JPH0334158B2 - - Google Patents
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- JPH0334158B2 JPH0334158B2 JP59243340A JP24334084A JPH0334158B2 JP H0334158 B2 JPH0334158 B2 JP H0334158B2 JP 59243340 A JP59243340 A JP 59243340A JP 24334084 A JP24334084 A JP 24334084A JP H0334158 B2 JPH0334158 B2 JP H0334158B2
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は冗長構成を有するバイポーラトランジ
スタランダムアクセスメモリ(RAM)に関し、
特にそのアドレス入力部に関する。[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a bipolar transistor random access memory (RAM) having a redundant configuration.
Particularly regarding its address input section.
通常、大容量MOSRAMには冗長構成が採用さ
れており、これにより、不良メモリセルが発生し
た場合、該不良メモリを含む行もしくは列の選択
時には予備行もしくは列を選択するようにして不
良メモリセルを救済し、歩留りを向上させてい
る。最近、このような冗長構成はバイポーラトラ
ンジスタRAMにも適用しようとする動きがあ
る。
Normally, large-capacity MOSRAMs have a redundant configuration, so that when a defective memory cell occurs, a spare row or column is selected when selecting the row or column that contains the defective memory cell. and improve yield. Recently, there has been a movement to apply such a redundant configuration to bipolar transistor RAM.
第2図には最近提案されたバイポーラトランジ
スタスタテイツクRAMが示されている。第2図
において、1は64Kのスタテイツク型メモリセル
アレイ、2は冗長アレイである。なお、冗長アレ
イは2以上の行もしくは列アレイでもよいが、こ
こでは、説明を簡単にするために1行アレイとす
る。メモリセルアレイ1の1行は、ローアドレス
バツフア3、ワードデコーダ4、ワードドライバ
5によつて選択される。つまり、外部からのロー
アドレス信号A0,A1,…,A7がローアドレスバ
ツフア3によつて内部ローアドレス信号A0,A1,
…,A7およびこれらの反転信号0,1,…,
7に変換され、これらの信号A0,A1,…,A7,
0,1,…,7を受信してワードデコーダ4は
256個のワードドライバ5のうち1つすなわちワ
ード線WL0,WL1,…,WL255の1つを駆動させ
る。メモリセルアレイ1の1列も同様の列選択手
段(図示せず)によつて選択される。 FIG. 2 shows a recently proposed bipolar transistor static RAM. In FIG. 2, 1 is a 64K static type memory cell array, and 2 is a redundant array. Note that although the redundant array may be an array of two or more rows or columns, in order to simplify the explanation, it is assumed to be a one-row array here. One row of memory cell array 1 is selected by row address buffer 3, word decoder 4, and word driver 5. In other words, external row address signals A 0 , A 1 , ..., A 7 are converted into internal row address signals A 0 , A 1 , A 7 by row address buffer 3 .
…, A 7 and their inverted signals 0 , 1 , …,
7 and these signals A 0 , A 1 ,…, A 7 ,
Upon receiving 0 , 1 ,..., 7 , the word decoder 4
One of the 256 word drivers 5, that is, one of the word lines WL 0 , WL 1 , . . . , WL 255 is driven. One column of memory cell array 1 is also selected by a similar column selection means (not shown).
メモリセルアレイ1のすべてセルが正常であれ
ば何ら問題はなく、第2図の回路は通常の装置と
して作用するが、第2図のメモリセルアレイ1に
不良セルが発見された場合には、この不良セルを
含む行のローアドレス(以下、不良ローアドレス
とする)がアドレス記憶回路6に書込まれる。ロ
ーアドレス信号A0,A1,…,A7はアドレス比較
回路7によつて常にアドレス記憶回路6に書込ま
れた不良ローアドレス信号A0R,A1R,…,A7Rと
比較されている。この結果、ローアドレス信号
A0,A1,…,A7と不良ローアドレス信号A0R,
A1R,…,A7Rとが一致したときには、アドレス
比較回路7はドライバ8を駆動させて冗長アレイ
2を選択し、逆に、ワードドライバ5をデイセー
ブルにしてメモリセルアレイ1の選択を行なわな
いようにしている。 If all the cells in the memory cell array 1 are normal, there will be no problem and the circuit in FIG. 2 will function as a normal device. However, if a defective cell is found in the memory cell array 1 in FIG. The row address of the row containing the cell (hereinafter referred to as a defective row address) is written into the address storage circuit 6. The row address signals A 0 , A 1 , ..., A 7 are constantly compared with the defective row address signals A 0R , A 1R , ..., A 7R written in the address storage circuit 6 by the address comparison circuit 7. . As a result, the row address signal
A 0 , A 1 , …, A 7 and defective row address signal A 0R ,
When A 1R , ..., A 7R match, the address comparison circuit 7 drives the driver 8 to select the redundant array 2, and conversely disables the word driver 5 and does not select the memory cell array 1. That's what I do.
