JPH0327895B2 - - Google Patents

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JPH0327895B2
JPH0327895B2 JP59237202A JP23720284A JPH0327895B2 JP H0327895 B2 JPH0327895 B2 JP H0327895B2 JP 59237202 A JP59237202 A JP 59237202A JP 23720284 A JP23720284 A JP 23720284A JP H0327895 B2 JPH0327895 B2 JP H0327895B2
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JP
Japan
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film
base
pattern
printing plate
transparent
Prior art date
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JP59237202A
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Japanese (ja)
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JPS61172148A (en
Inventor
Seiichi Uchida
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Asahi Kasei Corp
Original Assignee
Asahi Kasei Kogyo KK
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Application filed by Asahi Kasei Kogyo KK filed Critical Asahi Kasei Kogyo KK
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Publication of JPH0327895B2 publication Critical patent/JPH0327895B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2022Multi-step exposure, e.g. hybrid; backside exposure; blanket exposure, e.g. for image reversal; edge exposure, e.g. for edge bead removal; corrective exposure

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は光等のエネルギー線の照射により硬化
する樹脂液を用いて刷版を製作する方法に関す
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a method of manufacturing a printing plate using a resin liquid that is cured by irradiation with energy rays such as light.

(従来の技術) 近時、段ボール紙や新聞の印刷に際し、保存状
態では液状だが紫外線照射を受けると硬化する性
質を有するウレタン系光硬化性液体樹脂(商品
名:APR、製造元:旭化成工業株式会社)を使
用した刷版が使用されている。
(Conventional technology) Recently, when printing corrugated paperboard and newspapers, urethane-based photocurable liquid resin (product name: APR, manufacturer: Asahi Kasei Corporation), which is liquid in storage but hardens when exposed to ultraviolet irradiation, has been used recently. ) is used.

斯種刷版の製作は第7図乃至第11図に示す工
程を経て行なわれている。
The production of this type of printing plate is carried out through the steps shown in FIGS. 7 to 11.

一例として第6図に示す如く、「AB」の標章
をダンボール紙に印刷するために用いる刷版1
(標章は刷版表面では裏返し標章9となつて表わ
れる)を製造する従来の方法を説明する。
As an example, as shown in Figure 6, printing plate 1 used to print the mark "AB" on cardboard paper
(The mark appears as the reverse mark 9 on the surface of the printing plate.) A conventional method for manufacturing the mark will be explained.

第7図は刷版1の製作に用いるネガフイルム3
とマスキングフイルム4を示しており、ネガフイ
ルム3上に前記標章9に対応する透光性パターン
31が形成され、該パターン以外の斜線で示す部
分は完全遮光面となつている。
Figure 7 shows negative film 3 used for producing printing plate 1.
A masking film 4 is shown in which a light-transmitting pattern 31 corresponding to the mark 9 is formed on the negative film 3, and the shaded area other than the pattern is a completely light-shielding surface.

マスキングフイルム4はネガフイルム3上の上
記透光性パターン31に対応して該パターン31
よりも稍大きな輪郭の透光性パターン41を有
し、その他の斜線で示す部分は完全遮光面となつ
ている。
The masking film 4 has patterns 31 corresponding to the translucent patterns 31 on the negative film 3.
It has a translucent pattern 41 with a slightly larger outline, and the other shaded areas are completely light-shielding surfaces.

a工程 第8図に示す如く透明台板5上にネガフ
イルム3を置き、該ネガフイルム3の上に樹
脂に対し剥離可能な保護用の透明フイルム6
を被せる。
Step a As shown in FIG. 8, a negative film 3 is placed on a transparent base plate 5, and a protective transparent film 6 that can be peeled off from the resin is placed on the negative film 3.
cover.

b工程 透明フイルム6の外周部に液体樹脂に対
して堰となる様に枠体7を配設して、ネガフ
イルム3の全部の透光性パターン31を取り
囲み、枠体7によつて囲まれた内側の透明フ
イルム6上へ光硬化性液体樹脂を満して光硬
化性液体樹脂層2を形成する(第8図)。
Step b: A frame 7 is provided on the outer periphery of the transparent film 6 so as to act as a dam against the liquid resin, and the entire transparent pattern 31 of the negative film 3 is surrounded by the frame 7. The inner transparent film 6 is filled with a photocurable liquid resin to form a photocurable liquid resin layer 2 (FIG. 8).

