JPH03287117A - Contact lens cleaning device - Google Patents
Contact lens cleaning deviceInfo
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- JPH03287117A JPH03287117A JP2087136A JP8713690A JPH03287117A JP H03287117 A JPH03287117 A JP H03287117A JP 2087136 A JP2087136 A JP 2087136A JP 8713690 A JP8713690 A JP 8713690A JP H03287117 A JPH03287117 A JP H03287117A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はコンタクトレンズ洗浄装置に関する。[Detailed description of the invention] [Industrial application field] The present invention relates to a contact lens cleaning device.
[従来の技術]
従来よりコンタク1〜レンズの清浄化のために、洗浄水
によりコンタクトレンズを洗浄してその汚れ〈特に涙に
含まれている脂肪分〉を除去し、すすぎ水で]タンク1
〜レンズをすすぎ、ヒータ部を備えた消毒装置を用いて
コンタクトレンズを煮沸消毒していた。[Prior art] Conventionally, contact lenses are cleaned with cleaning water to remove dirt (particularly fat contained in tears) and rinsed with water] Tank 1
~ Contact lenses were rinsed and sterilized by boiling using a sterilizer equipped with a heater.
[発明が解決しようとする課題]
このようなコンタクトレンズの洗浄、すすぎ、煮沸を行
なうコンタクトレンズ洗浄装置では、液漏れなどの原因
により煮沸中に空焚きが生じる可能性があり、レンズや
装置の焼損を招く可能性がある。[Problems to be Solved by the Invention] In such a contact lens cleaning device that cleans, rinses, and boils contact lenses, there is a possibility that dry heating may occur during boiling due to causes such as liquid leakage, which may cause damage to the lenses and the device. It may cause burnout.
従来より知られている各種の空焚き防止装置を多重に設
けることが理想ではあるが、装置の大型化や構成の複雑
化を招く欠点がある。Although it would be ideal to provide multiple dry-heating prevention devices of various types that have been known in the past, this has the disadvantage of increasing the size of the device and complicating its configuration.
本発明は、上記問題に鑑みなされたものであり、装置構
成の複雑化及び装置の大型化及び重量増加を要すること
なく空焚き防止が可能なコンタクトレンズ洗浄装置を提
供することを、その解決すべき課題としている。The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a contact lens cleaning device that can prevent dry firing without complicating the device configuration, increasing the device size, and increasing the weight. This is an issue that should be addressed.
[課題を解決するための手段]
本発明の]タンクトレンズ洗浄装置は、コンタクトレン
ズを収納する洗浄室と、前記洗浄室内に洗浄及びすすぎ
用の旋回液流を形成する随伴部と、前記洗浄室内に設C
ブられ前記洗浄室内の液を煮沸する電熱線型式のヒータ
部と、前記洗浄室内の給排液を行なう給液部及び排液部
と、前記随伴部、ヒータ部、給液部及び排液部に指令し
て洗浄工程、すすぎ二「稈、煮沸工程を実施ざlる制t
11部と、前記各部が配設される単体とを備え、
前記制御部は、前記ヒータ部の抵抗値変化により空焚き
を検出する空焚き判定部と、空焚き検出時にヒータ電流
を遮断する空焚き禁止部とを備えることを特徴としてい
る。[Means for Solving the Problems] The tank lens cleaning device of the present invention includes a cleaning chamber for storing contact lenses, an accompanying part for forming a swirling liquid flow for cleaning and rinsing in the cleaning chamber, and a cleaning chamber for storing contact lenses. Set in C
A heating wire type heater section that boils the liquid in the cleaning chamber; a liquid supply section and a liquid drainage section that supply and drain the liquid in the cleaning chamber; and the accompanying section, the heater section, the liquid supply section and the liquid drainage section. The washing process, rinsing and boiling process are ordered to be carried out.
11 parts, and a unit in which the respective parts are arranged, and the control part includes a dry heating determination part that detects dry heating based on a change in the resistance value of the heater part, and a dry heating determining part that cuts off the heater current when dry heating is detected. It is characterized by having a no-burning part.
随伴部は、例えば洗浄室内蔵のインペラにより又は洗浄
室に連通ずるポンプにより旋回液流を形成することがで
きる。The auxiliary part can generate the swirling liquid flow, for example, by an impeller built into the cleaning chamber or by a pump communicating with the cleaning chamber.
ヒータ部は、例えば洗浄室内蔵の電気加熱装置により構
成することかでき、又は、ヒータ部を洗浄室から別置し
加熱液を洗浄室に導入でることもできる。The heater section can be configured, for example, by an electric heating device built into the cleaning chamber, or the heater section can be placed separately from the cleaning chamber and the heated liquid can be introduced into the cleaning chamber.
給液部は、例えば洗浄室と給液タンクとを連通ずる給液
路と、この給液路を開閉する給液バルブとを備えること
ができる。The liquid supply section can include, for example, a liquid supply path that communicates the cleaning chamber and the liquid supply tank, and a liquid supply valve that opens and closes the liquid supply path.
排液部は、例えば洗浄室と排液タンクとを連通する排液
路と、この排液路を開閉する排液バルブとを備えること
ができる。The liquid drainage section can include, for example, a liquid drainage path that communicates the cleaning chamber and the liquid drainage tank, and a liquid drainage valve that opens and closes this liquid drainage path.
制御部は、例えば給液タイマを内蔵するマイコン装着を
備え、入力指令に基づいて前記各部を制御して洗浄工程
、すすぎ工程、煮沸工程を実施させることができる。The control section is equipped with a microcomputer with a built-in liquid supply timer, for example, and can control each section based on input commands to carry out the cleaning process, rinsing process, and boiling process.
本発明の装置は、例えば洗浄工程、すすぎ工程、煮沸]
二程を表す信号を発するスイッチによりMIS威される
]二程指定部を備えることができる。The apparatus of the present invention can be used, for example, in a washing process, a rinsing process, a boiling process, etc.
The MIS can be controlled by a switch that emits a signal representing the second degree.
本発明の装置は、例えば被処理レンズがラフ1ヘコンタ
ク1〜レンズ及びハードコンタクトレンズのどちらであ
るかを表す信号を発するスイッチにより構成されるレン
ズタイプ指定部を備えることができる。The apparatus of the present invention can be provided with a lens type designating section configured by a switch that emits a signal indicating whether the lens to be processed is a rough 1 contact lens or a hard contact lens, for example.
[作用]
本発明のコンタク1〜レンズ洗浄装置では、制御部が、
ヒータ部の抵抗値変化により空焚きを検出するとともに
、空焚き検出時にヒータ電流を遮断する。[Function] In the contactor 1 to lens cleaning device of the present invention, the control unit:
Dry heating is detected based on a change in the resistance value of the heater section, and the heater current is cut off when dry heating is detected.
「実施例] 以下、本発明の洗浄装置の一実施例を説明する。"Example] An embodiment of the cleaning device of the present invention will be described below.
この洗?1 其F’fは、ラフ1へ]タンクトレンズ及
びハードコンタクトレンズ両方の清浄化を行なうものて
、具体的には洗浄、すすぎ、煮沸を行なうものである。This wash? 1 Its F'f is for rough 1] It is used to clean both tank lenses and hard contact lenses, specifically cleaning, rinsing, and boiling.
(装置の基本@戊〉
この洗浄装着の基本構成を概念図で゛ある第1図に示し
、外形斜視図を第2図に示し、正面断面図を第3図に示
し、平面図を第4図に示し、回動蓋300、給水タンク
8及び操作パネル部102を省略した平面図を第5図に
示ず。(Basics of the device@《〉 The basic structure of this cleaning device is shown in Fig. 1 which is a conceptual diagram, Fig. 2 shows an external perspective view, Fig. 3 shows a front sectional view, and Fig. 4 shows a plan view. A plan view in which the rotary lid 300, water supply tank 8, and operation panel section 102 are omitted is not shown in FIG.
