JPH0326134B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、液状インクの電気浸透現象を利用し
たインク記録ヘツドの改良に関するものである。

記録密度に対応して互に絶縁された複数個の第
１の電極を有する支持基材面上に二次元的な広が
りを有する多孔質体が設置され、この多孔質体の
第１の電極に対する反対面側に液状インク透過性
の第２の電極を位置せしめ、前記多孔質体に液状
インクを供給含浸させると共に、前記第１および
第２の電極間に信号電圧を印加して前記液状イン
クを前記多孔質体を介して電気浸透させ、前記第
１の電極の先端部側に、前記信号電圧に対応して
制御された記録液状インク部を形成する関係にあ
るインク記録ヘツド、およびこの記録ヘツドを使
用して、その先端部に記録紙を接触させて直接イ
ンク転写させたり、電気浸透圧や高電界によるク
ーロン力で液状インクを記録紙上に飛翔付着させ
るインク記録装置は、既に本発明者により提案さ
れている。

ここに電気浸透とは、固体材料に液状材料を接
触させたとき、界面電気二重層を生じ、この界面
に平行成分を有する電界を印加したとき、液状材
料が固体材料に対して移動する界面動電現象の総
称である。また液状インクとは、着色体を含有せ
る流動性のある着色材料の総称で、着色体は染
料、顔料の何れをも問わぬものとする。

上記のインク記録ヘツドは従来、支持基材面を
形成する誘電体表面における液状インクの電気浸
透極性と、多孔質体の電気浸透極性とを同極性に
選び、信号電圧として第２の電極側から第１の電
極側に多孔質体を介して液状インクが電気浸透す
る極性のインク記録すべきオン電圧と、これとは
逆極性で反対向きに電気浸透させてインク記録を
阻止するオフ電圧を印加して動作させる。

オン電圧印加部では、電気浸透圧により液状イ
ンクは、第１の電極先端部側に押し出され、一方
オフ電圧印加部では、第１の電極先端部の残留液
状インクが多孔質体を介して第２の電極側に吸い
上げられる。加えて第１の電極先端部側では、オ
フ電圧印加部の残留インクはオン電圧印加部側
へ、支持基材表面を介して電気浸透する。従つて
オン電圧印加の第１の電極の電極先端部では隣接
するオフ電圧からのインク収束作用と、多孔質体
を介してのインク供給ポンプ作用を有し、一方、
オフ電圧印加加の第１の電極の電極先端部では、
隣接するオン電圧印加の第１の電極側及び多孔質
体を介して第２の電極側への吸い上げ効果を有
す。

それ故、オン電圧印加の第１の電極先端部には
その電圧振幅に応じて転写若しくは飛翔付着され
る可き高密度の記録液状インク部を形成し、一方
オフ電圧印加部では記録液状インク部が消失して
液状インクに存在し得ず、信号電圧に対応して制
御された記録液状インク部が形成される。

斯くして、従来のインク記録ヘツドでは、オン
電圧、オフ電圧を適当に選ぶことにより、従来方
式とは異なつた簡易高性能のインク記録装置が構
成できる利点がある。 然し、信号電圧の切り替
え周波数が高い場合や、第１の電極間隙が広く記
録密度が低い場合、或いは支持基材面の電気浸透
性が多孔質体のそれと比較して悪い場合等では、
オフ電圧印加部の第１の電極先端部間隙における
残留インク部を完全に消失させることが困難とな
り、このインクが記録紙に転写、飛翔付着するこ
とにより、著しく解像度が低下し、インク記録画
像の品質を低下させると言う問題点が判明した。

本発明は以上の性能的難点を背景としてその難
点を改良したインク記録ヘツドの提供を目的とす
る。

本発明を更に具体的に示すと、前述のインク記
録ヘツドにおいて、前記第１の電極部を使用され
る液状インクに良く濡れるよういわゆる親インク
性に構成すると共に、前記の支持基材面の内、少
くとも前記第１の電極の先端部側の、第１の電極
相互間に位置する支持基材表面部を、実質的に前
記液状インクをはじくよう或いは濡れ難くいわゆ
る撥インク性に構成したインク記録ヘツドであ
る。