第3図は第2図のアドレス記憶回路6の一例を
示す詳細なブロツク回路図である。第3図に示す
ように、各ローアドレス信号A0,A1,…,A7に
対応した1ビツトアドレス記憶回路6−0,6−
1,…,6−7が設けられている。つまり、ロー
アドレス信号A0,A1,…,A7が印加され、書込
み電圧として高い電圧たとえば+5Vが書込み端
子Vpに印加され且つ低い電圧たとえば−5Vが一
方の端子Voに印加されると、ローアドレス信号
A0,A1,…,A7がそれぞれ1ビツトアドレス記
憶回路6−0,6−1,…,6−7に書込まれ、
不良アドレス信号A0R,A1R,…,A7Rとして読出
し可能となる。 FIG. 3 is a detailed block circuit diagram showing an example of the address storage circuit 6 of FIG. 2. As shown in FIG. 3, 1-bit address storage circuits 6-0, 6-corresponding to each row address signal A 0 , A 1 , . . . , A 7
1,..., 6-7 are provided. In other words, row address signals A 0 , A 1 , ..., A 7 are applied, a high voltage such as +5V is applied to the write terminal V p as a write voltage, and a low voltage such as -5V is applied to one terminal Vo . and row address signal
A 0 , A 1 , ..., A 7 are written to the 1-bit address storage circuits 6-0, 6-1, ..., 6-7, respectively,
It becomes possible to read out the defective address signals A 0R , A 1R , ..., A 7R .
第4図は第3図の1ビツトアドレス記憶回路の
一例を示す回路図である。第4図において、Vcc
はたとえばGNDレベル、VEEはたとえば−5V,
Voは−5V以下その他のときにはVEEとされ、Vp
は書込み時にのみ+5Vその他のときにはVccにさ
れる。PCは接合破壊型PROMセルであつて、書
込み後にはダイオード特性を有する。つまり、書
込み時にはトランジスタであるセルのCE耐圧よ
り大きい電圧がそのエミツターコレクタ間に印加
されてエミツターベース間が短絡されるからであ
る。 FIG. 4 is a circuit diagram showing an example of the 1-bit address storage circuit of FIG. 3. In Figure 4, V cc
is, for example, GND level, V EE is, for example, -5V,
In other cases, V o is −5V or less, V EE is assumed, and V p
is set to Vcc only when writing to +5V and at other times. PC is a junction breakdown type PROM cell and has diode characteristics after writing. That is, during writing, a voltage greater than the CE withstand voltage of the transistor cell is applied between its emitter and collector, shorting the emitter and base.
第4図において、ダイオードの順方向電圧を
0.8Vとすれば、ノードN1の電位は、ダイオード
D1,D2,D3による
−0.8×3=−2.4V
であり、PROMセルPCの非破壊時(非書込み
時)のノードN2の電位は、ダイオードD1,D2,
D3,D4による
−0.8×4=−3.2V
であり、PROMセルPCの破壊時(書込み時)の
ノードN2の電位は、ダイオードD5とセルPCのダ
イオード1段分による
−0.8×2=−1.6V
である。このようなダイオード1段分のノード
N1,N2の論理振幅はカレントスイツチを構成す
るトランジスタQ2,Q3に供給され、この結果、
エミツタホロワとしてのトランジスタQ4を介し
て不良アドレスAiRが読出されることになる。 In Figure 4, the forward voltage of the diode is
If it is 0.8V, the potential of node N 1 is equal to that of the diode.
-0.8×3=-2.4V due to D 1 , D 2 , D 3 , and the potential of node N 2 when PROM cell PC is not destroyed (when not written) is due to diodes D 1 , D 2 ,
-0.8 x 4 = -3.2V due to D 3 and D 4 , and the potential of node N 2 when PROM cell PC is destroyed (during writing) is -0.8 x due to diode D 5 and one stage of diode of cell PC. 2=-1.6V. A node for one stage of such a diode
The logic amplitudes of N 1 and N 2 are supplied to transistors Q 2 and Q 3 that constitute a current switch, and as a result,
The defective address A iR will be read out via the transistor Q 4 as an emitter follower.
