JPH03273136A - Method and device for corrosion control - Google Patents
Method and device for corrosion controlInfo
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、金属材料の腐食管理に係り、塩素等のハロゲ
ン元素による腐食損傷度を管理するのに好適な腐食管理
方法及び装置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to corrosion control of metal materials, and relates to a corrosion control method and apparatus suitable for controlling the degree of corrosion damage caused by halogen elements such as chlorine.
化学プラント及び産業廃棄物プラントの運転環境中には
、腐食性の強い塩素（ＣＱ２）、臭素（Ｂ ｒ２）及び
ヨウ素（工２）ガスが含まれており、高湿度部分におい
ては腐食による装置のリーク事故発生の要因となってい
る。このため前記プラントでは運転期間中の機器の腐食
の発生や進展を検知、管理する必要が生じ、従来におい
ては次の検知方法等が提案されている。The operating environment of chemical plants and industrial waste plants contains highly corrosive chlorine (CQ2), bromine (Br2), and iodine (CQ2) gases, and equipment may be damaged due to corrosion in high humidity areas. This is a cause of leak accidents. For this reason, in the plant, it is necessary to detect and manage the occurrence and progress of corrosion in equipment during operation, and the following detection methods have been proposed in the past.
例えば、ヨウ素湿潤気相中の腐食は、材料表面と接触し
ている液内のＩ３−イオンが濃縮することにより進展す
るため、このＩ３−イオン濃度を伝導度計測を介してモ
ニターする腐食管理方法がある。For example, corrosion in a moist iodine gas phase progresses due to the concentration of I3- ions in the liquid that is in contact with the material surface, so a corrosion control method involves monitoring this I3- ion concentration through conductivity measurement. There is.
また次の方法も同様に、腐食性のＩ３−イオンの濃縮度
を測定するのであるが、その手段として液滴中■、−イ
オン溶液の色の濃さの測定をする。Similarly, in the next method, the degree of concentration of corrosive I3- ions is measured, and as a means of measuring the concentration, the color density of the -ion solution in the droplet is measured.
■、−イオンは、溶液中で赤褐色の色を呈し、濃度の濃
縮と共に濃さを増し、吸収スペクトルが波長３５３ｎｍ
（３５３０Ａ）の位置に現れるため、液の吸光度を測
定することにより色の濃さ、すなわち、■、−イオン量
を定量的にモニターする方法である。■, - ion exhibits a reddish-brown color in solution, increases in density with concentration, and has an absorption spectrum with a wavelength of 353 nm.
Since it appears at the position (3530A), this method quantitatively monitors the color depth, that is, the amount of - ions by measuring the absorbance of the liquid.
従来の腐食管理方法及び装置においては、分析的及び電
気化学的な方法により腐食速度及び腐食量は算出できる
が、寿命損傷診断についての配慮はなされておらず、ど
の腐食形態の腐食がどの程度まで進行しているかを診断
するのが困難であった。In conventional corrosion control methods and equipment, the corrosion rate and corrosion amount can be calculated using analytical and electrochemical methods, but no consideration is given to lifetime damage diagnosis, and it is difficult to determine which type of corrosion and to what extent. It was difficult to diagnose whether the disease was progressing.
本発明の目的は、変動するハロゲン元素を含む気・液面
環境中における各種腐食形態の腐食損傷度、累積腐食減
量及び孔食深さを検知し、腐食の損傷程度を管理できる
腐食管理方法及び装置を提供することにある。The purpose of the present invention is to provide a corrosion control method and method capable of detecting the degree of corrosion damage, cumulative corrosion loss, and pitting depth of various forms of corrosion in gas/liquid surface environments containing changing halogen elements, and controlling the degree of corrosion damage. The goal is to provide equipment.
