JPH03267719A - Reference position detector and encoder using the same - Google Patents
Reference position detector and encoder using the sameInfo
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は変位を検出するエンコーダにおいて主に用いら
れ、基準位置検出の手法に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application] The present invention is mainly used in encoders that detect displacement, and relates to a method of detecting a reference position.
[従来の技術]
リニアエンコーダやロータリーエンコーダ等のエンコー
ダにおける基準位置検出の手法の従来例を第6図(a)
に示す。この例ではエンコーダの移動又は回転スケール
と同一基板上に形成された光反射性のスリット1に1つ
の光束2を投射し、その反射光3をフォトダイオード4
で受光して光電変換する。フォトダイオード4の受光電
流は電流電圧変換回路5て電圧に変換された後、コンパ
レータ6て所定の電圧値Vrと比較されて基準位置信号
vOを得で、これをエンコータの基’1 位置、すなわ
ち零位置としていた。第6図(b)はスリットが図中左
側(矢印方向)へ動いた場合の処理回路の各部での波形
例を示す。[Prior Art] A conventional example of a method for detecting a reference position in an encoder such as a linear encoder or a rotary encoder is shown in Fig. 6(a).
Shown below. In this example, one light beam 2 is projected onto a light reflective slit 1 formed on the same substrate as the moving or rotating scale of the encoder, and the reflected light 3 is sent to the photodiode 4.
It receives light and converts it into electricity. The light-receiving current of the photodiode 4 is converted into a voltage by a current-voltage conversion circuit 5, and then compared with a predetermined voltage value Vr by a comparator 6 to obtain a reference position signal vO, which is converted to the base position of the encoder, i.e. It was at the zero position. FIG. 6(b) shows an example of waveforms at each part of the processing circuit when the slit moves to the left (in the direction of the arrow) in the figure.
このような例では、温度変化などで光束の光量やフォト
ダイオードの感度が変化すると、受光電流の大きさが同
図(b)の右側の波形例のように大きくなったり、ある
いは小さくなったりして変化するため、基準位置信号V
oの発生するタイミングがずれで、正確に基準位置を検
出することができないという問題点を有している。In such an example, if the light intensity of the light flux or the sensitivity of the photodiode changes due to changes in temperature, the magnitude of the light-receiving current may increase or decrease as shown in the example waveform on the right side of the figure (b). Since the reference position signal V
This method has a problem in that the reference position cannot be detected accurately because the timing of occurrence of o is deviated.
そこでこの問題点を解決すへく本願出願人は特開昭62
−.163923号公報において第7図(a)のような
構成の装置を提案している。Therefore, in order to solve this problem, the applicant of the present application has published Japanese Patent Application Laid-Open No. 62
−. In Japanese Patent No. 163923, a device having a configuration as shown in FIG. 7(a) is proposed.
同図においで、スリットが矢印方向へ移動した場合の処
理回路の各部での波形は、第7図(b)に示すようにな
る。この例では2つの光反射性のスリット11.12を
移動方向に沿って互いの領域が重複しないように並へて
配置し、同一の光源から分割された2つの光束21.2
2をそれぞれのスリット位置に照射し、これらの反射光
31.32をフォトダイオード41.42て個別に受光
する。受光電流は電流電圧変換回路51.52で電圧に
変換され(波形V1、V2)た後、コンパレータ61で
これらの大小が比較され、2波形の交点P1、P2が検
出される(波形V3)。In the figure, when the slit moves in the direction of the arrow, the waveforms at each part of the processing circuit are as shown in FIG. 7(b). In this example, two light reflective slits 11.12 are arranged side by side along the moving direction so that their areas do not overlap, and two light beams 21.2 are split from the same light source.
2 is irradiated onto each slit position, and these reflected lights 31 and 32 are individually received by photodiodes 41 and 42. The light-receiving current is converted into voltage by current-voltage conversion circuits 51 and 52 (waveforms V1 and V2), and then compared in magnitude by a comparator 61, and the intersections P1 and P2 of the two waveforms are detected (waveform V3).
