JPH0327043A - Photosensitive planographic printing plate requiring no dampening water - Google Patents

Photosensitive planographic printing plate requiring no dampening water

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Publication number
JPH0327043A
JPH0327043A JP16199889A JP16199889A JPH0327043A JP H0327043 A JPH0327043 A JP H0327043A JP 16199889 A JP16199889 A JP 16199889A JP 16199889 A JP16199889 A JP 16199889A JP H0327043 A JPH0327043 A JP H0327043A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
group
photosensitive
primer layer
printing plate
Prior art date
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Pending
Application number
JP16199889A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shigeo Koizumi
滋夫 小泉
Toshihiko Hiruma
比留間 寿彦
Takashi Okuno
奥野 敬
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP16199889A priority Critical patent/JPH0327043A/en
Publication of JPH0327043A publication Critical patent/JPH0327043A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To improve the adhesion of a primer layer to an Al supporting body by treating the body with an aq. soln. of an alkali metal silicate and/or coating the body with colloidal silica sol and combining a prescribed silane coupling agent with the primer layer. CONSTITUTION:The subject planographic printing plate is formed by successively laminating a primer layer, a photosensitive layer and a silicone rubber layer on the supporting body. An Al sheet treated with an aq. soln. of an alkali metal silicate such as sodium silicate and/or coated with colloidal silica sol is used for the supporting body and the primer layer contains at least one kind of silane coupling agent such as gamma-glycidoxypropyltrimethoxysilane. This printing plate withstands violent rubbing because the primer layer has improved adhesion to the supporting body.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、湿し水不要感光性平版印刷版に関し、特に現
像処理時ウエット状態でアルミニウム支持体とその上に
設けたブライマ一層との密着性が改良された湿し水不要
感光性平版印刷版に関する。
Detailed Description of the Invention [Industrial Application Field] The present invention relates to a photosensitive lithographic printing plate that does not require dampening water, and in particular, to a method for improving the adhesion between an aluminum support and a single layer of brimer provided thereon in a wet state during development processing. This invention relates to a photosensitive lithographic printing plate that does not require dampening water and has improved properties.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

シリコーンゴム層を非画像部とする湿し水不要感光性平
版印刷版については、例えば、特公昭44−23042
号、特公昭4 6−1 6 0 4 4号、特公昭54
−26923号、特公昭61−54222号、特開昭6
 3−2 6 5 2 4 7号等において、すでに種
々のものが提案されている。
For photosensitive lithographic printing plates that do not require dampening water and have a silicone rubber layer as a non-image area, for example, Japanese Patent Publication No. 44-23042
No., Special Publication No. 6-1 604 4, Special Publication No. 1982
-26923, JP 61-54222, JP 6
Various methods have already been proposed in No. 3-2, 6, 5, 2, 4, and the like.

これらの湿し水不要感光性平版印刷版の支持体としては
アルミニウム板が広く用いられている。
Aluminum plates are widely used as supports for these photosensitive lithographic printing plates that do not require dampening water.

その理由は次のようなものである。すなわち、現在平版
印刷版の大部分を占めている、湿し水を用いる感光性平
版印刷版の支持体がアルミニウム板であり、このため、
現在市場において稼動している平版印刷機の大半がアル
ミニウム板を装着するのに適した構造となっている。従
って、湿し水不要平版印刷版においてもアルミニウムを
支持体として用いることにより、印刷機の版装着のため
の装置を特別に改造することなく使用することが可能と
なる。又平版印刷版の製版現場においてプレートの取扱
いを行う作業者はアルミニウム支持体からなる刷版の取
扱いに習熟しているため、アルミニウムの有する強度、
例えばクニックの発生のしにくさ、圧力等による変形の
しにくさ、現像処理前後の寸度安定性、金属支持体の割
に比較的軽量であるなどのアルミニウム支持体の有する
メリットを維持することを強く望んでいる。以上の様な
事情が湿し水不要平版印刷版においてもアルミニウムが
支持体として用いられている理由である。
The reason is as follows. That is, the support of photosensitive lithographic printing plates that use dampening water, which currently makes up the majority of lithographic printing plates, is an aluminum plate.
Most of the lithographic printing presses currently in operation on the market have a structure suitable for mounting an aluminum plate. Therefore, by using aluminum as a support even in a lithographic printing plate that does not require dampening water, it becomes possible to use the plate mounting device of a printing press without special modification. In addition, workers who handle plates at the plate-making site of lithographic printing plates are familiar with handling printing plates made of aluminum supports, so the strength of aluminum,
For example, maintaining the advantages of an aluminum support, such as resistance to formation of nicks, resistance to deformation due to pressure, etc., dimensional stability before and after development processing, and relatively light weight for a metal support. I strongly desire. The above circumstances are the reasons why aluminum is used as a support even in lithographic printing plates that do not require dampening water.

一方湿し水を用いる従来の感光性平版印刷版においてア
ルミニウム支持体を用いる最大の理由は、その表面が親
水性であり、表面処理により、比較的容易に高度の保水
性を示すことにある。
On the other hand, the main reason for using an aluminum support in conventional photosensitive lithographic printing plates that use dampening water is that its surface is hydrophilic, and it can relatively easily exhibit high water retention through surface treatment.

しかしながら本発明にかかわる湿し水不要感光性平版印
刷版では、湿し水は用いずに非画像部ではシリコーンゴ
ム層のインキ反撥性を利用するためアルミニウム表面の
親水性を利用することはない。従って従来、湿し水不要
感光性平版印刷版にアルミニウム板支持体を用いる場合
には、圧延時に混入する圧延油の脱脂処理を行う以外特
別の処理を行わないのが通常であった。
However, in the photosensitive lithographic printing plate that does not require dampening water according to the present invention, no dampening water is used and the ink repellency of the silicone rubber layer is utilized in the non-image area, so the hydrophilicity of the aluminum surface is not utilized. Therefore, conventionally, when an aluminum plate support is used in a photosensitive lithographic printing plate that does not require dampening water, no special treatment is usually performed other than degreasing the rolling oil mixed in during rolling.

この様なアルミニウム板の表面上に設置するコーティン
グ層とアルミニウム支持体との密着性を向上させる方法
として、該コーティング層中に種々の密着性向上効果を
有する化合物を含有させることが提案されている。例え
ば特開昭63−305360号には支持体上に隣接して
設けた硬膜したゼラチンからなるプライマー層中にシラ
ンカップリング剤を含有させることにより密着性を向上
させ得ることが開示されている。
As a method of improving the adhesion between the coating layer placed on the surface of such an aluminum plate and the aluminum support, it has been proposed to include compounds that have various adhesion-improving effects in the coating layer. . For example, JP-A-63-305360 discloses that adhesion can be improved by incorporating a silane coupling agent into a primer layer made of hardened gelatin provided adjacent to a support. .

しかしながら、支持体として親水性表面を有するアルミ
ニウム板を用いた時には必らずしも充分な密着力を得る
ことができなかった。特に、特開昭61−275759
号に記載されている様な水を主体とする現像液や、特公
昭6 3−3 3 1 4 0号に記載されている様な
シリコーン層を膨潤させる前処理液で処理した後に、水
又は水を主或分とする処理液中でブラシでこすりながら
現像処理を行う場合には、現像液の温度、ブラシのこす
り圧などの条件によって、プレートの周辺部において、
コーティング層がアルミニウム表面から剥離するという
問題が生じる。
However, when an aluminum plate having a hydrophilic surface was used as a support, it was not always possible to obtain sufficient adhesion. In particular, JP-A-61-275759
After treatment with a water-based developer as described in the Japanese Patent Publication No. 63-331-40 or a pre-treatment solution for swelling the silicone layer, water or When developing the plate while rubbing it with a brush in a processing solution mainly containing water, depending on conditions such as the temperature of the developer and the rubbing pressure of the brush, the periphery of the plate may
The problem arises that the coating layer peels off from the aluminum surface.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

したがって本発明の目的は、アルミニウム支持体とその
上に設けたブライマ一層との密着性が改良された湿し水
不要感光性平版印刷版を提供することである。
Therefore, an object of the present invention is to provide a photosensitive lithographic printing plate that does not require dampening water and has improved adhesion between an aluminum support and a single layer of brimer provided thereon.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明者らは種々研究を重ねた結果、アルミニウム板に
アルカリ金属珪酸塩水溶液処理を施し、及び/又はコロ
イドシリカゾルを塗布してなる支持体上に、該支持体に
隣接して設けるプライマー層中に、少くともl種のシラ
ンカップリング剤を含有させることにより密着性が飛躍
的に向上し、上記目的が達或されることを見い出し、本
発明を完或するに到った。
As a result of various studies, the present inventors found that a primer layer provided adjacent to a support made of an aluminum plate treated with an aqueous alkali metal silicate solution and/or coated with colloidal silica sol. It has been found that the adhesion is dramatically improved by containing at least one type of silane coupling agent, and the above object is achieved, and the present invention has been completed.

