JPH0328984A - Face paint drawing system using hatch pattern - Google Patents

Face paint drawing system using hatch pattern

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Publication number
JPH0328984A
JPH0328984A JP1162624A JP16262489A JPH0328984A JP H0328984 A JPH0328984 A JP H0328984A JP 1162624 A JP1162624 A JP 1162624A JP 16262489 A JP16262489 A JP 16262489A JP H0328984 A JPH0328984 A JP H0328984A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
area
hatch pattern
pattern
hatch
painted
Prior art date
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Pending
Application number
JP1162624A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kimiko Tezaki
手崎 紀美子
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP1162624A priority Critical patent/JPH0328984A/en
Publication of JPH0328984A publication Critical patent/JPH0328984A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To reduce a face paint area and to increase the face paint processing speed by producing the continuous hatch patterns, segmenting a designated new hatch pattern out of the continuous ones, and applying a face paint drawing process to only a partial area of a bit map memory. CONSTITUTION:At least two continuous hatch patterns 114 to undergo the face pattern drawing processes are used for production of a continuous hatch pattern 115. Then the new hatch patterns 116 of the same size are segmented out of the pattern 115 based on the coordinate value of a face paint subject area/pattern 112, and the face paint drawing process is applied to a partial area of a bit map memory via the pattern 116. Thus a tentative evolving original point SPn of the pattern 115 is set at a point (y) of an area 112 to undergo the face paint drawing process, i.e., an evolving original point. As a result, the necessary face paint area is minimized and the face paint processing speed is maximized.

Description

【発明の詳細な説明】 〔概 要〕 ビットマップメモリ上の面塗り対象領域以外にプロテク
トをかけ、面塗り対象w4域を指定されたハッチパター
ンを用いて面塗り描画するハッチパターンによる面塗り
描画方式に関し、 面塗りを行う領域を出来るだけ小さくして面塗り描画処
理速度を高速化することを目的とし、ビットマップメモ
リ上の面塗り対象領域以外にプロテクトをかけ、面塗り
対象領域を指定されたハッチパターンを用いて面塗り描
画するハッチパターンによる面塗りl画方式において、
面塗り描画するハッチパターンを少なくとも2個連続し
た連続ハッチパターンを生或するステップと、面塗り対
象領域の座標値に基づいて、前記指定されたハッチパタ
ーンと同一サイズの新ハッチパターンを前記連続ハッチ
パターンより切り出すステップと、前記面塗り対象領域
を含むビットマップメモリ上の部分領域だけを、前記新
ハッチパターンにより面塗り描画するステップを備える
ように構戒する。
[Detailed Description of the Invention] [Summary] Cover painting drawing using a hatch pattern that applies protection to areas other than the area to be painted on the bitmap memory and draws the area to be painted in the covered area w4 using a specified hatch pattern. Regarding the method, the purpose is to reduce the area to be painted as much as possible and speed up the painting processing speed, and protect the area other than the area to be painted in the bitmap memory and specify the area to be painted. In the area painting method using a hatch pattern,
a step of generating at least two consecutive hatch patterns to be painted, and a new hatch pattern having the same size as the specified hatch pattern based on the coordinate values of the area to be painted; The method is designed to include the steps of cutting out the area from the pattern, and drawing only the partial area on the bitmap memory that includes the area to be covered by the new hatch pattern.

〔産業上の利用分野〕[Industrial application field]

本発明は、ビットマップメモリ上の面塗り対象領域以外
の領域にプロテクトをかけ、面塗り対象領域を指定され
たハッチパターンを用いて面塗り描画するハッチパター
ンによる面塗り描画方式に関する. 〔従来の技術〕 ビットマップメモリは、1画素単位に書込み又は読込を
可能とした構威のメモリであり、文字や図形を印刷する
場合、印刷すべき文字や図形のパターンをビットマップ
メモリ上に展開した後、それを読み出して印刷する処理
が行われる.ビットマップメモリ上に展開された図形に
対して更に各種の処理が行われる場合があるが、その処
理の一つとして、指定したハッチパターンを用いて特定
の領域を面塗りする面塗り措画処理がある. 第5図は、従来のハッチパターンによる面塗り描画方式
の原理図を示したものである。
The present invention relates to an area painting method using a hatch pattern that protects an area other than the area to be painted on a bitmap memory and draws the area to be painted using a specified hatch pattern. [Prior Art] A bitmap memory is a memory that allows writing or reading in pixel units. When printing characters or figures, the pattern of the characters or figures to be printed is written on the bitmap memory. After it is expanded, the process of reading and printing it is performed. Various types of processing may be performed on the figures developed on the bitmap memory, and one of these processes is a filling process that fills a specific area using a specified hatch pattern. There is. FIG. 5 shows a principle diagram of a conventional surface-painting drawing method using a hatch pattern.

第5図(A)に於いて、21はビットマップメモリであ
り、その内部の図形の展開可能領域211(矩形ao 
+ al + a2, a3 )に図形212(菱形x
yzw)が展開される.第5図(B)は、面塗り描画に
用いる各種のハッチパターンを示したものであり、その
サイズは規定されている(例えば、32x32ドット)
. 図形212に面塗りを行うときは.面塗り対象領域であ
る図形212の領域以外にプロテクトをかける.プロテ
クトをかけることにより、面塗り対象領域である図形2
12の領域以外の領域における面塗り描画が阻止される
In FIG. 5(A), 21 is a bitmap memory, and an area 211 (rectangle ao
+ al + a2, a3 ) to the figure 212 (diamond x
yzw) is expanded. Figure 5 (B) shows various hatch patterns used for surface painting, and their sizes are specified (for example, 32 x 32 dots).
.. When performing surface painting on the figure 212. Protect the area other than the area of figure 212 which is the area to be covered. By applying protection, shape 2, which is the area to be painted
Cover-painting drawing in areas other than area 12 is prevented.