前記の４的を達成するため、本発明に係る腐食管理方法
は、腐食性のハロゲン元素を含む環境で定常又は非定常
運転される機器について気相及び液相中の使用環境を検
出し、機器の湿潤部分に生じるそれぞれの腐食形態に対
する腐食減量及び孔食深さを演算し、それぞれの部分の
腐食損傷度を予測するように構成されている。In order to achieve the above four objectives, the corrosion control method according to the present invention detects the usage environment in the gas phase and liquid phase for equipment operated steadily or unsteadily in an environment containing corrosive halogen elements, and The corrosion weight loss and pitting corrosion depth for each type of corrosion occurring in the wet portion of the wet portion are calculated, and the degree of corrosion damage of each portion is predicted.
そして腐食減量及び孔食深さは、不働態皮膜健全状態、
すき間腐食、孔食及び全面腐食のそれぞれの腐食形態に
対して演算される構成である。Corrosion loss and pitting depth are determined by the healthy state of the passive film,
This configuration is calculated for each type of corrosion: crevice corrosion, pitting corrosion, and general corrosion.
また使用環境は、ハロゲン元素濃度及び温度のそれぞれ
について検出される構成とする。Further, the usage environment is configured such that the halogen element concentration and temperature are detected respectively.
さらに機器の湿潤部分は、気相中の液滴部、すき間部及
び液相部である構成とする。Further, the wet parts of the device are configured to be a droplet part in the gas phase, a gap part, and a liquid phase part.
そして腐食減量及び孔食深さは、ハロゲン錯イオン濃度
により算出され、ハロゲン錯イオン濃度は、液滴部、す
き間部及び液相部の液体の体積と、液体と接触する金属
の表面積とにより演算される構成である。Corrosion loss and pitting depth are calculated based on the halogen complex ion concentration, and the halogen complex ion concentration is calculated based on the volume of the liquid in the droplet, gap, and liquid phase, and the surface area of the metal in contact with the liquid. This is the configuration that will be used.
また腐食管理装置においては、腐食性のハロゲン元素を
含む環境で定常又は非定常運転される機器について気相
及び液相中の使用環境を検出する検出部と、機器の湿潤
部分に生じるそれぞれの腐食形態に対する腐食減量及び
孔食深さを演算する演算部と、それぞれの部分の腐食損
傷度を予測する演算部と、時間に対するハロゲン錯イオ
ン濃度の変化、それぞれの腐食形態の発生する領域及び
腐食損傷度を同時に表示する表示部とを備えた構成であ
りさらに腐食損傷度を、時間とともに変化する孔食深さ
を表示する構成、さらに腐食損傷度を、時間とともに変
化する孔食深さで表示する構成でも良い。Corrosion control equipment also includes a detection unit that detects the usage environment in the gas phase and liquid phase for equipment that operates normally or unsteadily in an environment containing corrosive halogen elements, and a detection unit that detects the corrosion that occurs in wet parts of the equipment. A calculation unit that calculates corrosion loss and pitting depth for each form, a calculation unit that predicts the degree of corrosion damage in each part, changes in halogen complex ion concentration over time, areas where each corrosion form occurs, and corrosion damage. The present invention has a display section that simultaneously displays the degree of corrosion damage, and a display section that simultaneously displays the degree of corrosion damage and pitting depth that changes over time, and further displays the degree of corrosion damage as pitting depth that changes over time. It can also be a configuration.
〔作用〕
腐食性のハロゲンガス元素を含む環境中に、特に湿潤気
相中における腐食は、−船釣に時間と共に不働態皮膜健
全状態、すき間腐食、孔食及び全面腐食の順に発生し、
その時期は気相中液滴あるいは液相中のハロゲンガス分
子や例えばＢｒ３”及びＬ−のようなハロゲン間化合物
濃度により異り、ハロゲンガス分子及びハロゲン間化合
物濃度が少なるに従い、腐食形態の発生する時期は長時
間側に移行する。ハロゲン間化合物（ハロゲン錯イオン
）とは、化学形態の異なるハロゲン例えばＢｒ２分子と
Ｂｒ−イオンあるいは工２分子やニーイオンが結合し、
それぞれＢｒ３−やＩ、−の錯イオンを作り、これら錯
イオンがハロゲン間化合物と呼ばれ、Ｂｒｚ ｔ Ｉ
１分子と同様に腐食性を有する。[Function] Corrosion in an environment containing corrosive halogen gas elements, especially in a moist gas phase, occurs in the following order: - Passive film integrity, crevice corrosion, pitting corrosion, and general corrosion over time during boat fishing.
