JPH03283478A - 紫外線パルスレーザー装置 - Google Patents

紫外線パルスレーザー装置

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JPH03283478A
JPH03283478A JP8120590A JP8120590A JPH03283478A JP H03283478 A JPH03283478 A JP H03283478A JP 8120590 A JP8120590 A JP 8120590A JP 8120590 A JP8120590 A JP 8120590A JP H03283478 A JPH03283478 A JP H03283478A
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JP
Japan
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electrode
nozzle
laser medium
gas
laser
Prior art date
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Pending
Application number
JP8120590A
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English (en)
Inventor
Etsuo Noda
悦夫 野田
Setsuo Suzuki
鈴木 節雄
Tomoko Ogawa
朋子 小川
Osamu Morimiya
森宮 脩
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、レーザー媒質ガスをパルス放電により励起し
、共振器を用いて紫外線レーザー発振を行う紫外線パル
スレーザ−装置に関する。
(従来の技術) 紫外線波長の領域で発振するレーザーとしてエキシマレ
ーザ−が知られている。
最近までは、比較的簡単で小型の放電励起による短波長
の発振は、193nm(ArF)までであった。これ以
下の波長でのエキシマレーザ−の発振は、例えば、12
6nm(Ar2) 、146ns(Krz ) 、17
2nm(Xe2)等は、電子線励起方式による発振があ
った。
ところが、電子線励起方式は、装置が非常に大掛かりで
、大規模な装置になってコストが高いので、産業用には
適していないという欠点があった。
そこで、最近Efithim1opoulos() o
ント大学)らが、0PTIC3LEATTERVol、
14.No、12.p824.1986で、放電励起に
より、初めて126ns(Ar2)の発振に成功した。
第5図には、Ef ithimiopoulosらが用
いた実験装置の概略が示されている。以下このjfi5
図に示される従来の紫外線レーザー発振装置について説
明する。
このレーザー発振装置は、図示しない排気真空排気装置
により排気されて真空状態とされた真空容器1と、供給
されたレーザー媒質ガスを真空容器内へ噴出するノズル
3と、このノズル内に配置されて陰極及び陽極のいずれ
か一方となる第1の電極5と、前記ノズル3の近傍に配
置されて陰極及び陽極のいずれか他方となる第2の電極
7と、前記第1の電極と第2の電極との間にパルス電圧
を印加するパルス電圧印加手段9と、ミラー11.13
からなる共振器15とで構成されている。
上記構成のレーザー発振装置では、例えば高圧のレーザ
ー媒質ガス(例えばArガス等)を図示しない高速電磁
バルブ等により真空容器内へパルス的に供給し、約1.
5cm離れた第1の電極と第2の電極との間に、レーザ
ー媒質ガスのパルス的供給に同期して、高電圧のパルス
電圧を印加する。ノズルから噴出したレーザー媒質ガス
中で放電が行われる。
この時、断熱膨脹によりガスを冷却すると同時に放電に
よりプラズマPを生成し、レーザー媒質ガスを励起して
エキシマを生成し、真空容器1内に配置された共振器1
5によりレーザー発振りを行う。この発振されたレーザ
ーでは繰り返しIH21出力約出力約2グ また発振領域はノズル先端から約2mmの位置で、直径
2mm,長さ3mmとノズル先端近傍に限られている。