面塗り膚画を行うときは,展開可能領域211の右から
左方向を主走査方向とし、上から下の方向を副走査方向
として、左上(aO点)から右下(83点)に向かって
、指定ハッチパターンによる面塗り描画を行う.指定ハ
ッチパターンによる面塗り描画は面塗り対象領域の大き
さは関係なく展開可能領域211全体に渡って行われる
が、プロテクトがかけられているので.所望の面塗り対
象領域である図形212の内部だけが,図示のように面
塗りされる. 〔発明が解決しようとする!If!題〕従来のハッチパ
ターンによる面塗り描画方式では、前述のように面塗り
対象領域の大きさは関係なく、展開可能領域211全体
について面塗り描画処理を行っていた.これは面塗り対
象領域の位置や形状が任意に指定されるのに対し、それ
に合わせてハッチパターンの面塗り開始位置を任意に変
えようとすると、その処理が複雑になり、面塗り描画処
理に時間が掛かるためである.しかしながら、従来のハ
ッチパターンによる面塗り描画方式では、面塗り対象領
域以外のプロテクトをかけた領域に対しても面塗り膚画
を行ってしたため、無駄な処理が多く、面塗り描画処理
速度の高速化が妨げられるという問題があった。特に面
塗り対象領域が小さい場合には、無駄な面塗り描画処理
が多くなるので不都合であった。
When performing a surface painting, the main scanning direction is from the right to the left of the developable area 211, and the sub-scanning direction is from the top to the bottom, from the upper left (aO point) to the lower right (83 points). , performs surface painting using the specified hatch pattern. Surface painting drawing using the specified hatch pattern is performed over the entire expandable area 211 regardless of the size of the area to be painted, but since it is protected. Only the inside of the figure 212, which is the desired area to be covered, is painted as shown. [Invention tries to solve it! If! [Problem] In the conventional surface-painting drawing method using a hatch pattern, the surface-painting drawing process was performed on the entire developable area 211, regardless of the size of the surface-painting target area, as described above. This means that the position and shape of the area to be painted is arbitrarily specified, but if you try to arbitrarily change the starting position of the hatch pattern to match it, the process becomes complicated, and the process of painting the area becomes complicated. This is because it takes time. However, in the conventional surface painting drawing method using hatch patterns, surface painting is performed on protected areas other than the target area for surface painting, which results in a lot of unnecessary processing and reduces the speed of surface painting drawing processing. There was a problem that the development was hindered. Particularly when the area to be painted is small, this is inconvenient because there is a lot of unnecessary filling and drawing processing.

本発明は、面塗りを行う領域を出来るだけ小さくし、面
塗り描画処理速度を高速化することが出来るように改良
したハッチパターンによる面塗り描画方式を提供するこ
とを目的とする.〔課題を解決するための手段〕 前述の課題を解決するために本発明が採用した手段を,
第1図を参照して説明する。第1図は、本発明の原理図
を示したものである。
An object of the present invention is to provide a surface painting drawing method using a hatch pattern that is improved so that the area to be painted is made as small as possible and the surface painting drawing processing speed can be increased. [Means for solving the problems] The means adopted by the present invention to solve the above-mentioned problems are as follows.
This will be explained with reference to FIG. FIG. 1 shows a principle diagram of the present invention.

第1図(A)において、1lはビットマップメモリであ
り、その内部の図形の展開可能領域111(矩形aO 
,al,a2,a3)に、面塗り対象領域である図形1
12(菱形xyzw)が展開される。
In FIG. 1(A), 1l is a bitmap memory, and an area 111 (rectangle aO
, al, a2, a3), figure 1, which is the area to be filled
12 (diamond xyzw) is expanded.