第4図の書込み動作を行なう場合、書込み電圧
Vpが外部から+5Vに上昇させられ、また、一方
の電圧Voも−5Vに保持される。このとき、アド
レス信号Aiがハイレベルであれば、トランジスタ
Q1はオンとなる。この結果、PROMセルPCには
耐圧CEたとえば7V以上の電圧(たとえば、この
場合、ほぼ10V)の印加され、図示のごとく、電
流IWが流れてエミツターベース間が短絡されるこ
とになる。 When performing the write operation shown in Figure 4, the write voltage
V p is externally raised to +5V, and one voltage V o is also held at -5V. At this time, if the address signal A i is high level, the transistor
Q1 is turned on. As a result, a voltage of 7V or more (for example, approximately 10V in this case) is applied to the PROM cell PC, and as shown in the figure, a current IW flows and the emitter-base is short-circuited. .
しかしながら、第4図における書込み時には、
非常に大きな書込み電流Iwを必要とし、この結
果、書込み用トランジスタQ1は大型化し、その
負荷も大きくなる。この結果、第2図に示すごと
く、論理振幅の大きなアドレス信号A0,A1,…,
A7がアドレスバツフア3と共にアドレス記憶回
路6に直接供給されると、非書込み時であつても
書込み用トランジスタQ1の大負荷がアドレス信
号A0,A1,…,A7に加わり、通常時のアドレス
アクセスタイムが遅くなるという問題点である。
However, when writing in Figure 4,
A very large write current Iw is required, and as a result, the write transistor Q1 becomes large and its load becomes large. As a result, as shown in FIG. 2, address signals A 0 , A 1 ,..., with large logic amplitudes are generated.
When A 7 is directly supplied to the address storage circuit 6 together with the address buffer 3, a large load of the writing transistor Q 1 is applied to the address signals A 0 , A 1 , ..., A 7 even during non-writing. The problem is that the normal address access time is slow.
本発明の目的は、書込み時以外の通常時のアド
レスアクセスタイムを短縮することにあり、その
手段は、アドレス信号の論理振幅をエミツタホロ
ワもしくはダイオードのレベルシフトダウン手段
により小さくした上でアドレス記憶回路に供給す
ることである。
An object of the present invention is to shorten the address access time during normal operations other than when writing, and the means for this purpose is to reduce the logic amplitude of the address signal by using an emitter follower or diode level shift down means, and then input the address signal to the address storage circuit. It is to supply.
〔作用〕
上述の手段によれば、たとえ書込み用トランジ
スタの容量が大きくとも、書込み時以外では書込
み用トランジスタに印加されるアドレス振幅は小
さいので、書込み用トランジスタの大負荷はアド
レス信号線に実質的に加わらないようになる。[Operation] According to the above-mentioned means, even if the capacity of the write transistor is large, the address amplitude applied to the write transistor other than during writing is small, so that the large load of the write transistor is effectively transferred to the address signal line. will not participate in
第1図は本発明に係る半導体記憶装置の一実施
例を示す金体概要図である。第1図においては、
第2図に対して各アドレス信号A0,A2,…,A7
はレベルシフトダウン手段としてのエミツタホロ
アQ11,Q12、ダイオードD11,D12,D13、および
抵抗R1,R2を介してアドレス記憶回路6に供給
されている。たとえば、アドレス信号のハイレベ
ル、ローレベルが、−0.8V、−1.8Vとすれば、ア
ドレス振幅は、1.0V(=1.8−0.8)であり、従つ
て、アドレスバツフア3の入力側では、そのハイ
レベルおよびローレベルは、それぞれ、−1.6V
(=−0.8−0.8)、−2.6V(=−1.8−0.8)であるが、
アドレス振幅はやはり1.0V(=2.6−1.6)である。
他方、アドレス記憶回路6の入力側の各ノード
N3においては、アドレス信号A0,A1,…,A7の
ハイレベル−0.8Vは、2段のエミツタホロアお
よび3段のダイオードD11,D12,D13により、
−0.8−0.8×5=−4.8V
となり、ローレベル−1.8Vは、2段のエミツタ
ホロアおよび3段のダイオードにより、
−1.8−0.8×5=−5.8V
となり得るが、この場合、最低電源電圧は−5V
であるので、各ノードN3のローレベルは−5Vで
ある。従つて、各ノードN3でのアドレス振幅は
0.2V(=5.0−4.8)と小さくなり、さらに、書込
み用トランジスタQ1のゲートのアドレス振幅は
抵抗R1,R2により小さくなる。たとえば、書込
み用トランジスタQ1のゲートのアドレス振幅を
0.1Vとすれば、アドレス振幅は、2段のエミツ
タホロア、3段のダイオードおよび抵抗により、
0.1/1=1/10にされたことになる。
FIG. 1 is a schematic diagram of a metal body showing an embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention. In Figure 1,
For FIG. 2, each address signal A 0 , A 2 , ..., A 7
is supplied to the address storage circuit 6 via emitter followers Q 11 , Q 12 as level shift down means, diodes D 11 , D 12 , D 13 , and resistors R 1 , R 2 . For example, if the high level and low level of the address signal are −0.8V and −1.8V, the address amplitude is 1.0V (=1.8−0.8), and therefore, on the input side of the address buffer 3, Its high and low levels are −1.6V, respectively.