また繰り返し速度は、真空容器1内のレーザー媒質ガス
の排気速度により制限されている。このため、上記従来
の紫外線パルスレーザ−発振装置では、出力も小さく、
繰り返しも小さい。
(発明が解決しようとする課題) このように、従来の紫外線パルスレーザ−装置は、出力
も小さく、繰り返しも小さいという欠点があった。
これを解決するためには、ノズル付近での効率的な放電
、レーザー媒質ガスの真空容器内からの排気効率が必要
である。
ところが、従来のようにノズル内に針状の第1の電極を
設置した構成では、パルス電圧の印加時に第1の電極全
体で放電が生じ、ノズル内の第1の電極の表面も放電が
生じている。このため、ノズル内での第1電極の表面の
放電により、ノズル先端部での効率的なレーザー媒質ガ
スの励起が出来ないという問題があった。
さらに、第1電極の端部以外の部分での放電はレーザー
媒質ガスの発振に寄与することがなく、無駄な放電が起
こっていた。このため、レーザー媒質ガスの無駄な温度
上昇が生じて、断熱膨脹による。ガス冷却の効果を低下
させることになり、レーザーの発振効率を低下させてい
た。またノズルから噴出するガスの流れが、ノズル近傍
に配置された第2の電極により、乱されるためレーザー
媒質ガスが速やかに真空容器内から排出されにくくなっ
ていた。このため発振効率が低かった。
本発明は上記事実を考慮し、高効率で、高繰り返しの紫
外線パルスレーザ−装置を提供することが目的である。
[発明の構成] (課題を解決するための手段) 上記目的を達成するため請求項(1)の発明では、第1
の電極の先端を露出させた状態で絶縁体で被覆したこと
を特徴としている。
また、請求項(2)の発明では、陰極及び陽極のいずれ
か他方の第2の電極の長手方向に対して直角に切断した
断面形状を流線形としたことを特徴としている。
さらに、請求項(3)の発明では、レーザー媒質が希ガ
ス及びハロゲンガス及びこれらの混合ガスであることを
特徴としている。
(作用) 請求項(1)の発明によれば、第1の電極の先端部を露
出させた状態で、絶縁体で被覆したので、放電時の放電
が先端部に集中し、ノズル先端付近での電流密度が大き
くなる。さらに、レーザー媒質ガスの励起がノズル付近
でのみ起きるので、励起効率が高くなると共に無駄なレ
ーザー媒質ガスの温度上昇を防止することが出来、発振
効率が向上する。
第2の電極を流線形とすることにより、ノズルから噴出
したレーザー媒質ガスの流れに乱れが生じることがなく
、速やかに真空容器内から排出される。従って、繰り返
しが大きく取れる。
さらに、レーザー媒質ガスを希ガス及びハロゲンガス及
びこれらの混合ガスとすることにより。
発振効率を向上することが出来る。
(実施例) 次に第1図乃至第4図を用いて本発明に係る紫外線パル
スレーザ−装置の実施例について説明する。第1図は紫
外線パルスレーザ−装置17の構成を示す断面図である
第1図に示されるように、真空容器1は排気装置19と
連通されており、この排気装置19により内部の気体が
外部へ排出されて、内部が真空状態とされている。さら
に真空容器1には、発振したレーザーLが容器内へ放出
されるレーザー発振口1aが形成されている。
真空容器1内には、円筒状のノズル3の端部が配置され
ている。このノズル3の端部の先端は鋭角に形成されて
おり、噴出口3aが形成されている。またノズル3は高
速電磁バルブ21を介してレーザー媒質ガスタンク23
と連通されている。
この高速電磁バルブ21の高速な開閉によりレーザー媒
質ガスがノズル3内へパルス的に供給され、噴出口3a
から真空容器1内へ噴出される。
ノズル3の内部には、丸棒状の陰極である第1の電極2
5が、ノズル3の軸中心方向に沿って配置されている。
また第1の電極25の先端部は、ノズル3の噴出口3a
から若干ノズル3内部に退避している。従って、ノズル
3内へ供給されたレーザー媒質ガスは第1の電極の外周
とノズル3の内壁との間に形成される環状の空間33を
通過して、噴出口3aから真空容器1内へ噴出される。
また、ノズル3の噴出口3aの近傍(第1図では噴出口
3aか所定の距離だけ離間して、陽極である第2の電極
27が配置されている。これらの第1の電極と第2の電
極はパルス電圧印加手段であるパルス電源29と接続さ
