JPH03275124A - 排ガス処理制御方法 - Google Patents
排ガス処理制御方法Info
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- JPH03275124A JPH03275124A JP2074399A JP7439990A JPH03275124A JP H03275124 A JPH03275124 A JP H03275124A JP 2074399 A JP2074399 A JP 2074399A JP 7439990 A JP7439990 A JP 7439990A JP H03275124 A JPH03275124 A JP H03275124A
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- exhaust gas
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- sulfur oxides
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Links
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- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 title 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims abstract description 80
- XTQHKBHJIVJGKJ-UHFFFAOYSA-N sulfur monoxide Chemical class S=O XTQHKBHJIVJGKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 24
- 229910052815 sulfur oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 24
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 43
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、排ガスの流量等に応じて排ガス中の硫黄酸化
物等を吸収する吸収液の噴射量を制御する排ガス処理制
御方法に係り、特にその吸収液の循環量を制御すること
で排ガス処理効率を高めた排ガス処理制御方法に関する
。
物等を吸収する吸収液の噴射量を制御する排ガス処理制
御方法に係り、特にその吸収液の循環量を制御すること
で排ガス処理効率を高めた排ガス処理制御方法に関する
。
[従来の技術]
ボイラ等で石炭等の燃料を燃焼した際に発生ずる排ガス
中には硫黄酸化物や窒素酸化物などの有害物質が含まれ
ている。そのため、ボイラには排ガス処理装置を設けて
、これら有害物質を取り除いて清浄化した空気を大気に
放出して大気汚染を防止している。
中には硫黄酸化物や窒素酸化物などの有害物質が含まれ
ている。そのため、ボイラには排ガス処理装置を設けて
、これら有害物質を取り除いて清浄化した空気を大気に
放出して大気汚染を防止している。
第3図は、従来の排ガス処理制御方法aを示したもので
ある。
ある。
排ガスGは、集塵器や脱塵塔等(図示せず)を通過する
ことによって排ガス中の灰塵や不純物が取り除かれた後
、吸収塔すに送られる。
ことによって排ガス中の灰塵や不純物が取り除かれた後
、吸収塔すに送られる。
図示するように、この吸収塔す内には複数のスプレー配
管c1〜C4がその高さ方向に水平に設けられており、
このスプレー配管C1〜C3にはそれぞれ複数のスプレ
ーノズルdか設けられている。そして、このスプレーノ
ズルdより吸収液Kを噴射し、吸収塔す内に導入されて
きた排ガスGと気液接触させることによって、排ガスG
中の硫黄酸化物等を取り除いている。
管c1〜C4がその高さ方向に水平に設けられており、
このスプレー配管C1〜C3にはそれぞれ複数のスプレ
ーノズルdか設けられている。そして、このスプレーノ
ズルdより吸収液Kを噴射し、吸収塔す内に導入されて
きた排ガスGと気液接触させることによって、排ガスG
中の硫黄酸化物等を取り除いている。
また、このスプレー配管C1〜C1にはそれぞれf1^
環ポンプe1〜e、が接続されており、吸収塔す内の液
溜fに溜まった吸収Wi、Kを循環している。