(=-0.8-0.8), -2.6V (=-1.8-0.8),
The address amplitude is still 1.0V (=2.6-1.6).
On the other hand, each node on the input side of the address storage circuit 6
In N3 , the high level -0.8V of the address signals A0 , A1 ,..., A7 is converted to -0.8-0.8×5 by two stages of emitter followers and three stages of diodes D11 , D12 , D13 . = -4.8V, and the low level -1.8V can become -1.8 - 0.8 x 5 = -5.8V due to the two-stage emitter follower and three-stage diode, but in this case, the minimum power supply voltage is -5V.
Therefore, the low level of each node N3 is -5V. Therefore, the address amplitude at each node N3 is
The voltage is reduced to 0.2V (=5.0-4.8), and the address amplitude of the gate of the write transistor Q1 is further reduced by the resistors R1 and R2 . For example, if the address amplitude of the gate of write transistor Q1 is
If it is 0.1V, the address amplitude is given by the two-stage emitter follower, three-stage diode, and resistor.
This means that 0.1/1 = 1/10.
このようにして、書込み時以外にあつては、ア
ドレスバツフア3へ入力されるアドレス振幅に比
べてアドレス記憶回路6へ入力されるアドレス振
幅は小さくされているので、アドレス記憶回路6
の書込み用トランジスタQ1の大負荷がアドレス
バツフア3へのアドレス信号に加わるのを実質的
に防止できる。つまり、トランジスタQ1のゲー
ト容量CGが大きくとも、電圧振幅ΔVが小さけれ
ば、電荷変動CGΔVは小さくなるので、書込み用
トランジスタの負荷を無視できる。 In this way, except when writing, the address amplitude input to the address storage circuit 6 is made smaller than the address amplitude input to the address buffer 3, so the address storage circuit 6
It is possible to substantially prevent a large load of the write transistor Q 1 from being applied to the address signal to the address buffer 3. In other words, even if the gate capacitance C G of the transistor Q 1 is large, if the voltage amplitude ΔV is small, the charge fluctuation C G ΔV becomes small, so the load on the write transistor can be ignored.
書込み時には、電位Vpが0Vから5Vにされるの
で、書込み用トランジスタQ1へのアドレス振幅
は大きくなり、この場合、アドレスバツフア3へ
のアドレス振幅もさらに大きくなるが、書込み時
にはこのようなアドレス振幅はアドレスバツフア
3に何ら影響ない。 At the time of writing, the potential V p is changed from 0V to 5V, so the address amplitude to the write transistor Q 1 becomes large, and in this case, the address amplitude to the address buffer 3 also becomes even larger. The address amplitude has no effect on the address buffer 3.
なお、第1図においては、レベルシフトダウン
手段として、2段のエミツタホロアおよび3段の
ダイオード等を用いたが、これらの段数は適宜あ
るいは電源電圧に応じて変更され得る。たとえ
ば、5段共もダイオードであつてもよく、また、
書込み電圧が高ければ段数を6以上にすることも
でき、さらに、最低電源電圧が−5Vよりも高け
れば段数を4以下にすることもできる。 In FIG. 1, a two-stage emitter follower, a three-stage diode, etc. are used as the level shift down means, but the number of stages can be changed as appropriate or according to the power supply voltage. For example, all five stages may be diodes, and
If the write voltage is high, the number of stages can be increased to 6 or more, and if the minimum power supply voltage is higher than -5V, the number of stages can be reduced to 4 or less.
以上説明したように本発明によれば、書込み時
以外では書込み用トランジスタに加わるアドレス
振幅を小さくしているので、これらのトランジス
タの大負荷はアドレス信号に加わらなくなり、こ
の結果、アドレスアクセスタイムは短縮される。
As explained above, according to the present invention, since the address amplitude applied to the write transistors is reduced except during writing, the large load of these transistors is no longer applied to the address signal, and as a result, the address access time is shortened. be done.