一方、電流電圧変換回路51.52の出力は平均値回路
71で2つの出力値が平均化され(波形V4)、コンパ
レータ62で一定の電圧Vrと比較されて所定レベルV
r以上の部分を検出する(波形V5)。上記所定のレベ
ル以上の部分(波形■5のハイレベルの区間)で且つコ
ンパレータ61の出力V3が反転する箇所Aを論理回路
81により基準位置信号Voとして取り出す。これによ
って精度良く基準位置検出を行なうことができる。On the other hand, the two output values of the current-voltage conversion circuits 51 and 52 are averaged by an average value circuit 71 (waveform V4), and compared with a constant voltage Vr by a comparator 62 to a predetermined level V.
A portion equal to or greater than r is detected (waveform V5). The logic circuit 81 extracts the portion A at which the output V3 of the comparator 61 is inverted, which is the portion above the predetermined level (the high level section of waveform 5), as the reference position signal Vo. This makes it possible to accurately detect the reference position.
なお、ここで所定電圧Vrは同図(b)にVrの許容範
囲として示した通り、電流電圧変換回路51.52の出
力の2つの交点P1、P2の中間的な値に設定する必要
かある。Note that the predetermined voltage Vr here needs to be set to an intermediate value between the two intersections P1 and P2 of the outputs of the current-voltage conversion circuits 51 and 52, as shown in the same figure (b) as the permissible range of Vr. .
この方法によれは、温度変化などて光束の光量やフオト
タイードの感度が変化しても、2つの受光信号か比例し
て一体的に変化するので、その交点P1の位置は変化せ
ず正確に基準位置を検出することかできる。With this method, even if the light intensity of the light flux or the sensitivity of the phototied changes due to changes in temperature, the two received light signals change proportionally and integrally, so the position of the intersection point P1 does not change and can be accurately referenced. Can detect location.
[発明か解決しようとしている課題]
しかしながら上記の例では所定電圧Vrは、電流電圧変
換回路51.52の出力の2つの交点P1、P2の中間
的な値に設定する必要があるので、この値の許容値は受
光信号の振幅の1/2弱となる。又、平均光量v4は光
量変化や受光素子の感度変化の影響を受けるので、Vr
の許容範囲は実際にはその分これより狭くなってしまう
。これらを考慮すると、装置の安定化のためにはより許
容範囲の大きな方法の提供が望まれる。[Problem to be solved by the invention] However, in the above example, the predetermined voltage Vr needs to be set to an intermediate value between the two intersection points P1 and P2 of the outputs of the current-voltage conversion circuit 51 and 52, so this value The allowable value is a little less than 1/2 of the amplitude of the received light signal. Also, since the average light amount v4 is affected by changes in light amount and sensitivity changes of the light receiving element, Vr
The allowable range is actually narrower than this. Considering these, it is desired to provide a method with a wider tolerance range for stabilizing the device.
[発明の目的コ
本発明は上述の課題を解決すへくなされたもので、簡単
な構成で光量変化や受光素子の感度変化に対する許容度
の太き(安定性の高い基準位置検圧装層及び該装置を用
いたエンコーダの提供を目的とする。[Purpose of the Invention] The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and has a simple structure and a high tolerance for changes in light amount and sensitivity of the light receiving element (a highly stable reference position pressure detection device layer). The present invention also aims to provide an encoder using the device.