この洗浄装置は、ボディー00と、ボディー00の外周
側面を包む樹脂成型薄板製のボディケス200と、小デ
イ−00の上部一端にヒンジ101(第5図参照)によ
り回動自在に支持された回動1300とを備えており、
これらボディー00、ボディケース200、回動130
0は本発明でいう基体を構成している。This cleaning device consists of a body 00, a body case 200 made of a resin-molded thin plate that wraps around the outer circumferential side of the body 00, and a rotary rotatable rotatably supported at one end of the upper part of a small day 00 by a hinge 101 (see Fig. 5). It is equipped with a motion 1300,
These body 00, body case 200, rotation 130
0 constitutes a substrate as used in the present invention.
ボディー00の上部には上端面開口の洗浄室1が設けら
れ、洗浄室1の下部に随伴部2が設けられている。洗浄
室1の周縁底部から棒状のヒータ部3及σ水位センサ2
0が倒立しており、また、洗浄室1の側壁には1ノーマ
ルスイツチ30か設(プられている。また、ボディ−0
0内部にそれぞれソレノイドバルブからなる給水バルブ
4、制水バルブ5、大気開放バルブ6と、制御部7とが
収容されており、ボディー00の下部前面側には操作パ
ネル部102(第4図参照〉が張出している。A cleaning chamber 1 having an opening on the upper end surface is provided in the upper part of the body 00, and a companion part 2 is provided in the lower part of the cleaning chamber 1. A rod-shaped heater part 3 and a water level sensor 2 are connected to the bottom of the cleaning chamber 1.
0 is upside down, and a normal switch 30 is installed (pushed) on the side wall of the cleaning chamber 1.
A water supply valve 4, a water control valve 5, an atmosphere release valve 6, and a control section 7 are housed inside the body 00, each consisting of a solenoid valve, and an operation panel section 102 (see FIG. > is overhanging.
一方、ボディ−00上部には給水タンク8が上下方向着
脱自在に設(プられており、ボディ−00下部にはボデ
ィケース200により囲まれ第2図及び第3図中、右側
面か開口する排水タンク収容室103か設けられでいる
。On the other hand, a water supply tank 8 is installed in the upper part of the body-00 in a vertically removable manner, and the lower part of the body-00 is surrounded by a body case 200 and is opened on the right side in FIGS. 2 and 3. A drainage tank storage chamber 103 is also provided.
給水タンク8下方のこの排水タンク収容室103には第
2図及び第3図に示すように、排水タンク9が水平方向
着脱自在に設けられている。As shown in FIGS. 2 and 3, a drainage tank 9 is provided in this drainage tank housing chamber 103 below the water supply tank 8 so as to be detachable in the horizontal direction.
く各部の詳細) 以下、上記各部をより詳細に説明する。(Details of each part) Each of the above parts will be explained in more detail below.
(基体、他〉
第1図〜第5図に示づように、ボディケース200の左
(…トに部に洗浄室1か、その下部に随伴部2か設(づ
られでいる。ボディケース200の右側上部に給水タン
ク8か上下方向脱着自在に搭載され、ボディケース20
0のも側下部には図中右側端間口の排水タンク収納室1
03か設すられ、この1]1水タンク収容至]03にj
ノ1水タンク9が左右方向脱着自在に収納されている。(Base body, etc.) As shown in FIGS. 1 to 5, a cleaning chamber 1 is installed on the left side of the body case 200, and a companion section 2 is installed below it.Body case A water tank 8 is mounted on the upper right side of the body case 200 and is removable in the vertical direction.
At the bottom of the 0 side, there is a drainage tank storage chamber 1 at the right end frontage in the figure.
03 is installed, and this 1] 1 water tank accommodation] 03 j
No. 1 A water tank 9 is housed so as to be detachable in the left and right directions.
洗浄室1は、上部に位置しレンズケース400(第6図
〜第8図参照)を収納づるための容器室1aと、下部に
位置し水流を生成する攪拌室1bとを有している。容器
室1aは、第5図に記載されているように垂直軸心をも
つ3個の円筒空間が互いに重なって一列に連接する空間
形状をもってa3す、攪拌室1bの下部にはモータ2a
が設けられている。上伸するその駆動軸2Cは攪拌室1
bに水密かつ回転自在に貫通し、その先端部にはインペ
ラ2bが固定されている。モータ2a及びインペラ2b
は本発明でいう随伴部2を構成する。The cleaning chamber 1 has a container chamber 1a located at the top for housing the lens case 400 (see FIGS. 6 to 8), and a stirring chamber 1b located at the bottom for generating a water flow. As shown in FIG. 5, the container chamber 1a has a spatial shape in which three cylindrical spaces with vertical axes overlap each other and are connected in a line.A motor 2a is installed in the lower part of the stirring chamber 1b.
is provided. The upwardly extending drive shaft 2C is the stirring chamber 1
b in a watertight and rotatable manner, and an impeller 2b is fixed to its tip. Motor 2a and impeller 2b
constitutes the companion section 2 in the present invention.
ボディ100の上端面には洗浄室10を囲んで環状のシ
ール溝110〈第3図、第5図参照〉が形成されており
、シール#1]Oにシール部+J (図示せず〉が取付
けられている。洗浄室1を閉じる回動蓋300の内面側
には突起(図示せず〉か設けられており、回動1300
を閉じると、この突起が上記シール部(Aを圧迫し、洗
浄室1が水密化される。An annular seal groove 110 (see FIGS. 3 and 5) is formed on the upper end surface of the body 100 surrounding the cleaning chamber 10, and a seal portion +J (not shown) is attached to seal #1]O. A protrusion (not shown) is provided on the inner surface of the rotary lid 300 that closes the cleaning chamber 1, and the rotary lid 300 closes the cleaning chamber 1.
When closed, this protrusion presses the seal part (A), making the cleaning chamber 1 watertight.
容器室1aに近接して設&−Jられた垂直の排水孔1m
(第3図参照)は、水平埋設孔1kにより攪拌室1bの
底部に連通しており、排水孔1mの底部には排水口1t
が開孔されている。更に、容器室1aの底部には給水孔
1n(第3図参照)か開孔されている。排水孔1mは、
第20図に示すように排水バルブ5を経由して排水管4
0に連結され、排水管40は排水タンク9の受入口上方
に達している。また、排水管40は排水バルブ5の下流
側において人気開放バルブ6の人口に連結されでおり、
大気開放バルブ6の出口【j1回動蓋300内の空気導
入管(図示せず)を経由して洗浄室1に連通している。1m vertical drainage hole installed adjacent to container chamber 1a
(See Figure 3) is connected to the bottom of the stirring chamber 1b through a horizontal buried hole 1k, and a drainage hole 1t is provided at the bottom of the drainage hole 1m.
is drilled. Furthermore, a water supply hole 1n (see FIG. 3) is formed at the bottom of the container chamber 1a. Drainage hole 1m is
As shown in FIG. 20, the drain pipe 4
0, and the drain pipe 40 reaches above the receiving port of the drain tank 9. Further, the drain pipe 40 is connected to the popular open valve 6 on the downstream side of the drain valve 5,
The outlet of the atmosphere release valve 6 [j1 is communicated with the cleaning chamber 1 via an air introduction pipe (not shown) in the rotating lid 300.
給水孔1nは、第1図に示すように給水管50に連結さ
れ、給水管50は給水バルブ4を経由して給水タンク8
の落水筒8aに連紀されている。The water supply hole 1n is connected to a water supply pipe 50 as shown in FIG. 1, and the water supply pipe 50 is connected to the water supply tank 8 via the water supply valve 4.
It is connected to the falling water tube 8a.
史に後)ルするように、洗8室1には、垂直孔(ヒータ
室)1e、水平連通″m1s、垂直孔(水位センサ室)
ICI、傾斜排水溝1hが形成されている。As will be explained later in history, the washing chamber 1 has a vertical hole (heater chamber) 1e, a horizontal communication "mls", and a vertical hole (water level sensor chamber).
An ICI and an inclined drainage ditch 1h are formed.