The timing differs depending on the concentration of halogen gas molecules and interhalogen compounds such as Br3" and L- in the droplets in the gas phase or in the liquid phase. As the concentration of halogen gas molecules and interhalogen compounds decreases, the corrosion type The period of generation shifts to the longer period of time. Interhalogen compounds (halogen complex ions) are halogens of different chemical forms, such as Br2 molecules and Br- ions, Br2 molecules, or Ni ions, which combine.
Create complex ions of Br3-, I, and -, respectively, and these complex ions are called interhalogen compounds, and Brz t I
It has the same corrosive properties as a single molecule.
そして腐食傾向は材質によっても異なり、Ｃｒあるいは
Ｍｏを多く含有する材質程すき間腐食、孔食及び全面腐
食の発生する時間は長時間側にずれる。また、気相中液
滴及び液相中では腐食性のハロゲン錯イオン例えば工、
−の濃度ＣＩ、−は、気相中よりハロゲンガスの供給が
あると時間と共に凝縮する特性を持ち、（１）式で表さ
れる。The corrosion tendency also differs depending on the material, and the time for crevice corrosion, pitting corrosion, and general corrosion to occur shifts to the longer side as the material contains more Cr or Mo. In addition, corrosive halogen complex ions, such as
The concentration CI, - has the characteristic of condensing over time when halogen gas is supplied from the gas phase, and is expressed by equation (1).
（１）式はハロゲンガス元素全てに適用可能である。Equation (1) is applicable to all halogen gas elements.
１、 ５
（１）式において、。ＣＩ−及び。Ｃ＋、はそれぞれ初
期におけるニーイオン及びＪ、−錯イオン濃度である。1, 5 In equation (1), CI-and. C+ is the initial concentration of knee ion and J,-complex ion, respectively.
また、Ｘｔ （Ｐ／Ｃ１５−）ｌ ＷＭ、Ｓ、Ｖ及び
ｔは、それぞれ増殖度、単位ハロゲン濃度に対する腐食
速度、金属の原子量、金属と液との接触面積、液量及び
時間である。Moreover, Xt (P/C15-)l WM, S, V, and t are the proliferation degree, the corrosion rate for unit halogen concentration, the atomic weight of the metal, the contact area between the metal and the liquid, the liquid amount, and the time, respectively.
（１）式は湿潤ハロゲン環境中の腐食過程を速度論的に
考察することにより解析的に導かれる。Equation (1) is derived analytically by considering the corrosion process in a wet halogen environment kinetically.
（１）式により温度や初期濃度。ｃｒ−及び、ＣＩ３が
変動しても、数値解析等により任意時間での工、−濃度
（Ｃ１３−）を算出することができる。すなわち、機器
の起動・停止を含む非定常運転状態でのＣＩ、−を計算
することができる。また（１）式は腐食速度Ｐ ／ Ｃ
Ｉ ３−及び原子量ＷＭを変えることにより、異なる材
質に対しても適用できる。さらに、Ｓ／Ｖを変えること
によりいろいろな太きさの気相中液滴、すき間部及び液
相部のＣ１３−を算出することが可能である。また、あ
るハロゲン濃度に対する各種腐食形態の発生までには一
定の時間ｔａを必要とする。例えば孔食の発生は、不働
態皮膜へのハロゲンイオンの吸着とそれが拡散により皮
膜内部へ進行し、皮膜を破壊して行くために生じるもの
と考えられ、その過程は直線で近似できるものと考えら
れる。従って、時間Δｔを経過した時点で、孔食発生ま
でに消費した寿命はΔｔ／ｌ ａで表わされる。使用条
件が異なってくると当然Δｔ ／ ｔ ａの値も異って
くる。Temperature and initial concentration are determined by equation (1). Even if cr- and CI3 fluctuate, the concentration (C13-) at any given time can be calculated by numerical analysis or the like. That is, it is possible to calculate CI, - in an unsteady operating state including starting and stopping the equipment. Also, equation (1) is the corrosion rate P/C
By changing I 3- and atomic weight WM, it can be applied to different materials. Furthermore, by changing the S/V, it is possible to calculate C13- of droplets in the gas phase, gaps, and liquid phase portions of various sizes. Further, a certain time ta is required for various forms of corrosion to occur for a certain halogen concentration. For example, pitting corrosion is thought to occur due to the adsorption of halogen ions to the passive film, which progresses into the film through diffusion and destroys the film, and this process can be approximated by a straight line. Conceivable. Therefore, after the time Δt has elapsed, the life consumed until pitting corrosion occurs is expressed as Δt/la. Naturally, as the usage conditions differ, the value of Δt/ta also differs.