以下、本発明の実施例について詳述する。第１
図は本発明にかかるインク記録ヘツドの一実施例
とその応用記録装置の斜視部分構造と給電方式を
示す図である。図において、１００はインク記録
ヘツド、２００はインク容器３００内に収容さ
れ、インク記録ヘツド１００が一部浸漬され、イ
ンク記録ヘツド１００にに供給、含浸される液状
インクである。４００は信号電圧源、５００は記
録体たる紙などの記録シート、６００は記録体５
００を図の矢印５０１方向に紙送りすると共に補
助電圧源４０１から補助電圧V_Aを印加するロー
ラー状の補助電極である。なお、補助電極６００
は回転させることなく固定することもできるし、
第１の電極２０の先端部２１に対向せしめて、限
定して善縁体上に設置することもできる。

１０は、硼珪酸ガラスや酢酸セルローズ等の板
状非多孔質の誘電体支持基材である。その表面１
１上には、記録電極たる第１の電極２０を所定の
インク記録密度に対応して、例えば１mm当り３〜
８本の密度で配列され、その幅は上記々録密度に
応じて50〜200μm、酸化錫導電膜や金属蒸着膜な
どで500〜2000Å程度に極め薄く被着、配設され
る。第１の電極２０は安定な飛翔インク記録のた
めに、液状インク２００に良く濡れるいわゆる親
インク性の導電材料を使用する。

第１の電極２０の先端部２１側にあつて、支持
基板１０の側縁端面１２と縁端１３で接する露出
縁端面１４上には、第１の電極１０部を除いた電
極間隙部１５に、例えば20〜100μmの幅に亘つ
て、液状インク２００をはじいて濡れないよう、
すなわち撥インク性に構成する。その有効な方法
は、露出縁端面１４上に、使用される液状インク
２００の表面張力（通常30dyne／cm程度以上）
よりも小なる表面張力を有する撥インク剤３０を
塗布することである。

撥インク剤３０は、第１の電極２０間に印加さ
れる信号電圧によつて絶縁破壊を生ぜぬよう高固
有抵抗、好しくは絶縁性の材質が選ばれる。

上述の諸条件を満足する撥インク剤３０として
は、例えば弗素系ポリマーを弗素系溶剤に溶解し
た絶縁性の撥油、撥水性の流出防止コーテイング
剤（例えば住友スリーエム社のフロラードFC−
721等）があり、その表面張力は11dyne／cmと極
めて低い値を有す。この種の撥インク剤３０を厚
さが1μm程度塗布して露出縁端面１２における縁
端１３側に撥インク性を付与せしめる。

支持基板面１１上には、実質的に厚み方向に貫
通する孔乃至は隙間を有し、液状インク２００が
厚み方向に浸透し得る多孔質体４０を設置する。
多孔質体４０は、例えば厚さが20〜200μm、平均
孔径が0.1〜8μm、空孔率が60〜80％程度の酢酸
セルローズから成るいわゆるマイクロポーラスメ
ンブレンフイルターを使用する。多孔質体３０と
しては、この他のプラスチツク材料や、ガラス、
磁器材料等も使用できる。

多孔質体４０の縁端４１は、支持基板１０の縁
端１３より例えば50〜300μm程度内側に位置せし
め、支持基板表面１１上に露出縁端面１４を形成
させることが望ましい。縁端面１４の形成は、こ
の面１４上における液状インク２００の電気浸透
性を利用した液状インクの電気的収束作用が利用
でき、高解像度記録に有用である。

多孔質体４０の支持基板１０に対する反対の表
面側には、例えば１インチ当り100〜300メツシユ
程度の密度で貫通する細孔５１を設けた厚さ50〜
300μm程度の液状インク２００透過性のステンレ
ス板や金属メツシシユ等の第２の電極５０を設置
して、多孔質体４０を圧接、固定する。