環ポンプe1〜e、が接続されており、吸収塔す内の液
溜fに溜まった吸収Wi、Kを循環している。
また、吸収塔すの排ガス導入口には排ガス検出手段gが
設Cづられている。この排ガス検出手段gはガスの流量
を検出する流量計りと、排ガス中の硫黄酸化!t!I等
の濃度を検知するS 02ガス検出器iから構成され、
これら排ガス検出手段g、hで検出された検出値をCP
U (中央演算処理装置)jで演算処理し、このCPU
によって循環ポンプe、〜e4を個々に駆動、停止させ
て吸収液Iくの吐出流量を制御している。すなわち、吸
収塔1つ内に導入される排ガスの流量及び排ガス中の硫
黄酸化物等の濃度は常に変化しているため、それに応じ
た吐帛量に調整することで効率の良い運転を行つている
。
設Cづられている。この排ガス検出手段gはガスの流量
を検出する流量計りと、排ガス中の硫黄酸化!t!I等
の濃度を検知するS 02ガス検出器iから構成され、
これら排ガス検出手段g、hで検出された検出値をCP
U (中央演算処理装置)jで演算処理し、このCPU
によって循環ポンプe、〜e4を個々に駆動、停止させ
て吸収液Iくの吐出流量を制御している。すなわち、吸
収塔1つ内に導入される排ガスの流量及び排ガス中の硫
黄酸化物等の濃度は常に変化しているため、それに応じ
た吐帛量に調整することで効率の良い運転を行つている
。
[発明か解決しようとする課題]
ところで、上述したように、吸収塔す内にスプレー配管
をその高さ方向に複数設けるためには吸収塔の高さを高
くする必要があり、さらに、このスプレー配管にそれぞ
れ循環ポンプを接続しているため吸収塔全体が大きくな
ることによって設備費用が高くなってしまう欠点があっ
た。また、吸収液の噴射量の調整は個々の循環ポンプを
駆動、停止させることによって段階的に杓っているため
、微調整が不可能であり、不経済であった。さらに、循
環ポンプを常に駆動、停止させているため、循環ポンプ
の耐久性が低下する原因てあつな。
をその高さ方向に複数設けるためには吸収塔の高さを高
くする必要があり、さらに、このスプレー配管にそれぞ
れ循環ポンプを接続しているため吸収塔全体が大きくな
ることによって設備費用が高くなってしまう欠点があっ
た。また、吸収液の噴射量の調整は個々の循環ポンプを
駆動、停止させることによって段階的に杓っているため
、微調整が不可能であり、不経済であった。さらに、循
環ポンプを常に駆動、停止させているため、循環ポンプ
の耐久性が低下する原因てあつな。
そこで、本発明は上述した問題点に鑑み、吸収塔全体を
小さくすると共に、吸収液の循環量の微調整を可能とし
、さらに循環ポンプの耐久性を高めた排ガス処理制御方
法を提供するものである。
小さくすると共に、吸収液の循環量の微調整を可能とし
、さらに循環ポンプの耐久性を高めた排ガス処理制御方
法を提供するものである。
[−課題を解決するために手段]
本発明は、吸収塔内に吸収液を噴射するスプレーノズル
を設け、該吸収塔内に導入する排ガスの流量及び排ガス
中の硫黄酸化物等の濃度に応じて吸収液の噴射量を制御
する排ガス処理制御方法において、上記吸収塔本体に設
けられた排ガス導入口に排ガスの流量及び排ガス中の硫
黄酸化物等の濃度を検知する排ガス検出手段を設け、他
方、スプレーノズルに吸収液の噴射量を可変に調整する
循環ポンプを接続し、上記排ガス検出手段で検出した排
ガスの流量及び排ガス中の硫黄酸化物等の濃度に応じて
上記循環ポンプの回転数を制御する方法による。
を設け、該吸収塔内に導入する排ガスの流量及び排ガス
中の硫黄酸化物等の濃度に応じて吸収液の噴射量を制御
する排ガス処理制御方法において、上記吸収塔本体に設
けられた排ガス導入口に排ガスの流量及び排ガス中の硫
黄酸化物等の濃度を検知する排ガス検出手段を設け、他
方、スプレーノズルに吸収液の噴射量を可変に調整する
循環ポンプを接続し、上記排ガス検出手段で検出した排
ガスの流量及び排ガス中の硫黄酸化物等の濃度に応じて
上記循環ポンプの回転数を制御する方法による。
1作用]
以上の方法により、吸収塔に導入される排ガスを排ガス
導入口に設G−1られた排ガス検出手段によって排ガス
流量及び排ガス中の硫黄酸化物の濃度を検知し、この検
出値に応じてスプレーノズルに接続された吸収液の噴射
量を可変に調整する循環ポンプを駆動するモータ8の回
転数を無段階に制御することによって効率の良い排ガス
中の硫黄酸化物の吸収が可能となる。
導入口に設G−1られた排ガス検出手段によって排ガス
流量及び排ガス中の硫黄酸化物の濃度を検知し、この検
