
- A group that can split the L moiety from the remaining molecules, R1 is one hydrogen atom away from Rz, ZI makes a nucleophilic attack on G, and a cyclic structure can be generated with GI and R3Zl It is.

さらに詳細には、Zlは一般式(Hのヒドラジン化合物
か酸化等により、次の反応中間体を生成したときに容易
に61 と求核反応しR+−NツN−GI −Rs −
Z+ R+ −N−N基を01から分裂させうる基であり、具
体的には○H,SHまたはNHR,(R,は水素原子、
アルキル基、アリール基、−CORa、または−So!
 R5であり、R3は水素原子、アルキル基、アリール
基、ヘテロ環基などを表わす)COOHなどのようにG
、と直接反応する官能基であってもよく、(ここで、O
H,SH,NHR。
More specifically, Zl easily undergoes a nucleophilic reaction with 61 when a hydrazine compound of the general formula (H) is oxidized to produce the following reaction intermediate: R+-N-N-GI-Rs-
Z+ R+ -N-N is a group that can be split from 01, specifically ○H, SH or NHR, (R is a hydrogen atom,
Alkyl group, aryl group, -CORa, or -So!
(R5 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, etc.)
, may be a functional group that directly reacts with (where O
H, SH, NHR.

−COOHはアルキル等の加水分解によりこれらの基を
生成するように一時的に保護されていてもよい) 水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基また
はへテロ環基を表わす)のように水酸イオンや亜硫酸イ
オン等のような求核剤を反応することでG、と反応する
ことが可能になる官能基であってもよい。
-COOH represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or a heterocyclic group (which may be temporarily protected so as to generate these groups by hydrolysis of alkyl, etc.). It may be a functional group that can react with G by reacting with a nucleophile such as an acid ion or a sulfite ion.

また、G、 、R,、Z、で形成される環としては5員
または6員のものが好ましい。
Furthermore, the ring formed by G, , R, and Z is preferably 5- or 6-membered.

一般式(a)で表わされるもののうち、好ましいものと
しては一般式(b)および(c)で表わされるものを挙
げることができる。
Among those represented by general formula (a), preferred are those represented by general formulas (b) and (c).

一般式(b) 式中、R1〜R,aは水素原子、アルキル基(好ましく
は炭素数1〜12のもの)、アルケニル基(好ましくは
炭素数2〜12のもの)、了り−ル基(好ましくは炭素
数6〜12のもの)などを表わし、同しでも異ってもよ
い。Bは置換基を有してもよい5員環または6員環を完
成するのに必要な原子であり、m%nは0または1であ
り、(n+m)は1または2である。
General formula (b) In the formula, R1 to R, a are hydrogen atoms, alkyl groups (preferably those having 1 to 12 carbon atoms), alkenyl groups (preferably those having 2 to 12 carbon atoms), oryl groups (preferably those having 6 to 12 carbon atoms), and may be the same or different. B is an atom necessary to complete a 5-membered ring or a 6-membered ring which may have a substituent, m%n is 0 or 1, and (n+m) is 1 or 2.

Bで形成される5員または6員環としては、例えば、シ
クロヘキセン環、シクロヘプテン環、ベンゼン環、ナフ
タレン環、ピリジン環、キノリン環などである。
Examples of the 5- or 6-membered ring formed by B include a cyclohexene ring, a cycloheptene ring, a benzene ring, a naphthalene ring, a pyridine ring, and a quinoline ring.

Zl は一般式(a)と同義である。Zl has the same meaning as in general formula (a).

一般式(c) c +N+−T+CR,’ R,”4421式中、RcI、
R♂は水素原子、アルキルアルケニル基、アリール基ま
たはハロゲン原子などを表わし、同じでも異なってもよ
い。
General formula (c) c +N+-T+CR,'R,''4421 In the formula, RcI,
R♂ represents a hydrogen atom, an alkylalkenyl group, an aryl group, or a halogen atom, and may be the same or different.

RC3は水素原子、アルキル基、アルケニル基、または
アリール基を表わす。
RC3 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, or an aryl group.

pはOまたは1を表わす、qは1〜4を表わす。p represents O or 1, and q represents 1-4.

RC’ % RctおよびRCコはZ、がG、へ分子内
求核攻撃し得る構造の限りにおいて互いに結合して環を
形成してもよい。
RC' % Rct and RC may be bonded to each other to form a ring as long as Z can make an intramolecular nucleophilic attack on G.

Rct、Rctは好ましくは水素原子、ハロゲン原子、
またはアルキル基であり、R,3は好ましくはアルキル
基またはアリール基である。
Rct, Rct preferably represents a hydrogen atom, a halogen atom,
or an alkyl group, and R,3 is preferably an alkyl group or an aryl group.

qは好ましくは1〜3を表わし、qが1のときpは1ま
たは2を、qが2のときpはOまたはlを、qが3のと
きPはOまたは1を表わし、qが2または3のときCR
c’ R,”は同じでも異でもよい。
q preferably represents 1 to 3; when q is 1, p represents 1 or 2; when q is 2, p represents O or l; when q is 3, P represents O or 1; when q is 2 or CR when 3
c′ R,” may be the same or different.

Z、は一般式(a)と同義である。Z has the same meaning as in general formula (a).

At 、Atは水素原子、炭素数20以下のアルキルス
ルホニル基およびアリールスルホニル基(好ましくはフ
ェニルスルホニル基又はハメットの置換基定数の和が−
0,5以上となるように置換されたフェニルスルホニル
基)、炭素数20以下のアシル基(好ましくはベンゾイ
ル基、又はハメットの置換基定数の和が−0,5以上と
なるように置換されたベンゾイル基、あるいは直鎖又は
分岐状又は環状の無置換及び置換脂肪族アシル基(置換
基としては例えばハロゲン原子、エーテル基、スルホン
アミド基、カルボンアミド基、水酸基、カルボキシ基、
スルホン酸基が挙げられる。)AI、Atとしては水素
原子が最も好ましい。
At, At is a hydrogen atom, an alkylsulfonyl group having 20 or less carbon atoms, an arylsulfonyl group (preferably a phenylsulfonyl group, or a sum of Hammett's substituent constants -
0.5 or more), an acyl group having 20 or less carbon atoms (preferably a benzoyl group, or a phenylsulfonyl group substituted so that the sum of Hammett's substituent constants is -0.5 or more) A benzoyl group, or a linear, branched, or cyclic unsubstituted or substituted aliphatic acyl group (substituents include, for example, a halogen atom, an ether group, a sulfonamide group, a carbonamide group, a hydroxyl group, a carboxy group,
Examples include sulfonic acid groups. ) As AI and At, a hydrogen atom is most preferable.

一般式(1)のR1またはR5はその中にカプラー等の
不動性写真用添加剤において常用されているバラスト基
が組み込まれているものでもよい。
R1 or R5 in general formula (1) may have a ballast group commonly used in immobile photographic additives such as couplers incorporated therein.

バラスト基は8以上の炭素数を有する写真性に対して比
較的不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ
基、フェニル基、アルキルフェニル基、フェノキシ基、
アルキルフェノキシ基などの中から選ぶことができる。
The ballast group is a group having 8 or more carbon atoms and is relatively inert to photography, such as an alkyl group, an alkoxy group, a phenyl group, an alkylphenyl group, a phenoxy group,
It can be selected from alkylphenoxy groups, etc.