なお、第２の電極５０は、多孔質体４０表面
に、黒鉛等の導電性塗料を薄く塗布して構成する
こともできる。

多孔質体４０の記録体５００設置面に対して反
対側の端部は、接着剤などの封着剤６０をもつて
多孔質体４０を、支持体表面１１および第１の電
極表面に封着し、後述の電気浸透による液状イン
クの逆流を防止する。

液状インク２００は、第２の電極５０を介して
多孔質体４０に供給、含浸される。

液状インク２００は、上述の多孔質体４０、支
持基板１０に対して良き電気浸透性を与えるもの
として、例えばγ−メタクリロキシプロピルトリ
メトキシシランから成る液体材料に、必要なパイ
ンダ剤、電荷制御剤、表面活性剤などと共に、例
えば、油溶性染料等を重量比で２〜５％程度、混
入して油溶性インク２００が構成される。

この種のインクは前述の多孔質体４０や支持
体、基板１０に対して負の電極方向にに電気浸透
する。この電気浸透の速度は、印加される信号電
圧と共に増大するが、その最大振幅は、絶縁破壊
を考慮して、2V／μm程度の電界強度になるよう
設定される。記録電極たる第１の電極２０夫々は
信号電圧源４００に接続され、信号電圧V_B，
V_B′が第２の電極５０との間に選択的に印加され
る。

今、図のように信号電圧として、第１の電極２
０に対して第２の電極５０が負なるオフ電圧
V_B′、反対に電極５０に対して電極２０が負なる
オン電圧V_Bを交互に印加した場合を例に取り、
動作を説明する。

V_B′が印加された部分では、正電極を形成する
第１の電極２０側から、負電極を形成する第２の
電極５０側に、多孔質体４０を介して、液状イン
ク２００が矢印２１０の如く電気浸透すると共
に、それに伴つて電極先端部２１側に位置する液
状インク２００も図の矢印２１１の如く、第２の
電極５０側に吸い上げられる。

更に、支持基板１０も多孔質体４０と同様の電
気浸透性を有するように構成されているので、
V_B′が印加されている電極２０から、V_Bが印加さ
れて負電極を形成する隣接する電極２０に向つ
て、液状インク２００が矢印２１２の如く、支持
体面１１上を電気浸透する。

したがつて、V_B′が印加された第１の電極２０
の先端部２１側、およびその周辺の露出縁端面１
４には液状インク２００は存在し得ない。

一方、V_Bが印加された第１の電極２０部では、
第２の電極５０を透過し、多孔質体４０を介して
液状インク２００が矢印２２０の如く電気浸透し
て、第１の電極２０の表面に向つて集中する。縁
端１３とは反対の端部側は封着剤６０によつて封
着されているため、液状インク２００は、その電
気浸透圧によつて第１の電極２０の表面を、図の
矢印２２１の如く先端部２１側に押し出され、露
出縁端面１４に電極２０に対応して、位置制御並
びにV_Bの振幅に対してインク量制御された液状
インク部２２２を形成する。

加えて、隣接する正電極たる電極２０側からも
支持基板表面１１、および露出縁端面１４を介し
て、前述の矢印２１２の如く液状インク２００が
電気浸透して電極２０表面に集まるための押し出
し収束効果により、液状インク部２２２の形成は
一層、効果的になる。

本原理の如き、液状インク２００の吸引、押し
出し、収束効果を有効に利用するためには、縁端
４１と１３との間の距離を一定に保つため、縁端
４１，１３は平行に保つことが望ましく、その間
隔すなわち露出縁端面１４の幅は、狭過ぎると面
１４における液状インク２００の収束効果が減少
して記録解像度が低下し、広過ぎるとV_B′印加時
に、先端部２１上の吸引すべきインク２００が吸
引し切れずに残留して記録画像の品質を低下させ
る。以上から通常その幅は前述の如く50〜300μm
程度に選ばれる。なお、本実施例では、記録ヘツ
ド１００は垂直に保持されているが、前記露出縁
端面１４の幅が広い場合、押し出しによる液状イ
ンク部２２２の形成が、重力に起因した逆流によ
つて充分になし得ないことがある。このような場
合には、インク記録ヘツド１００を水平に保持す
るか、それよりも更に傾け、少し先端部２１が下
方に来るよう斜めに保持して使用すれば良い。