c工程 光硬化性液体樹脂層2の液面に透明ベー
スフイルム11を載せ、該ベースフイルム1
1上にマスキングフイルム4を被せる(第8
図)。
Step c: Place the transparent base film 11 on the liquid surface of the photocurable liquid resin layer 2, and
Cover masking film 4 on 1 (8th
figure).

d工程 第9図の如くマスキングフイルム4及び
透明台板5の外側から紫外線ランプ51,5
1を照射して液体樹脂層を露光する。マスキ
ングフイルム4及びネガフイルム3の夫々パ
ターン31,41の対応して露光部分は硬化
を始め、末露光部分は液体の侭で残り、ネガ
フイルム3側の樹脂硬化部は前記標章9に一
致するレリーフ部21となり、マスキングフ
イルム4側の樹脂硬化部は該レリーフ部21
に太く繋がつて補強となるマウント部22と
なる。
Step d: As shown in FIG. 9, the ultraviolet lamps 51 and 5 are
1 to expose the liquid resin layer. The exposed portions of the masking film 4 and negative film 3 corresponding to the patterns 31 and 41 begin to harden, and the exposed portions at the end remain as liquid, and the cured resin portion on the negative film 3 side corresponds to the mark 9. The cured resin part on the side of the masking film 4 becomes the relief part 21.
The mount portion 22 is thickly connected to the mount portion 22 and serves as reinforcement.

e工程 マスキングフイルム4を外して第10図
の如くベースフイルム11の外側から再び短
時間露光し、樹脂液層の上面全体を薄く硬化
させベースフイルム11と一体に接合したベ
ース部23を形成する。
Step e: The masking film 4 is removed and the base film 11 is exposed again for a short time from the outside as shown in FIG. 10 to thinly harden the entire upper surface of the resin liquid layer and form the base portion 23 integrally joined to the base film 11.

f工程 枠体7及び透明フイルム6を外し、未硬
化の樹脂液を回収する。
Step f: Remove the frame 7 and the transparent film 6, and collect the uncured resin liquid.

第11図に示す如く、レリーフ部21がマ
ウント部22によつて補強され、マウント部
22がベースフイルム11のほぼ全面を覆う
ベース部23に繋がつた刷版1が形成され
る。
As shown in FIG. 11, the printing plate 1 is formed in which the relief part 21 is reinforced by the mount part 22, and the mount part 22 is connected to the base part 23 which covers almost the entire surface of the base film 11.

上記刷版1はベースフイルム11が樹脂の
接着力によつてベース部23に接合して一様
に覆つた2層構造になつている。これをレリ
ーフ部21、マウント部22、合マーク12
を含めて適当な大きさに裁断し、第6図の如
く印刷機用透明マウントフイルム8上へ位置
決めして固定し、印刷機の回転胴へ着脱可能
に取り付けるものである。
The printing plate 1 has a two-layer structure in which a base film 11 is bonded to a base part 23 by the adhesive force of resin and uniformly covers the base film 11. These are the relief part 21, the mount part 22, and the alignment mark 12.
The sheet is cut to an appropriate size, and as shown in FIG. 6, it is positioned and fixed on a transparent mount film 8 for a printing press, and is removably attached to the rotating cylinder of the printing press.

(本発明が解決しようとする問題点) 光硬化性液体樹脂は高価なため、使用量を極力
節約することが要求される。
(Problems to be Solved by the Present Invention) Since photocurable liquid resins are expensive, it is required to use them as sparingly as possible.

ところが従来の手順によつて製作された刷版1
はベースフイルム11の全面にベース部23が形
成されるため必然的に光硬化性液体樹脂の使用量
が増え、該方法の実施コストが嵩む問題があつ
た。
However, printing plate 1 produced using the conventional procedure
Since the base portion 23 is formed on the entire surface of the base film 11, the amount of photocurable liquid resin used inevitably increases, resulting in a problem that the implementation cost of the method increases.

又、刷版1をマウントフイルム8上へ正しく位
置決めするには合マーク12の形成は不可欠であ
る。そこで従来は、第7図に示す如くネガフイル
ム3に合マーク12に対応する透光性パターン3
2を形成し、マスキングフイルム4に合マークの
マウント部を形成するための透光性パターン42
aを形成し、前記レリーフ部21と同時に合マー
ク12を形成したが、そのため必然的に合マーク
12はレリーフ部21と同じ高さに形成された。
Further, in order to correctly position the printing plate 1 on the mounting film 8, the formation of the alignment mark 12 is essential. Therefore, conventionally, as shown in FIG.
2 and a translucent pattern 42 for forming a mounting part of the matching mark on the masking film 4.
A was formed, and the matching mark 12 was formed at the same time as the relief part 21, but as a result, the matching mark 12 was inevitably formed at the same height as the relief part 21.