113は、面塗り対象MMC図形と同じ112で示す)
を含む最小限の矩形領域(ABCD)である. 第1図(B)の(a)において、114は面塗り描画に
用いる各種のハッチパターンの一例を示したものであり
、そのサイズは規定されている。第1図(B)のい)に
おいて、115は本発明において生成される連続ハッチ
パターンの一例を示したものであり、2個のハッチパタ
ーン114を二つ横に並べて連続させることにより生成
される.116は、連続ハッチパターン115より切り
出された新ハッチパターンの一例を示したものである. 再び第1図(A)において、SPiは仮展開原点であり
.新ハッチパターン116により面塗り描画を行うとき
の新ハッチパターン116の展開開始原点を示す,SP
nも仮展開原点であり、最小矩形領域113を新ハッチ
パターン116により面塗り膚画を行うときの新ハッチ
パターンl16の展開開始原点を示す. 以上説明した最小矩形領域113、連続ハッチパターン
115、新ハッチパターン116等を用いて、本発明は
次のように構成される.すなわち、ビットマップメモリ
上の面塗り対象領域以外にプロテクトをかけ、面塗り対
象領域を指定されたハッチパターンを用いて面塗り膚画
するハッチパターンによる面塗り描画方式において−、
(a)  面塗り描画するハッチパターンを少なくとも
2個連続した連続ハッチパターンを生成するステップと
、 伽)面塗り対象領域の座標値に基づいて、前記指定され
たハッチパターンと同一サイズの新ハッチパターンを前
記連続ハッチパターンより切り出すステップと、 (c)  前記面塗り対象領域を含むビットマップメモ
リ上の部分領域だけを、前記新ハッチパターンにより面
塗り溝画するステップを備える、ように構或される. 〔作 用〕 本発明の作用を、第1図(A)に示す面塗り対象領域1
12(図形xyzw)に同図(B)に示すハッチパター
ン114を用いて面塗り描画をする場合を例にとり、そ
の一つの処理手順に従って説明する.なお、ビットマッ
プメモリ上11の面塗り対象領域112以外にプロテク
トがかけられている. (2)面塗り描画するハッチパターン114を少なくと
も2個連続することにより、連続ハッチパターン115
を生戒する(第1図(B)の(a)及び(ロ)参照). ハッチパターン114を連続しても、そのハッチパター
ン模様が第1図(B)の(ロ)に示す如く連続するよう
に、ハッチパターン114におけるハッチパターン模様
は選定される.(2)面塗り対象領域112の座標値に
基づいて、前記指定されたハッチパターン114と同一
サイズの新ハッチパターン116を前記連続ハッチパタ
ーン115より切出す。
113 is indicated by 112, which is the same as the MMC figure to be covered)
is the minimum rectangular area (ABCD) containing . In (a) of FIG. 1(B), reference numeral 114 indicates an example of various hatch patterns used for surface painting, and the size thereof is specified. In FIG. 1(B), 115 shows an example of a continuous hatch pattern generated in the present invention, which is generated by arranging two hatch patterns 114 side by side and making them continuous. .. 116 shows an example of a new hatch pattern cut out from the continuous hatch pattern 115. Again in FIG. 1(A), SPi is the temporary expansion origin. SP indicating the starting point of development of the new hatch pattern 116 when performing surface painting drawing using the new hatch pattern 116
n is also a provisional development origin, and indicates the development start origin of the new hatch pattern l16 when surface painting is performed on the minimum rectangular area 113 using the new hatch pattern 116. The present invention is configured as follows using the minimum rectangular area 113, continuous hatch pattern 115, new hatch pattern 116, etc. explained above. In other words, in a surface painting drawing method using a hatch pattern in which areas other than the area to be painted on the bitmap memory are protected, and the area to be painted on the area is painted using a specified hatch pattern.
(a) generating a continuous hatch pattern consisting of at least two consecutive hatch patterns to be painted; and (a) creating a new hatch pattern of the same size as the designated hatch pattern based on the coordinate values of the area to be painted. (c) cutting out only a partial area on the bitmap memory including the area to be surface-painted from the continuous hatch pattern, using the new hatch pattern. .. [Function] The function of the present invention is demonstrated in the area 1 to be coated as shown in FIG. 1(A).
12 (figure xyzw) using the hatch pattern 114 shown in FIG. Note that areas other than the area to be painted 112 on the bitmap memory 11 are protected. (2) By consecutively drawing at least two hatch patterns 114, a continuous hatch pattern 115
(See (a) and (b) in Figure 1 (B)). The hatch patterns in the hatch patterns 114 are selected so that even if the hatch patterns 114 are consecutive, the hatch patterns are continuous as shown in (b) of FIG. 1(B). (2) Based on the coordinate values of the area to be covered 112, a new hatch pattern 116 having the same size as the specified hatch pattern 114 is cut out from the continuous hatch pattern 115.

面塗り対象領域112に対して面塗りを行うハッチパタ
ーン114の仮展開原点SPiは、ハッチパターン展開
原点aOを基準にして求められるので、その仮展開原点
SPiの位置は、面塗り対象領域112を含む最小矩形
領域113(矩形ABCD)のハッチパターンの展開原
点であるA点とは、一般に一致しない.しかしながら、
最小矩形領域113のハッチパターンの展開原点Aに合
わせてハッチパターン114の仮展開原点SPiを設定
し直すことは、従来方式よりも複雑な処理を必要とする
ため、却って処理速度を低下させる結果になる。そこで
、本発明は、面塗り対象領域112のy点の位置、すな
わち最小矩形領域ABCDのハッチパターンの展開原点
Aの位置に合わせて、連続ハッチパターン115よりハ
ッチパターン114と同一サイズの新ハッチパターン1
15を切出し、この新ハッチパターン115を面塗り膚
両用のハッチパターンとする。新ハッチパターン115
の仮展開原点SPnの位置(X座標値)は、面塗り対象
領域112のy点の位置、すなわち最小矩形領域113
(矩形ABCD)のハッチパターンの展開原点Aの位置
(X座標{+1!)に一敗する. (3)前記面塗り対象頷域112を含むビットマップメ
モリ上の部分領域を、前記新ハッチパターン116によ
り面塗り描画する。
The temporary development origin SPi of the hatch pattern 114 that performs surface painting on the surface painting target area 112 is determined based on the hatch pattern development origin aO. Generally, it does not coincide with point A, which is the development origin of the hatch pattern of the minimum rectangular area 113 (rectangle ABCD). however,
Resetting the temporary development origin SPi of the hatch pattern 114 to match the development origin A of the hatch pattern in the minimum rectangular area 113 requires more complicated processing than the conventional method, which actually results in a decrease in processing speed. Become. Therefore, the present invention creates a new hatch pattern of the same size as the hatch pattern 114 from the continuous hatch pattern 115 in accordance with the position of the y point of the surface painting target area 112, that is, the position of the development origin A of the hatch pattern of the minimum rectangular area ABCD. 1
15 is cut out, and this new hatch pattern 115 is used as a hatch pattern for both surface and skin applications. New hatch pattern 115
The position (X coordinate value) of the temporary development origin SPn is the position of the y point of the area to be painted 112, that is, the minimum rectangular area 113.
I am defeated by the position (X coordinate {+1!) of the development origin A of the hatch pattern of (rectangle ABCD). (3) A partial area on the bitmap memory including the area 112 to be covered is painted using the new hatch pattern 116.