出値に応じてスプレーノズルに接続された吸収液の噴射
量を可変に調整する循環ポンプを駆動するモータ8の回
転数を無段階に制御することによって効率の良い排ガス
中の硫黄酸化物の吸収が可能となる。
「実施例」
以F、本発明の−・¥雌側を添付図面を参照しなから説
明する。
明する。
第1図は本発明の一実施例を示したものである。
図示するように、吸収塔1は吸収塔本体2、スプレー配
管3、循環ポンプ4より主に構成されている。
管3、循環ポンプ4より主に構成されている。
この吸収塔■は排ガスG中の硫黄酸化物等を吸収液6と
気液接触させて吸収するだめのものである。そして、そ
の内部の液溜5には吸収′a6か貯溜されており、この
吸収液6は適宜、吸収液供給管1/1及び排出ポンプ】
5によって交換されている。
気液接触させて吸収するだめのものである。そして、そ
の内部の液溜5には吸収′a6か貯溜されており、この
吸収液6は適宜、吸収液供給管1/1及び排出ポンプ】
5によって交換されている。
また、吸収塔1内にはスプレー配管3か設けられている
。このスプレー配管3は吸収液6を液溜5より吸収塔1
の−f、部に導くためのものであり、その下端は液溜5
に接続され、上端は外部より吸収塔1の中間部であって
その内部に水平に貫通して設C1られている。そして、
吸収塔本体2内部に貫通したスプレー配管3の上端部に
は吸収液6を吸収塔1内に噴射するためのスプレーノズ
ル7が上方に向けて複数、設けられている。
。このスプレー配管3は吸収液6を液溜5より吸収塔1
の−f、部に導くためのものであり、その下端は液溜5
に接続され、上端は外部より吸収塔1の中間部であって
その内部に水平に貫通して設C1られている。そして、
吸収塔本体2内部に貫通したスプレー配管3の上端部に
は吸収液6を吸収塔1内に噴射するためのスプレーノズ
ル7が上方に向けて複数、設けられている。
このスプレー配管3の経路には循環ポンプ4か接続され
ている。この循環ポンプ4は液溜5に溜まった吸収液6
を循環するためのものであり、その最大循環容量は吸収
塔1に導入される排ガスGか最大になった場合に必要な
吸収液6を十分循環できるように従来のWi璋ポンプよ
り大きなW環能力を有している。また、この循環ポンプ
4にはこの循環ポンプ4を駆動するモータ8が設けられ
ており、このモータ8は後述する中央演算処理装置(C
PU)9によってその回転数を制御されている。
ている。この循環ポンプ4は液溜5に溜まった吸収液6
を循環するためのものであり、その最大循環容量は吸収
塔1に導入される排ガスGか最大になった場合に必要な
吸収液6を十分循環できるように従来のWi璋ポンプよ
り大きなW環能力を有している。また、この循環ポンプ
4にはこの循環ポンプ4を駆動するモータ8が設けられ
ており、このモータ8は後述する中央演算処理装置(C
PU)9によってその回転数を制御されている。
また、吸収塔本体2の四部には排ガスGを導入するため
の排ガス導入口10か設けられており、この排ガス導入
口10付近には吸収塔1内に導入される排ガスの流量及
び排ガスG中の硫黄酸化物等の濃度を検出する排ガス検
出手段11が設けられている。この排ガス検出手段11
は吸収塔1内に導入される排ガスの流量を検知する排ガ
ス流量計12と、その排ガス中の硫黄酸化物等の濃度を
検知するS O2ガス検出器13から構成され、このそ
れぞれの排ガス検出手段11によって検出された検出値
を上記CPU(中央演算処理装置)9に入力している。
の排ガス導入口10か設けられており、この排ガス導入
口10付近には吸収塔1内に導入される排ガスの流量及
び排ガスG中の硫黄酸化物等の濃度を検出する排ガス検
出手段11が設けられている。この排ガス検出手段11
は吸収塔1内に導入される排ガスの流量を検知する排ガ
ス流量計12と、その排ガス中の硫黄酸化物等の濃度を
検知するS O2ガス検出器13から構成され、このそ
れぞれの排ガス検出手段11によって検出された検出値
を上記CPU(中央演算処理装置)9に入力している。
そしてCPU9はこの検出値を演算処理し、循環ポンプ
4を駆動するモータ8の回転数を制御している。
4を駆動するモータ8の回転数を制御している。
また、上述したスプレーノズル7は本出願人か実開昭6
0−112828号で開示したスプレーノズルをf重用
している。このスプレーノズル7吸収液配管3の先端部
に設けられ循環ポンプ7より汲み上げられた吸収液6を
霧状に噴射することで排ガスGと吸収液6との気液接触
面積を多くして排ガスG中の硫黄酸化物の吸収効率を高