起動・停止のように非定常運転に対しては各使用条件に
対するΔｔ ／ ｔ ａを求め、ΣΔｔ ／ ｔ ａが
制限値φ□に達した時に孔食が発生することになり、孔
食発生時期を予測することが可能である。For unsteady operation such as starting and stopping, calculate Δt/ta for each usage condition, and pitting corrosion will occur when ΣΔt/ta reaches the limit value φ□. It is possible to predict.
また、腐食減量ΔＷは（２）式で算出できる。Further, the corrosion loss ΔW can be calculated using equation (2).
このような金属の腐食減量は不働態皮膜が健全な状態で
も皮膜を金属イオンが拡散することにより発生する。Such corrosion loss of metal occurs due to the diffusion of metal ions through the passive film even in a healthy state.
ΔＷ” 、ｌ” （ｐ／ｃｒ３−）・ｃｒ、−ａ ｔ
−（２）従って、（２）式よりｒ、−濃度が変動
しでも。ΔW", l" (p/cr3-)・cr, -a t
-(2) Therefore, from equation (2), r, - Even if the concentration changes.
数値積分を行うことより、任意時間ｔに対する腐食減量
を算出することが可能である。そして孔食深さは腐食減
量を統計的処理して求めることができる。By performing numerical integration, it is possible to calculate the corrosion weight loss for any given time t. The depth of pitting corrosion can be determined by statistically processing the corrosion loss.
本発明の一実施例を第工図を参照しながら説明する。 An embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
検出部１は、気相中液滴あるいは液相中のハロゲンガス
分子濃度及び温度を計測する。液滴あるいは液相中ハロ
ゲン分子濃度演算部２の演算結果により材料特性データ
演算部３は、材質、腐食速度（Ｐ ／ ＣＩ、−） 、
化学平衡定数（Ｋ）、原子量（Ｗ Ｍ ）を算出する。The detection unit 1 measures the concentration and temperature of halogen gas molecules in the droplet in the gas phase or in the liquid phase. Based on the calculation results of the halogen molecule concentration calculation unit 2 in the droplet or liquid phase, the material property data calculation unit 3 calculates the material, corrosion rate (P/CI, -),
Calculate the chemical equilibrium constant (K) and atomic weight (W M ).
そして環境データ演算部４は、液滴及び液相の液量（Ｖ
）、液滴及び液相と接触している金属の面積（Ｓ）、初
期の時点でのハロゲン濃度（例えば、Ｂｒ２． 工２＋
Ｂｒ−１−Ｂｒ、−Ｊ、−）を演算する。また各種腐
食形態発生データ演算部５は、すき間腐食、孔食及び全
面腐食の境界域を算出する。液滴あるいは液相中ハロゲ
ン錯イオン濃度演算部６は、（１）式に従い算出する。Then, the environmental data calculation unit 4 calculates the liquid volume (V
), the area of the metal in contact with the droplet and the liquid phase (S), the halogen concentration at the initial point (e.g. Br2.
Br-1-Br, -J, -) is calculated. Further, the various types of corrosion occurrence data calculation unit 5 calculates the boundary areas of crevice corrosion, pitting corrosion, and general corrosion. The halogen complex ion concentration calculation unit 6 in the droplet or liquid phase calculates the concentration according to equation (1).