従つて刷版1をマウントフイルム8に取付けた
後、合マーク12に印刷インキが付着することを
防ぐため合マーク12を削つてレリーフ部21よ
りも低めねばならない。
Therefore, after the printing plate 1 is attached to the mounting film 8, the alignment mark 12 must be scraped to be lower than the relief portion 21 in order to prevent printing ink from adhering to the alignment mark 12.

上記作業は手間が掛かり、然も刷版のレリーフ
部21が複雑であると、合マーク12を見落して
削り残してしまう。或は誤つてレリーフ部を削り
落してしまう等の問題が発生した。
The above operation is time-consuming, and if the relief portion 21 of the printing plate is complicated, the match mark 12 may be overlooked and left unscraped. Alternatively, problems such as the relief portion being scraped off by mistake occurred.

又第6図に示す如く上記刷版をマウントフイル
ム上へ位置決めした後、取り付ける手段として、
従来は刷版を押えながら周囲に粘着テープ13を
接着し、刷版のベース部とマウントフイルムとを
止めるか、或は刷版の裏面に予め両面接着テープ
を貼り、これをマウントフイルム上へ置いて押
え、接着した。
Further, as shown in FIG. 6, after positioning the printing plate on the mounting film, as a means for attaching it,
Conventionally, adhesive tape 13 is adhered around the printing plate while holding it down, thereby fixing the base of the printing plate and the mounting film, or double-sided adhesive tape is pasted on the back of the printing plate in advance and this is placed on the mounting film. I pressed it down and glued it.

しかし何れの方法も、万一接着テープの接着力
が弱つていると高速印刷の際に刷版に作用する遠
心力によつて刷版がマウントフイルムから剥れる
危険があり、又印刷後に刷版表面を洗浄してイン
キを落し、刷版をマウントフイルムに取り付けた
侭で保管する際、洗浄水が刷版とマウントフイル
ムの間の隙間へ侵入して残り、これが次の印刷の
際に流出し、印刷面を汚す虞れがあつた。マウン
トフイルムと刷版とを高周波ウエルダーによつて
一体結合させて取り付けることも試みられたが、
マウントフイルムは材質はポリエステルであり、
刷版は表面をウレタン系樹脂のベース部が一様に
覆つているため、高周波ウエルダーは実施出来な
かつた。
However, with either method, if the adhesive strength of the adhesive tape is weakened, there is a risk that the printing plate will peel off from the mounting film due to the centrifugal force that acts on the printing plate during high-speed printing. When the surface is cleaned to remove ink and the plate is stored with the plate attached to the mounting film, the cleaning water enters the gap between the plate and the mounting film and remains, which may flow out during the next printing. , there was a risk of staining the printed surface. Attempts were also made to attach the mounting film and printing plate by integrally bonding them together using a high-frequency welder, but
The material of the mounting film is polyester.
Since the surface of the printing plate is uniformly covered with a base portion of urethane resin, high frequency welding could not be performed.

(問題を解決するための手段) 本発明は特別の工夫を施したマスキングフイル
ムを使用して前記問題解決を画ろうとするもので
ある。
(Means for Solving the Problems) The present invention attempts to solve the above problems by using a specially designed masking film.

従来の前記a工程及びb工程を行なつた後、c
工程の実施に際し、本発明の特徴とするマスキン
グフイルム4を使用し、エネルギー線を照射す
る。
After performing the conventional steps a and b, c
When carrying out the process, the masking film 4, which is a feature of the present invention, is used and energy rays are irradiated.

該マスキングフイルム4はネガフイルムのパタ
ーンに合わせて稍大きい輪郭のエネルギー線透過
性主パターン44、該主パターンの外側に該パタ
ーンよりも更に大きい輪郭のエネルギー線半透過
性ベース部用パターン46及び該ベース部用パタ
ーン45の外側部分は樹脂液を硬化させない程度
にエネルギー線に対する遮断効果を有している。
The masking film 4 has an energy ray transmissive main pattern 44 having a slightly larger outline to match the pattern of the negative film, an energy ray semitransparent base part pattern 46 having an even larger outline than the main pattern, and The outer portion of the base pattern 45 has a shielding effect against energy rays to the extent that the resin liquid is not hardened.