一般式(1)のR3またはRつはその中にハロゲン化銀
粒子表面に対する吸着を強める基が組み込まれているも
のでもよい、かかる吸着基としては、チオ尿素基、複素
基チオアミド基、メルカプト復素環基、トリアゾール基
などの米国特許第4゜385.108号、動4.459
,347号、特開昭59−195,233号、動59−
200゜231号、同59−201,045号、同59
−201.046号、同59−201.047号、同5
9−201,048号、同59−201,049号、特
開昭61−170,733号、同61−270,744
号、同62−948号、特願昭62−67、.108号
、同62−67.501号、同62−67.510号に
記載された基が挙げられる。
R3 or R in the general formula (1) may have a group incorporated therein that enhances adsorption to the silver halide grain surface. Examples of such adsorption groups include a thiourea group, a heterothioamide group, and a mercapto group. U.S. Pat. No. 4.385.108, Mo. 4.459, etc.
, No. 347, JP-A-59-195,233, Do-59-
200゜231, 59-201,045, 59
-201.046, 59-201.047, 5
9-201,048, 59-201,049, JP-A-61-170,733, JP-A-61-270,744
No. 62-948, patent application No. 62-67, . Examples include groups described in No. 108, No. 62-67.501, and No. 62-67.510.

一般式N)で示される化合物の具体例を以下に示す、但
し本発明は以下の化合物に限定されるものではない。
Specific examples of the compound represented by the general formula N) are shown below, however, the present invention is not limited to the following compounds.

1−L) I−2) ■−3) ■−4) xHs I−6) !−7) H I−8) 【−9) 書 C)lICHオCH,SH !−10) 1−11) 1−12) 1−15) S)1 1−16) 1−17) 1−1.8 ) N=■N r−20) SH −N r−22) ○ 1−23) ○ Js 1−26) !−27) [−28) !−30) 1−31) 1−32) 1−33) r−34) !−35) 1−36) 1−37) !−38) 1−40) [−41) r−42) N 2 1−43) r−44) 、1−45) 1−46) 1−47) 1−48) 1−49) [−50) 1−51) 1−52) 1−53) r−54) 本発明に用いられるヒドラジン誘導体としては、上記の
ものの他に、RESEARCII DISCLO3UR
E I tem23516 (1983年11月号、p
、346)およびそこに引用された文献の他、米国特許
4゜080.207号、同4,269,929号、同4
.276.364号、同4,278,748号、同4,
385,108号、同4,459,347号、同4,5
60,638号、同4,478,928号、英国特許2
.OLL、391B、特開昭60−179734号、同
62−270 948号、同63−29,751号、特
開昭61−170.733号、同61−270,744
号、同62−948号、EP217,310号、特願昭
61−175.234号、同61−251,482号、
同61−268.249号、同61−276゜283号
、同62−67528号、同62−67゜509号、同
62−67.510号、同62−58.513号、同6
2−130,819号、同62−143,467号、同
62−166.117号、またはUS4,686,16
7号、特開昭62−178,246号、同63−234
,244号、同63−234.245号、同63−23
4゜246号、同63−294,552号、同63−3
06.438号、特願昭62−166.117号、同6
2−247.478号、同63−105゜682号、同
63−114.118与、同63−110.051号、
同63−114,119号、同63−116,239号
、同63−147,339号、同63−179,760
号、同63−229.163号、特願平1−18,37
7号、同1−18,378号、同1−18.379号、
同1−15.755号、同1−16,814号、同1−
40,792号、同1−42,615号、同1−42,
616号に記載されたものを用いることができる。
1-L) I-2) ■-3) ■-4) xHs I-6)! -7) HI-8) [-9) Book C) lICHOCH,SH! -10) 1-11) 1-12) 1-15) S)1 1-16) 1-17) 1-1.8) N=■N r-20) SH -N r-22) ○ 1- 23) ○ Js 1-26)! -27) [-28)! -30) 1-31) 1-32) 1-33) r-34) ! -35) 1-36) 1-37) ! -38) 1-40) [-41) r-42) N 2 1-43) r-44) , 1-45) 1-46) 1-47) 1-48) 1-49) [-50) 1-51) 1-52) 1-53) r-54) In addition to the above-mentioned hydrazine derivatives used in the present invention, RESEARCII DISCLO3UR
E I tem23516 (November 1983 issue, p.
, 346) and the documents cited therein, as well as U.S. Pat.
.. No. 276.364, No. 4,278,748, No. 4,
No. 385,108, No. 4,459,347, No. 4,5
No. 60,638, No. 4,478,928, British Patent 2
.. OLL, 391B, JP 60-179734, JP 62-270 948, JP 63-29,751, JP 61-170.733, JP 61-270,744
No. 62-948, EP 217,310, Patent Application No. 175.234/1982, No. 61-251,482,
No. 61-268.249, No. 61-276゜283, No. 62-67528, No. 62-67゜509, No. 62-67.510, No. 62-58.513, No. 6
No. 2-130,819, No. 62-143,467, No. 62-166.117, or US No. 4,686,16
No. 7, JP-A No. 62-178, 246, JP-A No. 63-234
, No. 244, No. 63-234.245, No. 63-23
4゜246, 63-294,552, 63-3
No. 06.438, Patent Application No. 166.117 of 1982, No. 6
No. 2-247.478, No. 63-105゜682, No. 63-114.118, No. 63-110.051,
No. 63-114,119, No. 63-116,239, No. 63-147,339, No. 63-179,760
No. 63-229.163, patent application No. 1-18, 37
No. 7, No. 1-18,378, No. 1-18.379,
1-15.755, 1-16,814, 1-
No. 40,792, No. 1-42,615, No. 1-42,
Those described in No. 616 can be used.

本発明において、ヒドラジン誘導体を写真感光材料中に
含有させるときには、ハロゲン化銀乳剤層に含有させる
のが好ましいがそれ以外の非感光性の親水性コロイド層
(例えば保護層、中間層、フィルター層、ハレーシ舊ン
防止層など)に含有させでもよい、具体的には使用する
化合物が水溶性の場合には水溶液として、また難水溶性
の場合にはアルコール類、エステル類、ケトン類などの
水と混和しうる有m溶媒の溶液として、親水性コロイド
溶液に添加すればよい、ハロゲン化銀乳剤層に添加する
場合は化学熟成の開始から塗布前までの任意の時期に行
ってよいが、化学、V#!或終了後から塗布前の間に添
加するのが好ましい、特に塗布のために用意された皇帝
液中に添加するのがよい。
In the present invention, when a hydrazine derivative is contained in a photographic light-sensitive material, it is preferably contained in a silver halide emulsion layer, but other non-photosensitive hydrophilic colloid layers (such as a protective layer, an intermediate layer, a filter layer, Specifically, if the compound used is water-soluble, it may be contained in an aqueous solution, or if it is poorly water-soluble, it may be contained in water such as alcohols, esters, ketones, etc. It may be added to the hydrophilic colloid solution as a solution of a miscible solvent.If added to the silver halide emulsion layer, it may be added at any time from the start of chemical ripening to before coating. V#! It is preferable to add it after a certain period of time and before coating, especially in the liquid prepared for coating.

本発明のヒドラジン誘導体の含有量はハロゲン化銀乳剤
の粒子径、ハロゲン組成、化学増感の方法と程度、該化
合物を含有させる層とハロゲン化銀乳剤層の関係、カブ
リ防止化合物の種類などに応して最適の量を選択するこ
とが望ましく、その選択のための試験の方法は当業者の
よく知るところである0通常は好ましくはハロゲン化銀
1モル当りlO−&モルないしlXl0−’モル、特に
10”ないし4×10″2モルの範囲で用いられる。
The content of the hydrazine derivative of the present invention depends on the grain size of the silver halide emulsion, the halogen composition, the method and degree of chemical sensitization, the relationship between the layer containing the compound and the silver halide emulsion layer, the type of antifogging compound, etc. Accordingly, it is desirable to select an optimal amount, and test methods for its selection are well known to those skilled in the art. Usually and preferably from 10-& mol to 1X10-' mol per mole of silver halide, In particular, it is used in a range of 10" to 4 x 10" 2 moles.

本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤は塩化銀、塩臭化
銀、沃臭化銀、沃塩臭化銀等どの組成でもかまわない。
The silver halide emulsion used in the present invention may have any composition such as silver chloride, silver chlorobromide, silver iodobromide, and silver iodochlorobromide.