れている。このパルス電源29の動作タイミングは高速
電磁バルブ21の作動と同期されており、ノズル3内へ
のレーザー媒質ガスの供給時に第1の電極と第2の電極
27との間にパルス放電を生じさせる。
第2図に示されるように、第1の電極25は噴出口3a
側の先端部が、ノズル3の内部で露出された状態で絶縁
体31で被覆されている。このためパルス電源29によ
るパルス電圧印加時に、絶縁体31で被覆されている部
分の表面からの放電が防止される。
第3図に示されるように、第2の電極27は、長手方向
に対して直角に切断した断面形状が流線形に形成されて
おり、狭幅部27aが噴出口3aに対応した状態で配置
されている。これにより、噴出口3aから噴出されたレ
ーザー媒質ガスは第2図矢印で示されるように第2の電
極の表面を滑らかに流れて、排気装置19により、真空
容器1の外部へ排出される。
次に本実施例の作用について説明する。
高速電磁バルブ21が高速で開閉して、ノズル3内へレ
ーザー媒質のガスが供給されるのと同期してパルス電源
29から第1の電極25、第2の電極27へ高パルス電
圧が印加される。
ノズル3内を第1の電極25に沿って流れたレーザー媒
質ガスは噴出口3aがら真空容器1内へ噴出される。こ
の噴出されたレーザー媒質ガスは第1の電極25と第2
の電極27との間でパルス放電する。このパルス放電に
より、レーザー媒質ガスは励起されてプラズマPが生成
されて、エキシマが生成され、ミラー11.13により
発振する。
レーザーが発振した後のレーザー媒質ガスは排気装置1
9により真空容器1内から速やかに排出される。
また噴出口3aから噴出されたレーザー媒質ガスは、第
2の電極27が断面形状が流線形に形成されているので
、この第2の電極27の表面を滑らかに流れて、乱れが
生じることがなく、レーザー媒質ガスは速やかに排出装
置19により真空容器1内から排出される。従って、排
気装置19の能力が同じ場合に比べて従来より繰り返し
が大きくとれる。
またノズル3内の第1の電極25の表面は、先端部が露
出された状態で絶縁体31で被覆されているので、ノズ
ル3内の表面では放電が生じない。
これにより、励起効率が向上すると共に、無駄なガスの
温度上昇を防止することが出来、断熱膨脹によるガス冷
却の効果がより大きくなり、発振効率が高くなる。
次に第4図を用いて他の実施例について説明する。
この実施例は、第1の電極37の噴出口3a側の先端部
と、絶縁体35により被覆されている部分の形状が異な
っている。すなわち、被覆されている部分が露出されて
いる部分と比較して細く形成されており、絶縁体により
被覆されて、全体として外形が一定となるようにしてい
る。
従って、本実施例によれば、ノズル3内を流れれるレー
ザー媒体ガスは滑らかに流れて、噴出口3aから均一な
流れとなって噴出される。
また、上記各実施例で使用されるレーザー媒体ガスはH
e5Ne、Ar、Kr5Xeの希ガスあるいは、これら
のうちの2種類以上の混合ガス、または一種類以上の希
ガスとハロゲンガスとの混合ガス等を利用することが出
来る。
特に、193nsよりも短い波長のレーザー媒質ガスと
しては、N e 2 (78nw)、A r 2 (1
28nm) 、Kr 2 (148ni) 、X e 
2 (172no+) 、F 2 (157nm)、A
 r C1(175n■)等が使用されている。
このように上記各実施例では、第1電極の先端部を除い
て他の部分を絶縁体で被覆したので、放電が第1の電極
の先端部に集中し、ノズル3付近での電流密度が大きく
なる。さらに、レーザー媒体ガスの励起がノズル3付近
のみで起きるので、励起効率が高くなるとともに、無駄
なレーザー媒質ガスの温度上昇を防止することが出来、
発振効率が高くなる。
また第2の電極27を流線形にすることにより、ノズル
3の噴出口3aから噴出したレーザー媒質ガスの流れが
、第2の電極27により乱されにくいので、レーザー媒
質ガスが速やかに排気装置19により、真空容器内から
排出され、繰り返しが大きくとれる。
なお、上記各実施例では、真空容器内に1個のノズルを
配置した例を示したがこれに限らず2個以上配置しても
良い。
また、上記実施例では、第2図に示される第1の電極に
対して第3図に示される第2の電極の例を示したがこれ