(作用及び効果) マスキングフイルム4の透過性主パターン44
に対応してマウント部22が形成される。半透過
性ベース部用パターン45に対応して前記マウン
ト部22の周囲に薄く延びるベース部23が形成
される。
(Operation and Effect) Transparent main pattern 44 of masking film 4
A mount portion 22 is formed correspondingly. A thinly extending base portion 23 is formed around the mount portion 22 in correspondence with the semi-transparent base portion pattern 45 .

ベース部用パターンの更に外側ではエネルギー
線の通過は遮断され又は微量であつて、その部分
に対応する液体樹脂層は硬化せず、ベース部は形
成されない。
Further outside the pattern for the base part, the passage of energy rays is blocked or only a small amount passes, and the liquid resin layer corresponding to that part is not cured, so that the base part is not formed.

他方、ネガフイルムパターンに対応して樹脂層
が硬化し前記マウント部に一体に繋がるレリーフ
部が形成される。
On the other hand, the resin layer is cured in accordance with the negative film pattern to form a relief portion that is integrally connected to the mount portion.

マウント部の周囲から延びたマウント部よりも
広い面積のベース部が従前と同様ベースフイルム
に接合するため、ベースフイルムとの接着安定性
が向上する。
Since the base portion, which extends from the periphery of the mount portion and has a wider area than the mount portion, is bonded to the base film as before, the stability of adhesion to the base film is improved.

エネルギー線照射後、未硬化の液体樹脂をベー
スフイルムから除去して回収するとそれは再使用
可能である。本発明に於てはマスキングフイルム
ベース部用パターンの外側部分に対応する部分の
液体樹脂はエネルギー線の照射を受けず、全部除
去されてベースフイルムが露出した侭となるから
回収樹脂量は増え、樹脂の消費は節約される。レ
リーフ部は、それよりも輪郭の稍大なるマウント
部22に支持されているため、細線、点等のイン
キ付着面積の小さいレリーフ部を形成しても問題
は生じず、又、印刷の際にレリーフ部の捩れ或は
欠けによつて印刷不良を生じることは防止でき
る。
After irradiation with energy beams, the uncured liquid resin is removed from the base film and recovered so that it can be reused. In the present invention, the liquid resin in the part corresponding to the outer part of the masking film base pattern is not irradiated with energy rays and is completely removed, leaving the base film exposed, so the amount of recovered resin increases. Resin consumption is saved. Since the relief part is supported by the mount part 22 which has a slightly larger outline than the mount part 22, there is no problem even if a relief part with a small ink adhesion area such as a thin line or dot is formed. Printing defects caused by twisting or chipping of the relief portion can be prevented.

マスキングフイルムを被せて一度エネルギー線
を照射させるだけで、マウント部とベース部を同
時に形成出来、従来の様にマスキングフイルムを
被せて一度露光させ、次いでマスキングフイルム
を外して再び露光させ、マウント部とベース部を
別工程で形成する方法に較べて、製作工程が簡素
化され、製版の能率化が画れる。
The mount part and the base part can be formed at the same time by simply covering the masking film and irradiating the energy beam once.As with conventional methods, the mount part and the base part can be formed by covering the masking film and exposing it once, then removing the masking film and exposing it again to form the mount part and base part. Compared to a method in which the base portion is formed in a separate process, the manufacturing process is simplified and the efficiency of plate making can be improved.

更にマスキングフイルムの半透過性パターンの
一部を合マークに合わせてエネルギー線通過部と
することにより、エネルギー線は半遮断フイルム
の存在によつてエネルギー線の一部のみが樹脂層
に達し、ベースフイルム上にマウント部よりも低
く、ベース部と同じ高さに合マークを形成するこ
とが出来る。
Furthermore, by aligning a part of the semi-transparent pattern of the masking film with the alignment mark and making it the energy ray passage part, only a part of the energy ray reaches the resin layer due to the presence of the semi-blocking film, and the base A match mark can be formed on the film at a level lower than the mount section and at the same height as the base section.

又刷版はベース部の周囲にはベースフイルムが
露出した状態で完成するから、これをマウントフ
イルムに位置決めして置き、周囲を高周波ウエル
ダーによつて溶着すれば、マウントフイルム及び
刷版のベースフイルムの両者共が同じ材質のポリ
エステルであれば、容易に溶着し一体結合し、し
かも溶着線が刷版の外周に沿つて一周して形成出
来るから、従来の如く刷版とマウントフイルムと
の間へ洗浄水が侵入する問題も解決出来る。
In addition, since the printing plate is completed with the base film exposed around the base part, if this is positioned and placed on the mount film and the periphery is welded using a high frequency welder, the mount film and the base film of the printing plate are combined. If both are made of the same polyester material, they will be easily welded and bonded together, and the welding line can be formed around the outer periphery of the printing plate, so it can be easily attached between the printing plate and the mounting film as in the past. It also solves the problem of washing water entering.