本発明に用いられるハロゲン化銀の平均粒子サイズは微
粒子(例えば0.7μ以下〉の方が好ましく、特に0.
5μ以下が好ましい0粒子サイズ分布は基本的には制限
はないが、単分散である方が好ましい、ここでいう単分
散とは重量もしくは粒子数で少なくともその95%が平
均粒子サイズの±40%以内の大きさを持つ粒子群から
tJI威されていることをいう。
The average grain size of the silver halide used in the present invention is preferably fine (for example, 0.7 μm or less), particularly 0.7 μm or less.
There is basically no limit to the particle size distribution, which is preferably 5 μ or less, but monodisperse is preferable. Monodisperse here means at least 95% of the weight or number of particles is ±40% of the average particle size. This means that the particle group having a size within the range of tJI is applied.

写真乳剤中のハロゲン化銀粒子は立方体、八面体のよう
な規則的(regular)な結晶体を有するものでも
よく、また球状、板状などのような変則的(irreg
ular)な結晶を持つもの、あるいはこれらの結晶形
の複合形を持つものであってもよい。
Silver halide grains in photographic emulsions may have regular crystals such as cubic or octahedral, or irregular crystals such as spherical or plate-like.
ular) crystals, or a composite form of these crystal forms.

ハロゲン化銀粒子は内部と表層が均一な相から戒ってい
ても、異なる相からなっていてもよい。
The interior and surface layers of the silver halide grains may have a uniform phase or may consist of different phases.

別々に形成した2種以上のハロゲン化銀乳剤を混合して
使用してもよい。
Two or more silver halide emulsions formed separately may be used in combination.

本発明に用いるハロゲン化銀乳剤にはハロゲン化銀粒子
の形成または物理熟成の過程においてカドミウム塩、亜
硫酸塩、鉛塩、タリウム塩、ロジウム塩もしくはその錯
塩、イリジウム塩もしくはその錯塩などを共存させても
よい。
In the silver halide emulsion used in the present invention, cadmium salt, sulfite, lead salt, thallium salt, rhodium salt or its complex salt, iridium salt or its complex salt, etc. are allowed to coexist in the silver halide grain formation or physical ripening process. Good too.

本発明の乳剤層又は、その他の親水性コロイド層に、フ
ィルター染料として、あるいはイラジェーション防止そ
の他、(」【々の目的で、水溶性染料を含有してもよい
。フィルター染料としては、写真感IJIさらに低める
ための染料、好ましくは、/%Qゲン化銀の固有感度域
に分光吸収極大を有する紫外線吸収剤や、明室感光材料
として取り扱われる際のセーフライト党に対する安全性
金高めるための、主としてJ J OnmwA 00 
nmの領域に実質的な光吸収金もつ染料が用いられる。
The emulsion layer or other hydrophilic colloid layer of the present invention may contain a water-soluble dye as a filter dye or for irradiation prevention or other purposes. A dye to further lower the sensitivity, preferably an ultraviolet absorber having a spectral absorption maximum in the intrinsic sensitivity range of /%Q silver genide, or a dye to increase safety against safelight when handled as a light-sensitive material. , mainly J J OnmwA 00
A dye with substantial optical absorption in the nm region is used.

これらの染料は、目的に応じて乳剤層に添加するか、あ
るいはハロゲン化銀乳剤層の上部、即ち、支持体に関し
てハロゲン化銀乳剤層よシ遠くの非感光性親水性コロイ
ド層に媒染剤とともに添加して固定して用いるのが好プ
しい。
These dyes are added to the emulsion layer depending on the purpose, or they are added together with a mordant to the upper part of the silver halide emulsion layer, that is, to the non-light-sensitive hydrophilic colloid layer which is far from the silver halide emulsion layer with respect to the support. It is preferable to use it by fixing it.

染料のモル吸光係数によシ異なるが、通常l0−21/
m2〜/ 97m 2の範囲で添加される。好ましくは
JOnり〜!θOIIIり7m2である。
Although it depends on the molar extinction coefficient of the dye, it is usually l0-21/
It is added in the range of m2~/97m2. Preferably JOnri~! θOIII is 7m2.

染料の具体例は特願昭7/−コO?/ J 5’号に詳
しく記載されているが、 いくつか上次にあげる。
Specific examples of dyes can be found in the patent application published in 1977/-CoO? / J No. 5' contains detailed information, but some of them are listed below.

5(J3K S(J3K  Q 3K  O3K S (J 3N a SIJ 3N a 上記染料は適当な溶媒〔例えば水、アルコール(例えば
メタノール、エタノール、プロパノールなど)、アセト
ン、メチルセaソルプ、など、あるいはこれらの混合溶
媒〕に溶解して本発明の非感光性の親水性コロイド層用
塗布液中に添加される。
5 (J3K S (J3K Q 3K O3K S (J 3N a SIJ 3N a Solvent] and added to the coating solution for a non-photosensitive hydrophilic colloid layer of the present invention.

これらの染料は2種以上組合せて用いることもできる。Two or more of these dyes can also be used in combination.

本発明の染料は、明室取扱いt可能にするに必要な量用
いられる。
The dyes of the invention are used in amounts necessary to permit bright room handling.

具体的な染料の使用量は、一般に10   S’/m2
〜/?/m  % 4’?にio   y7m  −o
The specific amount of dye used is generally 10 S'/m2
~/? /m % 4'? niio y7m -o
.

、ry/m2の範囲に好ましいit見い出すことができ
る。
, ry/m2.

写真乳剤の結合剤またVi保護コロイドとしては、ゼラ
チンを用いるのが有利であるが、それ以外の親水性コロ
イドも用いることができる。たとえばゼラチン誘導体、
ゼラチンと他の高分子とのグラフトポリマー、アルブミ
ン、カゼイン等の蛋白質ヒドロキシエチルセルロース、
カルボキシメチルセルロース、セルロース硫酸エステル
類等の如きセルロース誘導体、アルギン酸ソーダ、澱粉
誘導体などの糊誘導体、ポリビニルアルコール、ポリビ
ニルアルコール部分アセタール、ポリ−N−ビニルビロ
リド/、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアク
リルアミド、ポリビニルイミダゾール、ポリビニルピラ
ゾール等の単一あるいは共重合体の如き多種の合成親水
性高分子物質音用いることができる。
Gelatin is advantageously used as the binder or Vi protective colloid for photographic emulsions, but other hydrophilic colloids can also be used. For example, gelatin derivatives,
Graft polymers of gelatin and other polymers, proteins such as albumin and casein, hydroxyethyl cellulose,
Cellulose derivatives such as carboxymethyl cellulose and cellulose sulfate esters, glue derivatives such as sodium alginate and starch derivatives, polyvinyl alcohol, polyvinyl alcohol partial acetal, poly-N-vinyl biloride/, polyacrylic acid, polymethacrylic acid, polyacrylamide, polyvinyl A wide variety of synthetic hydrophilic polymeric materials can be used, such as single or copolymers of imidazole, polyvinylpyrazole, and the like.

ゼラチンとしては石灰処理ゼラチンのほか、酸処理ゼラ
チンを用いてもよく、ゼラチン加水分解物、ゼラチン酵
素分解物も用いることができる。
As the gelatin, in addition to lime-treated gelatin, acid-treated gelatin may be used, and gelatin hydrolysates and gelatin enzymatically decomposed products can also be used.

本発明の方法で用いるハロゲン化銀乳剤は化学増感され
ていなくてもよいが、化学増感されていてもよい。ハロ
ゲン化銀乳剤の化学増感の方法として、硫黄増感、還元
増感及び貴金属増感法が知られてかり、これらのいずれ
kも単独で用いても、又併用して化学増感してもよい。
The silver halide emulsion used in the method of the present invention does not need to be chemically sensitized, but may be chemically sensitized. As methods for chemical sensitization of silver halide emulsions, sulfur sensitization, reduction sensitization, and noble metal sensitization methods are known, and any of these methods can be used alone or in combination for chemical sensitization. Good too.