そこで許容演算部７は、あるハロゲン錯イオン濃度が与
えられた時、各種腐食形態発生データ演算部５のデータ
を用いて、対応する腐食発生時間（許容時間）ｔａを算
出する。腐食損傷演算部８は、計測時間Δｔと許容時間
ｔａとよりΔｔ／ｌａを計算し、定常運転時及び非定常
運転時の全計測時間に対して累積腐食損傷率φ＝ΣΔｔ
／ｌａを算出する１判定分９は、累積腐食損傷率φが制
限値φ１を超えているかどうかを判定する。Therefore, when a certain halogen complex ion concentration is given, the allowable calculation section 7 calculates the corresponding corrosion occurrence time (allowable time) ta using the data from the various corrosion form occurrence data calculation section 5. The corrosion damage calculation unit 8 calculates Δt/la from the measurement time Δt and the allowable time ta, and calculates the cumulative corrosion damage rate φ=ΣΔt for the total measurement time during steady operation and unsteady operation.
1 judgment part 9 for calculating /la judges whether the cumulative corrosion damage rate φ exceeds the limit value φ1.
腐食減量及び孔食深さ演算部１０は、（２）式をもとに
時間ｔまでの腐食減量及び孔食深さを演算する。そこで
表示部１１は、腐食損傷率φ及び腐食減量あるいは孔食
深さを表示する。記録部上２は、表示した内容を記録し
、警報部１３は腐食損傷度φが許容値φａを越えた時に
アラームを発する。The corrosion weight loss and pitting depth calculating section 10 calculates the corrosion weight loss and pitting depth up to time t based on equation (2). Therefore, the display section 11 displays the corrosion damage rate φ and the corrosion loss or pitting depth. The recording section 2 records the displayed contents, and the alarm section 13 issues an alarm when the degree of corrosion damage φ exceeds the allowable value φa.
第１図において、ハロゲン分子濃度演算部２では検出部
１で検出された気相中ハロゲン分子濃度及び温度を用い
、メモリーされている気液・平衡データより液相中ハロ
ゲン分子濃度を算出する。In FIG. 1, a halogen molecule concentration calculation unit 2 uses the halogen molecule concentration in the gas phase and temperature detected by the detection unit 1 to calculate the halogen molecule concentration in the liquid phase from the stored gas-liquid equilibrium data.
従って、その値は定常及び非定常運転状態により異って
くる。これらデータを用いて材料特性データ、環境デー
タ及び各種腐食形態発生データが演算され、液滴中ある
いは液相中ハロゲン錯イオン濃度演算部６により（１）
式を用いて演算される。Therefore, its value differs depending on steady and unsteady operating conditions. Using these data, material property data, environmental data, and various corrosion form occurrence data are calculated, and the halogen complex ion concentration calculation unit 6 in the droplet or in the liquid phase (1)
It is calculated using the formula.
演算部７の許容値は各種腐食形態発生データを用い、演
算部６より得られたハロゲン錯イオン濃度に対する各種
腐食形態（すき間腐食、孔食及び全面腐食）の許容時間
ｔａが算出され、腐食損傷データに供せられる。腐食損
傷演算部８では時間ｔにおける１計測時間Δｔと前記の
許容時間ｔａとより各種腐食形態の発生に対する腐食損
傷度Δφ＝Δｔ ／ ｔ ａを算出し、計測時間として
は起動・停止を含む非定常運転時、定常運転時及びプラ
ントの保管時を考慮して１時間ｔまでの腐食損傷度φ（
ｔ）＝φ十Δφ及び全運転時間に対するφも求める。こ
れらのφが許容値φムに比べて大きいか小さいかを判定
部９で判断する。φがφａより小さいと演算系統は検出
部１に帰り、同じ演算を繰り返す。φが許容値φ、を越
え、かつ腐食が発生した時は、警報発生部１３で警報を
発生させ、プラントの一時停止を行い検査及び補修を行
なう。The allowable value of the calculation unit 7 is calculated by using the occurrence data of various corrosion forms, the allowable time ta of various corrosion forms (crevice corrosion, pitting corrosion, and general corrosion) for the halogen complex ion concentration obtained from the calculation unit 6, and calculating the corrosion damage. Provided for data. The corrosion damage calculation unit 8 calculates the degree of corrosion damage Δφ=Δt/ta for the occurrence of various forms of corrosion from one measurement time Δt at time t and the above-mentioned allowable time ta, and the measurement time includes non-starting and stopping times. Corrosion damage degree φ(
t)=φ+Δφ and φ for the total operating time are also determined. The determination unit 9 determines whether these values φ are larger or smaller than the allowable value φm. If φ is smaller than φa, the calculation system returns to the detection unit 1 and repeats the same calculation. When φ exceeds the allowable value φ and corrosion occurs, an alarm is generated by the alarm generator 13, the plant is temporarily stopped, and inspection and repair are performed.