すなわち本発明は、支持体上に、プライマー層、感光層
及びシリコーンゴム層をこの順に設けた湿し水不要感光
性平版印刷版において、 該支持体が、アルカリ金属珪酸塩水溶液処理を施し及び
/又はコロイドシリカゾルを塗布してなるアルミニウム
板であり、該プライマー層が、少くともl種のシランカ
ップリング剤を含有することを特徴とする湿し水不要感
光性平版印刷版である。
That is, the present invention provides a photosensitive lithographic printing plate that does not require dampening water, in which a primer layer, a photosensitive layer, and a silicone rubber layer are provided in this order on a support, wherein the support is treated with an aqueous alkali metal silicate solution and/or Alternatively, it is an aluminum plate coated with colloidal silica sol, and the primer layer contains at least one type of silane coupling agent.

以下本発明について順を追って詳しく説明する。The present invention will be explained in detail below.

くアルミニウム支持体〉 本発明において用いられるアルミニウム板は、アルミニ
ウムを主或分とする、純アルミニウムや微量の異原子を
含むアルミニウム合金等の板状体である。この異原子に
は、珪素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、
亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどである。合金組
戒としては高々10重量%以下の含有率のものである。
Aluminum Support> The aluminum plate used in the present invention is a plate-shaped body made of pure aluminum or an aluminum alloy containing a trace amount of foreign atoms, which mainly contains aluminum. These foreign atoms include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium,
These include zinc, bismuth, nickel, and titanium. The alloy composition has a content of at most 10% by weight or less.

本発明に好適なアルミニウムは純アルミニウムであるが
、完全に純粋なアルミニウムは、精練技術上製造が困難
であるので、できるだけ異原子を含まないものがよい。
Aluminum suitable for the present invention is pure aluminum, but since it is difficult to produce completely pure aluminum due to scouring technology, it is preferable to use aluminum that contains as few foreign atoms as possible.

又、上述した程度の含有率のアノレミニウム合金であれ
ば、本発明に使用しつる素材とし)うことかできる。こ
のように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組
或が特定されるものではなく従来公知、公用の素材のも
のを適宜利用することができる。本発明に用いられるア
ルミニウム板の厚さは、およそ0.1 mm〜0. 5
 mm程度である。
Further, an anoleminium alloy having the above-mentioned content can be used as a vine material in the present invention. As described above, the aluminum plate applied to the present invention is not limited in its composition, and any conventionally known or publicly used material can be used as appropriate. The thickness of the aluminum plate used in the present invention is approximately 0.1 mm to 0.1 mm. 5
It is about mm.

この様なアルミニウム板は、表面の圧延油を除去するた
めに、例えば界面活性剤又はアルカリ性水溶液で処理す
る。
Such an aluminum plate is treated with, for example, a surfactant or an alkaline aqueous solution in order to remove rolling oil from the surface.

このように脱脂されたアルミニウム板は所望により陽極
酸化処理しても良い。
The aluminum plate thus degreased may be anodized if desired.

陽極酸化の処理条件は、用いる電解質により種々変わる
ので一概に特定し得ないが、一a的には電解質の濃度が
1〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、電流密度0.
5〜6 0 A/dm” 、電圧1〜toov,電解時
間10秒〜50分の範囲にあれば適当である。
The conditions for anodic oxidation vary depending on the electrolyte used, so they cannot be definitively specified, but generally speaking, the electrolyte concentration is 1 to 80% by weight solution, the liquid temperature is 5 to 70°C, and the current density is 0.
A range of 5 to 60 A/dm'', a voltage of 1 to 10 volts, and an electrolysis time of 10 seconds to 50 minutes is suitable.

陽極酸化皮膜の量は0.01〜10g/m’が好適であ
るが、より好ましくは0.1〜4 g / m’の範囲
である。
The amount of the anodic oxide film is preferably in the range of 0.01 to 10 g/m', more preferably in the range of 0.1 to 4 g/m'.

上記の様な処理を施した後、水洗し、アルカリ金属珪酸
塩水溶液処理、又はコロイドシリカゾルの塗布を行う。
After the above-mentioned treatment, washing with water, treatment with aqueous alkali metal silicate solution, or application of colloidal silica sol are performed.

アルカリ金属珪酸塩水溶液処理した後に引き続いて、コ
ロイドシリカゾルの塗布を行っても良い。
After the treatment with aqueous alkali metal silicate solution, colloidal silica sol may be applied.

くアルカリ金属珪酸塩水溶液処理〉 アルカリ金属珪酸塩水溶液処理は、米国特許第2, 7
14. 066号明細書や、同第3, 181, 46
1号明細書に記されているように、珪酸ナトリウム、珪
酸カリウム、珪酸リチウム等の水溶液で処理する。処理
方法としては、0.5〜30重量%、好ましくはl〜l
5重量%の濃度の水溶液で、温度15℃〜90℃で0.
5〜120秒間、スプレー処理または浸漬処理し、水洗
すればよい。
Alkali metal silicate aqueous solution treatment> Alkali metal silicate aqueous solution treatment is described in U.S. Patent Nos. 2 and 7.
14. Specification No. 066 and No. 3, 181, 46
As described in Specification No. 1, it is treated with an aqueous solution of sodium silicate, potassium silicate, lithium silicate, etc. As a treatment method, 0.5 to 30% by weight, preferably 1 to 1
In an aqueous solution with a concentration of 5% by weight, at a temperature of 15°C to 90°C, 0.
It may be sprayed or immersed for 5 to 120 seconds and washed with water.

くコロイドシリカゾルの塗布〉 本発明に使用するコロイドシリカゾルは、高分子量の無
水珪酸の超微粒子を溶媒に分敗させたコロイダルシリカ
液である。溶媒として水を用いるものは水性シリカゾル
、極性有機溶媒を用いるものはオルガノゾルと呼ばれて
いる。シリカゾルは水ガラスを原料にそのナトリウムを
除去する方法や、ケイ酸エステルから作られるが製法の
詳細や、性状については、「セラミックコーティング」
(昭和63年9月日刊工業新聞社発行)の第三章や、「
無機コーティング」 (昭和58年7月、近代出版社発
行〉の第一章に記載されている。これらのコロイドシリ
カゾルのうち水性シリカゾル及びメタノール分散シリカ
ゾルが製法上好ましい。
Application of colloidal silica sol> The colloidal silica sol used in the present invention is a colloidal silica liquid obtained by dissolving ultrafine particles of high molecular weight silicic anhydride in a solvent. Those that use water as a solvent are called aqueous silica sol, and those that use a polar organic solvent are called organosols. Silica sol is made from water glass and silicate ester, but for details on the manufacturing method and properties, please refer to "Ceramic Coating".
(Published by Nikkan Kogyo Shimbun in September 1988) Chapter 3,
Inorganic Coating" (July 1980, published by Kindai Shuppansha), Chapter 1. Among these colloidal silica sols, aqueous silica sol and methanol-dispersed silica sol are preferred from the viewpoint of manufacturing method.

コロイドシリカゾルは、一般に3102を10〜50重
量%、Na20を0.01〜2.00重量%含有し、粒
子径は、5〜30mμである。
Colloidal silica sol generally contains 10 to 50% by weight of 3102 and 0.01 to 2.00% by weight of Na20, and has a particle size of 5 to 30 mμ.

コロイドシリカゾルを塗布する方法としてはホイラー塗
布機、ロールコーター塗布機、バーコーター塗布機等で
塗布する方法、又は浸漬処理する方法等、いかなる方法
も用いることができる。
Any method can be used to apply the colloidal silica sol, such as a method using a wheeler coater, a roll coater coater, a bar coater coater, etc., or a dipping treatment method.

塗布液又は処理液は、市販のコロイドシリカゾルを希釈
して、用いることができ、希釈液としては水性シリカゾ
ルであってもオルガノゾルであっても、例えば純水とメ
タノールの混合溶媒を用いれば良い。
The coating liquid or treatment liquid can be used by diluting a commercially available colloidal silica sol, and whether the diluting liquid is an aqueous silica sol or an organosol, for example, a mixed solvent of pure water and methanol may be used.