負金属増慝法のうち金増感法はその代表的なもので金化
合物、主として金錯塩を用いる。全以外の貴金属、たと
えば白金、パラジウム、イリジウム等の錯塩上含有して
も差支えない。その具体例は米国特許コ、ψψr、ot
o蛛 英国特許67r、OtI号などに記載されている
Among the negative metal sensitization methods, the gold sensitization method is a typical method and uses a gold compound, mainly a gold complex salt. No problem may be contained in complex salts of noble metals other than pure metals, such as platinum, palladium, and iridium. A specific example is U.S. Patent Co., ψψr, ot
o Spider It is described in British Patent No. 67r, OtI, etc.

硫黄増感剤としては、ゼラチン中に含まれる硫黄化合物
のほか、種々の硫黄化合物、たとえばチオ硫酸塩、チオ
尿素類、チアゾール類、a−ダニン類等金用いることが
できる菖 還元増感剤としては第一すず塩、アミン類、ホルムアミ
ジンスルフィン酸、シラン化合声などを用いることがで
きる。
As a sulfur sensitizer, in addition to the sulfur compounds contained in gelatin, various sulfur compounds such as thiosulfates, thioureas, thiazoles, a-danines, etc. can be used as an irises reduction sensitizer that can be used with gold. For example, stannous salts, amines, formamidine sulfinic acid, silane compounds, etc. can be used.

本発明で用いられるハロゲン化録乳剤層には、公知の分
光増感色素を添加してもよい。
A known spectral sensitizing dye may be added to the halogenated recording emulsion layer used in the present invention.

本発明のポ光材料には、感光劇料の製造工程、保存中あ
るいは写真処理中のカブリ金防止しちるいは写真性能金
安定化させる目的で、種々の化合物金含有させることが
できる。すなわちアゾール類たとえばベンゾチアゾール
類塩、ニトロインダゾール類、クロロベ/ズイミグゾー
ル類、プaモベンズイミダゾール類、メルカプトチアゾ
ール類、メルカグトベ/ゾデアゾール類、メルカプトチ
アジアゾール類、アミノトリアゾール類、ベンゾチアゾ
ール類、ニトロベンシトリアゾール類、など;メルカプ
トピリミジン類;メルカグトトリアジ/類;たとえばオ
キサゾリンチオンのようなチオケト化合物;アザインデ
ン類、たとえばトリアザインデン類、テトラアザインデ
フ類(特にq−ヒドロキシm換(/、3.3a、lテト
ラザインデン類)、ペンタアザインデン類など;ベンゼ
ンチオスルフォン酸、ベンゼンスルフィン酸、ベンゼン
スルフォン酸アミド等のようなカプリ防止剤または安定
剤として知られた多くの化合物2加えることができる。
The photosensitive material of the present invention can contain various gold compounds for the purpose of preventing fogging during the production process, storage, or photographic processing of the photosensitive material, or for stabilizing photographic performance. That is, azoles such as benzothiazole salts, nitroindazoles, chlorobe/zimigzoles, p-amobenzimidazoles, mercaptothiazoles, mercaptothiazoles/zodeazoles, mercaptothiadiazoles, aminotriazoles, benzothiazoles, nitrobencitriazoles. , etc.; mercaptopyrimidines; mercagutotriazines; thioketo compounds such as oxazolinthione; azaindenes, such as triazaindenes, tetraazaindefs (particularly q-hydroxym-converted (/, 3.3a A number of compounds known as anti-capri agents or stabilizers can be added, such as benzenethiosulfonic acid, benzenesulfinic acid, benzenesulfonic acid amide, etc.;

これらのものの中で、好ましいのはベンゾトリアゾール
類(例えば、!−メチルーベンゾトリアゾール)及びニ
トロインダゾール類(例えば!−二トロインダゾール)
である。また、これらの化合物を処理液に含有させても
よい。
Among these, preferred are benzotriazoles (e.g. !-methyl-benzotriazole) and nitroindazoles (e.g. !-nitroindazole).
It is. Further, these compounds may be included in the treatment liquid.

本発明の写真感光材料には、写真乳剤層その他の親水性
コロイド層に無機1.たは有機のUt!膜剤金含有して
よい。例えばりaム塩(クロムミョウバン、など)、ア
ルデヒド類、ゲルタールアルデヒドなど)、N−メチロ
ール化合物(ジメチロール尿素、など)、ジオキサン誘
導体、活性ビニル化合物(lI3.j−トリアクリロイ
ル−へキサヒドロ−S −) !Jアジン、/、3−ビ
ニルスルホニル−2−グロパノールなど)、活性ハロゲ
ン化合物(j、グージクロル−2−ヒドロキシ−5−)
リアジンなど)、ムコハロゲン酸類、などを単独または
組み合わせて用いることができる。
In the photographic light-sensitive material of the present invention, an inorganic 1. Or organic Ut! The membrane agent may contain gold. For example, aluminum salts (chromium alum, etc.), aldehydes, geltal aldehyde, etc.), N-methylol compounds (dimethylol urea, etc.), dioxane derivatives, activated vinyl compounds (lI3.j-triacryloyl-hexahydro-S −)! J azine, /, 3-vinylsulfonyl-2-glopanol, etc.), active halogen compounds (j, goudichlor-2-hydroxy-5-)
riazine, etc.), mucohalogen acids, etc. can be used alone or in combination.

本発明音用いて作られる感光材料の写真乳剤層管たは他
の親水性コロイド層には塗布助剤、帯電防止、スベリ性
改良、乳化分散、接着防止及び写真特性改良(例えば、
現像促進、硬調化、増感)等種々の目的で、種々の界面
活性剤を含んでもよい。
The photographic emulsion layer tube or other hydrophilic colloid layer of the photosensitive material prepared using the photosensitive material of the present invention may contain coating aids, antistatic properties, smoothness improvement, emulsification dispersion, adhesion prevention, and improvement of photographic properties (e.g.,
Various surfactants may be included for various purposes such as development acceleration, high contrast, and sensitization.

例えばサポニン(ステロイド系)、アルキレンオキサイ
ド誘導体(例えばポリエチレングリコール、ポリエチレ
ングリコール/ポリグロピレ/グリコール縮合物、ポリ
エチレングリコールアルキルエーテル類又はポリエチレ
ングリコールアルキルアリールエーテル類、ポリエチレ
ンクリコールエステル類、ポリエチレングリコールソル
ビタンエステル類、ポリアルキレングリコールアルキル
アミン又はアミド類、シリコーンのポリエチレンオキサ
イド付加物類)、グリシドール誘導体(例えばアルケニ
ルコハク酸ポリグリセリド、アルキルフェノールポリグ
リセリド)、多1曲アルコールの脂肪酸エステル類、糖
のアルキルエステル類などの非イオン性界面活性剤;ア
ルキルカルボン酸塩、アルキルスルフォン酸塩、アルキ
ルベンセンスルフォン酸塩、アルキルナフタレ/スルフ
ォン酸塩、アルキル硫酸エステル類、アルキルリン酸エ
ステル類、N−アシル−N−アルキルタウリン類、スル
ホコハク酸エステル類、スルホアルキルポリオキシエチ
レンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレン
アルキルリン酸エステル類などのような、カルボキシ基
、スルホ基、ホスホ基、硫酸エステル基、リン酸エステ
ル基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤;アミノ酸類
、アミノアルキルスルホン酸類、アミノアルキル硫酸又
はリン酸エステル類、アルキルベタイン類、アミ/オキ
シド類などの両性界面活性剤;アルキルアミン塩類、脂
肪族あるbは芳香族第ψ級アンモニウム塩類、ピリジニ
ウム、イミダゾリウムなどの複素環V、4を級アンモニ
ウム塩類、及び脂肪族又は複素環ヲ含むホスホニウム又
はスルホニウム塩類などのカチオン界面活性剤を用いる
ことができる。
For example, saponins (steroids), alkylene oxide derivatives (e.g. polyethylene glycol, polyethylene glycol/polyglopylene/glycol condensates, polyethylene glycol alkyl ethers or polyethylene glycol alkylaryl ethers, polyethylene glycol esters, polyethylene glycol sorbitan esters, Non-ionic materials such as alkylene glycol alkylamines or amides, polyethylene oxide adducts of silicone), glycidol derivatives (e.g. alkenylsuccinic acid polyglycerides, alkylphenol polyglycerides), fatty acid esters of polyalcohols, alkyl esters of sugars, etc. surfactants; alkyl carboxylates, alkyl sulfonates, alkyl benzene sulfonates, alkyl naphthalene/sulfonates, alkyl sulfates, alkyl phosphate esters, N-acyl-N-alkyl taurines, Acidic groups such as carboxy groups, sulfo groups, phospho groups, sulfate ester groups, phosphate ester groups, etc. Anionic surfactants containing; amphoteric surfactants such as amino acids, aminoalkyl sulfonic acids, aminoalkyl sulfates or phosphates, alkyl betaines, amide/oxides; alkylamine salts, aliphatic or aromatic Cationic surfactants such as ψ-class ammonium salts, heterocyclic V, 4-class ammonium salts such as pyridinium and imidazolium, and phosphonium or sulfonium salts containing aliphatic or heterocyclic rings can be used.