(ヒータ部3)
また、第21図に示すように、容器室1a下部の攪拌室
1bの周縁に近接して垂直孔(ヒータ室)1eが形成さ
れてa3す(第3図、第5図参照)、垂直孔1eの上端
は容器室1aに連通し、垂直孔1eの下端は水平連通路
1s(第21図、第22図参照)により攪拌室1b下部
と連通している。(Heater section 3) Also, as shown in FIG. 21, a vertical hole (heater chamber) 1e is formed close to the periphery of the stirring chamber 1b at the lower part of the container chamber 1a. ), the upper end of the vertical hole 1e communicates with the container chamber 1a, and the lower end of the vertical hole 1e communicates with the lower part of the stirring chamber 1b through a horizontal communication path 1s (see FIGS. 21 and 22).
垂直孔1eの底部からヒータ部3が倒立しており、ヒー
タ部3の下部に嵌装された支持リング32はボディ10
0に締結されている。ヒータ室1eの壁部は開口されて
バイメタル式のサーマルスイッチ30が嵌め込まれてい
る。手動復帰型のこのサマルスイッヂ30はヒータ部3
の空焚き防止スイッチであり、過熱により内蔵接点を開
放してヒタ部3への通電を遮断する。The heater part 3 is inverted from the bottom of the vertical hole 1e, and the support ring 32 fitted to the lower part of the heater part 3 is attached to the body 10.
0. The wall of the heater chamber 1e is opened and a bimetallic thermal switch 30 is fitted therein. This manual return type thermal switch 30 is a heater section 3.
This is a dry-firing prevention switch that opens the built-in contact in the event of overheating and cuts off the power to the lid part 3.
ヒータ部3は、ステンレス製の円筒ケース(以下、外筒
部ともいう)31と、円筒ケース31内に絶縁粉末と共
に封入されたニクロム線(図示せず)とで形Ii、され
ている。なお、このニクロム線は円筒ケース31から絶
縁されており、そして円筒ケース下端に設【ブられたニ
クロム線通電用の一対の端子(図示せず〉の一方は接地
され他方はサマルスイッチ30を経由して及び制御部7
から給電される。The heater section 3 has a shape Ii, and includes a stainless steel cylindrical case (hereinafter also referred to as an outer cylindrical section) 31 and a nichrome wire (not shown) enclosed in the cylindrical case 31 together with insulating powder. Note that this nichrome wire is insulated from the cylindrical case 31, and one of a pair of terminals (not shown) for energizing the nichrome wire installed at the bottom end of the cylindrical case is grounded, and the other is connected via the thermal switch 30. and control section 7
Powered by
(操作パネル部102)
操作パネル部102上にはソフト/ハード切替スイッチ
(レンズタイプ指定部)81、排水スイッチ(工程指定
部)82、洗浄スイッチ(工程指0
足部)83、煮沸スイッチ(工程指定部)84、スター
トスイッチ85、クリアスイッチ86が設けられている
。これらスイッチにはそれぞれ、抑圧後、一連の工程の
終了時(あるいはクリアスイッチ抑圧時)まで点灯する
操作表示LED93〜95が設けられている。また、ク
リアスイッチ86に近接してソフト選択表示LED91
及びハト選択表示I FD92が設けられている。更に
操作パネル部102上には現在進行中の工程を表示する
ための工程表示LED96〜99が設けられており、操
作パネル部102裏面にはブザー(図示せず〉が設【ブ
られている。(Operation panel section 102) On the operation panel section 102, there are a soft/hard changeover switch (lens type specification section) 81, a drainage switch (process specification section) 82, a cleaning switch (process finger 0 foot section) 83, and a boiling switch (process A designation section) 84, a start switch 85, and a clear switch 86 are provided. Each of these switches is provided with operation display LEDs 93 to 95 that remain lit after suppression until the end of a series of steps (or when the clear switch is suppressed). In addition, a software selection display LED 91 is provided near the clear switch 86.
and a pigeon selection display IFD92. Furthermore, process display LEDs 96 to 99 are provided on the operation panel section 102 to display the process currently in progress, and a buzzer (not shown) is provided on the back surface of the operation panel section 102.
(カバースイッチ10)
ボディ100の上部にはカバースイッチ10(第3図参
照〉か設(プられており、カバースイッチ10は、垂直
に回動自在な摺動バー10aと、摺動バー10aに巻装
され摺動バー108を上方に付勢するスプリング10b
と、摺動バー10aの下端部に間接するリミットスイッ
チ(図示せず)とからなる。回動バー108の上端部は
ボディ11
00の上面に開口するカバースイッチロ11(第5図参
照〉を覗いており、一方、回動扉300にはl皆勤バー
押圧用の突起(図示せず)が設けられている。(Cover switch 10) A cover switch 10 (see FIG. 3) is installed on the top of the body 100, and the cover switch 10 has a vertically rotatable sliding bar 10a and a vertically rotatable sliding bar 10a. A spring 10b is wound around and urges the sliding bar 108 upward.
and a limit switch (not shown) connected to the lower end of the sliding bar 10a. The upper end of the rotating bar 108 looks into the cover switch 11 (see Figure 5) that opens on the top surface of the body 1100, while the rotating door 300 has a protrusion (not shown) for pressing the perfect attendance bar. ) is provided.
回動扉300を閉じると、この囲動バー抑圧用の突起が
摺動バー108を下方に押圧し、下動する摺動バー10
aの下端部はリミットスイッチ(図示せず)を作動させ
る。When the rotating door 300 is closed, the protrusion for suppressing the surrounding bar presses the sliding bar 108 downward, and the sliding bar 10 moves downward.
The lower end of a activates a limit switch (not shown).
(水位センサ20)
ボディ100の上部には第20図に示すように、容器室
1aに近接して垂直孔(水位センサ室)1g(第1図及
び第5図参照〉が設けられており、垂直孔(水位センサ
室)1qから容器室1aの深部まで傾斜排水溝1hが設
けられている。排水時に、水位センサ20近傍の水はこ
の傾斜排水溝1hにより攪拌室1bに速やかに排出され
、更に、撹拌室1bから水平埋設孔1k、排水口1tを
経由して、排水管40に排出される。(Water level sensor 20) As shown in FIG. 20, in the upper part of the body 100, a vertical hole (water level sensor chamber) 1g (see FIGS. 1 and 5) is provided adjacent to the container chamber 1a. An inclined drain groove 1h is provided from the vertical hole (water level sensor chamber) 1q to the deep part of the container chamber 1a.During drainage, water near the water level sensor 20 is quickly discharged to the stirring chamber 1b by this inclined drain groove 1h, Furthermore, it is discharged from the stirring chamber 1b to the drain pipe 40 via the horizontal buried hole 1k and the drain port 1t.
水位センサ室1qの底部から棒状の水位センサ20が倒
立している。この水位センサ20は、ス2
テンレス棒(本発明でいう棒状導電体)21の外周側面
全部にPTFE (ポリテトラフルオロエチレン)膜2
2を被着してなり、ステンレス棒21の頂部23だ(プ
が露出している。したがって、水位がこの頂部23に達
すると、水を介してステンレス棒21の頂部23がヒー
タ部3の上記ステンレス製の円筒り一ス31(第21図
参照)と導通する。ステンレス棒21の下部は水位セン
サ室10の底部を水密に下方へ貫通しており、ステンレ
ス棒21の底部は水位センサ10の端子電極となってい
る。ステンレス棒21の下部に嵌装された支持リング2
4はボディ100に締結されている。A rod-shaped water level sensor 20 is inverted from the bottom of the water level sensor chamber 1q. This water level sensor 20 includes a PTFE (polytetrafluoroethylene) film 2 on the entire outer peripheral side surface of a stainless steel rod (rod-shaped conductor in the present invention) 21.
2, and the top 23 of the stainless steel rod 21 is exposed. Therefore, when the water level reaches this top 23, the top 23 of the stainless steel rod 21 is attached to the heater part 3 through the water. It is electrically connected to a stainless steel cylindrical ring 31 (see FIG. 21).The lower part of the stainless steel rod 21 penetrates the bottom of the water level sensor chamber 10 downward in a watertight manner; A support ring 2 fitted to the lower part of the stainless steel rod 21 serves as a terminal electrode.
4 is fastened to the body 100.