面塗り描画は、図示のように左上の仮展開原点SPnよ
り右下に向かって行われる.新ハッチパターン116の
仮展開原点SPn及び展開終了点は一般に最小矩形領域
のA点及びB点と一致しないので、部分領域は一般に最
小矩形領域ABCDよりも大きくなる.しかしながら、
面塗り対象領域112(図形xyzw)以外はプロテク
トがかけられているので、部分領域が最小矩形領域AB
CDよりも大きくなっても、所望の面塗り描画112だ
けに面塗り描画が行われる. このように、新ハッチパターン115の仮展開原点SP
nの位置(X座標値)を面塗り対象領域112のy点の
位置、すなわち最小矩形領域ABCDのハッチパターン
の展開原点Aの位置(X座標値)に一致させることによ
り、必要な面塗り描画領域を最小にして、面塗り膚画処
理速度を最も速くすることができる.しかしながら、新
ハッチパターン116の仮展開原点SPnの位置は、そ
の新ハッチパターン116の内部に最小矩形領域ABC
Dのハッチパターンの展開原点Aを含むような位置に選
定してもよい. また、連続ハッチパターン115は、ハッチパターン1
14を2個以上連続する事により得られるが、通常はハ
ッチパターン114を2個連続するだけで充分である. なお、前述の面塗り描画処理手順は本発明の面塗り描画
処理手順の一例を示したものであって、本発明の面塗り
描画処理手順は、これに限定されるものではない. 以上のように、面塗り描画するハッチパターンを少なく
とも2個連続した連続ハッチパターンを生成し、面塗り
対象領域の座標値に基づいて、ハッチパターンと同一サ
イズの新ハッチパターンを連続ハッチパターンより切出
し、面塗り対象領域を含む部分領域たけを該新ハッチパ
ターンにより面塗り描画するようにしたので、面塗り描
画領域を出来るだけ小さくすることが可能となり、新ハ
ッチパターン116の切出し処理を考慮しても、全体の
面塗り描画処理速度を高速化することができる. また、面塗り描画処理は最小矩形領域113内でのみ行
われるので、プロテクトをかける領域は、図形112以
外の領域でかつ最小矩形領域113内の領域について行
えばよく、これにより、面塗り対象領域である図形11
2が小さい場合は、プロテクトをかける領域が大幅に減
少されて、面塗り描画処理速度を向上させることができ
る.〔実施例〕 本発明の実施例を.第1図乃至第5図を参照して、印刷
装置における面塗り描画処理の場合を例にとって説明す
る.第2図は本発明の一実施例の実施に使用する印刷装
置の説明図、第3図は同実施例の連続ハッチパターン及
び新ハッチパターン生或処理方式の説明図、第4図は同
実施例の面塗り描画処理フローチャートである.第1図
は、本発明の実施例の説明にも用いられ、その内容は第
l図で既に説明したとおりである. (A)実施例の構威 第2図において、ビットマップメモリ1l、その内部の
図形の展開可能領域111、そこに展開される面塗り対
象領域l12(図形x y z w)、面塗り対象領域
112を含む最小矩形領域113(矩形ABCD)につ
いては、第1図で説明したとおりである.なお,面塗り
対象領域112と図形zyzwとは同じ内容で有るので
、以下の説明においては、両者を同じ符号112で示し
ている.第3図は、このビットマップメモリ11を詳細
に示したものである.117は、各種のハッチパターン
が展開、格納されるハッチパターンテーブルであり、1
18は、連続ハッチパターン116の生戒処理を行うワ
ーク領域である.印刷装置の場合、展開可能領域111
は、第3図に示すように用紙サイズ領域110よりも小
さくなるように選定される. l2は描画プロセッサ、13はプリンタコントローラ、
l4はプリンタ、l5は主プロセッサ、l6はメモリ、
17はDMAコントローラ、18はインタフェース回路
、l9はシステムバスである. 描画プロセッサl2は,プリンタl4に印刷する図形を
ビットマップメモリll上に展開する処理及び面塗り対
象領域112に対する面塗り措画処理を行う. プリンタコントローラ13は、ビットマップメモリII
上に展開された図形や面塗り描画された図形を読み出し
て、プリンタ14に印刷する処理を行う. メモリ16には、主プロセッサ15の制御プログラムが
格納される他、図形展開や面塗り描画処理時に使用され
るデータやコマンドを格納する各種バッファやメモリ領
域(いずれも図示せず)が設けられている. DMAコントローラl7は、ブロック転送によるビット
マップメモリl1とそり16間の直接データ転送、ビッ
トマップメモリl1及びメモリ16内部の各メモリ領域
間の直接データ転送等を制御する. l8はインタフェース回路であり、図示しない上位装置
と印刷装置間のインタフェース制御を行う. 主プロセッサ15は、印刷装置内の前記各部の動作及び
全体の面塗り描画処理や印刷動作を制御する. システムバスl9は、描画プロセッサ12、プリンタコ
ントローラ13、主プロセッサ15、メモリ16、DM
Aコントローラ17、インタフェース回路18相互間を
接続して,それらの間のデータを転送する. (B)実施例の動作 本発明の一実施例の動作を、第4図の面塗り描画処理フ
ローチャートを参照し、その処理ステップに従って説明
する. ■ ステップS0 ステップS.では、図示しない上位装置より印刷装置に
対する初期化処理が行われる.この初期化処理において
、各種ハッチパターンのデータが印刷装置に送られる.
゛ 印刷装置の主プロセッサl5は、各種ハッチパターンデ
ータをインタフェース回路l8を介して受信して、メモ
リ16に格納した後、描画プロセッサl2に指示してビ
ットマップメモリll上に展開させる. 描画プロセッサ12は、DMAコントローラ17とのコ
・オベレート動作によりメモリl6よりハッチパターン
データを読み出し、第3図に示すように、ビットマップ
メモリ1lのハッチパターンテーブル117に展開して
格納する,114t〜114?は、ハッチパターンテー
ブル117に格納された各種のハッチパターンを例示し
たものである. ■ ステップS1 初期化処理が終了すると、上位装置は、面塗り描画処理
に必要な属性情報(べた塗り)やハッチパターン等の面
塗り処理内容、ハッチパターンの種別番号等)を印刷装
置に送る.印刷装置の主プロセッサl5は゛、この”属
性情報をメモリ16の属性情報テーブル(図示せず)に
格納する.■ ステップS8 上位装置は、印刷すべき図形(第1図(A)にxyzw
で示す図形112とする)のテータを印刷装置に送る.
図形テータは、図形112を指示するベクトルデータで
与えられる. 印刷装置の主プロセッサl5は、この図形112のベク
トルデータをインタフェース回路18を介して受信し、
これより図形112の多角形頂点(xyzw)の座標リ
ストを作戒してメモリl6に格納した後、描画プロセッ
サl2に指示してビットマップメモリ11上に展開させ
る.li画プロセッサ12は、DMAコントローラl7
とのコ・オペレート動作によりメモリl6より図形デー
タを読み出し、ビットマップメモリ11の展開可能領域
111上に、第1図(A)に示すような図形112に展
開する. ■ ステップS, 上位装置は、面塗り描画処理を行うべき印刷装置に面塗
り対象領域(図形112)及び面塗りを行うハッチパタ
ーン114の種別番号を印刷装置に指示する。
The area painting is performed from the temporary expansion origin SPn at the upper left toward the lower right as shown in the figure. Since the tentative expansion origin SPn and expansion end point of the new hatch pattern 116 generally do not coincide with points A and B of the minimum rectangular area, the partial area is generally larger than the minimum rectangular area ABCD. however,
Since areas other than the area to be painted 112 (figure xyzw) are protected, the partial area is the minimum rectangular area AB.
Even if the size is larger than the CD, the area painting is performed only on the desired area painting 112. In this way, the temporary development origin SP of the new hatch pattern 115
By matching the position n (X coordinate value) with the position of the y point of the area to be painted 112, that is, the position (X coordinate value) of the development origin A of the hatch pattern of the minimum rectangular area ABCD, the necessary area painting is performed. By minimizing the area, you can achieve the fastest surface painting skin image processing speed. However, the position of the temporary development origin SPn of the new hatch pattern 116 is such that the minimum rectangular area ABC is located inside the new hatch pattern 116.
The position may be selected to include the development origin A of the hatch pattern D. Further, the continuous hatch pattern 115 is the hatch pattern 1
14, but usually two consecutive hatch patterns 114 are sufficient. Note that the above-described surface painting drawing processing procedure is an example of the surface painting drawing processing procedure of the present invention, and the surface painting drawing processing procedure of the present invention is not limited to this. As described above, a continuous hatch pattern consisting of at least two consecutive hatch patterns for surface painting is generated, and a new hatch pattern of the same size as the hatch pattern is cut out from the continuous hatch pattern based on the coordinate values of the region to be painted. Since only the partial area including the area to be covered is painted using the new hatch pattern, it is possible to make the area to be painted as small as possible, and taking into account the cutting process of the new hatch pattern 116. can also speed up the overall surface-painting drawing processing speed. In addition, since the surface painting drawing process is performed only within the minimum rectangular area 113, the area to be protected may be an area other than the figure 112 and within the minimum rectangular area 113. Shape 11 that is