に限らず第4図に示される第1電極に対して第3図の第
2の電極を配置しても良い。
また上記各実施例では、第1の電極を陰極とし、第2の
電極を陽極としたがこれに限らず、第1の電極を陽極と
し、第2の電極を陰極としても良い。
また本実施例では、共振器15によりレーザー光りを発
振したが、他の手段で発振させても良い。
[発明の効果] 以上説明したように請求(1)乃至請求項(3)の発明
によれば、ノズル先端付近での効率的な放電と、ガスの
排気効率の上昇が達成され、高効率、高繰り返しの紫外
線パルスレーザ−装置を提供することが出来るという優
れた効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る紫外線パルスレーザ−装置の実施
例を示す断面図、第2図はノズル先端部分を拡大した断
面図、第3図は第2の電極を示す斜視図、第4図は他の
実施例のノズルを示す断面図、第5図は従来の紫外線パ
ルスレーザ−装置の概略構成を示す断面図である。 17・・・紫外線パルスレーザ−装置 9・・・排気装置 5.37・・・第1の電極 7・・・第2の電極 9・・・パルス電源 1.35・・・絶縁体 代IUy弁七三好秀和 第1 図 第2図 第3図 第4 図 第5図

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)内部が排気装置で真空状態とされた真空容器と、
    レーザー媒質ガスを真空容器内へ噴出するノズルと、こ
    のノズル内に配置されて陰極及び陽極のいずれか一方と
    なる第1の電極と、前記ノズルの近傍に配置されて陰極
    及び陽極のいずれか他方となる第2の電極と、前記第1
    の電極と第2の電極とに間にパルス電圧を印加するパル
    ス電圧印加手段と、励起されたレーザー媒質ガスからレ
    ーザーを発振させる共振器と、を備えてノズルへの前記
    レーザー媒質ガスの供給に同期して高電圧のパルス電圧
    を印加し、ノズルから噴出したレーザー媒質ガス中でパ
    ルス放電を行うことによりレーザー媒質ガスを励起して
    レーザー発振を行う紫外線パルスレーザー装置において
    、 前記第1の電極の先端を露出させた状態で絶縁体で被覆
    したことを特徴とする紫外線パルスレーザー装置。
  2. (2)前記陰極及び陽極のいずれか他方の第2の電極の
    長手方向に対して直角方向に切断した断面形状を流線形
    としたことを特徴とする請求項(1)記載の紫外線パル
    スレーザー装置。
  3. (3)前記レーザー媒質が希ガスまたはハロゲンガス及
    びこれらの混合ガスであることを特徴とする請求項(1
    )記載の紫外線パルスレーザー装置。
JP8120590A 1990-03-30 1990-03-30 紫外線パルスレーザー装置 Pending JPH03283478A (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108346492A (zh) * 2017-01-23 2018-07-31 布鲁克Eas有限公司 用于制造用于超导线材的半成品的方法
CN108701954A (zh) * 2016-02-16 2018-10-23 西默有限公司 气体放电光源中的气体优化

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108701954A (zh) * 2016-02-16 2018-10-23 西默有限公司 气体放电光源中的气体优化
CN108701954B (zh) * 2016-02-16 2020-04-17 西默有限公司 气体放电光源中的气体优化
CN108346492A (zh) * 2017-01-23 2018-07-31 布鲁克Eas有限公司 用于制造用于超导线材的半成品的方法
US10622537B2 (en) 2017-01-23 2020-04-14 Bruker Eas Gmbh Method for producing a semifinished product for a superconducting wire

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