(実施例) 実施例は前述の光硬化性樹脂を用いて刷版を作
るマスキングフイルムについて説明するが、これ
に限定されることはなく、紫外線以外のエネルギ
ー線例えば遠赤外線、放射線等によつて硬化する
樹脂を用いての刷版製作用マスキングフイルムに
も実施可能である。
(Example) The example describes a masking film for making a printing plate using the above-mentioned photocurable resin, but is not limited to this. It can also be applied to masking films for printing plate production using hardening resins.

刷 版 第2図は本発明のマスキングフイルムを用いて
製作した刷版1をその縁部を高周波溶着80によ
つてマウントフイルム8に取付けた状態を示して
いる。
Printing Plate FIG. 2 shows a state in which a printing plate 1 manufactured using the masking film of the present invention is attached at its edges to a mounting film 8 by high frequency welding 80.

刷版1は従来例で説明したものと同様に
「AB」の標章9をレリーフ部21,21によつ
て浮き出している。
The printing plate 1 has a mark 9 of "AB" embossed by relief portions 21, 21, similar to that described in the conventional example.

レリーフ部21はそれよりも少し輪郭の大きな
マウント部22上に形成され、マウント部22は
それを取り囲む広い面積のベース部23上に形成
されている。
The relief part 21 is formed on a mount part 22 having a slightly larger outline than the relief part 21, and the mount part 22 is formed on a base part 23 surrounding it and having a wide area.

ベース部23はポリエステル製のベースフイル
ム11上へ樹脂自身の接着力によつて、或は必要
によりベースフイルムに塗布した接着剤の接着力
によつて強く接着しており、第5図の如くレリー
フ部21、マウント部22及びベース部23は光
硬化性樹脂にて一体に形成される。段ボール紙用
の刷版の場合、ベース部23の厚みh1は約2.0mm、
マウント部22の厚みh2は約2.5mm、レリーフ部
21の厚みh3は約2mmに形成するのが好ましい。
The base portion 23 is strongly adhered to the polyester base film 11 by the adhesive force of the resin itself or by the adhesive force of an adhesive applied to the base film if necessary, so that a relief is formed as shown in FIG. The portion 21, the mount portion 22, and the base portion 23 are integrally formed of photocurable resin. In the case of a printing plate for corrugated paper, the thickness h 1 of the base portion 23 is approximately 2.0 mm.
It is preferable that the thickness h 2 of the mount portion 22 is approximately 2.5 mm, and the thickness h 3 of the relief portion 21 is approximately 2 mm.

刷版1は、ベース部23が形成されない部分に
はベースフイルム11がその侭露出しており、ベ
ースフイルムの露出部には、位置決め用の合マー
ク12がベース部22と同じ高さに形成されてい
る。
In the printing plate 1, the base film 11 is exposed on the side where the base part 23 is not formed, and a positioning mark 12 is formed at the same height as the base part 22 in the exposed part of the base film. ing.

刷版をマウントフイルム上へ固定するには、刷
版の合マークを利用してマウントフイルム上に位
置決めした後、公知の携帯用高周波ウエルダー機
によつて刷版のベースフイルム露出部をマウント
フイルムへ溶着し、一体化させて取り付ける。
To fix the printing plate onto the mount film, use the matching marks on the printing plate to position it on the mount film, and then use a known portable high-frequency welding machine to move the exposed part of the base film of the printing plate onto the mount film. Weld and install as one piece.

製作工程 次に上記刷版1の製作工程を説明する。Manufacturing process Next, the manufacturing process of the printing plate 1 will be explained.

第1図は刷版1の製作に用いるネガフイルム3
とマスキングフイルム4を示している。
Figure 1 shows negative film 3 used for making printing plate 1.
and masking film 4 are shown.

マスキングフイルム4は透明フイルム板42の
両面に各々半遮断フイルム43,45を接着剤に
て剥離可能に貼着したものである。
The masking film 4 has semi-blocking films 43 and 45 removably attached to both sides of a transparent film plate 42 using an adhesive.