[課題を解決するための手段]
上記課題を解決する本発明の基準位置検出装置は、所定
の2か所に光束を照射する手段と、前記照射光束に対し
て相対的に移動する変位物体上に設けられる反射又は透
過スリットと、前記照射された2か所からの反射光又は
透過光をそれぞれ検出しで、位相差を有した2つの基準
位置信号を個別に検出する光量検出手段と、該光量検出
手段で得られる2つの基準位置信号の強度が所定レベル
以上で一致した時点を前記変位物体の基準位置として特
定する手段とを有し、前記2つの信号の出力が所定レベ
ル以上で一致した時点で、前記光束の内の半分よりも大
きい面積が前記スリットに対して照射されるように配置
したことを特徴とする。[Means for Solving the Problems] A reference position detection device of the present invention that solves the above problems includes means for irradiating a light beam to two predetermined locations, and a means for irradiating a light beam onto two predetermined locations, and a means for displacing a displacement object that moves relative to the irradiation light beam. a light amount detection means for individually detecting two reference position signals having a phase difference by respectively detecting reflected light or transmitted light from the two irradiated locations; and means for specifying as the reference position of the displaced object a point in time when the intensities of the two reference position signals obtained by the light amount detection means match at a predetermined level or higher, and the output of the two signals match at a predetermined level or higher. The slit is characterized in that the slit is arranged so that at a point in time, an area larger than half of the light beam is irradiated onto the slit.
[実施例] 以下、本発明の実施例を図面を用いて詳細に説明する。[Example] Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.
第1図(a)は本発明に係る基準位置検出装置の実施例
の構成図であり、先の第7図と同の符号は同−又は同様
の部材を表わす。又、第1図(b)はスリットが矢印方
向へ移動した場合の処理回路の各部での波形例である。FIG. 1(a) is a block diagram of an embodiment of the reference position detection device according to the present invention, and the same reference numerals as in FIG. 7 represent the same or similar members. Further, FIG. 1(b) shows an example of waveforms at each part of the processing circuit when the slit moves in the direction of the arrow.
第1図(a)においで、先の第7図に較べで、光反射性
のスリット11とスリット12をスリットの進行方向に
沿って2つのスリットの一部分か重複するように並べて
配置し、重複の部分の幅は光束の結像スポットの幅より
も小さく設定されている。即ち、2つの光検出器で得ら
れる2つの信号の出力が所定レベル以上で一致した時点
で、前記光束の内の半分よりも大きい面積か前記スリッ
トに対して照射されるように配置されている。なお回路
構成は先の第7図と同様であるため動作についての詳細
な説明は省略する。In FIG. 1(a), compared to the previous FIG. The width of the portion is set smaller than the width of the imaging spot of the light beam. That is, the slit is arranged so that when the outputs of two signals obtained by the two photodetectors match at a predetermined level or higher, an area larger than half of the luminous flux is irradiated onto the slit. . Note that since the circuit configuration is the same as that shown in FIG. 7 above, a detailed explanation of the operation will be omitted.
このような構成とすることにより、第1図(b)のvl
、■2の2波形か中央側近で交差する点P1か上方に移
動し、その平均値■4の振幅か大きくなる。すなわち電
圧Vrの許容範囲が先の第7図に較へて広かり、電圧V
rの設定がより広い範囲て可能になるため設定が容易に
なる。With such a configuration, vl in FIG. 1(b)
, ■2 The point P1 where the two waveforms intersect near the center moves upward, and the amplitude of their average value ■4 increases. In other words, the permissible range of voltage Vr is wider than that shown in FIG.
Since r can be set over a wider range, the setting becomes easier.
又、■4か光量変化や受光素子の感度変化の影響を受け
ても、V「については従来より十分広い許容範囲を確保
することがてきる。In addition, even when affected by changes in the amount of light or changes in the sensitivity of the light-receiving element, it is possible to secure a sufficiently wider tolerance range for V than before.
なお、スリットの重複の幅が照射される光束の幅(スケ
ール進行方向側の結像ビームスポットの幅)より大きく
なると、Vlとv2の変化か小さい所で交差することに
なっで、基準位置の検出があいまいになるので、スリッ
トの重複の幅は照射される光束の幅より小さいことが必
要である。Note that if the overlap width of the slits becomes larger than the width of the irradiated light beam (width of the imaging beam spot on the scale advancing direction side), Vl and v2 will intersect at a small change point, and the reference position will change. The width of the overlap of the slits needs to be smaller than the width of the illuminated beam, since the detection becomes ambiguous.