めている。また、第2図はこのスプレーノズル7と他社
のスプレーノズルの噴霧圧力と噴霧された吸収液6の体
面積平均粒径との関係を示したものである。
0−112828号で開示したスプレーノズルをf重用
している。このスプレーノズル7吸収液配管3の先端部
に設けられ循環ポンプ7より汲み上げられた吸収液6を
霧状に噴射することで排ガスGと吸収液6との気液接触
面積を多くして排ガスG中の硫黄酸化物の吸収効率を高
めている。また、第2図はこのスプレーノズル7と他社
のスプレーノズルの噴霧圧力と噴霧された吸収液6の体
面積平均粒径との関係を示したものである。
縦軸はI+i!tNされた吸収液6の液滴の粒子径、横
軸は噴霧圧力を示している。また、太線はスプレーノズ
ル7を用いた場合を示し、点線はA社製のスプレーノズ
ル、細線はB社製のスプレーノズル、破線はC社製のス
プレーノズルを示したものである。このグラフから明ら
かなように他のスプレーノズルは噴霧圧力が高い場合は
液滴の粒子径は小さいが噴霧圧力が低くなるに連れ、液
滴の粒子径が大きくなり、その液滴の粒子径は噴霧圧力
によって大きく異なることが判る。これに対し、本発明
に採用するスプレーノズル7は噴霧圧力に関わらず液滴
の粒子径が略一定で殆ど変化しない。すなわち、このス
プレーノズル7を使用することによって、循環ポンプ4
を駆動するモータ8の回転数が変化してスプレーノズル
7の噴射圧力が変化しても吸収液6の液滴の粒子径は略
一定に保つことができ、吸収液6による排ガスG中の硫
黄酸化物の吸収効率に影響が及ばない。
軸は噴霧圧力を示している。また、太線はスプレーノズ
ル7を用いた場合を示し、点線はA社製のスプレーノズ
ル、細線はB社製のスプレーノズル、破線はC社製のス
プレーノズルを示したものである。このグラフから明ら
かなように他のスプレーノズルは噴霧圧力が高い場合は
液滴の粒子径は小さいが噴霧圧力が低くなるに連れ、液
滴の粒子径が大きくなり、その液滴の粒子径は噴霧圧力
によって大きく異なることが判る。これに対し、本発明
に採用するスプレーノズル7は噴霧圧力に関わらず液滴
の粒子径が略一定で殆ど変化しない。すなわち、このス
プレーノズル7を使用することによって、循環ポンプ4
を駆動するモータ8の回転数が変化してスプレーノズル
7の噴射圧力が変化しても吸収液6の液滴の粒子径は略
一定に保つことができ、吸収液6による排ガスG中の硫
黄酸化物の吸収効率に影響が及ばない。
次に、本発明の作用について説明する。
集塵器、脱塵器(図示せず)等を通過してきた排ガスG
は吸収塔本体2に設けられた、排ガス導入口10より吸
収塔lに導入される。そして吸収塔1に導入された排ガ
スGは排ガスG中の硫黄酸化物が吸収液6に吸収されて
清浄化し、吸収塔1の上部よりガス・ガスヒータ(図示
せず)等を通過して大気に放出される。一方、吸収液6
に吸収された硫黄酸化物は液溜5に溜まり、その一部は
排出ポンプ15より抜き出されて回収されることになる
。
は吸収塔本体2に設けられた、排ガス導入口10より吸
収塔lに導入される。そして吸収塔1に導入された排ガ
スGは排ガスG中の硫黄酸化物が吸収液6に吸収されて
清浄化し、吸収塔1の上部よりガス・ガスヒータ(図示
せず)等を通過して大気に放出される。一方、吸収液6
に吸収された硫黄酸化物は液溜5に溜まり、その一部は
排出ポンプ15より抜き出されて回収されることになる
。
この際に、吸収塔1に導入される排ガスGは排ガス導入
口10付近に設けられた排ガス検出手段11によって排
ガス流量及び排ガスG中の硫黄酸化物の濃度を検知され
、CPU9に入力される。
口10付近に設けられた排ガス検出手段11によって排
ガス流量及び排ガスG中の硫黄酸化物の濃度を検知され
、CPU9に入力される。
CPU9はこの検出値を演算処理し、この検出値に応じ
てモータ8の回転数を制御し、スプレーノズル7に接続
された循環ポンプ4によって吸収液6の噴射量を可変に
調整する。
てモータ8の回転数を制御し、スプレーノズル7に接続
された循環ポンプ4によって吸収液6の噴射量を可変に
調整する。
従って、無段階に変化する排ガス流量及び排ガスG中の
硫黄酸化物の濃度に応じて最適量の吸収液6を噴射する
ことが可能となり、排ガスGの効率的な吸収が可能とな
る。
硫黄酸化物の濃度に応じて最適量の吸収液6を噴射する
ことが可能となり、排ガスGの効率的な吸収が可能とな
る。
[発明の効果]
本発明は次の如き優れた効果を有する。
0
(1)循環ポンプ及び循環液配管の数を減らずことによ