コロイドシリカゾルの安定性に問題がなければメタノー
ル比率が高い方が、乾燥負荷が小さく、塗布液の表面張
力が低下するため、ムラなく均一に塗布可能である。塗
布液のSi02の含有量は0. O O 2〜4.0重
量%が適当である。コロイドシリカゾルの塗布層の塗布
量は乾燥重量で0. 5 mg/m’〜1.Og/m’
の範囲に設けることが好ましい。
If there is no problem with the stability of the colloidal silica sol, the higher the methanol ratio, the smaller the drying load and the lower the surface tension of the coating solution, allowing for even and uniform coating. The content of Si02 in the coating liquid is 0. 2 to 4.0% by weight of O O is suitable. The coating amount of the colloidal silica sol coating layer is 0. 5 mg/m'~1. Og/m'
It is preferable to set it within the range of .

特に好ましくは1〜500mg/m’の範囲である。Particularly preferred is a range of 1 to 500 mg/m'.

0. 5 mg / m’より少ないと、密着力は向上
せず、1. 0 gより多いと皮膜の可撓性が損われ、
版取扱い時に皮膜に亀裂を生じ易くなる。
0. If the amount is less than 5 mg/m', the adhesion strength will not improve, and 1. If it is more than 0 g, the flexibility of the film will be impaired,
The film tends to crack when handling the plate.

この様にして得られたアルミニウム支持体上に、設ける
層は、ポジタイブであるかネガタイプであるか、現像処
理時、感光層除去型か非除去型か、など感光性平版印刷
版の要求性能に合わせ様々な構或を選択することが可能
であるが、本発明の優れた支持体密着性を達或するため
には”、該支持体上に隣接して設けるプライマー層中に
少なくとも1種のシランカップリング剤を含有させるこ
とが必要である。
The layer to be formed on the aluminum support obtained in this way depends on the required performance of the photosensitive lithographic printing plate, such as whether it is positive or negative type, and whether the photosensitive layer is removed or not removed during development processing. Although various configurations can be selected, in order to achieve the excellent adhesion to the support of the present invention, it is necessary to include at least one type of primer layer in the primer layer provided adjacent to the support. It is necessary to include a silane coupling agent.

くシランカップリング剤〉 本発明に使用するシランカップリング剤としては、−1
1k的に知られているもの、例えば「表面」第21巻、
第157〜167頁(1983年)およびB. P.プ
リューデマン著『シラン・カップリング・エージエンッ
』プレナム・プレス刊(1982)1:P1uedde
mann  ″Silane Coupling Ag
ents”Plenum Press ( 1 9 8
 2 ) ]に記載されている種々のものが使用できる
Silane coupling agent> As the silane coupling agent used in the present invention, -1
Things that are known in terms of 1k, such as "Surface" Volume 21,
pp. 157-167 (1983) and B. P. Plüdemann, Silane Coupling Agent, Plenum Press (1982) 1: P1uedde
mann ″Silane Coupling Ag
ents"Plenum Press (1 9 8
2)] can be used.

本発明に適するシランカップリング剤には、下・記一般
式で示さ.れるものが含まれる。
The silane coupling agent suitable for the present invention is represented by the following general formula. This includes things that can be done.

X Rs−nsiYn ここで、Rは水素原子又は炭素数1〜5のアルキル基を
示し、Xはアルキル基、ビニル基、又は有機マトリック
スポリマーと結合しうるか親和性のある官能基を有する
有機基を示し、Yは加水分解して水酸基を生或する有機
基、又は水酸基を示し、nは2又は3を示す。
X Rs-nsiYn Here, R represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms; , Y represents an organic group or a hydroxyl group that is hydrolyzed to produce a hydroxyl group, and n represents 2 or 3.

上記Xのアルキル基としては、メチル基が好ましい。ま
たXが有機マトリックスポリマーと結合しつるか親和性
のある官能基を有する有機基の場合、当該官能基として
はビニル基、アクリロイル基、アミノ基、4級アンモニ
ウム基、エポキシ基、メルカブト基、クロロ基などが含
まれ、官能基を除く有機基としては脂肪族炭化水素基が
好ましく、その中に芳香族炭化水素基が含まれていても
よい。
The alkyl group for X above is preferably a methyl group. In addition, when X is an organic group having a functional group that has affinity for bonding with an organic matrix polymer, examples of the functional group include vinyl group, acryloyl group, amino group, quaternary ammonium group, epoxy group, mercabuto group, chloro The organic group excluding functional groups is preferably an aliphatic hydrocarbon group, and may include an aromatic hydrocarbon group.

このような官能基を有する有機基の好ましい具体例には
、N−(β−アミノエチル)一T−アミノブロビル基、
T−メタクリロイルオキシプロビル基、N− (β一(
N−ビニルベンジルアミノ〉エチル〕−r−アミノプロ
ピル基、γ−グリシドキシプロピル基、γ−メルカプト
プロビル基、T−クロロプロビル基、γ−アニリノプロ
ビル基、C1aHsr  N(C}l−) *  (C
Hz) 3−などが含まれる。
Preferred specific examples of organic groups having such functional groups include N-(β-aminoethyl)-T-aminobrobyl group,
T-methacryloyloxyprobyl group, N- (β-(
N-vinylbenzylamino〉ethyl]-r-aminopropyl group, γ-glycidoxypropyl group, γ-mercaptopropyl group, T-chloropropyl group, γ-anilinopropyl group, C1aHsr N(C}l -) * (C
Hz) 3- etc.

また、Yの加水分解して水酸基を生或する基としては、
炭素数l〜5のアルコキシ基(例えばメトキシ基が好ま
しい)、炭素数3〜5のアルコキシアルコキシ基(例え
ばβ−メトキシエトキシ基が好ましい)、炭素数2〜5
のアシル才キシ基(例えばアセチルオキシ基が好ましい
)、ジアルキルアミノ基(例えばジメチルアミノ基が好
ましい〉、クロロ基、トリメチルシリルアミノ基などが
含まれる。
In addition, as a group that generates a hydroxyl group by hydrolysis of Y,
Alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms (for example, methoxy group is preferred), alkoxyalkoxy group having 3 to 5 carbon atoms (for example, β-methoxyethoxy group is preferred), 2 to 5 carbon atoms
Examples include acyloxy groups (for example, acetyloxy groups are preferred), dialkylamino groups (for example, dimethylamino groups are preferred), chloro groups, trimethylsilylamino groups, and the like.

本発明に有用な代表的なシランカップリング剤を以下に
示す。
Typical silane coupling agents useful in the present invention are shown below.

(1)不飽和基含有シランカップリング剤:ビニルトリ
メトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルト
リス(β−メトキシエトキシ)シラン、ビニルトリクロ
ルシラン、T−(メタクリ口キシプロビル)トリメトキ
シシラン、ビニルトリアセトキシシランなど。
(1) Unsaturated group-containing silane coupling agent: vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris(β-methoxyethoxy)silane, vinyltrichlorosilane, T-(methacrylicoxyprobyl)trimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane Such.

(2)アミノ基含有シランカップリング剤:N−(β−
アミノエチル)一T−アミノブロビルトリメトキシシラ
ン、N−(β−アミノエチル)一T−アミノプロピルメ
チルジメトキシシラン、T−アミノプロピルトリエトキ
シシラン、N−フェニルーT−アミノブロビルトリメト
キシシランなど。
(2) Amino group-containing silane coupling agent: N-(β-
aminoethyl)-T-aminobrobyltrimethoxysilane, N-(β-aminoethyl)-T-aminopropylmethyldimethoxysilane, T-aminopropyltriethoxysilane, N-phenyl-T-aminobrobyltrimethoxysilane, etc. .

(3)エポキシ基含有シランカップリング剤:T−グリ
シドキシプロビルトリメトキシシラン、T−グリシドキ
シブロピルメチルジメトキシシラン、β−(3.4−エ
ポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランなど
(3) Epoxy group-containing silane coupling agent: T-glycidoxypropyltrimethoxysilane, T-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, etc.

(4)メルカプト基含有シランカップリング剤:T−メ
ルカブトプロビルトリメトキシシラン、T−メルカプト
プロビルメチルジメトキシシランなど。
(4) Mercapto group-containing silane coupling agent: T-mercaptopropyltrimethoxysilane, T-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, etc.