一方、腐食減量や孔食深さの時間的変化は、演算部１０
で（２）式に従って算出される。このうち、腐食減量は
腐食形態が不働態健全域であっても電気化学的な測定で
微少な不働態化保持電流（〜１０−’Ａ程度）として観
察されるように、微少な腐食が皮膜を通し金属が拡散・
溶出するという形で生じているため、時間の経過と供に
増大することになる。但し、不働態皮膜健全域では、ハ
ロゲン錯イオン濃度がどのように変っても孔食の発生は
生じない、腐食損傷演算部８、腐食減量及び孔食深さ演
算部１０で演算された値は表示部１１を通し表示され、
時間ｔの経過に従い演算結果の軌跡を描く。On the other hand, temporal changes in corrosion weight loss and pitting corrosion depth are calculated by the calculation unit 10.
is calculated according to equation (2). Among these, corrosion loss is caused by minute corrosion in the film, as observed as a minute passivation holding current (about 10-'A) in electrochemical measurements even if the corrosion form is in the passivation sound range. The metal diffuses through the
Since it occurs in the form of elution, it increases with the passage of time. However, in the passive film healthy range, no matter how the halogen complex ion concentration changes, pitting corrosion will not occur.The values calculated by the corrosion damage calculating section 8 and the corrosion weight loss and pitting depth calculating section 10 are displayed through the display section 11,
A trajectory of the calculation results is drawn as time t passes.
最後に、記録部上２で計算及び表示された内容を記録し
、必要に応じてデータ出力に供する。Finally, the contents calculated and displayed on the recording section 2 are recorded and provided for data output as necessary.
第２図には腐食損傷演算を実施する時のフローを、また
第３図は腐食減量及び孔食深さを演算する時のフローを
示す。FIG. 2 shows the flow when calculating corrosion damage, and FIG. 3 shows the flow when calculating corrosion loss and pitting depth.
本発明の他の実施例を第４図〜第７図を参照しながら説
明する。Another embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 4 to 7.
第４図は定常・非定常運転時におけるプラント各部の液
滴及び液相中におけるハロゲン分子（例えば””ｚｔ
Ｂｒａｔ Ｌ）の濃度状態を示す。Figure 4 shows halogen molecules (for example, "zt
Brat L) concentration status is shown.
第５図は時間を横軸に、液中ハロゲン錯イオン濃度（例
えばＣＱ、−、Ｂ ｒ、−、１３−）を縦軸とするグラ
フ上にハロゲン錯イオン濃度の経時的変化の軌跡の表示
と平行して、各種腐食形態も表示することにより各時点
において、ハロゲン錯イオン濃度が安全領域にあるか、
危険域に近いかが、−目で検知できる。また、第５図の
Ａ−Ｆ点は、第４図の運転時点Ａ−Ｆにそれぞれ対応す
る０図中の表示Ｐａ点は液中ハロゲン錯イオン濃度がＧ
点にあった時の孔食の発生に対する腐食損傷程度を示す
。Figure 5 shows the locus of change in halogen complex ion concentration over time on a graph with time on the horizontal axis and halogen complex ion concentration in the liquid (e.g. CQ, -, Br, -, 13-) on the vertical axis. In parallel, by displaying various forms of corrosion, it is possible to determine whether the halogen complex ion concentration is within the safe range at each point in time.