特に本発明に釦いて好1しく用いられる界面活性剤は特
公昭よ!−タグ72号公報に記載された分子量too以
上のポリアルキレ/オキサイド類である。又、寸度安定
性の為にポリアルキルアクリレートの如きポリマーラテ
ックス全含有せしめることができる。
In particular, the surfactant that is most preferably used in the present invention is Tokukosho! - Polyalkylene/oxides having a molecular weight of too much or more described in Tag No. 72 publication. Further, for dimensional stability, a polymer latex such as polyalkyl acrylate can be completely contained.

本発明に用いるのに適した現像促進剤あるいは造核伝染
現像の促進剤としては、特開昭33−77474、同!
グー37732.同!J−/37゜/33、同40−/
4tO,Jグθ、同ぶ0−/4473り、などに開示さ
れてbる化合物の他、N又は5IJK子金含む各種の化
合物°が有効である。
Development accelerators or nucleating and contagious development accelerators suitable for use in the present invention include JP-A-33-77474, Ibid.
Goo37732. same! J-/37°/33, 40-/
In addition to the compounds disclosed in 4tO, Jg θ, 0-/4473, etc., various compounds containing N or 5IJK metal particles are effective.

次に具体例に列挙する。Next, specific examples are listed.

これらの促進剤は、化合物の種類によって最適添加量が
異なるが/ 、OxI O””3〜0.397m2、好
ましくばj 、(7X/ 0−3〜0 、/l/m2の
範囲で用いるのが°望ましい。これらの促進剤は適当な
溶媒(H2(J)メタノールやエタノールなどのアルコ
ール類、アセトン、ジメチルホルムアミド、メチルセル
ンルブなど)に溶解して塗布液に添加される。
The optimum amount of these accelerators to be added differs depending on the type of compound; These accelerators are dissolved in a suitable solvent (H2(J) alcohols such as methanol and ethanol, acetone, dimethylformamide, methylcellenlube, etc.) and added to the coating solution.

これらの添加剤全複数の種類を併用してもよい。All of these additives may be used in combination.

本発明のハロゲン化銀感光材料を用いて超硬調の写真特
性を得るには、従来の伝染現像液や米国特許第2.ψ/
9’、777号に記載されたp )l /3に近い高ア
ルカリ現像液を用いる必要はなく、安定な現像液上用い
ることができる。
In order to obtain ultra-high contrast photographic characteristics using the silver halide photosensitive material of the present invention, it is necessary to use a conventional infectious developing solution or US Pat. ψ/
It is not necessary to use a highly alkaline developer close to p )l /3 as described in No. 9', 777, and a stable developer can be used.

すなわち、本発明のハロゲン化銀感光材料は、保恒剤と
しての亜硫酸イオン會θ、/!モル/e以上含み、pH
10,j〜/ u 、 J、特にpHt/、0−/、2
.0の現像液によって充分に超硬調のネガ画像を得るこ
とができる。
That is, the silver halide photosensitive material of the present invention has a sulfite ion θ, /! as a preservative. Contains mol/e or more, pH
10, j~/u, J, especially pHt/, 0-/, 2
.. A sufficiently ultra-high contrast negative image can be obtained using a developer of 0.

本発明の方法に釦いて用いうる現像主薬には特別なf&
II限はなく、例えばジヒドロキシベンゼン類(例えば
ハイドロキノン)、J−ピラゾ!7)’7el(例えば
/−フェニル−3−ピラゾリドン、り。
The developing agents that can be used in the method of the present invention include special f&
II is not limited to, for example, dihydroxybenzenes (e.g. hydroquinone), J-pyrazo! 7) '7el (e.g. /-phenyl-3-pyrazolidone, ri.

l−ジメチル−7−フェニル−3−ピラゾリドン)、ア
ミノフェノール類(例えばN−メチル−p−アミノフェ
ノール)などを単独あるいは組み合わせてもちいること
ができる。
l-dimethyl-7-phenyl-3-pyrazolidone), aminophenols (for example, N-methyl-p-aminophenol), etc. can be used alone or in combination.

本発明のハロゲン化銀志光材料は特に、主現像主薬とし
てジヒドロキシベンゼン類を、補助現像主薬として3−
シラゾリドン類またはアミノフェノール類を含む現像液
で処理されるのに適している。好ましくはこの現像液に
おいてジヒドロキシベンゼン類は0.0j−0,1モル
/113−ピラゾリドン類またはアミノフェノール類は
0,06モル/l以下の範囲で併用される。
In particular, the silver halide Zhiguang material of the present invention contains dihydroxybenzenes as a main developing agent and 3-3 as an auxiliary developing agent.
Suitable for processing with developers containing silazolidones or aminophenols. Preferably, in this developer, dihydroxybenzenes are used in combination in an amount of 0.0j-0.1 mol/113-pyrazolidones or aminophenols in a range of 0.06 mol/l or less.

また米国特許グ2ぶ722P号に記載されているように
、アミン類を現像液に添加することによって現像速度を
高め、現像時間の短縮化を実現することもできる。
Further, as described in US Pat. No. 722P, the development speed can be increased and the development time can be shortened by adding amines to the developer.

現像液にはその他、アルカリ金属の亜硫酸塩、炭m塩、
ホウ酸塩、及びリン酸塩の如きp’ H緩衝剤、臭化物
、沃化物、及び有機カブリ防止剤(/#に好1しくはニ
ドaインダゾール類またはベンゾトリアゾール類)の如
き現像抑制剤ないし、カブリ防止剤などを含むことがで
きる。又必要に応じて、硬水軟化剤、溶解助剤、色調剤
、現像促進剤、界面活性剤(とくに好ましくは前述のポ
リアルキレンオキサイド類)、消泡剤、硬膜剤、フィル
ムの銀汚れ防止剤(例えばコーメルカブトベ/ズイミダ
ゾールスルホン@類など)金含んでもよい。
In addition, the developer contains alkali metal sulfites, charcoal salts,
p' H buffering agents such as borates and phosphates, development inhibitors such as bromides, iodides, and organic antifoggants (preferably nido-a indazoles or benzotriazoles); Antifoggants and the like can be included. If necessary, water softeners, solubilizing agents, color toning agents, development accelerators, surfactants (especially preferably the aforementioned polyalkylene oxides), antifoaming agents, hardeners, and film silver stain preventive agents may be added. (For example, Komel Kabutobe/zimidazole sulfone @ etc.) May contain gold.

定着液としては一般に用いられる組成のものを用いるこ
とができる。定着剤としてはチオ硫酸塩、チオシアン酸
塩のほか、定着剤としての効果が知られている有機硫黄
化合物を用−ることができる。
As the fixer, one having a commonly used composition can be used. As the fixing agent, in addition to thiosulfates and thiocyanates, organic sulfur compounds known to be effective as fixing agents can be used.