なお、ヒータ部3のステンレス製の円筒ケース31は接
地されている。なお、第20図中に示される垂直孔1g
と水位センサ20との間の間隙は、水の滞留防止のため
に狭小に形成されており、更にこの間隙には樹脂層か介
装されている。Note that the stainless steel cylindrical case 31 of the heater section 3 is grounded. In addition, the vertical hole 1g shown in FIG.
The gap between the water level sensor 20 and the water level sensor 20 is formed narrowly to prevent water from stagnation, and a resin layer is further interposed in this gap.
(制御部7〉
制御部7は、第10図に示ずように、マイコンを含む制
御装置てあって、カバースイッチ10、3
水位センサ20、各スイッチ81〜86から信号を受取
り、LED91〜99、ブザー(図示せず〉、モータ2
a、給水バルブ4、排水バルブ5、大気開放バルブ6、
ヒータ部3を駆動する。(Control unit 7) As shown in FIG. 10, the control unit 7 is a control device including a microcomputer, receives signals from the cover switches 10, 3, water level sensor 20, and switches 81 to 86, and outputs signals from the LEDs 91 to 99. , buzzer (not shown), motor 2
a, water supply valve 4, drain valve 5, atmosphere release valve 6,
The heater section 3 is driven.
マイコンは給液タイマとして給水タイマを内蔵しており
、水位センサ20は液位センサを@威している。The microcomputer has a built-in water supply timer as a liquid supply timer, and the water level sensor 20 functions as a liquid level sensor.
なお、制御部7は、各スイッチ82〜85の抑圧状態を
表示するための1ビツトのレジスタを有しており、これ
らレジスタの記憶状態をそれぞれフラグとして用いてい
る。これは各フラグは各スイッチ82〜86の抑圧によ
りセットされ、そして、クリアスイッチ86の抑圧、又
は、一連の工程の終了によりリセットされる。ただ、ソ
フト/ハード切替フラグは、クリアスイッチ86の抑圧
又は一連の工程の終了によりソフトが選択され〈リセッ
トされ〉、ソフト選択中のソフト/ハト切替スイッチの
抑圧によりハードが選択され(セットされ〉、ハード選
択中の抑圧によりソフトが選択される(リセットされる
〉。The control unit 7 has a 1-bit register for displaying the suppression state of each switch 82 to 85, and uses the storage state of each of these registers as a flag. Each flag is set by pressing each of the switches 82 to 86, and reset by pressing the clear switch 86 or completing a series of steps. However, the software/hardware switching flag is selected (reset) when the software is selected by pressing the clear switch 86 or by completing a series of steps, and is selected (set) by pressing the software/pigeon changeover switch during software selection. , soft is selected (reset) by suppression during hard selection.
4
給水フラグ、すずぎフラグはプログラムによって立てら
れ、排水フラグはプログラムによって立てられるか又は
排水スイッチ82の抑圧によって立てられる。4. The water supply flag and the bell flag are set by a program, and the drain flag is set by a program or by depression of the drain switch 82.
(レンズケース400>
次にレンズケース400を第6〜8図を参照して説明す
る。第6図は容器本体60を内側から見た平面図、第7
図は蓋70を内側から見た平面図である。(Lens case 400> Next, the lens case 400 will be explained with reference to FIGS. 6 to 8. FIG. 6 is a plan view of the container body 60 viewed from inside, and FIG.
The figure is a plan view of the lid 70 viewed from inside.
レンズケース400は互いに嵌合可能な容器本体60と
N70とからなり、これら容器本体60及び蓋70の外
周側面は、洗浄室1の容器室1aの内周側面j;り多少
中さな略相似形状、すなわち3個の円筒を連接した形状
を有している。容器本体60は左右にそれぞれレンズ収
納室61.61を有し、各レンズ収納室61は上記嵌合
により閉鎖されるか、容器本体60と蓋70とには必要
な数の連通孔が形成されていて、レンズ収納室61への
液通が確保される。The lens case 400 consists of a container body 60 and a lid 70 that can be fitted into each other. It has a shape, that is, a shape in which three cylinders are connected. The container main body 60 has lens storage chambers 61 and 61 on the left and right sides, and each lens storage chamber 61 is closed by the above-mentioned fitting, or a necessary number of communication holes are formed in the container main body 60 and the lid 70. Thus, liquid communication to the lens storage chamber 61 is ensured.
更に詳細に説明すると、各レンズ収納室61は5
コンタクトレンズWを収納する上面開口の偏平円筒空間
を或し、N70はレンズ収納室61の上面開口に被着さ
れレンズ収納室6]を覆う。容器本体60のレンズ収納
室61の底面62には貫通孔63が上下方向に貫通して
おり、側壁部64には、多数の貫通孔65が側方へ放射
状に貫通している。More specifically, each lens storage chamber 61 has a flat cylindrical space with an upper opening for storing five contact lenses W, and N70 is attached to the upper opening of the lens storage chamber 61 to cover the lens storage chamber 6. A through hole 63 vertically passes through the bottom surface 62 of the lens storage chamber 61 of the container body 60, and a large number of through holes 65 radially penetrate laterally through the side wall portion 64.
容器本体60の中央部には長棒状の突出部66が上方へ
立設されており、突出部66を挟んで上下に一対の嵌合
部67a、67bが形成されている。At the center of the container body 60, a long bar-shaped protrusion 66 stands upward, and a pair of fitting parts 67a, 67b are formed above and below with the protrusion 66 in between.
なお、嵌合部67aは円孔からなり、嵌合部67bは内
棒からなる。In addition, the fitting part 67a consists of a circular hole, and the fitting part 67b consists of an inner rod.
一方、N70には、レンズ収納室20,20の上面開口
に嵌合する円形突部71.71か設けられ、円形突部7
1の内面72はコンタクトレンズWの形状に適合するよ
うに球面状に膨出している。On the other hand, N70 is provided with circular protrusions 71 and 71 that fit into the upper surface openings of the lens storage chambers 20 and 20.
The inner surface 72 of the contact lens 1 is bulged into a spherical shape to fit the shape of the contact lens W.
また、円形突部71には貫通孔72が上下方向に多数貫
設されており、蓋70の中央部には挿通孔73をもつ筒
部74が形成されている。挿通孔73には容器本体60
の突出部66が嵌入される。Further, a large number of through holes 72 are vertically formed through the circular protrusion 71, and a cylindrical portion 74 having an insertion hole 73 is formed in the center of the lid 70. The container body 60 is inserted into the insertion hole 73.
The protrusion 66 is inserted.
更に、N70には、筒部74を挟んで上下に一対6
の嵌合部77a、77bが形成されている。なお、嵌合
部77bは円孔からなり、嵌合部77aは内棒からなる
。そして、容器本体60の円孔状の嵌合部67aは、N
70の円棒状の嵌合部77aと嵌合し、容器本体60の
円棒状の嵌合部67bは、蓋70の円孔状の嵌合部77
bと嵌合する。Further, in N70, a pair of six fitting portions 77a and 77b are formed above and below with the cylindrical portion 74 in between. In addition, the fitting part 77b consists of a circular hole, and the fitting part 77a consists of an inner rod. The circular hole-shaped fitting portion 67a of the container body 60 is N
The circular rod-shaped fitting portion 67b of the container main body 60 fits into the circular hole-shaped fitting portion 77 of the lid 70.
mated with b.
このレンズケース400は洗浄室1にセットされて、旋
回水流により大きく浮動しないようになっている。This lens case 400 is set in the cleaning chamber 1 to prevent it from floating significantly due to the swirling water flow.
(動作説明)
次に、この装置の作動を説明する。作動は基本的に、排
水動作、給水動作、洗浄動作、すすぎ動作、煮沸動作の
各動作からなり、給水動作、洗浄動作、排水動作の各動
作を順番に組合せて洗浄工程C]が構成され。また、給
水動作、すすぎ動作、排水動作の各動作を3度繰返して
すすぎ工程C2が構成され、給水動作、煮沸動作、排水
動作の各動作を順番に組合せて煮沸工程りが構成される
、ただ、排水工程は排水動作だけで構成される。(Operation Description) Next, the operation of this device will be explained. The operation basically consists of a draining operation, a water supplying operation, a washing operation, a rinsing operation, and a boiling operation, and the washing process C] is constituted by combining the water supplying operation, the washing operation, and the draining operation in order. Further, the rinsing process C2 is configured by repeating the water supply operation, rinsing operation, and draining operation three times, and the boiling process is configured by combining the water supply operation, boiling operation, and draining operation in order. , the drainage process consists only of the drainage operation.