You can visually detect if you are close to the danger zone. In addition, points A to F in FIG. 5 are indicated at points Pa in FIG. 0, which respectively correspond to operating points A to F in FIG.
This shows the degree of corrosion damage caused by pitting corrosion at the point.
第６図は時間に対する腐食減量をグラフ上に腐食減量の
経時的変化として表示したもので、グラフ中のＡ−Ｆ点
は、第５図の運転ステップＡ−Ｆ点に対応する・
第７図は時間に対する孔食深さをグラフ上に孔食深さの
経時的変化として表示したものであり。Figure 6 shows the corrosion weight loss versus time displayed on a graph as the change in corrosion weight loss over time, and points A-F in the graph correspond to points A-F of the operating steps in Figure 5. is a graph showing pitting depth versus time as a change in pitting depth over time.
グラフ中のＡ−Ｆ点は第５図の運転ステップＡ〜Ｆ点に
対応する。Points A to F in the graph correspond to points A to F of the operating steps in FIG.
本発明の腐食管理方法によれば、腐食性のハロゲン元素
を含む環境で運転される機器の、液滴又は液相中の各種
腐食形態に対する腐食の進行、腐食減量等が表示される
ため、環境の急変が容易に検知できるとともに、安全な
腐食進行の管理を行うことができる。According to the corrosion control method of the present invention, the progress of corrosion, corrosion loss, etc. for various forms of corrosion in droplets or liquid phases of equipment operated in an environment containing corrosive halogen elements is displayed, so that the environment Sudden changes in corrosion can be easily detected, and corrosion progression can be managed safely.
第１図は本発明の一実施例を示す装置の系統のブロック
図、第２図は腐食損傷度演算部の手順を示すフローチャ
ート、第３図は集積腐食減量及び孔食深さの演算部の手
順を示すフローチャート、第４図は定常・非定常運転時
ハロゲン分子濃度の運転条件を示す図、第５図は液滴及
び液相中ハロゲン錯イオン濃度の時間的軌跡及び腐食損
傷度の表示例を示す図。第６図は累積腐食減量の時間的
変化の軌跡の表示例を示す図、第７図は孔食深さの時間
的変化の軌跡の表示例を示す図である。Fig. 1 is a block diagram of the system of an apparatus showing an embodiment of the present invention, Fig. 2 is a flowchart showing the procedure of the corrosion damage degree calculation section, and Fig. 3 is a flowchart showing the procedure of the calculation section of the integrated corrosion loss and pitting corrosion depth. A flowchart showing the procedure, Figure 4 is a diagram showing the operating conditions of halogen molecule concentration during steady and unsteady operation, and Figure 5 is an example of displaying the temporal trajectory of halogen complex ion concentration in droplets and liquid phase and the degree of corrosion damage. Diagram showing. FIG. 6 is a diagram showing an example of displaying the locus of temporal change in cumulative corrosion loss, and FIG. 7 is a diagram showing an example of displaying the locus of temporal variation of pitting corrosion depth.