両半遮断フイルム43,45は遮光率が異なり
一方の半遮断フイルム43のそれは80%、他方の
半遮断フイルム45のそれは90%である。従つて
両半遮断フイルム43,45を通過する光の量は
全照射量の2%であり、この程度の露光では光硬
化性樹脂は硬化しない。
The two half-blocking films 43 and 45 have different light-blocking rates; one half-blocking film 43 has a light blocking rate of 80%, and the other half-blocking film 45 has a light blocking rate of 90%. Therefore, the amount of light passing through both half-blocking films 43 and 45 is 2% of the total irradiation amount, and the photocurable resin will not be cured by this level of exposure.

ネガフイルム3は前記標章9に対応する透光性
パターン31の他は斜線で示す如く完全遮光面と
なつている。ここで注目すべき点はネガフイルム
3には刷版1の合マーク12に対応する透光部は
形成しておらず、後記するマスキングフイルムの
半遮断フイルムにだけ適位置に合マークに対応す
る透光部46aを形成したことである。
The negative film 3 has a completely light-shielding surface, as shown by diagonal lines, except for the translucent pattern 31 corresponding to the mark 9. What should be noted here is that the negative film 3 does not have a transparent part that corresponds to the match mark 12 on the printing plate 1, and only the half-blocking film of the masking film described later corresponds to the match mark at the appropriate position. This is because a transparent portion 46a is formed.

一方の半遮断フイルム43には前記ネガフイル
ム3の透光性パターン31に対応して該パターン
31よりも稍大きな輪郭に切り抜いて透光性主パ
ターン44が形成され、他方の半遮断フイルム4
5には前記半遮断フイルム43の透光性主パター
ン44よりも更に大きい輪郭に切り抜いてベース
部用パターン46が形成される。ネガフイルム3
全体から見れば、主パターン44の外側部分のベ
ース部用パターン46は遮光率80%の半遮断パタ
ーンとなる。
On one half-blocking film 43, a translucent main pattern 44 is formed by cutting out a slightly larger outline than the translucent pattern 31 of the negative film 3, and on the other semi-blocking film 4.
5, a base pattern 46 is formed by cutting out an outline larger than the translucent main pattern 44 of the semi-blocking film 43. negative film 3
When viewed as a whole, the base pattern 46 outside the main pattern 44 is a semi-blocking pattern with a light blocking rate of 80%.

ベース部用パターン46を形成した半遮断フイ
ルム43の適位置に合マークに対応する透光部4
6aが切り抜いて形成されている。
The transparent portion 4 corresponds to the alignment mark at the appropriate position of the semi-blocking film 43 on which the pattern 46 for the base portion is formed.
6a is formed by cutting out.

上記各透光性パターン44,46及び透光部4
6aは半遮断フイルム43,45に透明フイルム
板42に達する深さにナイフでパターン44,4
6に対応する切込み線を施し、切込み線の内側を
透明フイルム板42から剥ぎ取つて形成されてい
る。
Each of the above-mentioned translucent patterns 44 and 46 and the translucent part 4
6a, patterns 44, 4 are formed on the semi-blocking films 43, 45 with a knife to a depth that reaches the transparent film plate 42;
It is formed by making a score line corresponding to 6 and peeling off the inside of the score line from the transparent film plate 42.

尚、マスキングフイルム4は上記のものに限定
されず、例えば透明フイルム板42の上に一方の
半遮断フイルムを剥離可能に貼着し、該半遮断フ
イルムの上に重ねて他方の半遮断フイルムを剥離
可能に貼着したものでも可い。
Incidentally, the masking film 4 is not limited to the above-mentioned one, and for example, one half-blocking film is peelably attached to the transparent film plate 42, and the other half-blocking film is stacked on top of the half-blocking film. A removable adhesive may also be used.

第1工程 第3図に示す如く透明台板5上にネガ
フイルム3を置き、ネガフイルム3の上に透
明フイルム6を被せる。更に透明フイルム6
の外周部に略長方形の枠体7を置き、枠体7
内に光硬化性液体樹脂を流し込み、透明フイ
ルム6上に光硬化性液体樹脂層2を形成す
る。
First step: As shown in FIG. 3, a negative film 3 is placed on a transparent base plate 5, and a transparent film 6 is placed over the negative film 3. Furthermore, transparent film 6
A substantially rectangular frame 7 is placed on the outer periphery of the frame 7.
A photocurable liquid resin is poured into the transparent film 6 to form a photocurable liquid resin layer 2 on the transparent film 6.