制御部7は、実際には第17図の工程図に示す7
ように、排水工程、煮沸工程、洗浄ずずぎ工程、洗浄す
すぎ煮沸工程を実施できるJ:うに構成されている。な
お第17図に示すように、上記洗浄すすぎ工程は、洗浄
工程C1、すすぎ工程C2を連続して実施する連続工程
であり、また、上記洗浄すすぎ煮沸工程は、洗浄工程C
1、すすぎ工程C2、煮沸工程りを連続して実施する連
続工程である。The control section 7 is actually configured to be able to carry out a draining process, a boiling process, a cleaning process, and a cleaning, rinsing, and boiling process, as shown in the process diagram of FIG. 17. As shown in FIG. 17, the washing and rinsing process is a continuous process in which the washing process C1 and the rinsing process C2 are performed in succession, and the washing and rinsing boiling process is a continuous process in which the washing process C1 and the rinsing process C2 are performed in succession.
1. This is a continuous process in which the rinsing process C2 and the boiling process are performed continuously.
すなわち、洗浄すすぎ工程は一般にハードコンタクトレ
ンズの自動処理に用いられるものであり(もちろん、煮
沸を要しないラフ1ヘコンタクトレンズの自動処理も可
)、洗浄すすぎ煮沸工程はソフトコンタクトレンズの自
動処理に用いられるものである。In other words, the cleaning and rinsing process is generally used for automatic processing of hard contact lenses (of course, it is also possible to automatically process rough 1 contact lenses that do not require boiling), and the cleaning, rinsing, and boiling processes are used for automatic processing of soft contact lenses. It is used.
なお、ソフトコンタクトレンズとともにその携帯ケース
を煮沸する場合には、まずレンズケースにラフ1〜コン
タクトレンズを収容して洗浄すすぎ工程を実施し、次に
、洗浄すすぎされたソフトコンタクトレンズを生理食塩
水とともに携帯ケース(図示せず〉に密封して煮沸工程
を実施すること8
か好ましい。このようにすると、煮沸後、携帯ケス中の
ラフ1〜コンタクトレンズを無菌状態とすることかでき
る。もちろん、ハードコンタクトレンズの携帯ケースだ
(ブに煮沸工程を実施し、へドコンタクトレンズ自体に
洗浄すすぎ工程を実施することも可能である。In addition, when boiling the mobile case together with the soft contact lenses, first place the rough 1~ contact lenses in the lens case and carry out the cleaning and rinsing process, and then boil the cleaned and rinsed soft contact lenses in physiological saline. It is also preferable to carry out the boiling process while sealing it in a carrying case (not shown).In this way, after boiling, the rough 1 to contact lenses in the carrying case can be made sterile.Of course, It is a carrying case for hard contact lenses (it is also possible to perform a boiling process and then a cleaning and rinsing process on the contact lenses themselves.
以下、各工程をフローチャーi〜を参照して説明づる。Each step will be explained below with reference to flowcharts i.
’、; a3 i1+!I御部7のマイコンは各ルーチ
ンをほぼ1m5ecのルーチン周期で繰返ずものとする
。', ; a3 i1+! The microcomputer in the I control section 7 repeats each routine at a routine cycle of approximately 1 m5ec.
(煮沸フラグセラ1〜)
上記フラグのセラ1ル動作の一例として、煮沸フラグの
セット動作を第16図のフローチャートで説明する。(Boiling flag cellar 1~) As an example of the above-mentioned flag cellaring operation, the setting operation of the boiling flag will be explained with reference to the flowchart of FIG. 16.
まず、煮沸スイッチ84か閉じたかどうかを調べ(S6
1)、閉じていれば煮沸フラグを立て(362)、煮沸
指定警報音(ピッ、ピッ、ピッ)の出力を指令しく56
3)、煮沸操作表示LED95を点灯して(S64)、
リターンする。なお、他のフラグのセットでは、警報音
(ピッ、ピッ、ピッ)を出力しない。First, check whether the boiling switch 84 is closed (S6
1) If it is closed, set the boil flag (362) and command the output of the boil specified alarm sound (beep, beep, beep).56
3) Turn on the boiling operation display LED 95 (S64),
Return. Note that when other flags are set, no alarm sound (beep, beep, beep) is output.
9
このようにすれば、例えばハードコンタク1〜レンズを
収納した状態で、うつかり煮沸スイツブー84を押圧し
たとしても、操作者に明瞭に警告できる利点がある。9 This has the advantage that even if the boiling switch 84 is pressed while the hard contacts 1 to lenses are stored, the operator can be clearly warned.
(排水動作)
排水動作は、第11図のフローチャートに示すように、
排水フラグが1であれば(立っていれば)、排水バルブ
5、大気開放バルブ6を聞き、10秒経過後、排水バル
ブ5、大気開放バルブ6を閉じ、排水フラグをOとして
終了する1、な11′3、大気開放バルブ6は排水のた
めに洗浄室1に大気を導入するものである。(Drainage operation) The drainage operation is as shown in the flowchart of Fig. 11.
If the drain flag is 1 (if it is standing), listen to the drain valve 5 and the atmosphere release valve 6, and after 10 seconds, close the drain valve 5 and the atmosphere release valve 6, and set the drain flag to O to end the process.1. 11'3, the atmosphere release valve 6 is for introducing the atmosphere into the cleaning chamber 1 for drainage.
(給水動作)
給水動作は、第12図のフローチャー1〜に示すように
、給水フラグを調べ(S21)、給水フラグが立ってい
れば、給水バルブ4、大気開放バルブ6を聞き(S22
)、現在実施中の工程が第1回又は第2回目のすすぎ動
作のための給水動作かどうか(すなわち洗浄動作のため
の給水動作又は最終回のすすぎのための給水動作又は煮
沸動作の0
ための給水動作であるかどうか〉を調べ(S23>、第
1回又は第2回目のすすぎ動作のための給水動作であれ
ば、給水タイマスタートフラグ「tがOかどうかを調べ
(328>、フラグFtがOであればフラグFtを1に
セラ1〜しく329>、フラグFtが1であればS29
を迂回し、マイコン内蔵の給水タイマをスタートさせる
(330)。(Water supply operation) The water supply operation is performed by checking the water supply flag (S21) and, if the water supply flag is set, listening to the water supply valve 4 and the atmosphere release valve 6 (S22), as shown in flowcharts 1 to 12 of FIG.
), whether the process currently being performed is a water supply operation for the first or second rinse operation (i.e. water supply operation for a washing operation or water supply operation for the final rinse or boiling operation). If the water supply operation is for the first or second rinsing operation, the water supply timer start flag "Check whether t is O (328>, the flag If Ft is O, set flag Ft to 1.329>, if flag Ft is 1, set S29
The microcomputer's built-in water supply timer is started (330).
次に、この給水タイマが終了したかどうかを調べ(82
4>、終了していたら給水バルブ4、大気開放バルブ6
を閉じ(S26>、給水フラグ及び給水タイマスタート
フラグ「tをOにリセットして、メインルーチンにリタ
ーンする。Next, check whether this water supply timer has expired (82
4> If finished, open water supply valve 4, atmosphere release valve 6
(S26>, reset the water supply flag and water supply timer start flag "t" to O, and return to the main routine.
一方、323で、現在実施中の工程が第1回又は第2回
目のづ−すぎ動作のための給水動作ではあらず、洗浄動
作のための給水動作又は最終回のすずきのための給水動
作又は煮沸動作のための給水動作であれば、水位センサ
20か導通したかどうかを調べ(325>、導通すれば
S26へ進み、導通していな【プればリターンする。On the other hand, in 323, the process currently being performed is not the water supply operation for the first or second rinsing operation, but is the water supply operation for the washing operation or the water supply operation for the final rinse operation. If the water supply operation is for a boiling operation, it is checked whether the water level sensor 20 is electrically connected (325), and if it is electrically conductive, the process advances to S26, and if it is not electrically conductive, the process returns.