定着液には硬IFJ剤として水溶性アルミニウム塩など
を含んでもよい。
The fixer may contain a water-soluble aluminum salt or the like as a hard IFJ agent.

本発明の方法に釦ける処理温度は普通tr”cからjo
6cの間に選ばれる。
The processing temperature used in the method of the present invention is usually from tr''c to jo.
Selected between 6c.

写真処理には自動現像機を用いるのが好筐しいが、本発
明の方法によシ、感光材料金自動現像機に入れてから出
てくるまでのトータルの処理時間’t(yo秒〜iao
秒に設定しても、充分に超硬調のネガ階調の写真特性が
得られる。
Although it is preferable to use an automatic processor for photographic processing, the method of the present invention requires a total processing time 't (yo seconds to iao seconds) from the time the photosensitive material is put into the automatic processor until it comes out
Even when the setting is set to seconds, sufficient ultra-high contrast negative gradation photographic characteristics can be obtained.

本発明の現像液には銀汚れ防止剤として特開昭jt−j
ψ、34c7号に記載の化合物を用いることができる。
The developing solution of the present invention contains JP-A Shojt-j as a silver stain preventive agent.
ψ, the compound described in No. 34c7 can be used.

現像液中に添加する溶解助剤として特願昭60−/θ5
’、74’j号に記載の化合物を用いることができる。
Patent application 1986-/θ5 as a dissolution aid added to the developer
', No. 74'j can be used.

さらに現像液に用いるpH緩衝剤として特開昭t O−
5’j 、 1.LJ J号に記載の化合物あるいは+
ej種員昭Gj−IB’l−に記載の化合物を用いるこ
とができる。
Furthermore, as a pH buffering agent used in the developer, JP-A-Shoto O-
5'j, 1. The compound described in LJ J or +
Compounds described in Ej Species Showa Gj-IB'l- can be used.

以下実施例によう、本発明の詳細な説明する。The present invention will be described in detail below with reference to Examples.

な釦実施例に於ては下記処方の現像液を用いた。In the button examples, a developer having the following formulation was used.

比較例1 (感光性乳剤の調製) 50°Cに保ったゼラチン水?容7F!i、にi艮1モ
ル当り4×lO“7モルの6塩化イリジウム(I[[)
カリおよびアンモニアの存在下で、硝酸銀水溶液と沃化
カリウム、臭化カリウムの水溶液を同時に60分間で加
えその間のPAgを7.8に保つことにより、平均粒子
サイズ0.28μで、平均ヨウ化銀含有量0.3モル%
の立方体単分散乳剤を調製した。この乳剤をフロキュレ
ージタン法により、脱塩を行いその後に、銀1モル当り
40gの不活性ゼラチンを加えた後50°Cに保ち増感
色素として5.5′−ジクロo−9−エチル−3,3′
−ビス(3−スルフォプロビル)オキサカルボシアニン
と、恨1モル当り10−3モルのK[i客演に加え、1
5分分間時させた後降温した。
Comparative Example 1 (Preparation of photosensitive emulsion) Gelatin water kept at 50°C? Yong 7F! i, 7 mol of iridium hexachloride (I [[)
In the presence of potash and ammonia, an aqueous solution of silver nitrate, potassium iodide, and potassium bromide was simultaneously added for 60 minutes, and the PAg was maintained at 7.8 during that time. Content 0.3 mol%
A cubic monodisperse emulsion was prepared. This emulsion was desalted by the flocculesitane method, and then 40 g of inert gelatin per mole of silver was added and kept at 50°C to use 5.5'-dichloro-o-9-ethyl as a sensitizing dye. -3,3'
- Bis(3-sulfoprobyl) oxacarbocyanine and 10-3 moles of K per mole of
After allowing the mixture to stand for 5 minutes, the temperature was lowered.

(感光乳剤層の塗布) この乳剤を再溶解し、40°Cにて、次のヒドラジン誘
導体を添加し、メチルハイドロキノン0゜02モル/A
gモル、 Js ?、lX10−’モル/Agモル 更に5−メチルベンズトリアゾール、4−ヒドロキシ−
1,3,3a、7−チトラザインデン、下記化合物(イ
)、(ロ)及びゼラチンに対して30wt%のポリエチ
ルアクリレート及びゼラチン硬化剤として下記化合物(
ハ)を添加し、塩化ビニリデン共重合体からなる下塗J
W(0,5μ)を有するポリエチレンテレフタレートフ
ィルム(150μ)上に銀量3.4g/r4となるよう
に塗布した。
(Coating of photosensitive emulsion layer) This emulsion was redissolved, and the following hydrazine derivative was added at 40°C, and 0.02 mol/A of methylhydroquinone was added.
gmol, Js? , lX10-' mol/Ag mol and 5-methylbenztriazole, 4-hydroxy-
1,3,3a,7-chitrazaindene, the following compounds (a) and (b), 30 wt% polyethyl acrylate based on gelatin, and the following compound (as a gelatin hardening agent)
Undercoat J made of vinylidene chloride copolymer with the addition of c)
It was coated onto a polyethylene terephthalate film (150μ) having W (0.5μ) so that the amount of silver was 3.4g/r4.

(イ) tHs 3.5 mg/ボ (ロ) (ハ) H CH!ヨCH30tC)ItCHCHzSO□C)I工
CH2ゼラチンに対して2.OwtX (保護層の塗布) この上に保護層として、ゼラチン1.5g/rrf、ポ
リメチルメタクリレート粒子(平均粒径2.5μ)0.
3g/rrr、下記の方法で作成したAg(1微粒子(
0,08μ)をAg量で0.3g/ボになるように、次
の界面活性剤を用いて塗布した。
(B) tHs 3.5 mg/Bo (B) (C) H CH! YOCH30tC)ItCHCHzSO□C)ICH2For gelatin 2. OwtX (Coating of protective layer) On top of this, as a protective layer, gelatin 1.5g/rrf and polymethyl methacrylate particles (average particle size 2.5μ) 0.
3g/rrr, Ag (1 fine particle (
0.08μ) was coated using the following surfactant so that the Ag amount was 0.3g/bo.

五皿孟性■ C)IzCOOCaH+5 CHCOOCJ+s OsNa 37mg/ボ CsF r ts(hNCHl(:OOKコ (:ffH?           2. 5mg/ボ
比較例2〜4 比較例1の感光乳剤層に、レドックス化合物6.14.
21をそれぞれ2. 0 X I Q−’a+ol/T
Tr添加し、その他は比較例1と同様であった。
Comparative Examples 2 to 4 Redox compound 6.14 was added to the light-sensitive emulsion layer of Comparative Example 1. ..
21 for each 2. 0 X I Q-'a+ol/T
The rest was the same as Comparative Example 1 except that Tr was added.

実施例1 比較例1の感光乳剤層と、支持体の間にゼラチン1.5
g/rrrと表1に示した本発明のレドックス化合物2
 、  OX 10 ”a+ol/n(を含むゼラチン
0層を設けた。
Example 1 1.5 gelatin was added between the light-sensitive emulsion layer of Comparative Example 1 and the support.
g/rrr and redox compound 2 of the present invention shown in Table 1
, OX 10''a+ol/n (0 layer of gelatin was provided).

これらの試料を、3200” Kのタングステン光で光
学クサビおよびコンタクトスクリーン(富士フィルム、
150Lチエーンドツト型)を通して露光後、次の現像
液で34℃30秒間現像し、定着、水洗、乾燥した。
These samples were exposed to an optical wedge and contact screen (Fuji Film,
After exposure through a 150L chain dot type), the film was developed with the following developer at 34°C for 30 seconds, fixed, washed with water, and dried.

得られたサンプルの網階調の測定結果を表1に示した。Table 1 shows the measurement results of the halftone gradation of the obtained sample.