If 2 is small, the area to be protected is greatly reduced, and the processing speed for surface painting drawing can be improved. [Example] An example of the present invention. With reference to FIGS. 1 to 5, an example of surface painting drawing processing in a printing device will be described. Fig. 2 is an explanatory diagram of a printing device used in carrying out one embodiment of the present invention, Fig. 3 is an explanatory diagram of a continuous hatch pattern and a new hatch pattern generation or processing method of the same embodiment, and Fig. 4 is an explanatory diagram of a printing apparatus used in carrying out an embodiment of the present invention. This is an example surface painting drawing process flowchart. FIG. 1 is also used to explain the embodiment of the present invention, and its contents are as already explained in FIG. (A) Structure of the embodiment In FIG. 2, a bitmap memory 1l, an area 111 in which a figure can be developed within it, a full-face painting target area l12 (figure x y z w) to be developed there, a full-face painting target area The minimum rectangular area 113 (rectangle ABCD) including 112 is as described in FIG. It should be noted that since the area to be painted 112 and the figure zyzw have the same content, they are both indicated by the same reference numeral 112 in the following explanation. FIG. 3 shows this bitmap memory 11 in detail. 117 is a hatch pattern table in which various hatch patterns are expanded and stored;
18 is a work area in which the continuous hatch pattern 116 is processed. In the case of a printing device, the developable area 111
is selected to be smaller than the paper size area 110 as shown in FIG. l2 is a drawing processor, 13 is a printer controller,
l4 is the printer, l5 is the main processor, l6 is the memory,
17 is a DMA controller, 18 is an interface circuit, and l9 is a system bus. The drawing processor 12 performs a process of developing a figure to be printed on the printer 14 onto a bitmap memory 1 and a process of planning a surface painting target area 112. The printer controller 13 has a bitmap memory II.
A process is performed to read out the expanded figure or the figure drawn in full color and print it on the printer 14. In addition to storing the control program for the main processor 15, the memory 16 is provided with various buffers and memory areas (none of which are shown) for storing data and commands used during figure expansion and surface painting drawing processing. There is. The DMA controller 17 controls direct data transfer between the bitmap memory 11 and the sled 16 by block transfer, direct data transfer between the bitmap memory 11 and each memory area inside the memory 16, and the like. Reference numeral 18 denotes an interface circuit, which controls the interface between a host device (not shown) and the printing device. The main processor 15 controls the operation of each section in the printing apparatus, as well as the overall surface painting drawing process and printing operation. The system bus 19 includes a drawing processor 12, a printer controller 13, a main processor 15, a memory 16, and a DM.
A controller 17 and interface circuit 18 are connected to each other to transfer data between them. (B) Operation of the Embodiment The operation of the embodiment of the present invention will be explained according to the processing steps with reference to the flowchart of the surface painting drawing process shown in FIG. ■ Step S0 Step S. In this case, initialization processing for the printing device is performed by a higher-level device (not shown). In this initialization process, data for various hatch patterns is sent to the printing device.
``The main processor 15 of the printing device receives various hatch pattern data via the interface circuit 18, stores it in the memory 16, and then instructs the drawing processor 12 to develop it on the bitmap memory 11. The drawing processor 12 reads the hatch pattern data from the memory l6 by co-operating with the DMA controller 17, expands and stores it in the hatch pattern table 117 of the bitmap memory 1l, as shown in FIG. 114? exemplifies various hatch patterns stored in the hatch pattern table 117. ■ Step S1 When the initialization process is completed, the host device sends attribute information (solid color) necessary for surface painting drawing processing, surface painting processing contents such as hatch pattern, hatch pattern type number, etc. to the printing device. The main processor 15 of the printing device stores this attribute information in an attribute information table (not shown) in the memory 16.■ Step S8 The host device stores the figure to be printed (xyzw in FIG.
The data of the figure 112 shown in ) is sent to the printing device.
The figure data is given as vector data indicating the figure 112. The main processor l5 of the printing device receives the vector data of this graphic 112 via the interface circuit 18,
From this, a list of coordinates of the polygonal vertices (xyzw) of the figure 112 is compiled and stored in the memory l6, and then the drawing processor l2 is instructed to develop it on the bitmap memory 11. The li image processor 12 includes a DMA controller l7
The graphic data is read from the memory l6 by a co-operation operation with the bitmap memory 11, and is expanded into a graphic 112 as shown in FIG. 1(A) on the expandable area 111 of the bitmap memory 11. (2) Step S: The higher-level device instructs the printing device that is to perform the surface painting drawing process the area to be painted (figure 112) and the type number of the hatch pattern 114 to be painted.