なお、水位センサ20は、水位が洗浄室1のは1
ば満水レベルを越えると信号を発し、制御部7はそれに
より給水バルブ4を閉じる。Note that the water level sensor 20 issues a signal when the water level in the cleaning chamber 1 exceeds the full water level, and the control unit 7 closes the water supply valve 4 accordingly.
また、マイコン内蔵タイマは約2秒にセットされており
、この2秒間の給水により洗浄室1には満水時の1/3
程度の水位まで給水される。、このJ:うに最終回(第
3回)を除くすずぎ゛動作におCプる給水量を減らすの
で、一定量の水の潤性で何度もすすぎを実施でき、泡や
よごれを効果的に排除することができる。本実施例のよ
うにずずぎに高価な生理食塩水を用い、かつ給排水タン
ク8.9の容量に制限のある場合には、このような少量
複数回すすぎの実施は生理食塩水の節約に非常に有効で
ある。更に、この実施例では、最終回のすすぎがほぼ満
水レベルの状態で実施されるので、洗浄室1やレンズケ
ース400などに残留する泡や汚れが水面に浮上がると
ともにり、水面に浮上った泡や汚れがすすぎ途中にコン
タクトレンズWやレンズケース4. OOに再付着した
り、レンズケース4. OOの孔部や凹部に押込まれた
りづることを防げる。In addition, the microcomputer's built-in timer is set to approximately 2 seconds, and by supplying water for 2 seconds, the cleaning chamber 1 is filled with water to 1/3 of its full capacity.
Water is supplied up to a certain level. , this J: Reduces the amount of water supplied during the suzugi operation, except for the final (3rd) cycle of sea urchin, so rinsing can be performed many times with a fixed amount of water, effectively eliminating bubbles and dirt. can be excluded. If expensive physiological saline is used as in this example, and the capacity of the water supply/drainage tank 8.9 is limited, rinsing in small amounts multiple times will help conserve physiological saline. Very effective. Furthermore, in this embodiment, since the final rinse is performed at almost full water level, bubbles and dirt remaining in the cleaning chamber 1, lens case 400, etc. float to the water surface and float to the water surface. While rinsing bubbles and dirt, remove contact lenses W and lens case 4. It may re-adhere to the OO or the lens case 4. This prevents it from being pushed into the holes or recesses of the OO.
2
また、この中間すすぎにおける給水量制御をマイコン内
蔵タイマにJ:り実施しているので、給水量制御か極め
て簡単となっている。2. Also, since the water supply amount control during this intermediate rinse is carried out using a microcomputer built-in timer, the water supply amount control is extremely simple.
(洗浄動作〉
洗浄動作は、第13図のフローチャートに示すように洗
浄フラグを調べ、洗浄−フラグが立っていな(づればこ
のザブルーチンを迂回し、洗浄フラグが立っていれば、
ハートフラグ及びラフ1〜フラグのどちらが立っている
かを調べる(S32)。ハトフラグか立っていれば36
00rpmで回転するように制御部7に内蔵するモータ
速度制御回路(図示せず)に指示し、同時に、内蔵の洗
浄タイマを45秒にセラ1へしてスタートさせる(S3
3)。一方、ラフ1〜フラグか立っていれば720Qr
pmで回転するように制御部7に内蔵するモタ速度制御
回路(図示せず〉に指示し、同時に、洗浄タイマを3分
にセットしてスタートさせる(S34)。(Cleaning operation) The cleaning operation is performed by checking the cleaning flag as shown in the flowchart of FIG.
It is checked which of the heart flag and rough 1 to flag is set (S32). If the pigeon flag is up, it's 36.
The controller 7 instructs the motor speed control circuit (not shown) built in the control unit 7 to rotate at 00 rpm, and at the same time starts the built-in cleaning timer at 45 seconds for Cera 1 (S3
3). On the other hand, if the rough 1~flag is up, it will be 720Qr.
A motor speed control circuit (not shown) built in the control unit 7 is instructed to rotate at pm, and at the same time, a cleaning timer is set to 3 minutes and started (S34).
次に、洗浄タイマかオーバーしたかどうかを調べ(S3
5)、オーバーしていなければメインル3
チンにリターンし、オーバーしていれば洗浄フラグを○
としてリターンづる。Next, check whether the cleaning timer has exceeded (S3
5) If it is not over, return to main routine 3, and if it is over, set the cleaning flag to ○.
As a return.
(すすぎ動作)
すずき動作は、第14図のフローデレー1〜に示すよう
に、ずずぎフラグを調べ(S41 ) 、ずすぎ洗浄フ
ラグが立っていな【プれば、洗浄動作直後の給水が実施
されたか否かを示すフラグが立っているかどうかを調べ
(S42)、立っていな【プればリターンし、立ってい
ればづすぎフラグを1にセラ1〜する(S43)。次い
で、モータ2aに回転を指令し同時に内蔵のすすぎタイ
マをスタートさせる(S44.)。そして、すすぎタイ
マがオバーしたかどうかを調べ(345)、オーバーし
ていればすすぎフラグに1を加えてメインルーチンにリ
ターンしく846)、オーバーしていなければリターン
する。(Rinsing operation) For the Suzuki operation, check the Suzuki flag (S41) as shown in flow delay 1~ in Fig. 14, and if the Suzuki cleaning flag is not set, water supply immediately after the cleaning operation is performed. It is checked whether a flag indicating whether the flag has been set is set (S42), and if it is not set, the process returns; if it is set, the flag is set to 1 (S43). Next, the motor 2a is commanded to rotate and at the same time a built-in rinse timer is started (S44). Then, it is checked whether the rinse timer has exceeded (345), and if it has exceeded, 1 is added to the rinse flag and the process returns to the main routine (846), and if it has not exceeded, the process returns.
また、ステップ41ですすぎフラグがOでなければ、す
すぎフラグが4かどうかを調べ(S47>、4になって
いなければステップ44に進み、4になっていたらすず
ぎフラグをOにリセットして4
(848)、リターンする。Also, if the rinse flag is not O in step 41, check whether the rinse flag is 4 (S47>, if it is not 4, proceed to step 44, and if it is 4, reset the rinse flag to O). 4 (848), return.
このようにして3回のすすぎ動作が順次、実行される。In this way, three rinsing operations are performed sequentially.
(煮沸動作〉
煮沸動作は、第15図のフローチャートに示ずように、
煮沸フラグを調べ(351)、煮沸フラグか立っていな
(ブればこのザブルーチンを迂回し、煮沸フラグが立っ
ていれば、煮沸実施警報音出力フラグFhを調べ(35
2)、フラグFhかOてあれば、ブザー(図示せず〉に
煮沸実施警報音(ピー、ピー、ピー)の出力を指令しく
553)、フラグFhを○にリセッ1〜しく354)、
852でフラグ「hが1であれば355に進む。(Boiling operation) The boiling operation is as shown in the flowchart of Fig. 15.
Check the boil flag (351), and if the boil flag is not set, bypass this subroutine, and if the boil flag is set, check the boil execution alarm sound output flag Fh (35
2) If the flag Fh is set to O, command the buzzer (not shown) to output a boiling alarm sound (beep, beep, beep) 553), reset the flag Fh to 1 to 354),
If the flag "h" is 1 at 852, proceed to 355.
S55ではヒータ部3に通電するとともに、内蔵する通
電タイマをスタートさせ(S55)、通電が終了したか
どうかを調べる(S56)。通電が終了していなければ
メインルーチンにリターンし、終了していれば煮沸フラ
グ及びフラグFhををOにリセットして(S57)、リ
ターンする。In S55, the heater unit 3 is energized, a built-in energization timer is started (S55), and it is checked whether energization has ended (S56). If the energization has not ended, the process returns to the main routine, and if it has ended, the boiling flag and the flag Fh are reset to O (S57), and the process returns.