第2工程 光硬化性液体樹脂層2の上面に透明ベ
ースフイルム11を載せ、該フイルム11の
上にマスキングフイルム4を被せる。透明ベ
ースフイルム11の下面には必要に応じて予
め光硬化性樹脂との接着性の良好な透明接着
剤(図示せず)を塗布しておく。
Second Step: A transparent base film 11 is placed on the upper surface of the photocurable liquid resin layer 2, and a masking film 4 is placed on top of the film 11. If necessary, a transparent adhesive (not shown) having good adhesion to the photocurable resin is applied to the lower surface of the transparent base film 11 in advance.

第3工程 第4図に示す如く透明台板5及びマス
キングフイルム4の外から光源51からの光
を当て、光硬化性樹脂を380〜400秒露光す
る。
Third step As shown in FIG. 4, light from a light source 51 is applied from outside the transparent base plate 5 and masking film 4, and the photocurable resin is exposed for 380 to 400 seconds.

露光によつて樹脂層の下部はネガフイルム
3の主パターン31に対応する部分が硬化し
てレリーフ部21となる。
By exposure, the lower part of the resin layer corresponding to the main pattern 31 of the negative film 3 is hardened and becomes a relief part 21.

他方、マスキングフイルム4側での液体樹
脂層2の硬化状態は、マスキングフイルム4
を構成する2層の半遮断フイルム43,45
に形成したパターン44,46の重なり部に
対応した部分は、樹脂層が厚く硬化して前記
レリーフ部21と一体に繋がつたマウント部
22となり、又一方の半遮断フイルム43に
掛つて弱めれた他方の半遮断フイルム45上
の透光性部分では、パターン46に対応して
樹脂層の上部が薄く硬化してマウント部22
と繋がつたベース部23となる。
On the other hand, the cured state of the liquid resin layer 2 on the side of the masking film 4 is
Two-layer semi-blocking films 43 and 45 that constitute
In the part corresponding to the overlapping part of the patterns 44 and 46 formed in the above, the resin layer hardens thickly and becomes the mount part 22 that is integrally connected to the relief part 21, and also hangs over one of the semi-blocking films 43 and weakens. In the light-transmitting part on the other semi-blocking film 45, the upper part of the resin layer is thinly hardened in correspondence with the pattern 46 to form the mount part 22.
The base part 23 is connected to the base part 23.

ベース部23は樹脂自体の接着性により、
又は予めベースフイルム11に塗布された接
着剤によつてベースフイルム11に強固に接
合される。尚、露光の順序は先ずマスキング
フイルム4側の露光を開始して露光所要時間
の約2/3が経過した時期にネガフイルム3側
からの露光を開始し、夫々露光の所要時間が
経過すれば露光を別々に停止する。
The base portion 23 is made of adhesive due to the adhesiveness of the resin itself.
Alternatively, it is firmly bonded to the base film 11 with an adhesive applied to the base film 11 in advance. The order of exposure is to first start exposing the masking film 4 side, and when about 2/3 of the required exposure time has passed, start exposing the negative film 3 side. Stop exposure separately.

上記の様にマスキングフイルム4側の露光
をネガフイルム3側からの露光よりも先行さ
せることにより、レリーフ部21の土台とな
るマウント部22、ベース部23がレリーフ
部21よりも先に形成され、レリーフ部21
が該マウント部22に安定して一体化形成さ
れる。
As described above, by exposing the masking film 4 side before the exposure from the negative film 3 side, the mount part 22 and base part 23, which serve as the base of the relief part 21, are formed before the relief part 21, Relief part 21
is stably formed integrally with the mount portion 22.

マスキングフイルム4側からの露光が終了
してからネガフイルム3側からの露光を開始
しても可いが、この場合、時間的にロスが生
じる。
Although exposure from the negative film 3 side may be started after the exposure from the masking film 4 side is completed, in this case, a time loss occurs.

尚、露光時間は形成すべき刷版の厚み、光
の強さによつて最適に決めれば可いのは勿論
である。
It goes without saying that the exposure time can be optimally determined depending on the thickness of the printing plate to be formed and the intensity of light.

両半遮断フイルムの遮光率を互いに異なら
しめた場合、遮光率の高いフイルムにてベー
ス部用パターンを形成すれば、ベース部の厚
みを大きく形成出来、遮光率の低いフイルム
にてベース部用パターンを形成すれば薄いベ
ース部を形成出来、刷版全体の厚みに合わせ
てベース部の厚みを選択できる。
When the shading rates of both half-blocking films are made to be different from each other, if the pattern for the base part is formed using a film with a high shading rate, the thickness of the base part can be made larger, and the pattern for the base part can be formed by using a film with a low shading rate. By forming this, a thin base part can be formed, and the thickness of the base part can be selected according to the thickness of the entire printing plate.