さで、第2図(a)、第2図(b)は上記実施例の変形
例てあり、第1図と同一の符号は同−又は同様の部材を
表わす。なお、第2図の両図においで、フォトダイオー
ド41.42で検出された信号を処理する回路は第1図
で示したものと同一であるため省略しである。Now, FIGS. 2(a) and 2(b) show a modification of the above embodiment, and the same reference numerals as in FIG. 1 represent the same or similar members. Note that in both figures of FIG. 2, the circuit for processing the signals detected by the photodiodes 41 and 42 is the same as that shown in FIG. 1, and is therefore omitted.
第2図(a)において光反射性スリット11.12は従
来例の第7図(a)と同様に変位方向に重複箇所が無い
配列で形成されているにのスリットに対して2つの光照
射位置が図のように位相差を持って照射されている。こ
こで両スリットか矢印方向に変位すると得られる信号は
第1図(b)と同様なものになる。In FIG. 2(a), the light-reflective slits 11 and 12 are arranged in an array with no overlap in the displacement direction, similar to the conventional example shown in FIG. 7(a). The positions are irradiated with a phase difference as shown in the figure. Here, if both slits are displaced in the direction of the arrow, the signal obtained will be similar to that shown in FIG. 1(b).
又、第2図(b)は単一の反射性スリット13に対して
スリットJ3の変位方向の幅よりもやや狭い間隔て2つ
の光束が照射されている。ここでスリット13か矢印方
向に変位すると、得られる信号は第1図(b)と同様な
ものになる。Further, in FIG. 2(b), two light beams are irradiated onto a single reflective slit 13 at an interval slightly narrower than the width of the slit J3 in the displacement direction. If the slit 13 is now displaced in the direction of the arrow, the obtained signal will be similar to that shown in FIG. 1(b).
即ちこれらの実施例についても最初の実施例と同様、2
つの光検出器で得られる2つの信号の出力か所定レベル
以上で一致した時点で、前記光束の内の半分よりも大き
い面積が前記スリットに対して照射されるように配置さ
れており、電圧Vrの許容範囲か先の第7図に較へて広
がり、電圧Vrの設定かより広い範囲で可能になる。That is, for these examples as well, as with the first example, 2
The slit is arranged so that an area larger than half of the luminous flux is irradiated to the slit when the outputs of the two signals obtained by the two photodetectors match at a predetermined level or higher, and the voltage Vr The permissible range of voltage Vr is wider than that shown in FIG. 7, and the voltage Vr can be set within a wider range.
なお、上述の各実施例では反射光の場合について述へた
が、透過光の場合についても同様に考えることかできる
。又、明暗は反転していても同様の思想が通用てぎる。In addition, although the case of reflected light was described in each of the above-mentioned embodiments, the case of transmitted light can also be considered in the same way. Also, the same idea is valid even if the light and dark are reversed.
更にスリットへの入射角や光束の形状も上記の構成に限
定されないことば言うまでもない。Furthermore, it goes without saying that the angle of incidence on the slit and the shape of the light beam are not limited to the above configuration.
次に上記基準位置検出装置をエンコーダに用いた実施例
を第3図、第4図を用v1で説明する。Next, an embodiment in which the above reference position detecting device is used as an encoder will be described with reference to FIGS. 3 and 4 using v1.
第3図(a)はリニアエンコーダに用いられるスケール
板を示す図であり、移動量計測用スリット(回折格子)
と、前記説明した基準位置検出用スリットがスケール板
上に形成される。FIG. 3(a) is a diagram showing a scale plate used in a linear encoder, with a slit (diffraction grating) for measuring the amount of movement.
The reference position detection slit described above is formed on the scale plate.