(メインルーチン) 5 この洗浄装置のメインルーチンを説明する。(main routine) 5 The main routine of this cleaning device will be explained.
まず、カバースイッチ10が閉じているかどうかを調べ
(S100) 、聞いていればモータ2a、ヒータ部3
、各バルブ4.5.6をオフしてステップ100にリタ
ーンし、閉じていればクリアフラグを調べてクリアスイ
ッチが立っているかどうかを調べ(S102>、立って
いれば各スイッチ(クリアスイッチも含む)に対応する
フラグを0にリセッ1〜(なおハード/ソフト切替スイ
ッヂに対応するフラグはソフトにリヒッ1〜する)して
(3103>、ステップ100に戻り、クリアフラグが
立っていな【プれば(S102>、洗浄フラグを調べる
(S150)。洗浄フラグが立っていな【プれば、煮沸
フラグを調べる(S14.O>。煮沸フラグか立ってい
なければステップ103に進み、煮沸フラグが立ってい
れば、ハード/ソフ]〜切替フラグを調べる(S181
)。ハードが選択されていればステップ103に進み、
ソフトが選択されていればスタートフラグを調べ(31
08)、スタートフラグがオフならばステップ100に
6
リターンし、スター1〜フラグがオンならば煮沸工程サ
ブルーチンを実行して(3109)、ステップ100に
戻る。First, it is checked whether the cover switch 10 is closed (S100), and if it is, the motor 2a and the heater section 3 are closed.
, turn off each valve 4.5.6 and return to step 100, and if it is closed, check the clear flag and check whether the clear switch is on (S102>, and if it is, turn off each switch (clear switch also) (including the flag corresponding to the hardware/software switch) is reset to 0 (in addition, the flag corresponding to the hardware/software switch is reset to 1) (3103>, the process returns to step 100, and if the clear flag is not set, If the cleaning flag is not set (S102>, check the cleaning flag (S150). If the cleaning flag is not set, check the boiling flag (S14.O>). If the boiling flag is not set, proceed to step 103, and the boiling flag is set. If it is set, check the hardware/software switching flag (S181
). If hardware is selected, proceed to step 103,
If software is selected, check the start flag (31
08), if the start flag is off, the process returns to step 100; if the star 1 flag is on, the boiling process subroutine is executed (3109), and the process returns to step 100.
一方、ステップ150で洗浄ザブルーチンが立っていれ
ば、煮沸フラグを調べる(8160)。On the other hand, if the cleaning subroutine is activated in step 150, the boil flag is checked (8160).
煮沸フラグか立っていなければスタートフラグを調べ(
8200)、スタートフラグかオフならばステップ10
0にリターンし、スタートフラグがオンならば洗浄、す
すぎ工程サブルーチンを実行して(3111)、ステッ
プ100に戻る。If the boil flag is not set, check the start flag (
8200), if the start flag is off, step 10
If the start flag is on, the cleaning and rinsing process subroutine is executed (3111), and the process returns to step 100.
ステップ160て煮沸フラグが立っていれば、ハード/
ソフト切替フラグを調べる(S170)。If the boil flag is set in step 160, the hard/
The software switching flag is checked (S170).
ハードが選択されていればステップ200に進み、ソフ
トが選択されていればスタートフラグを調べ(8180
)、スタートフラグがオフならばステップ100にリタ
ーンし、スタートフラグがオンならば洗浄、すすぎ、煮
沸工程サブルーチンを実行して(S110)、ステップ
100に戻る。If hardware is selected, proceed to step 200; if software is selected, check the start flag (8180).
), if the start flag is off, the process returns to step 100, and if the start flag is on, the cleaning, rinsing, and boiling process subroutine is executed (S110), and the process returns to step 100.
なお、上記各工程ザブルーチンは、上記した各動作ザブ
ルーチンを第17図の工程図に示す順序7
で組合せたものである。The above-mentioned process subroutines are obtained by combining the above-described operation subroutines in order 7 shown in the process diagram of FIG. 17.
また、ステップ109.110,111に進む各工程す
1ルーチンの終了時に、スタートフラグ及びハード/ソ
フトフラグはOにリセットされる。Further, at the end of each process step 1 routine proceeding to steps 109, 110, and 111, the start flag and hard/soft flag are reset to O.
工程ザブルーチンの一例として、洗浄、づ−すぎ、煮沸
サブルーチンのタイミングチャー1−を第19図に示づ
−0
更に上記説明では省略したが、洗浄室1を外部に連絡す
る圧力リリーフ弁(図示せず)が回動蓋300に設けら
れており、煮沸時の圧力過昇か防止されている。As an example of the process subroutine, the timing chart 1-0 of the cleaning, rinsing, and boiling subroutines is shown in FIG. ) is provided on the rotating lid 300 to prevent excessive pressure rise during boiling.
(空焚き防止サブルーチン) 次に、空焚き防止ザブルーチンを説明する。(dry firing prevention subroutine) Next, the dry firing prevention routine will be explained.
まず、第15図に示す煮沸動作サブルーチンの355で
ヒータ部3への通電がなされたか否かを判別しく530
0)、通電中でなCづればリターンし、通電中であれば
ヒータ電流Ih、ヒータ電圧Vhを検出し、それぞれA
/D変換する(3301)。First, in step 355 of the boiling operation subroutine shown in FIG. 15, it is determined whether or not the heater section 3 is energized.
0), returns if current is not being applied, and detects heater current Ih and heater voltage Vh if current is being applied.
/D conversion (3301).
次に、A/D変換されたヒータ電圧■hをヒ8
夕電流1hで除算してヒータ抵抗値Rを求め(S302
> 、このヒータ抵抗値Rを予め記憶するしきい値抵抗
値Rcと比較する(S303)。なお、3303は本発
明でいう空焚き判定部を構成している。また、このしき
い値抵抗値Rcはニクロム線の所定のしきい値温度Tc
にお(プる抵抗値であって、洗浄室1中に充分な水があ
る場合には生じない値に設定しておく。Next, the heater resistance value R is determined by dividing the A/D converted heater voltage h by the electric current 1h (S302
>, this heater resistance value R is compared with a threshold resistance value Rc stored in advance (S303). Note that 3303 constitutes a dry firing determination section in the present invention. Further, this threshold resistance value Rc is determined by a predetermined threshold temperature Tc of the nichrome wire.
This resistance value is set to a value that does not occur when there is sufficient water in the cleaning chamber 1.
次に、ヒータ抵抗値Rかしきい値抵抗値RCより小さけ
れば、水位センサ20の導通状態を調べ(空焚き判定部
、5304)、ヒータ抵抗値Rがしきい値抵抗値RC以
上であれば5305に進む。Next, if the heater resistance value R is smaller than the threshold resistance value RC, check the conduction state of the water level sensor 20 (dry firing determination section, 5304), and if the heater resistance value R is greater than or equal to the threshold resistance value RC. Proceed to 5305.
5304では、煮沸期間中に水位センサ20が遮断状態
になれば水位低下すなわち空焚き状態になったものとし
て3305に進み、導通状態であればリターンする。In step 5304, if the water level sensor 20 is in the cutoff state during the boiling period, it is assumed that the water level has decreased, that is, in the dry boiling state, and the process proceeds to step 3305, and if it is in the conductive state, the process returns.
ステップ305では、空焚き状態としてヒータ部3への
通電を遮断し、空焚き警報音(ピー〉を発して(830
6)、5305にリターンする。In step 305, the power supply to the heater section 3 is cut off to determine the dry heating state, and a dry heating alarm sound (beep) is emitted (830
6), return to 5305.
なお、5305は本発明でいう空焚き禁止部を9
構成している。この実施例では、煮沸期間中の水位セン
サ20の遮断と、ヒータ抵抗Rの増加により空焚きを判
定している。したがって、煮沸沸騰時にお(つる水面変
動を補償するために3304における水位センサ20の
遮断は一定時間間隔(例えば2秒)を隔てて複数回(例
えば5回〉実施し、5回全部遮断が出力された場合に空
焚きと判定するようにしてもよい。Incidentally, 5305 constitutes the dry firing prohibition section 9 referred to in the present invention. In this embodiment, dry heating is determined by shutting off the water level sensor 20 and increasing the heater resistance R during the boiling period. Therefore, in order to compensate for fluctuations in the water level during boiling, the shutoff of the water level sensor 20 in 3304 is performed multiple times (for example, 5 times) at fixed time intervals (for example, 2 seconds), and all 5 shutoffs are output. If this occurs, it may be determined that the fuel is being heated dry.