■ ステップS4 印刷装置の主プロセッサl5は、上位装置から指示され
た面塗り対象領域、すなわち図形112の各頂点座標リ
ストをメモリ16より読み出す.次いで、この各頂点座
標リストに基づいて、図形112(図形xyzw)を含
む最小矩形領域113)の各頂点(ABCD)のビット
マップメモリll上のアドレスを設定し、メモリ16に
格納する。また上位装置から送られたハッチパターンの
種別番号を解読し、メモリl6にある図示しない属性情
報テーブルより指示されたハッチパターンを検索する. ■ ステップS, 主プロセッサ15は、ビットマップメモリ11上の展開
可能領域111における展開原点(aO)を基準にして
、ハッチパターンの仮展開原点SPiを算出する。
(2) Step S4 The main processor 15 of the printing device reads from the memory 16 a list of coordinates of each vertex of the area to be painted, that is, the figure 112 instructed by the host device. Next, based on this list of coordinates of each vertex, the address on the bitmap memory 11 of each vertex (ABCD) of the figure 112 (minimum rectangular area 113 including figure xyzw) is set and stored in the memory 16. It also decodes the type number of the hatch pattern sent from the host device and searches for the designated hatch pattern from the attribute information table (not shown) in the memory l6. (2) Step S: The main processor 15 calculates a temporary development origin SPi of the hatch pattern based on the development origin (aO) in the development possible area 111 on the bitmap memory 11.