網階調は次式で表わした。The halftone gradation is expressed by the following formula.

*網階1m−95%の網点面積率を与える露光量(j!
ogE95%)−5%の網点面積率を与える露光量(1
4ogE5%) 本発明のサンプルは比較例に比べて、網階調が著しく広
くなった。比較例2〜4はGが10以下と著しく硬調性
が損なわれるのに対して、本発明のサンプルは高い硬調
性を維持している。
*Exposure amount that gives a halftone dot area ratio of 1m-95% (j!
ogE95%) -5% exposure amount (1
4ogE5%) The sample of the present invention had significantly wider halftone gradation than the comparative example. In contrast to Comparative Examples 2 to 4, where G is 10 or less, the contrast is significantly impaired, the samples of the present invention maintain high contrast.

また、網点の形状は、比較例1のサンプルでは凹凸が目
立つ不規則な形状をし、また比較例2〜4のサンプルで
は光学濃度が低く、ぼやけた状態であるのに対して、本
発明の実施例サンプルはスムーズな形状をし、かつ光学
濃度の高い網点てあった。
In addition, the shape of the halftone dots in the sample of Comparative Example 1 is irregular with conspicuous unevenness, and the samples of Comparative Examples 2 to 4 have low optical density and are in a blurry state, whereas in the present invention The example sample had a smooth shape and halftone dots with high optical density.

現 像 液 表 実施例2 実施例1のゼラチン0層として次の組成の層を用いて、 その他は実施例1と同様に行った。current image liquid table Example 2 Using a layer with the following composition as the gelatin 0 layer of Example 1, The rest was carried out in the same manner as in Example 1.

実施例1と同様に露光、現像処理した結果、良好な品質
の網点て、かつ網階調が1.40とさらに広くなった。
As a result of exposure and development processing in the same manner as in Example 1, the halftone dots were of good quality and the halftone gradation was further widened to 1.40.

実施例3 ポリエステルフィルム(150μ)支持体の上に、順次
、次の層を塗布した。
Example 3 The following layers were applied in sequence onto a polyester film (150μ) support:

(1)感光乳剤層−A 比較例=1に示した感光乳剤処方を用いて、銀量が0.
4g/rrfになるように塗布した。
(1) Light-sensitive emulsion layer-A Using the light-sensitive emulsion formulation shown in Comparative Example 1, the amount of silver was 0.
It was coated at a concentration of 4 g/rrf.

(2)中間層 ゼラチン            0.5g/nlポリ
エチルアクリレートラテックス0.155本発明レドッ
クス化合物(表2に示す)(3)中間層 ゼラチン             0.5g/ボ(4
)感光乳剤層−B 比較例−1の感光乳剤層を銀量が3.4g/rrfにな
るように塗布した。
(2) Intermediate layer gelatin 0.5 g/nl Polyethyl acrylate latex 0.155 Redox compound of the present invention (shown in Table 2) (3) Intermediate layer gelatin 0.5 g/nl (4
) Photosensitive emulsion layer-B The photosensitive emulsion layer of Comparative Example-1 was coated so that the amount of silver was 3.4 g/rrf.

結果を表2に示した。The results are shown in Table 2.

表 壌点品質は、視覚的に5段階評価した。5段階評価は、
「5」が最も良く、「1」が最も悪い品質を示す、製版
様網点原版としては、「5」、「4」が実用可能で、「
3」が実用可能な限界レベルであり、12J、rliは
実用不可能な品質でる。
The quality of the surface soil spots was visually evaluated in five stages. The 5-level evaluation is
"5" indicates the best quality and "1" indicates the worst quality.As a plate-making halftone original plate, "5" and "4" are practical, and "
3" is a practical limit level, and 12J, rli is an impractical quality.

結果を表2に示した0本発明のサンプルは、高い網点品
質をもち、また網階調の広い網点画像を与える。
The results are shown in Table 2. The samples of the present invention have high halftone dot quality and give halftone images with wide halftone gradations.

実施例4 50’Cに保ったゼラチン水溶液に銀1モル当り5.0
X10−’モルの(N)In) JhCj! hの存在
下で硝酸銀水溶液と塩化ナトリウム水溶液を同時に混合
したのち、当業界でよく知られた方法にて、可溶性塩を
除去したのちにゼラチンを加え、化学熟成せずに安定化
剤として2−メチル−4〜ヒドロキシ−1,3,3a、
7−チトラザインデンを添加した。この乳剤は平均サイ
ズが0.15μの立方晶形をした単分散乳剤であった。
Example 4 5.0 per mole of silver in an aqueous gelatin solution maintained at 50'C.
X10-' moles of (N)In) JhCj! After simultaneous mixing of an aqueous silver nitrate solution and an aqueous sodium chloride solution in the presence of h, gelatin is added after removing soluble salts by methods well known in the art, and 2- Methyl-4-hydroxy-1,3,3a,
7-Chitrazaindene was added. This emulsion was a cubic monodisperse emulsion with an average size of 0.15 microns.

(乳剤B)この乳剤に次のヒドラジン化合物を添加し1
5■/ボ さらに表3に示した本発明の化合物を添加し、硬膜剤と
して1.3−ビニルスルホニル−2−プロパノールを加
え、ポリエステル支持体上に014g/rrfのAg量
になる様に塗布した。ゼラチンは0.3g/rrrであ
った。この上に、ゼラチン0.5g/rrfの中間層を
塗布したのち、次の感光層を銀量が3.4g/rrfに
なるように塗布した。
(Emulsion B) The following hydrazine compound was added to this emulsion.
5■/bo The compound of the present invention shown in Table 3 was further added, and 1,3-vinylsulfonyl-2-propanol was added as a hardening agent, so that the amount of Ag was 0.14 g/rrf on the polyester support. Coated. Gelatin was 0.3 g/rrr. On top of this, an intermediate layer containing gelatin of 0.5 g/rrf was coated, and then the next photosensitive layer was coated so that the amount of silver was 3.4 g/rrf.

乳剤Bに、次のヒドラジン化合物を添加し、ポリエチル
アクリレートラテックスを固形分で対ゼラチン30wt
%添加し、硬膜剤として1.3−ビニルスルホニル−2
−プロパノールヲ2.  Owt%対ゼラチン添加した
The following hydrazine compound was added to emulsion B, and the solid content of polyethyl acrylate latex was 30 wt to gelatin.
% added and 1,3-vinylsulfonyl-2 as a hardening agent.
-Propanol 2. Owt% vs. gelatin added.

この上に保護層としてゼラチン1.5g/rdと、マッ
ト剤として、ポリメチルメタクリレート粒子(平均粒径
2,5μ)0゜3g/rrr、さらに塗布助剤として次
の界面活性剤、安定剤、および紫外線吸収染料を含む保
護層を塗布し、乾燥した。
On top of this, 1.5 g/rd of gelatin was added as a protective layer, 0°3 g/rrr of polymethyl methacrylate particles (average particle size 2.5μ) was added as a matting agent, and the following surfactants and stabilizers were added as coating aids: and a protective layer containing ultraviolet absorbing dye was applied and dried.

界面活性剤 CHiCOOCaH+5 t CHCOOCJ+s 0sNa 37■/ボ C@F+tSO1NCIIgGOOK c、i。surfactant CHiCOOCaH+5 t CHCOOCJ+s 0sNa 37■/bo C@F+tSO1NCIIgGOOK c.i.

5■/rrl 安定剤 チオクト酸 1■/ボ 紫外吸収染料 このサンプルに大日本スクリーン■製明室プリンターP
−607で、第1図に示すような原稿を通して画像露光
し38°C20秒現像処理し、定着、水洗、乾燥したの
ち、抜き文字画質の評価を行った。
5■/rrl Stabilizer Thioctic acid 1■/V Ultraviolet absorbing dye This sample is used by Dainippon Screen ■Meisho Printer P
-607, image exposure was carried out through the original as shown in FIG. 1, and the image was developed at 38° C. for 20 seconds, fixed, washed with water, and dried. After that, the cutout character image quality was evaluated.