一方、第3図(b)はロータリーエンコーダに用いられ
る回転ディスク板の部分詳細部を示し、回転ディスク板
の回転方向に沿って移動量計測用スリット(回折格子)
か形成され、その内側の一部分に前記説明した基準位置
検出用スリットが設けられる。On the other hand, Fig. 3(b) shows a detailed part of a rotating disk plate used in a rotary encoder, and shows a slit (diffraction grating) for measuring the amount of movement along the rotation direction of the rotating disk plate.
The reference position detection slit described above is provided in a part of the inside thereof.
第4図はこれらのスケール板や回転ディスクを有するエ
ンコーダの構成例である。半導体レーザ等の可干渉性の
光源101から出射された光束はヒームスブリツタ10
2によって2光束に分岐され、第3図で示したようなス
ケール板や回転ディスク板上に形成される移動量計測用
スリットである回折格子103上の一点位置に入射する
。FIG. 4 shows an example of the configuration of an encoder having these scale plates and rotating disks. A beam of light emitted from a coherent light source 101 such as a semiconductor laser passes through a Heems blister 10.
2, the beam is split into two beams, and the beam is incident on a single point on a diffraction grating 103, which is a slit for measuring the amount of movement formed on a scale plate or rotating disk plate as shown in FIG.
又、図には表れていないか、先の第1図(a)のような
スリット検出の光学系が設けられ、スケール板や回転デ
ィスク板上の基準位置検出用のスリットを光学的に検出
するようにしで、エンコーダの零位置を得るような構成
となっている。In addition, although not shown in the figure, an optical system for slit detection as shown in Fig. 1(a) is provided, which optically detects the slit for detecting the reference position on the scale plate or rotating disk plate. The configuration is such that the zero position of the encoder can be obtained in this way.
光束の光入射によって回折格子103から反射光学系1
04方向に発生する高次回折光、ここでは±1次回折光
は両者共に反射光学系104によって反射して再び回折
格子103上の実質同一位置に再入射する。反射光学系
104は所謂キャッツアイ光学系を成している。ここで
再入射によって発生する±1次の再回折光は実質的に入
射時と同一光路を戻る。そしてこの±1次の再回折光同
志により形成された干渉光は、偏向ビームスプリッタ1
04及び偏向板によって90度の位相差を持った2相の
周期信号として光検出器106及び107にて検出され
る。これらの光検出器106.107て得られた検出信
号はパルス出力回路108にて検出分解能を高めるため
に内挿処理され、各信号の波形のセロクロス点を検出す
ることて分割パルスを得で、これを回折格子の変位に応
した検出パルスとして出力する。こうして入射光束に対
する回折格子の相対変位量(回転量や移動量)に応した
数の検出パルスかパルス出力回路108の出力端子から
出力される。更には回転方向や移動方向も検出される。Reflection optical system 1 from diffraction grating 103 due to the incidence of the light beam
Both of the higher-order diffraction lights, here the ±1st-order diffraction lights, generated in the 04 direction are reflected by the reflection optical system 104 and re-enter the diffraction grating 103 at substantially the same position. The reflective optical system 104 constitutes a so-called cat's eye optical system. Here, the ±1st-order re-diffracted light generated by re-incidence returns along substantially the same optical path as that at the time of incidence. The interference light formed by this ±1st-order re-diffracted light is transmitted to the polarizing beam splitter 1.
The signal is detected by photodetectors 106 and 107 as a two-phase periodic signal with a phase difference of 90 degrees by the polarizer 04 and the deflection plate. The detection signals obtained by these photodetectors 106 and 107 are interpolated in the pulse output circuit 108 in order to increase the detection resolution, and divided pulses are obtained by detecting the zero cross point of the waveform of each signal. This is output as a detection pulse corresponding to the displacement of the diffraction grating. In this way, a number of detection pulses corresponding to the amount of relative displacement (amount of rotation or amount of movement) of the diffraction grating with respect to the incident light beam are outputted from the output terminal of the pulse output circuit 108. Furthermore, the direction of rotation and direction of movement are also detected.