(5)クロロ基含有シランカップリング剤:T−クロロ
プロピルトリメトキシシラン、″Tークロロプロビルメ
チルジメトキシシラン、メチルトリクロロシラン、ジメ
チルジクロロシラン、トリメチルクロルシランなど。
(5) Chloro group-containing silane coupling agent: T-chloropropyltrimethoxysilane, T-chloropropylmethyldimethoxysilane, methyltrichlorosilane, dimethyldichlorosilane, trimethylchlorosilane, etc.

くプライマー層〉 本発明に好適なプライマー層としては、特開昭62−1
94255号に開示されている様なエポキシ樹脂を主体
とするもの、特開昭63−305360号に開示されて
いる硬膜されたゼラチンからなるブライマ一層、特願昭
63−185130号に開示されているカゼイン、大豆
タンパク質、アルブミンを主体とするプライマー層、特
願平1−62875号に開示されている様なゼラチン、
カゼイン、大豆タンパク質、アルブミン等の天然物タン
パク質とジエン系ゴムのラテックス分散物とのタンパク
/ゴム複合系プライマー層、硫黄化合物及び/又は2価
の金属塩、過酸化物等で架橋された。変性、未変性のジ
エン系ゴムからなるプライマー層、水溶性ウレタンボリ
マー、水分散性ウレタンボリマ、ウレタンエラストマー
を主体とするプライマー層等をあげることができる。
Primer layer> As a primer layer suitable for the present invention, JP-A-62-1
94255, which is based on epoxy resin, a layer of hardened gelatin as disclosed in JP-A No. 63-305360, and a blazer made of hardened gelatin as disclosed in Japanese Patent Application No. 63-185130. A primer layer mainly containing casein, soybean protein, and albumin, gelatin as disclosed in Japanese Patent Application No. 1-62875,
A protein/rubber composite primer layer consisting of a latex dispersion of a natural protein such as casein, soybean protein, or albumin and a diene rubber, crosslinked with a sulfur compound and/or a divalent metal salt, peroxide, or the like. Examples include a primer layer made of modified or unmodified diene rubber, a water-soluble urethane polymer, a water-dispersible urethane polymer, a primer layer mainly made of a urethane elastomer, and the like.

これらのプライマー層塗布液に前記のシランカップリン
グ剤を適当な溶剤に溶解し、添加して塗布、乾燥する。
The above-mentioned silane coupling agent dissolved in a suitable solvent is added to these primer layer coating solutions, followed by coating and drying.

シランカップリング剤の添加量はバインダー樹脂の量の
0.1重量%から10重量%、好ましくは0.5重量%
から5重量%である。
The amount of silane coupling agent added is 0.1% to 10% by weight, preferably 0.5% by weight of the amount of binder resin.
to 5% by weight.

く感光層〉 本発明で使用される感光性樹脂層は一級的には露光によ
って現像液に対する溶解性に差が生じるか、又は上層の
シリコーンゴム層との界面で接着性に変化を生じるもの
であればいかなるものであっても使用することができる
。画像形或は、ネガ型でもポジ型でもよい。
Photosensitive layer〉 The photosensitive resin layer used in the present invention is one in which exposure to light causes a difference in solubility in a developer or changes in adhesiveness at the interface with the upper silicone rubber layer. You can use whatever you have. It may be an image type, a negative type, or a positive type.

このような感光層を構成する化合物又は組或物には、次
のものが含まれる。
Compounds or compositions constituting such a photosensitive layer include the following.

(^)光重合型感光性組或物: (1)オレフイン性不飽和二重結合基を有するモノマー
又はオリゴマー、(2)必要に応じて使用される、フィ
ルム形戊能を有する高分子化合物及び(3)光重合開始
剤からなる光重合型感光物よりなる。
(^) Photopolymerizable photosensitive composition: (1) A monomer or oligomer having an olefinically unsaturated double bond group, (2) A polymeric compound having a film-forming ability, which is used as necessary, and (3) A photopolymerizable photosensitive material containing a photopolymerization initiator.

上記成分(1)〜(3)を含む感光性樹脂層の中で或分
(1)と(2)が結合し7た高分子化合物、即ち、側鎖
に光重合可能又は光架橋可能でかつオレフィン性の不飽
和二重結合基を有するとともにフィルム形或能を有する
高分子化合物を含む感光性樹脂層も本発明に用いるのに
好適である。また、戒分(1)と(2)が結合した化合
物に、更に或分(1)のモノマー又はオリゴマーを添加
した感光性樹脂層は更に好適である。
In the photosensitive resin layer containing the above components (1) to (3), a certain amount is a polymer compound in which (1) and (2) are bonded together, i.e., the side chain is photopolymerizable or photocrosslinkable and A photosensitive resin layer containing a polymer compound having an olefinic unsaturated double bond group and a film-forming ability is also suitable for use in the present invention. Further, a photosensitive resin layer in which a certain amount of the monomer or oligomer of (1) is further added to a compound in which components (1) and (2) are combined is more suitable.

上記の如き感光性樹脂層用の組或物は例えば、特願昭6
3−40194号に記載されたものが好適に使用できる
The composition for the photosensitive resin layer as described above is disclosed in Japanese Patent Application No. 6, 1983, for example.
Those described in No. 3-40194 can be preferably used.

(B)光二量化型感光性組或物: 重合体の主鎮又は側鎖に (R, SR.はそれぞれアルキル基を示し、R1とR
2とが一緒にイよって5員環又は6員環を形或してもよ
い)、又は (R:炭素数lから10のアルキル基)を含む高分子化
合物からなるものが含まれる。
(B) Photodimerizable photosensitive composition: In the main chain or side chain of the polymer (R, SR. each represents an alkyl group, R1 and R
(2 and 2 may form a 5- or 6-membered ring), or (R: an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms).

重合体主鎖又は側鎖に感光性基として (R:炭素数1からlOのアルキル基)エステル類、ポ
リアミド類、ポリカーボネート類のような感光性重合体
を主或分とするものく例えば米国特許第3, 030,
 208号、同第3. 707. 373号及び同第3
. 453, 237号の各明細書に記載されているよ
うな化合物);シンナミリデンマロン酸等の(2一プロ
ペリデン)マロン酸化合物及び二官能性グリコール類か
ら誘導される感光性ポリエステル類を主或分としたもの
(例えば、米国特許第2, 956, 878号及び同
第3. 173. 787号の各明細書に記載されてい
るような感光性重合体);ボリビニルアルコール、澱粉
、セルロース及びその類似物のような水酸基含有重合体
のケイ皮酸エステル類(例えば、米国特許第2. 69
0. 966号、同第2. 752. 372号、同第
2, 732、301号等の各明細書に記載されている
ような感光性重合体)、更に特開昭58−25302号
、同5 9−1 7 5 5 0号公報に記載されてい
る重合体等が包含される。
For example, those containing photosensitive polymers such as esters, polyamides, and polycarbonates as photosensitive groups (R: alkyl group having 1 to 10 carbon atoms) in the main chain or side chain of the polymer, for example, US patents. No. 3, 030,
No. 208, same No. 3. 707. No. 373 and No. 3
.. 453, 237); mainly photosensitive polyesters derived from (2-properidene) malonic acid compounds such as cinnamylidene malonic acid and difunctional glycols; (e.g., photopolymers as described in U.S. Pat. Nos. 2,956,878 and 3,173,787); borivinyl alcohol, starch, cellulose and Cinnamate esters of hydroxyl-containing polymers such as their analogs (e.g., U.S. Pat. No. 2.69
0. No. 966, same No. 2. 752. 372, Nos. 2, 732, 301, etc.), as well as in JP-A-58-25302 and JP-A-59-17550. Included are the polymers and the like described.

(C)光硬化性ジアゾ樹脂あるいはアジド樹脂と、必要
ならば光増感剤と、若干の充填材添加物とからなる組成
物: 光硬化性ジアゾ樹脂としては、パラジアゾジフエニルア
ミン、パラジアゾモノエチルアニリン、パラジアゾベン
ジルエチルアニリンなどのジアゾ系アミンとホルムアル
デヒドとの縮合物の塩化亜鉛複塩を挙げることができる
(C) A composition comprising a photocurable diazo resin or azide resin, a photosensitizer if necessary, and some filler additives: As the photocurable diazo resin, paradiazodiphenylamine, paradiazo Examples include zinc chloride double salts of condensates of formaldehyde and diazo amines such as monoethylaniline and paradiazobenzylethylaniline.