って吸収塔全体を小さくすることか可能となり敷地の有
効利用が図れる。
って吸収塔全体を小さくすることか可能となり敷地の有
効利用が図れる。
(2)循環ポンプの回転数を変えることによって吸収液
の循環量の微調整が可能どなり、吸収効率が向上する。
の循環量の微調整が可能どなり、吸収効率が向上する。
(3)循環ポンプの運転、停止の頻度が大巾に減少する
ため、循環ポンプの耐久性が向−■二する。
ため、循環ポンプの耐久性が向−■二する。
第1図は本発明の排ガス処理制御方法を示ずブロック図
、第2図は本発明に用いるスプレーノズルによる吸収液
の噴射圧力と平均粒子径を示すグラフ図、第3図は従来
の排ガス処理制御方法を示すブロック図である。 図中、1吸収塔、2は吸収塔本体、4は節理ポンプ、6
は吸収液、7はスプレーノズル、10は排ガス導入口、
11は排ガス検出手段である。
、第2図は本発明に用いるスプレーノズルによる吸収液
の噴射圧力と平均粒子径を示すグラフ図、第3図は従来
の排ガス処理制御方法を示すブロック図である。 図中、1吸収塔、2は吸収塔本体、4は節理ポンプ、6
は吸収液、7はスプレーノズル、10は排ガス導入口、
11は排ガス検出手段である。
Claims (1)
- 1、吸収塔内に吸収液を噴射するスプレーノズルを設け
、該吸収塔内に導入する排ガスの流量及び排ガス中の硫
黄酸化物等の濃度に応じて吸収液の噴射量を制御する排
ガス処理制御方法において、上記吸収塔本体に設けられ
た排ガス導入口に排ガスの流量及び排ガス中の硫黄酸化
物等の濃度を検知する排ガス検出手段を設け、他方、ス
プレーノズルに吸収液の噴射量を可変に調整する循環ポ
ンプを接続し、上記排ガス検出手段で検出した排ガスの
流量及び排ガス中の硫黄酸化物等の濃度に応じて上記循
環ポンプの回転数を制御することを特徴とする排ガス処
理制御方法
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2074399A JPH03275124A (ja) | 1990-03-23 | 1990-03-23 | 排ガス処理制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2074399A JPH03275124A (ja) | 1990-03-23 | 1990-03-23 | 排ガス処理制御方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03275124A true JPH03275124A (ja) | 1991-12-05 |
Family
ID=13546072
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2074399A Pending JPH03275124A (ja) | 1990-03-23 | 1990-03-23 | 排ガス処理制御方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03275124A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5999228B1 (ja) * | 2015-07-01 | 2016-09-28 | 富士電機株式会社 | 排ガス処理装置 |
CN106039937A (zh) * | 2016-06-01 | 2016-10-26 | 广州益方田园环保股份有限公司 | 一种废气吸收塔及其废气吸收方法 |
-
1990
- 1990-03-23 JP JP2074399A patent/JPH03275124A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5999228B1 (ja) * | 2015-07-01 | 2016-09-28 | 富士電機株式会社 | 排ガス処理装置 |
WO2017002537A1 (ja) * | 2015-07-01 | 2017-01-05 | 富士電機株式会社 | 排ガス処理装置 |
JP2017013005A (ja) * | 2015-07-01 | 2017-01-19 | 富士電機株式会社 | 排ガス処理装置 |
CN106039937A (zh) * | 2016-06-01 | 2016-10-26 | 广州益方田园环保股份有限公司 | 一种废气吸收塔及其废气吸收方法 |
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