■ ステップS6 主プロセッサ15は、ハッチパターン114の仮展開原
点SPiと最小矩形領域113の左上の点(A点)の座
標が同一か判断する。
(2) Step S6 The main processor 15 determines whether the coordinates of the temporary expansion origin SPi of the hatch pattern 114 and the upper left point (point A) of the minimum rectangular area 113 are the same.

■ ステップS, ステップS.においてハッチパターン114の仮展開原
点SPiと最小矩形領域113の左上の点(A点)の座
標が同一でない場合は、主プロセッサ15は、描画プロ
セッサ12にハッチパターン114の種類を指定(bッ
チパターン1l4,とする−)して、その連続ハッチパ
ターンを生或させる. 描画プロセッサ12は、DMAコントローラ17とのコ
・オペレート動作によりビットマップメモリ11にある
ハッチパターンテーブル117より指定ハッチパターン
114yを読み出し、同一ハッチパターン1147をビ
ットマップメモリl1のワーク領域118上で横に2個
並べることにより、連続ハッチパターン115を生成す
る。
■ Step S, Step S. If the coordinates of the temporary development origin SPi of the hatch pattern 114 and the upper left point (point A) of the minimum rectangular area 113 are not the same, the main processor 15 specifies the type of the hatch pattern 114 to the drawing processor 12 (b patch pattern 1l4 , −) to generate the continuous hatch pattern. The drawing processor 12 reads out the specified hatch pattern 114y from the hatch pattern table 117 in the bitmap memory 11 through a cooperating operation with the DMA controller 17, and draws the same hatch pattern 1147 horizontally on the work area 118 of the bitmap memory l1. By arranging the two, a continuous hatch pattern 115 is generated.

■ ステップS, 主プロセッサ15は、最小矩形領域113の左上の位置
(A点座標)よりハッチパターンの新しい切出し位置、
すなわち新ハッチパターン116の仮展開原点SPnを
設定する。
■ Step S: The main processor 15 selects a new cutting position of the hatch pattern from the upper left position (point A coordinates) of the minimum rectangular area 113.
That is, a temporary expansion origin SPn of the new hatch pattern 116 is set.

[相] ステップS9 主プロセッサl5は、仮展開原点SPnを始点とし、ハ
ッチパターンl14,と同一サイズの新ハッチパターン
116を設定して,描画プロセッサl2に指示する.こ
の指示を受けると、描画プロセッサ12は以降この新ハ
ッチパターン116を、面塗り描画用のハッチパターン
とする.■ ステップSL。
[Phase] Step S9 The main processor l5 sets a new hatch pattern 116 having the same size as the hatch pattern l14, starting from the temporary expansion origin SPn, and instructs the drawing processor l2. Upon receiving this instruction, the drawing processor 12 thereafter uses this new hatch pattern 116 as a hatch pattern for surface painting drawing. ■ Step SL.

主プロセシサ15は、面塗り対象領域である図形112
以外の領域にプロテクトをかけ、描画プロセッサl2に
新ハッチパターン116による図形112の面塗り描画
を指示する。
The main processor 15 processes a figure 112 which is an area to be painted.
The area other than that is protected and the drawing processor 12 is instructed to draw the figure 112 in full color using the new hatch pattern 116.

描画プロセッサl2は、DMAコントローラ17とのコ
・オベレート動作によりビットマップメモリ1lにある
ワーク領域11Bより新ハッチパターン116を読み出
し、仮展開原点SPnをハッチパターンの展開原点とし
て、最小矩形領域1l3内のみについて面塗り描画処理
を行う。面塗り描画は、図示のように最小矩形領域11
3の左上から右下に向かって行われる。
The drawing processor l2 reads out the new hatch pattern 116 from the work area 11B in the bitmap memory 1l by co-operating with the DMA controller 17, and uses the temporary expansion origin SPn as the hatch pattern expansion origin only within the minimum rectangular area 1l3. Performs surface painting drawing processing on. Filling drawing is performed using the minimum rectangular area 11 as shown in the figure.
3 from the top left to the bottom right.

図形112(図形xyzw)以外はプロテクトがかけら
れているので、第6図(A)に示すす図形112だけに
面塗り描画が行われる。
Since the figures other than the figure 112 (figure xyzw) are protected, only the figure 112 shown in FIG. 6(A) is subjected to surface painting.

@ ■のステップS6において、ハッチパターン114
の仮展開原点SPiと最小矩形領域113の左上の点(
A点)の座標が同一である場合は、連続ハッチパターン
115や新ハッチパターン116を生戒する処理は不要
であり、直ちにステップS.に移行して最小矩形領¥i
113すなわち図形112に対する面塗り描画を行う。
In step S6 of @①, the hatch pattern 114
The tentative expansion origin SPi and the upper left point of the minimum rectangular area 113 (
If the coordinates of point A) are the same, there is no need to process the continuous hatch pattern 115 or new hatch pattern 116, and step S. Shift to the minimum rectangular area ¥i
113, that is, surface painting is performed on the figure 112.

■ 以上のようにして図形112に対する面塗り描画処
理が終了すると、主プロセッサl5は、プリンタコント
ローラ13に対して印刷を指示する.この指示を受ける
と、プリンタコントローラエ3はビットマップメモリI
fの展開可能領域111上に展開され、面塗り描画され
た図形112のデータを読み出し、プリンタ14に供給
して印刷を行わせる。
(2) When the surface painting drawing process for the figure 112 is completed as described above, the main processor 15 instructs the printer controller 13 to print. Upon receiving this instruction, the printer controller 3 transfers the bitmap memory I
The data of the graphic 112 developed on the developable area 111 of f and drawn in full color is read out and supplied to the printer 14 for printing.