この感光性樹脂層は光重合性不飽和二重結合基を有する
化合物を含有しない点で(A)で挙げた感光性樹脂層と
は本質的に異なるものである。
This photosensitive resin layer is essentially different from the photosensitive resin layer mentioned in (A) in that it does not contain a compound having a photopolymerizable unsaturated double bond group.

光硬化性アジド樹脂としては、ポリビニルアルコールの
アジドフタル酸エステル、あるいはアジド安息fF 酸
エステル、スチレンー無水マレイン酸共重合体と、芳香
族アジド系アルコール、例えばβ−(4−アジドフェノ
ール)エタノールのエステルなどがあげられる。
Examples of the photocurable azide resin include azidophthalate ester of polyvinyl alcohol, azidobenzoate ester, ester of styrene-maleic anhydride copolymer, and aromatic azido alcohol such as β-(4-azidophenol)ethanol. can be given.

(D) o−キノンジアジド化合物からなる組或物:特
に好ましい0−キノンジアジド化合物は。−ナフトキノ
ンジアジド化合物であり、例えば米国特許第2.766
.118号、同第2.767,092号、同第2. 7
 7 2. 9 7 2号、同第2.859,112号
、同第2. 9 0 7. 6 6 5号、同第3,0
46,110号、同第3.046.111号、同第3,
046,115号、同第3.046.118号、同第3
. 0 4 6. 1 1 9号、同第3.046,1
20号、同第3.046.121号、同第3,046,
122号、同第3.046.123号、同第3. 0 
6 1. 4 3 0号、同第3. 1 0 2. 8
 0 9号、同第3.106,465号、同第3.63
5.709号、同第3. 6 4 7, 4 4 3号
の各明細書をはじめ、多数の刊行物に記されており、こ
れらは好適に使用することができる。これらの内でも、
特に芳香族ヒドロキシ化合物の0−ナフトキノンジアジ
ドスルホン酸エステル又は0−ナフトキノンジアジドヵ
ルボン酸エステル、及び芳香族アミン化合物の0−ナフ
トキノンジアジドスルホン酸アミドまたは0−ナフトキ
ノンジアジドカルボン酸アミドが好ましい。
(D) Set consisting of o-quinonediazide compounds: Particularly preferred o-quinonediazide compounds. - naphthoquinone diazide compounds, e.g. U.S. Pat.
.. No. 118, No. 2.767,092, No. 2. 7
7 2. 9 7 No. 2, No. 2.859,112, No. 2. 9 0 7. 6 6 No. 5, same No. 3,0
No. 46,110, No. 3.046.111, No. 3,
No. 046,115, No. 3.046.118, No. 3
.. 0 4 6. 1 1 9, 3.046, 1
No. 20, No. 3.046.121, No. 3,046,
No. 122, No. 3.046.123, No. 3. 0
6 1. 430, same No. 3. 1 0 2. 8
0 9, 3.106,465, 3.63
5.709, same No. 3. It is described in numerous publications including the specifications of Nos. 647 and 443, and these can be suitably used. Among these,
Particularly preferred are 0-naphthoquinonediazide sulfonic acid ester or 0-naphthoquinonediazidecarboxylic acid ester of an aromatic hydroxy compound, and 0-naphthoquinonediazide sulfonic acid amide or 0-naphthoquinonediazidecarboxylic acid amide of an aromatic amine compound.

くシリコーンゴム層〉 本発明において好ましく用いられるシリコーンコム層は
線状又は部分的に架橋したポリジ才ルガノシロキサンで
あり、次のような繰返し単位を有する。
Silicone Rubber Layer> The silicone comb layer preferably used in the present invention is a linear or partially crosslinked polydiluganosiloxane and has the following repeating units.

ここで、Rはアルキル基、アリール基、アルケニル基又
はこれらの組み合わされたー価の基を表わし、それらは
ハロゲン原子、アミン基、ヒドロキシ基、アルコキシ基
、アリーロキシ基、(メタ)アクリロキシ基、チオール
基などの官能基を有していてもよい。なお、シリコーン
ゴム中には必要に応じ、シリカ、炭酸カルシウム、酸化
チタンなどの無機物の微粉末、前記のシランカップリン
グ剤、チタネート系カップリング剤やアルミニウム系カ
ップリング剤との接着助剤や光重合開始剤を添加しても
よい。
Here, R represents an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, or a combination thereof; It may have a functional group such as a group. In addition, silicone rubber may contain fine powders of inorganic substances such as silica, calcium carbonate, and titanium oxide, adhesion aids for the above-mentioned silane coupling agents, titanate coupling agents, and aluminum coupling agents, and light. A polymerization initiator may also be added.

上記ポリシロキサンを主たる骨格とする高分子重合体(
シリコーンゴム)の原料としては分子量数干ないし数十
万で末端に官能基を有するボリシロキサンが使用され、
これを次に示すような方法で架橋硬化してシリコーンゴ
ム層が得られる。即ち、具体的には両末端にあるいは片
末端のみに水酸基を有する上記ポリシロキサンに次のよ
うな一般式で示されるシラン系架橋剤を混入し、必要に
応じて有機金属化合物、例えば有機スズ化合物、無機酸
、アミン等の触媒を添加して、ポリシロキサンとシラン
系架橋剤とを加熱し、又は常温で縮合硬化せしめる。
High molecular weight polymer whose main skeleton is the above-mentioned polysiloxane (
Polysiloxane, which has a molecular weight of several tens of thousands to several hundred thousand and has a functional group at the end, is used as a raw material for silicone rubber.
This is crosslinked and cured in the following manner to obtain a silicone rubber layer. Specifically, a silane crosslinking agent represented by the following general formula is mixed into the polysiloxane having a hydroxyl group at both ends or only at one end, and if necessary, an organometallic compound such as an organotin compound is added. A catalyst such as an inorganic acid or an amine is added, and the polysiloxane and the silane crosslinking agent are heated or condensed and cured at room temperature.

R .SiX 4−n ここで、nは1〜3の整数、Rは先に示したRと同様の
置換基であり、Xは−○H、一〇R2などの置換基を表
わす。ここで、R2、R3は、先に説明したRと同じ意
味であり、R2、R3はそれぞれ同じであっても異なっ
ていても良い。また、Acはアセチル基を表わす。
R. SiX 4-n Here, n is an integer of 1 to 3, R is the same substituent as R shown above, and X represents a substituent such as -○H or 10R2. Here, R2 and R3 have the same meaning as R described above, and R2 and R3 may be the same or different. Moreover, Ac represents an acetyl group.

その他末端に水酸基を有するオルガノポリシロキサン、
ハイドロジエンボリシロキサン架橋剤と必要に応じて上
記のシラン系架橋剤とを縮合硬化せしめる。
Other organopolysiloxanes with hydroxyl groups at the ends,
The hydrodiene polysiloxane crosslinking agent and, if necessary, the above-mentioned silane crosslinking agent are condensed and cured.

この他冫S i H基とーCH=CH一基との付加反応
によって架橋させた付加型シリコーンゴム層も有用であ
る。付加型シリコーンゴム層は硬化時比較的湿度の影響
を受けにくく、その上高速で架橋させることが出来、一
定の物性を容易に得ることが出来るという利点がある。
In addition, an addition-type silicone rubber layer crosslinked by an addition reaction between an S i H group and a -CH═CH group is also useful. The addition-type silicone rubber layer has the advantage that it is relatively unaffected by humidity during curing, can be crosslinked at high speed, and can easily obtain certain physical properties.

縮合型のシリコーンゴム層の場合、感光性樹脂層中にカ
ルボン酸が存在すれば、用いる架橋剤によっては硬化不
良が起るのに対して、付加型ではカルポン酸が存在して
も十分に硬化が起る。このように感光性樹脂層にカルボ
ン酸を存在させることが出来るので、水又はアルカリ水
を主体とする現像液で現像出来る感光性印刷版を容易に
設計することが可能である。
In the case of a condensation type silicone rubber layer, if carboxylic acid is present in the photosensitive resin layer, curing failure may occur depending on the crosslinking agent used, whereas with an addition type silicone rubber layer, curing is sufficient even in the presence of carboxylic acid. happens. Since carboxylic acid can be present in the photosensitive resin layer in this way, it is possible to easily design a photosensitive printing plate that can be developed with a developer mainly containing water or alkaline water.