なお、エンコーダの光学配置は上記実施例に限らず、例
えは透過型回折格子を用いた配置等、様々な形態をとる
ことができる。Note that the optical arrangement of the encoder is not limited to the above embodiment, and can take various forms, such as an arrangement using a transmission type diffraction grating.
第5図は上記エンコーダの使用例を示すもので、エンコ
ーダを用いた駆動システムのシステム構成図である。モ
ータやアクチュエータ、内燃機関等の駆動源を有する駆
動手段110の駆動出力部、あるいは駆動される物体の
移動部にはエンコータ111が接続され、τ位置と共に
回転量や回転速度あるいは移動量や移動速度等の駆動状
態を検出する。このエンコーダ111の検出出力は制御
手段112にフィードバックされ、制御手段112にお
いては設定手段113て設定された状態となるように駆
動手段110に駆動信号を伝達する。このようなフィー
ドバック系を構成することによって外乱の影響を受けず
に設定手段113で設定された駆動状態を保つことかで
きる。このような駆動システムは、例えは工作機械、製
造機械、計測機器、記録機器、更にはこれらに限らず駆
動手段を有する一般の装置に広く適用することかてきる
。FIG. 5 shows an example of the use of the encoder, and is a system configuration diagram of a drive system using the encoder. An encoder 111 is connected to the drive output part of a drive means 110 having a drive source such as a motor, actuator, or internal combustion engine, or to the moving part of a driven object, and encodes the amount of rotation, rotation speed, amount of movement, or movement speed along with the τ position. etc. is detected. The detection output of the encoder 111 is fed back to the control means 112, and the control means 112 transmits a drive signal to the drive means 110 so that the state set by the setting means 113 is achieved. By configuring such a feedback system, it is possible to maintain the driving state set by the setting means 113 without being affected by disturbances. Such a drive system can be widely applied to, for example, machine tools, manufacturing machines, measuring instruments, recording instruments, and not only these, but also general devices having drive means.
[発明の効果]
以上述へたように本発明によれは、光量変化や受光素子
の感度変化に対する許容度か犬ぎ〈安定性の高い装置と
なる。[Effects of the Invention] As described above, the present invention provides a device with high tolerance to changes in the amount of light and changes in the sensitivity of the light receiving element.
第1図は本発明に係る基準位置検出装置の実施例の図、
第2図は第1図の実施例の変形例、
第3図は本発明をエンコーダに適用した場合のエンコー
タ用スケール板上でのスリットの配置例を示す図、
第4図は本発明のエンコーダの構成図、第5図はエンコ
ーダの利用した駆動システムのシステム構成図、
第6図は基準位置検出装置の従来例を示す図、第7図は
本願出願人か提案した基準位置検出装置の従来例の図、
てあり、図中の主な符号は、
1.11.12・・・・基準位置検出用スリット、2.
21.22・・・・入射光束、
3.31.32・・・・反射光束、
4.41.42・・・・フォトダイオード、5.51.
52・・・・電流電圧変換回路、6.61.62・−・
・コンパレータ、71・・・・平均化回路、
81・−・・論理回路、
(久)
ル)
第
国
−」ヒー
第
図
(し)Fig. 1 is a diagram of an embodiment of the reference position detection device according to the present invention, Fig. 2 is a modification of the embodiment shown in Fig. 1, and Fig. 3 is a diagram of an encoder scale plate when the present invention is applied to an encoder. 4 is a block diagram of the encoder of the present invention, FIG. 5 is a system block diagram of a drive system using the encoder, and FIG. 6 is a conventional example of a reference position detection device. 7 is a diagram of a conventional example of a reference position detection device proposed by the applicant of the present application, and the main symbols in the figure are: 1.11.12... slit for reference position detection, 2.