第4工程 マスキングフイルム4、枠体7、透明
フイルム6を取り外し、未硬化の液体樹脂を
回収し刷版1が完成する。
Fourth step: Masking film 4, frame 7, and transparent film 6 are removed, uncured liquid resin is collected, and printing plate 1 is completed.

尚、エネルギー線遮断率の異なる2枚の半遮断
フイルムをフイルム板に貼着してマスキングフイ
ルムを形成すれば、ベース部用パターンを何れの
半遮断フイルムに形成するかによつてベース部の
厚みを刷版全体の厚み等の条件によつて変更出来
る。
If a masking film is formed by attaching two semi-blocking films with different energy ray blocking rates to a film plate, the thickness of the base part will vary depending on which half-blocking film the pattern for the base part is formed on. can be changed depending on conditions such as the overall thickness of the printing plate.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図はネガフイルム及びマスキングフイルム
の斜面図、第2図は刷版をマウントフイルムに取
り付けた状態の斜面図、第3図、第4図、第5図
は刷版の製造工程図、第6図は従来例の刷版をマ
ウントフイルムに取り付けた状態の斜面図、第7
図は従来のマスキングフイルム及びネガフイルム
の斜面図、第8図、第9図、第10図、第11図
は従来方法の製造工程図である。 11……透明ベースフイルム、2……光硬化性
液体樹脂層、21……レリーフ部、22……マウ
ント部、4……マスキングフイルム、42……透
明フイルム、43……半遮断フイルム、45……
半遮断フイルム。
Figure 1 is a perspective view of the negative film and masking film, Figure 2 is a perspective view of the printing plate attached to the mounting film, Figures 3, 4, and 5 are manufacturing process diagrams of the printing plate. Figure 6 is a perspective view of the conventional printing plate attached to the mounting film, Figure 7
The figure is a perspective view of a conventional masking film and negative film, and FIGS. 8, 9, 10, and 11 are manufacturing process diagrams of a conventional method. DESCRIPTION OF SYMBOLS 11... Transparent base film, 2... Photocurable liquid resin layer, 21... Relief part, 22... Mount part, 4... Masking film, 42... Transparent film, 43... Semi-blocking film, 45... …
Semi-blocking film.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 ネガフイルム3上に光等のエネルギー線の照
射により硬化するエネルギー線硬化性樹脂液層2
を配備し、該樹脂液層の上面をエネルギー線透過
性ベースフイルム11によつて覆い、2枚のエネ
ルギー線半透過性フイルム43,45を重ねて形
成されネガフイルム3のパターン31に合わせて
稍大きい輪郭のエネルギー線透過性主パターン4
4と該主パターンの外側に主パターンよりも更に
大きい輪郭のエネルギー線半透過性ベース部用パ
ターン46を有し、該ベース部用パターン46の
外側部分は2枚のエネルギー線半透過フイルム4
3,45の重なりにより、樹脂液を硬化させない
程度のエネルギー線に対する遮断効果を有してい
るマスキングフイルム4を前記ベースフイルム1
1上へ重ね、ネガフイルム3及びベースフイルム
11の上下よりエネルギー線を照射して樹脂液層
2を硬化せしめた後、未硬化の樹脂液を除去する
樹脂刷版の製版方法。
1 An energy ray curable resin liquid layer 2 that is cured by irradiation with energy rays such as light on a negative film 3
The upper surface of the resin liquid layer is covered with an energy ray transmissive base film 11, and the energy ray semitransparent films 43 and 45 are stacked to form a base film 11, which is slightly patterned in accordance with the pattern 31 of the negative film 3. Energy ray transparent main pattern 4 with large outline
4 and an energy ray semi-transparent base part pattern 46 having an even larger outline than the main pattern on the outside of the main pattern, and the outer part of the base part pattern 46 is formed by two energy ray semi-transparent films 4.
3 and 45, the masking film 4 has a shielding effect against energy rays to the extent that it does not harden the resin liquid.
A method for making a resin printing plate, in which a negative film 3 and a base film 11 are stacked on top of each other, and energy rays are irradiated from above and below to cure the resin liquid layer 2, and then uncured resin liquid is removed.
JP59237202A 1984-11-10 1984-11-10 Engraving method of resin printing plate Granted JPS61172148A (en)

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