第1図は本発明に係る半導体記憶装置の実施例
を示す回路図、第2図は最近提案された冗長構成
付のバイポーラトランジスタによるRAMの全体
構成図、第3図は第2図のアドレス記憶回路6の
詳細なブロツク回路図、第4図は第3図の1ビツ
トアドレス記憶回路の一例を示す回路図である。
1:正規のメモリセルアレイ、2:冗長メモリ
セルアレイ、3,4,5:正規のメモリセル選択
手段、6:不良アドレス記憶手段、7:比較手
段、Q11,Q12,D11,D12,D13,R11,R12:レベ
ルシフトダウン手段。
FIG. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention, FIG. 2 is an overall configuration diagram of a recently proposed RAM using bipolar transistors with a redundant configuration, and FIG. 3 is an address memory shown in FIG. FIG. 4 is a detailed block circuit diagram of circuit 6, which is a circuit diagram showing an example of the 1-bit address storage circuit of FIG. 1: Regular memory cell array, 2: Redundant memory cell array, 3, 4, 5: Regular memory cell selection means, 6: Defective address storage means, 7: Comparison means, Q 11 , Q 12 , D 11 , D 12 , D13 , R11 , R12 : Level shift down means.
Claims (1)
信したアドレスに応じて正規のメモリセルを選択
する正規のメモリセル選択手段、前記正規のメモ
リセルの不良アドレスを記憶する不良アドレス記
憶手段、該不良アドレス記憶手段の不良アドレス
と前記アドレス入力手段が受信したアドレスと比
較して両者が一致したときに冗長メモリアレイを
選択し前記正規のメモリセル選択手段をデイセー
ブルにする比較手段と、前記アドレス入力手段と
前記不良アドレス記憶手段との間に設けられ、不
良アドレス書き込み時にはアドレス入力が前記不
良アドレス記憶手段へ伝達され、通常のメモリ動
作時には前記アドレス入力が前記不良アドレス記
憶手段へ伝達されないようにする切替手段とを具
備する半導体記憶装置。 2 前記切替手段がレベルシフトダウン手段より
なり、前記不良アドレス記憶手段に供給されるア
ドレス振幅を前記アドレス入力手段の出力アドレ
ス振幅より小さくした特許請求の範囲第1項に記
載の半導体記憶装置。 3 前記レベルシフトダウン手段がエミツタホロ
ワ、ダイオードあるいは抵抗等を1段もしくは複
数段組合わせて得られる特許請求の範囲第2項記
載の半導体記憶装置。[Scope of Claims] 1. Address input means, regular memory cell selection means for selecting a regular memory cell according to the address received by the address input means, defective address storage for storing a defective address of the regular memory cell. means for comparing the defective address of the defective address storage means with the address received by the address input means, and selecting a redundant memory array when the two match, and disabling the normal memory cell selection means; , provided between the address input means and the defective address storage means, the address input is transmitted to the defective address storage means when writing a defective address, and the address input is transmitted to the defective address storage means during normal memory operation. What is claimed is: 1. A semiconductor storage device comprising: switching means for preventing 2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the switching means comprises level shift down means, and the address amplitude supplied to the defective address storage means is smaller than the output address amplitude of the address input means. 3. The semiconductor memory device according to claim 2, wherein the level shift down means is obtained by combining an emitter follower, a diode, a resistor, or the like in one stage or in a plurality of stages.
Priority Applications (5)
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EP85307560A EP0178948B1 (en) | 1984-10-19 | 1985-10-18 | Bipolar-transistor random access memory having a redundancy configuration |
KR1019850007703A KR900008659B1 (en) | 1984-10-19 | 1985-10-18 | Bipolar transistor type random access momory having redundancy structure |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP59243340A JPS61123099A (en) | 1984-11-20 | 1984-11-20 | Semiconductor memory device |
Publications (2)
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JPS61123099A JPS61123099A (en) | 1986-06-10 |
JPH0334158B2 true JPH0334158B2 (en) | 1991-05-21 |
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Family Applications (1)
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Country Status (1)
Country | Link |
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Families Citing this family (2)
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JPH0756349A (en) * | 1993-08-19 | 1995-03-03 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | Plate surface processing liquid for planographic printing plate |
-
1984
- 1984-11-20 JP JP59243340A patent/JPS61123099A/en active Granted
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Publication number | Publication date |
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JPS61123099A (en) | 1986-06-10 |
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