ここで用いる付加型シリコーンゴム層は多価ハイドロジ
ェンオルガノポリシロキサンと、1分子中に2個以上の
一CH=CH一結合を有するポリシロキサン化合物との
反応によって得られるもので、望ましくは以下の成分: (1)1分子中にケイ素原子に直接結合したアルケニル
基(望ましくはビニル基)を少なくとも2個有する才ル
ガノボリシロキサン 100重量部 (2)1分子中に少なくともシSt }{結合を2個有
するオルガノハイドロジェンポリシロキサン0.1〜1
000重量部 (3)付加触媒    0. 0 0 0 0 1〜1
0重量部からなる組或物を硬化架橋したものである。或
分(1)のアルケニル基は分子鎖末端、中間のいずれに
あってもよく、アルケニル基以外の有機基としては、置
換もしくは非置換のアルキル基、アリール基である。或
分(1)は水酸基を微量有することも任意である。或分
(2)は或分(1)と反応してシリコーンゴム層を形或
するが、感光性樹脂層に対する接着性の付与の役割も果
たす。或分(2)の水素基は分子鎖末端、中間のいずれ
にあってもよく、水素以外の有機基としては或分(1)
と同様のものから選ばれる。戊分(1)と或分(2)の
有機基はインキ反発性の向上の点で総じて基数の60%
以上がメチル基であることが好ましい。或分(1)及び
戊分(2)の分子構造は直鎮状、環状、分枝状いずれで
もよく、どちらか少なくとも一方の分子量が1. O 
O Oを超えることがゴム物性の面から好ましく、更に
戒分(1)の分子量が1. 0 0 0を超えることが
好ましい。
The addition-type silicone rubber layer used here is obtained by the reaction of a polyhydrogen organopolysiloxane and a polysiloxane compound having two or more one CH=CH bonds in one molecule, and is preferably made of the following: Ingredients: (1) 100 parts by weight of polysiloxane having at least two alkenyl groups (preferably vinyl groups) directly bonded to silicon atoms in one molecule (2) At least 2 St {bonds) in one molecule Organohydrogenpolysiloxane 0.1-1
000 parts by weight (3) Addition catalyst 0. 0 0 0 0 1~1
It is obtained by curing and crosslinking a composition consisting of 0 parts by weight. The alkenyl group in part (1) may be located either at the end or in the middle of the molecular chain, and organic groups other than the alkenyl group include substituted or unsubstituted alkyl groups and aryl groups. Part (1) may optionally have a trace amount of hydroxyl group. Part (2) reacts with part (1) to form a silicone rubber layer, but also plays the role of imparting adhesiveness to the photosensitive resin layer. The hydrogen group in Part (2) may be located either at the end or in the middle of the molecular chain, and as an organic group other than hydrogen, Part (1)
Selected from similar items. The organic groups of Bokubun (1) and Abunbu (2) account for 60% of the total number of groups in terms of improving ink repellency.
It is preferable that the above group is a methyl group. The molecular structure of Part (1) and Part (2) may be straight, cyclic, or branched, and the molecular weight of at least one of them is 1. O
It is preferable that the molecular weight of the precept (1) exceeds 1.0 from the viewpoint of rubber physical properties. It is preferable that it exceeds 0 0 0.

或分(1)としては、α,ω−ジビニルボリジメチルシ
ロキサン、両末端メチル基の(メチルビニルシロキサン
)(ジメチルシロキサン)共重合体などが例示され、或
分(2)としては、両末端水素基のポリジメチルシロキ
サン、α.ω−ジメチルポリメチルハイドロジエンシロ
キサン、両末端メチル基の(メチルハイドロジエンシロ
キサン)(ジメチルシロキサン)共重合体、環状ポリメ
チルハイドロジエンシロキサンなどが例示される。
Part (1) is exemplified by α,ω-divinylborodimethylsiloxane, (methylvinylsiloxane) (dimethylsiloxane) copolymer with methyl groups at both ends, and part (2) is exemplified by based polydimethylsiloxane, α. Examples include ω-dimethylpolymethylhydrodienesiloxane, a (methylhydrodienesiloxane)(dimethylsiloxane) copolymer having methyl groups at both ends, and cyclic polymethylhydrodienesiloxane.

或分(3)の付加触媒は、公知のもののなかから任意に
選ばれるが、特に白金系の化合物が望ましく、白金単体
、塩化白金、塩化白金酸、オレフィン配位白金などが例
示される。これらの組成物の硬化速度を制御する目的で
、テトラシクロ(メチルビニル)シロヰサンなどのビニ
ル基含有のオルガノボリシロキサン、炭素一炭素三重結
合含有のアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、
メタノール、エタノール、プロピレングリコールモノメ
チルエーテルなどの架橋抑制剤を添加することも可能で
ある。
The addition catalyst (3) may be arbitrarily selected from known ones, but platinum-based compounds are particularly preferred, and examples thereof include simple platinum, platinum chloride, chloroplatinic acid, and olefin-coordinated platinum. For the purpose of controlling the curing rate of these compositions, vinyl group-containing organoborisiloxanes such as tetracyclo(methylvinyl)siloxane, carbon-carbon triple bond-containing alcohols, acetone, methyl ethyl ketone,
It is also possible to add crosslinking inhibitors such as methanol, ethanol, propylene glycol monomethyl ether.

これらの組或物は、3或分を混合した時点において付加
反応が起き、硬化が始まるが、硬化速度は反応温度が高
くなるに従い急激に大きくなる特黴を有する。故に組戒
物のゴム化までのポットライフを長くし、かつ感光性樹
脂層上での硬化時間を短くする目的で、組或物の硬化条
件は、基板、感光性樹脂層の特性が変らない範囲の温度
条件で、かつ完全に硬化するまで高温に保持しておくこ
とが、感光性樹脂層との接着力の安定性の面で好ましい
These compositions undergo an addition reaction and begin to cure when three parts are mixed, but the curing rate has the characteristic of rapidly increasing as the reaction temperature increases. Therefore, in order to lengthen the pot life of the kumikaimono until it turns into rubber and shorten the curing time on the photosensitive resin layer, the curing conditions for the kumikai are set such that the characteristics of the substrate and the photosensitive resin layer do not change. From the viewpoint of stability of adhesive force with the photosensitive resin layer, it is preferable to maintain the temperature within a range of temperature conditions and at a high temperature until completely cured.

これらの組成物の他に、アルケニルトリアルコキシシラ
ンなどの公知の接着付与剤を添加することや、縮合型シ
リコーンゴム層の組成物である水酸基含有オルガノボリ
シロキサン、加水分解性官能基含有シラン(もしくはシ
ロキサン)を添加することも任意であり、またゴム強度
を向上させる目的で、シリカなどの公知の充てん剤を添
加することも任意である。
In addition to these compositions, known adhesion promoters such as alkenyltrialkoxysilanes may be added, or organoborisiloxanes containing hydroxyl groups, silanes containing hydrolyzable functional groups (or It is also optional to add siloxane), and it is also optional to add a known filler such as silica for the purpose of improving the rubber strength.

本発明におけるシリコーンゴム層は印刷インキ反発層と
なるものであり、厚さが小さいとインキ反発性の低下、
傷が入りやすいなどの問題があり、厚さが大きい場合、
現像性が悪くなるという点から、厚みとしては0.5μ
mから5μmが好適・である。
The silicone rubber layer in the present invention serves as a printing ink repellent layer, and if the thickness is small, the ink repellency decreases,
If there are problems such as easy scratches and the thickness is large,
The thickness should be 0.5 μm because the developability will deteriorate.
5 μm is preferable.

ここに説明した湿し水不要感光性平版印刷版においてシ
リコーンゴム層上に、更に種々のシリコーンゴム層を塗
工することも任意であり、また感光性樹脂層とシリコー
ンゴム層との間の接着力を上げる目的、もしくはシリコ
ーンゴム組成物中の触媒の被毒を防止する目的で、感光
性樹脂層とシリコーンゴム層の間に接着層を設けること
も任意である。シリコーンゴム層の表面保護のために、
シリコーンゴム層上に、透明なフィルム、例えばポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビ
ニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンテレフ
タレート、セロファン等をラミネートしたり、ポリマー
のコーティングを施してもよい。
In the photosensitive lithographic printing plate that does not require dampening water as described herein, it is optional to further coat various silicone rubber layers on the silicone rubber layer, and the adhesion between the photosensitive resin layer and the silicone rubber layer is also optional. It is also optional to provide an adhesive layer between the photosensitive resin layer and the silicone rubber layer for the purpose of increasing the strength or preventing poisoning of the catalyst in the silicone rubber composition. For surface protection of silicone rubber layer,
On the silicone rubber layer, a transparent film such as polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polyethylene terephthalate, cellophane, etc. may be laminated or a polymer coating may be applied.