21.22...Incoming light flux, 3.31.32...Reflected light flux, 4.41.42...Photodiode, 5.51.
52...Current voltage conversion circuit, 6.61.62...
・Comparator, 71...Averaging circuit, 81...Logic circuit,
Claims (2)
光束に対して相対的に移動する変位物体上に設けられる
反射又は透過スリットと、前記照射された2か所からの
反射光又は透過光をそれぞれ検出して、位相差を有した
2つの基準位置信号を個別に検出する光量検出手段と、 該光量検出手段で得られる2つの基準位置信号の強度が
所定レベル以上で一致した時点を前記変位物体の基準位
置として特定する手段とを有し、 前記2つの信号の出力が所定レベル以上で 一致した時点で、前記光束の内の半分よりも大きい面積
が前記スリットに対して照射されるように配置したこと
を特徴とする基準位置検出装置。(1) A means for irradiating a light beam to two predetermined places, a reflection or transmission slit provided on a displacement object that moves relative to the irradiated light beam, and reflected light from the two irradiated places. or a light amount detection means that individually detects two reference position signals having a phase difference by respectively detecting transmitted light, and the intensity of the two reference position signals obtained by the light amount detection means match at a predetermined level or more. and means for specifying a point in time as a reference position of the displaced object, and when the outputs of the two signals match at a predetermined level or higher, an area larger than half of the luminous flux is irradiated onto the slit. A reference position detection device characterized in that the reference position detection device is arranged so that the
面に変位量検出用のスケール及び前記基準位置用の反射
又は透過スリットが形成される変位物体と、 前記光源からの光束を前記変位量検出用のスリット上に
照射し、スケールからの光を検出することにより前記変
位物体の変位を測定する手段と、 前記変位量検出用スリット上の所定の2か所に光束を照
射する手段と、 前記照射光束に対して相対的に移動する変位物体上に設
けられる反射又は透過スリットと、前記照射された2か
所からの反射光又は透過光をそれぞれ検出して、位相差
を有した2つの基準位置信号を個別に検出する光量検出
手段と、 該光量検出手段で得られる2つの基準位置信号の強度が
所定レベル以上で一致した時点を前記変位物体の基準位
置として特定する手段とを有し、 前記2つの信号の出力が所定レベル以上で 一致した時点で、前記光束の内の半分よりも大きい面積
が前記スリットに対して照射されるように配置したこと
を特徴とする基準位置検出装置。(2) A light source that generates a coherent light beam, which is movable relative to the light beam from the light source, and has a scale for detecting the amount of displacement and a reflection or transmission slit for the reference position formed on the surface. means for measuring the displacement of the displacement object by irradiating the light beam from the light source onto the displacement detection slit and detecting light from the scale; means for irradiating a luminous flux to two predetermined locations, a reflection or transmission slit provided on a displacement object that moves relative to the irradiation luminous flux, and a reflection or transmission slit from the two irradiated locations. A light amount detection means that detects each light and individually detects two reference position signals having a phase difference, and a time point when the intensities of the two reference position signals obtained by the light amount detection means match at a predetermined level or more. and means for identifying the displaced object as a reference position, and when the outputs of the two signals match at a predetermined level or higher, an area larger than half of the luminous flux is irradiated onto the slit. A reference position detection device characterized in that it is arranged as follows.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6610890A JPH03267719A (en) | 1990-03-16 | 1990-03-16 | Reference position detector and encoder using the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6610890A JPH03267719A (en) | 1990-03-16 | 1990-03-16 | Reference position detector and encoder using the same |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03267719A true JPH03267719A (en) | 1991-11-28 |
Family
ID=13306365
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6610890A Pending JPH03267719A (en) | 1990-03-16 | 1990-03-16 | Reference position detector and encoder using the same |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03267719A (en) |
-
1990
- 1990-03-16 JP JP6610890A patent/JPH03267719A/en active Pending
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