以上面塗り膚画を行う図形が1個である場合の実施例に
ついて説明したが、2個以上の図形に対して面塗り描画
を施す場合も同様にして行うことができる。新ハッチパ
ターン116の仮展開原点SPnの位置は、その新ハッ
チパターン116の内部に最小矩形領域ABCDのハッ
チパターンの展開原点Aを含むような位置に選定しても
よいことは、既に述べたとおりである.また、印刷装置
以外の通常の画像処理における図形の面塗り描画処理に
も適用できることはもちろんである。
Although the embodiment has been described above in which only one figure is subjected to surface painting, the same method can be applied to the case where two or more figures are subjected to surface painting. As already mentioned, the position of the temporary development origin SPn of the new hatch pattern 116 may be selected to be such that the development origin A of the hatch pattern of the minimum rectangular area ABCD is included inside the new hatch pattern 116. It is. It goes without saying that the present invention can also be applied to figure filling/drawing processing in normal image processing other than printing devices.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように,本発明によれば次の諸効果が得ら
れる。
As explained above, according to the present invention, the following effects can be obtained.

(1)面塗り対象領域(図形)112を含む最小矩形6
1域113内のみを面塗り描画するようにしたので、こ
の最小矩形領域113以外の領域に対する面塗り膚画処
理が不要になり、新ハッチパターン116の切出し処理
を考慮しても、全体の面塗り描画処理速度を向上させる
ことができる. (2)面塗り描画処理は最小矩形領域113内でのみ行
われるので、プロテクトをかける領域は、図形112以
外の領域でかつ最小矩形領域1l3内の領域について行
えばよく、これにより、面塗り対象領域である図形11
2が小さい場合は、プロテクトをかける領域が大幅に減
少されて、面塗り描画処理速度を向上させることができ
る。
(1) Minimum rectangle 6 that includes the area to be covered (figure) 112
Since only one area 113 is painted with area painting, there is no need to perform area painting skin drawing processing on areas other than this minimum rectangular area 113, and even if the cutting process of the new hatch pattern 116 is taken into account, the entire area is The speed of coloring and drawing processing can be improved. (2) Since the area painting process is performed only within the minimum rectangular area 113, the area to be protected may be an area other than the figure 112 and within the minimum rectangular area 1l3. Figure 11 which is an area
When 2 is small, the area to be protected is greatly reduced, and the processing speed for surface painting drawing can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の原理図、 第2図は本発明の一実施例の実施に使用する印刷装置の
説明図、 第3図は同実施例の新ハッチパターン生或処理の説明図
、 第4図は同実施例の面塗り描画処理フローチャート、 第5図は従来の面塗り描画方式の説明図である.第l図
及び第2図において、 11・・・ビットマップメモリ、111・・・展開可能
領域、112・・・面塗り対象領域(図形)、113・
・・最小矩形領域、114・・・ハッチパターン、II
5・・・連続ハッチパターン、116・・・新ハッチパ
ターン、l2・・・構画プロセッサ、13−・・プリン
タコントローラ、14・・・プリンタ、15・・・主プ
ロセッサ、16・・・メモリ、17・・・DMAコント
ローラ、1日・・・インタフェース回路、19−・シス
テムバス。 実施例の面塗り描画処理フローチャート第4図 プリンタ動作に移る
Fig. 1 is a diagram of the principle of the present invention; Fig. 2 is an explanatory diagram of a printing device used to implement an embodiment of the present invention; Fig. 3 is an explanatory diagram of new hatch pattern generation or processing in the same embodiment; Figure 4 is a flowchart of the area painting drawing process of the same embodiment, and Figure 5 is an explanatory diagram of the conventional area painting drawing method. 1 and 2, 11...Bitmap memory, 111...Developable area, 112... Area to be covered (figure), 113...
...Minimum rectangular area, 114...Hatch pattern, II
5... Continuous hatch pattern, 116... New hatch pattern, l2... Composition processor, 13-... Printer controller, 14... Printer, 15... Main processor, 16... Memory, 17--DMA controller, 1st--interface circuit, 19--system bus. Figure 4 Flowchart of surface painting drawing process of the embodiment. Moving on to printer operation.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)ビットマップメモリ上の面塗り対象領域以外にプ
ロテクトをかけ、面塗り対象領域を指定されたハッチパ
ターンを用いて面塗り描画するハッチパターンによる面
塗り描画方式において、 (a)面塗り描画するハッチパターンを少なくとも2個
連続した連続ハッチパターンを生成するステップと、 (b)面塗り対象領域の座標値に基づいて、前記指定さ
れたハッチパターンと同一サイズの新ハッチパターンを
前記連続ハッチパターンより切り出すステップと、 (c)前記面塗り対象領域を含むビットマップメモリ上
の部分領域たけを、前記新ハッチパターンにより面塗り
描画するステップ、 を備えたことを特徴とするハッチパターンによる面塗り
描画方式。
(1) In the area painting method using a hatch pattern, which protects the area other than the area to be painted on the bitmap memory and draws the area to be painted using a specified hatch pattern, (a) Area painting (b) generating a new hatch pattern of the same size as the designated hatch pattern based on the coordinate values of the area to be painted; (c) drawing only a partial area on a bitmap memory that includes the area to be covered with the area using the new hatch pattern. method.
(2)前記部分領域が、前記面塗り対象領域を含む最小
矩形領域であること特徴とする請求項1記載のハッチパ
ターンによる面塗り描画方式。
(2) The surface painting drawing method using a hatch pattern according to claim 1, wherein the partial area is a minimum rectangular area that includes the area to be painted.
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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