更に、煮沸中における蒸発による水位低下を補償するた
めに、第12図の826の給水バルブ閉を多少遅延させ
て、水位センサ20の頂部がある程度水面下に位置する
ようにしてもよい。Furthermore, in order to compensate for the drop in water level due to evaporation during boiling, the closing of the water supply valve 826 in FIG. 12 may be delayed to some extent so that the top of the water level sensor 20 is located below the water surface to some extent.
(実施例の効果)
この実施例では、空焚き防止のために、ヒータ部3の抵
抗変化と、水位センサ20の遮断検出と、ザーマルスイ
ツヂ30の発動とを用いているので、空焚きを周到に防
止することができる。(Effects of the Example) In this example, in order to prevent dry heating, the resistance change of the heater unit 3, the cut-off detection of the water level sensor 20, and the activation of the thermal switch 30 are used, so that dry heating is carefully prevented. It can be prevented.
[発明の効果]
以上説明したように本発明のコンタクトレンズ洗浄装置
では、ヒータ部3の抵抗変化により空焚0
きを防止しているので、装置構成の複雑化及び装置の大
型化及び重量増加を要することがなく、実用上鏝れた利
点を有する。[Effects of the Invention] As explained above, in the contact lens cleaning device of the present invention, dry heating is prevented by changing the resistance of the heater section 3, so that the device configuration becomes complicated and the device becomes larger and heavier. It has great practical advantages.
第1図はこの洗浄装置の基本構成を示す概念図、第2図
はこの洗浄装置の外形斜視図を示し、第3図はこの洗浄
装置の正面断面図を示し、第4図はこの洗浄装置の平面
図を示し、第5図はこの洗浄装置の回動蓋300、給水
タンク8及び操作パネル部102を省略した平面図を示
す。第6図はレンズケース400のケース本体60の平
面図、第7図はレンズケース400の蓋70の平面図、
第8図はレンズケース400の断面図、第9図は本発明
のクレーム対応図、第10図は制御部7のブロック図、
第11図〜第16図はこの装置の各動作を示すザブルー
チンのフローチャート、第17図はこの装置の工程図、
第18図はこの装置のメインルーチンを示すフローチャ
ー1〜、第19図は洗浄づすぎ煮沸工程を示すタイミン
グチャートである。第20図はこの洗浄装置の水位セン
サ101
近傍の拡大断面図、第21図はこの洗浄装置のヒタ部3
近傍の拡大断面図、第22図は水平連通路1Sの断面図
、第23図は空焚き防止ルーチンを示すフローチャート
である。
図中、1は洗浄室、2は撹拌部、3はヒータ部、4は給
水バルブ(給液部〉、5は排水バルブ(排液部)、6は
大気開放バルブ、7は制御部(空焚き判定部、空焚き禁
止部)、8は給水タンク、9は排水タンク、10はカバ
ースイッチ、20は水位センサ(液位センサ〉、100
はボディ(基体〉、102は操作パネル部(工程指定部
、レンズタイプ指定部〉、200はボディケース〈基体
〉、300は回動M(基体〉である。Fig. 1 is a conceptual diagram showing the basic configuration of this washing device, Fig. 2 is a perspective view of the external appearance of this washing device, Fig. 3 is a front sectional view of this washing device, and Fig. 4 is a conceptual diagram showing the basic configuration of this washing device. FIG. 5 shows a plan view of this cleaning device with the rotating lid 300, water tank 8, and operation panel section 102 omitted. FIG. 6 is a plan view of the case body 60 of the lens case 400, FIG. 7 is a plan view of the lid 70 of the lens case 400,
FIG. 8 is a sectional view of the lens case 400, FIG. 9 is a diagram corresponding to the claims of the present invention, and FIG. 10 is a block diagram of the control unit 7.
11 to 16 are flowcharts of subroutines showing each operation of this device, and FIG. 17 is a process diagram of this device.
FIG. 18 is a flowchart 1 to 1 showing the main routine of this apparatus, and FIG. 19 is a timing chart showing the washing and boiling steps. FIG. 20 is an enlarged cross-sectional view of the vicinity of the water level sensor 101 of this cleaning device, and FIG. 21 is an enlarged sectional view of the vicinity of the water level sensor 101 of this cleaning device.
FIG. 22 is an enlarged cross-sectional view of the vicinity, FIG. 22 is a cross-sectional view of the horizontal communication path 1S, and FIG. 23 is a flowchart showing the dry firing prevention routine. In the figure, 1 is the cleaning chamber, 2 is the stirring section, 3 is the heater section, 4 is the water supply valve (liquid supply section), 5 is the drain valve (drainage section), 6 is the atmosphere release valve, and 7 is the control section (air supply section). 8 is a water supply tank, 9 is a drainage tank, 10 is a cover switch, 20 is a water level sensor (liquid level sensor), 100
102 is an operation panel section (process designation section, lens type designation section), 200 is a body case (base body), and 300 is a rotation M (base body).
Claims (1)
室内に洗浄及びすすぎ用の旋回液流を形成する撹拌部と
、前記洗浄室内に設けられ前記洗浄室内の液を煮沸する
電熱線型式のヒータ部と、前記洗浄室内の給排液を行な
う給液部及び排液部と、前記撹拌部、ヒータ部、給液部
及び排液部に指令して洗浄工程、すすぎ工程、煮沸工程
を実施させる制御部と、前記各部が配設される基体とを
備え、前記制御部は、前記ヒータ部の抵抗値変化により
空焚きを検出する空焚き判定部と、空焚き検出時にヒー
タ電流を遮断する空焚き禁止部とを備えることを特徴と
するコンタクトレンズ洗浄装置。(1) A cleaning chamber that stores contact lenses, a stirring unit that forms a swirling liquid flow for cleaning and rinsing in the cleaning chamber, and a heating wire type heater that is installed in the cleaning chamber and boils the liquid in the cleaning chamber. , a liquid supply section and a liquid drain section that supply and drain liquid in the cleaning chamber, and the agitation section, heater section, liquid supply section, and liquid drain section to carry out a cleaning process, a rinsing process, and a boiling process. The control unit includes a control unit and a base body on which the respective parts are arranged, and the control unit includes a dry-firing determination unit that detects dry firing based on a change in resistance value of the heater unit, and a dry-firing determination unit that cuts off heater current when dry heating is detected. A contact lens cleaning device characterized by comprising a burn prohibition section.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2087136A JPH03287117A (en) | 1990-03-31 | 1990-03-31 | Contact lens cleaning device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2087136A JPH03287117A (en) | 1990-03-31 | 1990-03-31 | Contact lens cleaning device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03287117A true JPH03287117A (en) | 1991-12-17 |
Family
ID=13906553
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2087136A Pending JPH03287117A (en) | 1990-03-31 | 1990-03-31 | Contact lens cleaning device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03287117A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5616184A (en) * | 1993-03-29 | 1997-04-01 | Johnson & Johnson Vision Products, Inc. | Solution removal nozzle |
JP2019524113A (en) * | 2016-07-25 | 2019-09-05 | フィリップ・モーリス・プロダクツ・ソシエテ・アノニム | Heater management |
-
1990
- 1990-03-31 JP JP2087136A patent/JPH03287117A/en active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5616184A (en) * | 1993-03-29 | 1997-04-01 | Johnson & Johnson Vision Products, Inc. | Solution removal nozzle |
JP2019524113A (en) * | 2016-07-25 | 2019-09-05 | フィリップ・モーリス・プロダクツ・ソシエテ・アノニム | Heater management |
US11950327B2 (en) | 2016-07-25 | 2024-04-02 | Altria Client Services Llc | Heater management based on heater resistance |
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