〈現 像〉 本発明による湿し水不要感光性平版印刷版は原画を通し
て露光されたのち画像部の感光性樹脂層の一部あるいは
全部を溶解あるいは膨潤しつる現像液、あるいはシリコ
ーンゴム層を膨潤しうる現像液で現像される。この場合
画像部の感光性樹脂層及びその上のシリコーンゴム層が
除去される場合と画像部のシリコーンゴム層のみが除去
される場合がありこれは現像液の強さによって制御する
ことができる。
<Development> The photosensitive lithographic printing plate that does not require dampening water according to the present invention is exposed to light through the original image and then treated with a developer that dissolves or swells part or all of the photosensitive resin layer in the image area, or that swells the silicone rubber layer. Developed with a compatible developer. In this case, there are cases in which the photosensitive resin layer in the image area and the silicone rubber layer thereon are removed, and cases in which only the silicone rubber layer in the image area is removed, and this can be controlled by the strength of the developer.

本発明において用いられる現像液としては、湿し水不要
感光性平版印刷版の現像液として公知のものが使用でき
る。例えば、脂肪族炭化水素類(ヘキサン、ヘプタン、
“アイソバーE,H.G″(エッソ化学■製脂肪族炭化
水素類の商品名)あるいはガソリン、灯油など)、芳香
族炭化水素類(トルエン、キシレンなど〉、あるいはハ
ロゲン化炭化水素(トリクレンなど)に下記の極性溶媒
を添加したものや極性溶媒そのものが使用できる。
As the developer used in the present invention, those known as developers for photosensitive lithographic printing plates that do not require dampening water can be used. For example, aliphatic hydrocarbons (hexane, heptane,
"Isovar E, H.G" (trade name of aliphatic hydrocarbons manufactured by Esso Chemical ■, gasoline, kerosene, etc.), aromatic hydrocarbons (toluene, xylene, etc.), or halogenated hydrocarbons (triclene, etc.) The following polar solvents can be added to the solvent, or the polar solvent itself can be used.

アルコール類(メタノール、エタノール、プロバノール
、ベンジルアルコール、エチレングリコールモノフェニ
ルエーテル、2−メトキシエタノール、2−エトキシエ
タノール、カルビトールモノエチルエーテル、カルビト
ールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノ
エチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエー
テル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプ
ロピレングリコールモノメチルエーテル、ポリエチレン
グリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール
、ポリプロピレングリコール、トリエチレングリコール
、テトラエチレングリコール) ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン〉エステル類
(酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、
カルビトールアセテート、ジメチルフタレート、ジェチ
ルフタレート) その他(トリエチルフォスフェート、トリクレシジルフ
ォスフェート) また本発明に好適な現像液として上記有機溶剤系現像液
に水を添加したり、上記有機溶剤を界面活性剤等を用い
て水に可溶化したものや、更にその上にアルカリ剤、例
えば炭酸ナトリウム、モノエタノールアミン、ジエタノ
ールアミン、トリエタノールアミン、ケイ酸ナトリウム
、ケイ酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
、ホウ酸ナトリウム等を添加したものや、場合によって
は単に水道水やアルカリ水を現像液として使用すること
が出来る。
Alcohols (methanol, ethanol, probanol, benzyl alcohol, ethylene glycol monophenyl ether, 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, carbitol monoethyl ether, carbitol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether) , propylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, polyethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol, polypropylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol) Ketones (acetone, methyl ethyl ketone) Esters (ethyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate) , butyl lactate,
propylene glycol monomethyl ether acetate,
Carbitol acetate, dimethyl phthalate, jetyl phthalate) Others (triethyl phosphate, tricresidyl phosphate) Also, as a developer suitable for the present invention, water may be added to the above organic solvent-based developer, or the above organic solvent may be added to the interface. Solubilized in water using an activator, etc., or an alkali agent such as sodium carbonate, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, sodium silicate, potassium silicate, sodium hydroxide, potassium hydroxide. , sodium borate, or the like, or in some cases, tap water or alkaline water can be used as the developer.

また、クリスタルバイオレット、アストラゾンレッドな
どの染料を現像液に加えて現像と同時に画像部の染色化
を行なうことが出来る。
Furthermore, dyes such as crystal violet and astrazone red can be added to the developer to dye the image area simultaneously with development.

現像は、例えば上記のような現像液を含む現像用パッド
で版面をこすったり、現像液を版面に注いだ後に水中に
て現像ブラシでこするなど、公知の方法で行なうことが
できる。これにより画像部のシリコーンゴム層と感光性
樹脂層が除かれ、プライマー層の表面が露出し、その部
分がインク受容部となるか、あるいは画像部のシリコー
ンゴム層のみが除かれ感光層が露出しその部分がインク
受容部となる。
Development can be carried out by a known method, such as rubbing the printing plate with a developing pad containing a developer as described above, or pouring the developer onto the printing plate and then rubbing it with a developing brush in water. This removes the silicone rubber layer and photosensitive resin layer in the image area and exposes the surface of the primer layer, which becomes the ink receiving area, or removes only the silicone rubber layer in the image area and exposes the photosensitive layer. The bottom part becomes the ink receiving part.

〈発明の効果〉 本発明によれば、アルミニウム支持体上とその上に設け
たコーティング層との間に強固な接着が得られ、有機溶
剤系または水系現像液での強いこすりに耐えられるとい
う利点が得られる。とくに耐水性にもすぐれることから
、有機溶剤系現像液に比べて安全上有利であり、また自
動現像機の設計上も有利である水系現像液中で強くこす
りこむことができるため、ハイライトの細い点や、細線
迄良く再現できるという利点が得られる。
<Effects of the Invention> According to the present invention, strong adhesion can be obtained between the aluminum support and the coating layer provided thereon, and the advantage is that it can withstand strong rubbing with an organic solvent-based or aqueous developer. is obtained. In particular, it has excellent water resistance, which makes it safer than organic solvent-based developers, and it can also be rubbed strongly in water-based developers, which is also advantageous in terms of the design of automatic processors. This has the advantage that even fine points and fine lines can be reproduced well.

〔実施例〕〔Example〕

以下実施例により更に本発明について説明するが、本発
明はこれらの実施例に限定されるものではない。
The present invention will be further explained below with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.

くアルミニウム基板の作或〉 厚さ0. 2 4 mmのアルミニウム板を10重量%
水酸化ナ} IJウム水溶液中に50℃で20秒間浸漬
して、脱脂/クリーニング処理を行った後、水洗し、次
いで10重量%硝酸水溶液で中和し、水洗した。このア
ルミニウム板を基板八とする。
Preparation of aluminum substrate Thickness: 0. 10% by weight of 24 mm aluminum plate
After performing a degreasing/cleaning treatment by immersing it in a sodium hydroxide aqueous solution at 50° C. for 20 seconds, it was washed with water, and then neutralized with a 10% by weight nitric acid aqueous solution and washed with water. This aluminum plate will be referred to as substrate 8.

基板Aを3%重量珪酸ナトリウム水溶液に70℃で20
秒間浸漬処理して、水洗、乾燥した。このアルミニウム
板を基板Bとする。
Substrate A was added to a 3% sodium silicate aqueous solution at 70°C for 20 minutes.
It was immersed for a second, washed with water, and dried. This aluminum plate will be referred to as substrate B.

基板Bに市販のS+0230重量%のメタノール性コロ
イドシリカ、「メタノールシリカゾル」(日産化学工業
■製)をメタノール/水=60重量%/40重量%の混
合溶液で希釈して1.0重量%とした塗布液をホイラー
塗布機で乾燥塗布量が25■/ m2となる様に設け、
100℃の熱風で1分間乾燥した。この基板を基板Cと
する。
For substrate B, commercially available S+02 30% by weight methanol colloidal silica, "Methanol Silica Sol" (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) was diluted with a mixed solution of methanol/water = 60% by weight/40% by weight to 1.0% by weight. Apply the coating solution using a Wheeler coating machine so that the dry coating amount is 25cm/m2.
It was dried with hot air at 100°C for 1 minute. This substrate will be referred to as substrate C.