Claims (1)
運転される機器について気相及び液相中の使用環境を検
出し、前記機器の湿潤部分に生じるそれぞれの腐食形態
に対する腐食減量及び孔食深さを演算し、それぞれの部
分の腐食損傷度を予測することを特徴とする腐食管理方
法。 ２、腐食減量及び孔食深さは、不働態皮膜健全状態、す
き間腐食、孔食及び全面腐食のそれぞれの腐食形態に対
して演算されることを特徴とする請求項１記載の腐食管
理方法。 ３、使用環境は、ハロゲン元素濃度及び温度のそれぞれ
について検出されることを特徴とする請求項１又は２記
載の腐食管理方法。 ４、機器の湿潤部分は、気相中の液滴部、すき間部及び
液相部であることを特徴とする請求項１、２又は３記載
の腐食管理方法。 ５、腐食減量及び孔食深さは、ハロゲン錯イオン濃度に
より算出され、該ハロゲン錯イオン濃度は、液滴部、す
き間部及び液相部の液体の体積と、該液体と接触する金
属の表面積とにより演算されることを特徴とする請求項
１〜４のいずれか１項記載の腐食管理方法。 ６、腐食性のハロゲン元素を含む環境で定常又は非定常
運転される機器について気相及び液相中の使用環境を検
出する検出部と、前記機器の湿潤部分に生じるそれぞれ
の腐食形態に対する腐食減量及び孔食深さを演算する演
算部と、それぞれの部分の腐食損傷度を予測する演算部
と、時間に対するハロゲン錯イオン濃度の変化、それぞ
れの腐食形態の発生する領域及び腐食損傷度を同時に表
示する表示部とを備えたことを特徴とする腐食管理装置
。 ７、腐食損傷度を、時間とともに変化する腐食減量で表
示することを特徴とする請求項６記載の腐食管理装置。 ８、腐食損傷度を、時間とともに変化する孔食深さで表
示することを特徴とする請求項６記載の腐食管理装置。[Scope of Claims] 1. Detecting the usage environment in the gas phase and liquid phase for equipment that operates steadily or unsteadily in an environment containing corrosive halogen elements, and detecting the respective forms of corrosion that occur in wet parts of the equipment. A corrosion control method characterized by calculating the corrosion weight loss and pitting corrosion depth for each part and predicting the corrosion damage degree of each part. 2. The corrosion control method according to claim 1, wherein the corrosion weight loss and the pitting corrosion depth are calculated for each type of corrosion: a healthy state of the passive film, crevice corrosion, pitting corrosion, and general corrosion. 3. The corrosion control method according to claim 1 or 2, wherein the use environment is detected for each of halogen element concentration and temperature. 4. The corrosion control method according to claim 1, 2 or 3, wherein the wet parts of the equipment are droplet parts in a gas phase, gaps and liquid phase parts. 5. Corrosion loss and pitting depth are calculated from the halogen complex ion concentration, which is determined by the volume of the liquid in the droplet, gap, and liquid phase, and the surface area of the metal in contact with the liquid. The corrosion control method according to any one of claims 1 to 4, characterized in that the calculation is performed by: 6. A detection unit that detects the usage environment in the gas phase and liquid phase for equipment that operates steadily or unsteadily in an environment containing corrosive halogen elements, and corrosion loss for each type of corrosion that occurs in wet parts of the equipment. A calculation unit that calculates pitting corrosion depth, a calculation unit that predicts the degree of corrosion damage in each part, and simultaneously displays changes in halogen complex ion concentration over time, areas where each form of corrosion occurs, and degree of corrosion damage. 1. A corrosion control device comprising: a display section for controlling corrosion; 7. The corrosion control device according to claim 6, wherein the degree of corrosion damage is displayed as a corrosion weight loss that changes over time. 8. The corrosion control device according to claim 6, wherein the degree of corrosion damage is displayed as a pitting depth that changes over time.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7424690A JPH03273136A (en) | 1990-03-23 | 1990-03-23 | Method and device for corrosion control |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7424690A JPH03273136A (en) | 1990-03-23 | 1990-03-23 | Method and device for corrosion control |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03273136A true JPH03273136A (en) | 1991-12-04 |
Family
ID=13541615
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7424690A Pending JPH03273136A (en) | 1990-03-23 | 1990-03-23 | Method and device for corrosion control |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03273136A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008216232A (en) * | 2007-02-28 | 2008-09-18 | Tohoku Univ | Method for detecting occurrence of stress corrosion cracking, pitting corrosion and the like |
| JP2011075370A (en) * | 2009-09-30 | 2011-04-14 | Hitachi Ltd | Analyzer and method of evaluating flange shape |
-
1990
- 1990-03-23 JP JP7424690A patent/JPH03273136A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008216232A (en) * | 2007-02-28 | 2008-09-18 | Tohoku Univ | Method for detecting occurrence of stress corrosion cracking, pitting corrosion and the like |
| JP2011075370A (en) * | 2009-09-30 | 2011-04-14 | Hitachi Ltd | Analyzer and method of evaluating flange shape |
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