複文字画1t5とは第1図の如き原稿を用いて50%の
網点面積が返し用感光材料上に50%の網点面積となる
様な適性露光した時30μm巾の文字が再現される画質
を言い非常に良好な抜文字画質である。一方抜文字画譬
1とは同様な適性露光を与えた時150μm中以上の文
字しか再現することのできない画質を言い良くない抜文
字品質であり、5と1の間に官能評価で4〜2のランク
を設けた。3以上が実用し得るレベルである。
A double character stroke 1t5 is a character with a width of 30 μm that is reproduced when a manuscript like the one shown in Figure 1 is exposed appropriately so that 50% of the halftone dot area becomes 50% of the halftone dot area on the photosensitive material for return. In terms of image quality, the image quality is very good. On the other hand, the character drawing parable 1 refers to the image quality that can only reproduce characters of 150 μm or larger when given the same appropriate exposure, and is poor character quality, with a sensory evaluation of 4 to 2 between 5 and 1. A rank was established. A value of 3 or higher is a practical level.

結果を表3に示した0本発明のサンプルは抜文字画質が
優れる。
The results are shown in Table 3. The samples of the present invention have excellent cut-out character image quality.

table

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、重ね返しによる抜文字画像形成を行なう場合
の、露光時構成を示したものであり各符号は以下のもの
を示す。 (イ)透明もしくは半透明の貼りこみベース(ロ)線画
原稿(なお黒色部分は線画を示す)(ハ)透明もしくは
半透明の貼りこみベース(ニ)網点原稿(なお黒色部分
は網点を示す)(ホ)返し用感光材料(なお、斜線部は
感光層を示す)
FIG. 1 shows the configuration at the time of exposure when forming a cut-out character image by overlapping and repeating, and each reference numeral indicates the following. (b) Transparent or semi-transparent pasting base (b) Line drawing original (black areas indicate line drawings) (c) Transparent or semi-transparent pasting base (d) Halftone dot original (black areas indicate halftone dots) (shown) (e) Photosensitive material for turning (the shaded area indicates the photosensitive layer)

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)ヒドラジン誘導体を含む少なくとも1種の感光性
ハロゲン化銀乳剤層と、酸化されることにより現像抑制
剤を放出しうるレドックス化合物を含む前記感光性ハロ
ゲン化銀層とは異なる親水性コロイド層とを有すること
を特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。
(1) At least one photosensitive silver halide emulsion layer containing a hydrazine derivative and a hydrophilic colloid layer different from the photosensitive silver halide layer containing a redox compound capable of releasing a development inhibitor upon oxidation. A silver halide photographic material comprising:
(2)レドックス化合物がレドックス基としてハイドロ
キノン類、カテコール類、ナフトハイドロキノン類、ア
ミノフェノール類、ピラゾリドン類、ヒドラジン類、ヒ
ドロキシルアミン類、レダクトン類を有することを特徴
とする特許請求の範囲第(1)項記載のハロゲン化銀写
真感光材料。
(2) Claim No. (1) characterized in that the redox compound has hydroquinones, catechols, naphthohydroquinones, aminophenols, pyrazolidones, hydrazines, hydroxylamines, and reductones as redox groups. The silver halide photographic material described in Section 1.
(3)レドックス化合物がレドックス基としてヒドラジ
ン類を有することを特徴とする特許請求の範囲第(1)
項記載のハロゲン化銀写真感光材料。
(3) Claim (1) characterized in that the redox compound has a hydrazine as a redox group.
The silver halide photographic material described in Section 1.
(4)レドックス化合物が下記一般式(R−1)、(R
−2)および(R−3)で表わされる化合物から選ばれ
る少なくとも1種の化合物であることを特徴とする特許
請求の範囲第(1)項記載のハロゲン化銀写真感光材料
。 一般式(R−1) ▲数式、化学式、表等があります▼ 一般式(R−2) ▲数式、化学式、表等があります▼ 一般式(R−3) ▲数式、化学式、表等があります▼ これらの式中、R_1は脂肪族基または芳香族基を表わ
す。G_1は▲数式、化学式、表等があります▼基、▲
数式、化学式、表等があります▼基、 ▲数式、化学式、表等があります▼基、▲数式、化学式
、表等があります▼基、−SO−基、−SO_2−基ま
たは▲数式、化学式、表等があります▼基を表わす。G
_2は単なる結合手、−O−、−S−または▲数式、化
学式、表等があります▼を表わし、R_2は水素原子ま
たはR_1を表わす。 A_1、A_2は水素原子、アルキルスルホニル基、ア
リールスルホニル基またはアシル基を表わし置換されて
いても良い。一般式(R−1)ではA_1、A_2の少
なくとも一方は水素原子である。A_3はA_1と同義
または▲数式、化学式、表等があります▼を表わす。 A_4はニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、スルホ
基または−G_1−G_2−R_1−を表わす。 Timeは二価の連結基を表わし、tは0または1を表
わす。PUGは現像抑制剤を表わす。
(4) The redox compound has the following general formula (R-1), (R
The silver halide photographic material according to claim (1), which is at least one compound selected from the compounds represented by -2) and (R-3). General formula (R-1) ▲ Contains mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ General formula (R-2) ▲ Contains mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ General formula (R-3) ▲ Contains mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ In these formulas, R_1 represents an aliphatic group or an aromatic group. G_1 has ▲mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼group, ▲
There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ groups, ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ groups, ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. There are tables, etc. ▼ Represents a group. G
_2 represents a simple bond, -O-, -S-, or ▲a numerical formula, chemical formula, table, etc.▼, and R_2 represents a hydrogen atom or R_1. A_1 and A_2 represent a hydrogen atom, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, or an acyl group, and may be substituted. In general formula (R-1), at least one of A_1 and A_2 is a hydrogen atom. A_3 has the same meaning as A_1 or represents ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼. A_4 represents a nitro group, a cyano group, a carboxyl group, a sulfo group or -G_1-G_2-R_1-. Time represents a divalent linking group, and t represents 0 or 1. PUG stands for development inhibitor.
(5)レドックス化合物が下記一般式(R−1)で表わ
されることを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載
のハロゲン化銀写真感光材料。 一般式(R−1) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、A_1、A_2はともに水素原子又は一方が水
素原子で他方はスルフィン酸残基もしくは▲数式、化学
式、表等があります▼(式中、R_0はアルキル基、ア
ルケニル基、アリール基、アルコキシ基またはアリール
オキシ基を表わし、lは1または2を表わす。)を表わ
す。Timeは二価の連結基を表わし、tは0または1
を表わす、PUGは現像抑制剤を表わす。 G_1はカルボニル基、▲数式、化学式、表等がありま
す▼、スルホニル基、スルホキシ基、▲数式、化学式、
表等があります▼(R_1はアルコキシ基またはアリー
ルオキシ基を表わす。)、イミノメチレン基、またはチ
オカルボニル基を表わす。Rは脂肪族基、芳香族基また
はヘテロ環基を表わす。)
(5) The silver halide photographic material according to claim (1), wherein the redox compound is represented by the following general formula (R-1). General formula (R-1) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (In the formula, A_1 and A_2 are both hydrogen atoms, or one is a hydrogen atom and the other is a sulfinic acid residue, or ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (In the formula, R_0 represents an alkyl group, alkenyl group, aryl group, alkoxy group, or aryloxy group, and l represents 1 or 2.) Time represents a divalent linking group, and t represents 0. or 1
PUG represents a development inhibitor. G_1 is carbonyl group, ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼, sulfonyl group, sulfoxy group, ▲mathematical formulas, chemical formulas,
There are tables, etc. ▼ (R_1 represents an alkoxy group or an aryloxy group), an iminomethylene group, or a thiocarbonyl group. R represents an aliphatic group, an aromatic group or a heterocyclic group. )
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