一方、基板八に、市販の水性コロイドシリカ(触媒化戒
工業■製rcataloid−S−20LJ 、Si0
220重量%〉をメタノール/水=60重量%/40重
量%の混合溶液で希釈して1.0重量%とした塗布液を
ホイラー塗布機で乾燥塗布量が25■/ m1となる様
に設け100℃の熱風で1分間乾燥した。
On the other hand, a commercially available aqueous colloidal silica (rcataloid-S-20LJ manufactured by Catalyst Kakai Kogyo Co., Ltd., Si0
220% by weight> was diluted with a mixed solution of methanol/water = 60% by weight/40% by weight to make a coating solution of 1.0% by weight, and a coating solution was prepared using a Wheeler coating machine so that the dry coating amount was 25cm/ml. It was dried with hot air at 100°C for 1 minute.

この基板を基板Dとする。This substrate will be referred to as substrate D.

〈実施例1〜3〉 基板A−Dを用いこれら基板上に実施例1及び比較例1
に示す、ブライマー層を塗布し、120℃で3分間加熱
乾燥硬膜させた。
<Examples 1 to 3> Using substrates A to D, Example 1 and Comparative Example 1 were applied on these substrates.
A brimer layer shown in Figure 1 was applied and hardened by heating at 120°C for 3 minutes.

実施例一I プライマー層 からなる溶液を70℃に加温、撹拌しながら下記のカゼ
イン粉末を添加し、溶解した。
Example 1 I A solution consisting of a primer layer was heated to 70°C, and while stirring, the following casein powder was added and dissolved.

次に、このカゼイン水溶液中に以下の戊分を配合してプ
ライマー層用組或物とした。
Next, the following ingredients were mixed into this aqueous casein solution to prepare a composition for a primer layer.

比較例一l プライマー層 実施例1ブライマ一層のT−グリシドキシプロビルトリ
メトキシシランの添加を行わないこと以外は実施例lプ
ライマー層と同一の組或を有するブライマ一層。
Comparative Example 1 Primer layer Example 1 A brimer layer having the same composition as the primer layer of Example 1, except that T-glycidoxypropyltrimethoxysilane was not added to the brimer layer.

次に、これらすべてのプライマー層上に以下の或分から
なる感光層を乾燥重量で3.0g/m”となるように塗
布し100℃、1分間乾燥させた。
Next, a photosensitive layer consisting of the following portion was coated on all of these primer layers at a dry weight of 3.0 g/m'' and dried at 100° C. for 1 minute.

感光性組或物 得られた感光層上に下記組或のシリコーンゴム層用の組
成物を乾燥重量で2.0g/m’となるように塗布し、
140℃、2分間乾燥させ、シリコーンゴム硬化層を得
た。
Photosensitive Composition A composition for a silicone rubber layer according to the following composition was applied onto the obtained photosensitive layer at a dry weight of 2.0 g/m',
It was dried at 140°C for 2 minutes to obtain a cured silicone rubber layer.

潰し、現像パッドで強くこすって現像した。この結果を
表−1に示す。
I crushed it, rubbed it strongly with a developing pad, and developed it. The results are shown in Table-1.

上記のようにして得られたシリコーンゴム層の表面に厚
さ9μmの片面マット化ボリブロピレンフィルムをラミ
ネートし、湿し水不要感光性平版印刷版を得た。
A single-sided matted polypropylene film having a thickness of 9 μm was laminated on the surface of the silicone rubber layer obtained as described above to obtain a photosensitive lithographic printing plate that did not require dampening water.

この印刷版にポジフィルムを重ね、真空密着させヌアー
ク社製FT26V UDNS ULTRA−PLUS 
FLIP−TOPPLATE M八κBHにより30カ
ウント露光した後、ラミネートフィルムを剥離し、ベン
ジルアルコール12重量部、イソブロビルナフタレンス
ルホン酸ナトリウム5重量部、トリエタノールアミン1
重量部及び水82重量部よりなる現像液に1分間浸く実
施例4〉 実施例2及び比較例2に示した、前述の基板C1及び基
板A上に乾燥膜厚で10μになるよう下記のブライマー
層用組成物を塗布し、120℃で5分間加熱硬化させた
A positive film was layered on this printing plate, and the film was vacuum-adhered to the Nuark FT26V UDNS ULTRA-PLUS.
After 30 counts of exposure using FLIP-TOPPLATE M8κBH, the laminate film was peeled off and 12 parts by weight of benzyl alcohol, 5 parts by weight of sodium isobrobylnaphthalene sulfonate, and 1 part by weight of triethanolamine were added.
Example 4: Immersion for 1 minute in a developer consisting of parts by weight and 82 parts by weight of water> The following was applied to the substrate C1 and substrate A shown in Example 2 and Comparative Example 2 so that the dry film thickness was 10 μm. A composition for a brimer layer was applied and cured by heating at 120° C. for 5 minutes.

このプライマー層上に次の感光層を乾燥重量で2.5g
/m”となるように塗布し、100℃で3分間乾燥した
The next photosensitive layer is placed on this primer layer with a dry weight of 2.5g.
/m'' and dried at 100°C for 3 minutes.

し÷;將て′f完一″″ 8重量部 この感光層上に次の組或を有する接着層を乾燥塗布量0
. 0 4 g/m’となるように塗布し、120℃で
l分間乾燥させた。
Then, add 8 parts by weight of an adhesive layer having the following composition on this photosensitive layer in a dry coating amount of 0.
.. It was coated at a concentration of 0.4 g/m' and dried at 120° C. for 1 minute.

をラミネートして、湿し水不要感光性平版印刷版を得た
。この印刷版にネガ画像を有するフィルムを重ね実施例
1と同様に画像露光した後、アルコール65重量部、ア
イソバーE35重量部からなる混合液を浸みこませた現
像パッドでこすって現像した。結果を表−2に示す。
were laminated to obtain a photosensitive lithographic printing plate that does not require dampening water. A film having a negative image was layered on this printing plate and imagewise exposed in the same manner as in Example 1, and then developed by rubbing with a developing pad impregnated with a liquid mixture consisting of 65 parts by weight of alcohol and 35 parts by weight of Isovar E. The results are shown in Table-2.

次にこの接着層上に下記の組成のシリコーンゴム層用組
或物を乾燥重量で3g/m″となるように塗布し、10
0℃で3.5分間乾燥してシリコーンゴム硬化層を得た
Next, on this adhesive layer, a silicone rubber layer assembly having the following composition was applied to a dry weight of 3 g/m''.
It was dried at 0° C. for 3.5 minutes to obtain a cured silicone rubber layer.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 支持体上に、プライマー層、感光層、及びシリコーンゴ
ム層をこの順に設けた湿し水不要感光性平版印刷版にお
いて、 該支持体が、アルカリ金属珪酸塩水溶液処理を施し及び
/又はコロイドシリカゾルを塗布してなるアルミニウム
板であり、該プライマー層が、少なくとも1種のシラン
カップリング剤を含有することを特徴とする湿し水不要
感光性平版印刷版。
[Scope of Claims] A photosensitive lithographic printing plate that does not require dampening water, in which a primer layer, a photosensitive layer, and a silicone rubber layer are provided in this order on a support, wherein the support is treated with an aqueous alkali metal silicate solution. and/or an aluminum plate coated with colloidal silica sol, wherein the primer layer contains at least one silane coupling agent.
JP16199889A 1989-06-23 1989-06-23 Photosensitive planographic printing plate requiring no dampening water Pending JPH0327043A (en)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0776062A (en) * 1993-09-09 1995-03-20 Masamichi Fujihira Manufacture of ps plate for lithography
DE19680596C1 (en) * 1995-07-28 2001-08-23 Electro Chem Eng Gmbh Process for the storage of sols in microporous cover layers on objects made of aluminum, magnesium, titanium or their alloys and objects made of magnesium, titanium or their alloys with sol-treated cover layers
KR20150101381A (en) 2014-02-26 2015-09-03 가부시기가이샤 디스코 Center detection method for wafer in processing equipment
JP2019050258A (en) * 2017-09-08 2019-03-28 株式会社ディスコ Setting method of alignment pattern

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0776062A (en) * 1993-09-09 1995-03-20 Masamichi Fujihira Manufacture of ps plate for lithography
DE19680596C1 (en) * 1995-07-28 2001-08-23 Electro Chem Eng Gmbh Process for the storage of sols in microporous cover layers on objects made of aluminum, magnesium, titanium or their alloys and objects made of magnesium, titanium or their alloys with sol-treated cover layers
KR20150101381A (en) 2014-02-26 2015-09-03 가부시기가이샤 디스코 Center detection method for wafer in processing equipment
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