記録体５００として厚さが80μm程度の記録紙
を用い、電極先端部２１と補助電極６００との間
隙７００の距離を例えば200μm、V_B，V_B′夫々の
最大振幅を150V程度に選び、液状インク部２２
２の存在下でクーロン力でインク飛翔２３０を生
じるよう、補助電源４０１からの直流高電圧V_A
を適当に選ぶと、V_B印加の電極先端部２１の液
状インク部２２２は、V_Aのクーロン力により間
隙７００側に、図に例示せる如くインク隆起を生
じ、その先端部からインク飛翔２３０を生じて記
録体５００表面にインク付着２４０を生じる。一
方、V_B′印加の電極先端部２１には、液状インク
部２２２は存在し得ないから、インク付着２４０
は生じ得ない。斯くして従来のクーロン力法によ
るインク記録装置とに異なり、電極先端部２１の
インク量が低電圧の信号電圧V_B，V_B′により変調
制御され、飛翔電圧に対応する補助電圧V_Aによ
る飛翔変調を必要としないので、遥かに低電圧で
簡便なインク記録装置が実現できる。通常、適当
なるV_Aは例えば1.5〜2.0KV程度の直流電圧を用
いる。一方、V_B′は一定振幅、一方V_Bはインク記
録濃度に応じて振幅変調、パルス幅変調、乃至は
パルス幅振幅変調される。

然し、従来のインク記録ヘツドにおいては、信
号電圧V_B，V_B′の切り換へ周波数が高い場合や、
電極間隙部１５の幅が広く記録密度が低い場合、
或いは支持基材面１１の電気浸透性が多孔質体４
０と比較して悪い場合等では、オフ電圧V_B′印加
時には露出縁端面１４における電極間隙部１５表
面における残留インク部を完全に消失させること
が困難となつて、これが記録体５００に転写、飛
翔付着する。一方、V_B′印加部と隣り合つたオン
電圧V_B印加部では収束作用の不充分により電極
先端部２１上にインクが集まり切れず、記録液状
インク部２２２は、電極間隙部１５に迄はみ出
し、記録ドツトが過大になる。また、互に隣り合
つてオン電圧V_Bが印加される場合には、収束作
用は働き得ず、電極間隙部１５にも液状インク２
００が存在し、縁端１３に沿つて帯状に記録液状
インク部２２２が形成されるため線状に記録さ
れ、点状記録が困難である。斯くして、従来のイ
ンク記録ヘツドにおいては、記録解像度や記録画
像の品質の低下を起こし易いという難点があつ
た。

然るに本実施例においては、縁端１３に沿つた
電極間隙部１５には、撥インク剤３０が塗布さ
れ、その撥インク作用により、その部分には記録
液状インク２２２は存在し得ない。従つて不要な
インク記録の原因となる残留インクはこの部分に
は存在し得ない。またV_B印加時の縁端１３側で
は、親インク性である第１の電極２０上に限定さ
れて記録液状インク部２２２が形成され、互に隣
り合つてV_Bが印加されても電極先端部２１の断
面形状に対応して点状のインク記録が行える。ま
た残留インクによる不要なインク記録が防止でき
るため、インク記録解像度や記録画像の品質が著
しく改善される利点を有する。

なお、この実施例では、撥インク剤３０は縁端
２１側に限定されて設けられたが、露出縁端面１
４内の電極間隙１５全面、更には支持基板１０の
表面１１の全範囲における電極間隙１５面に撥イ
ンク剤３０を選択的に塗布することができる。

また、上述の諸例において、電極間隙１５が狭
くなるとこの間隙１５に限定して選択的に撥イン
ク剤を塗布することが困難になる場合がある。

このような場合には、支持基板面１１上の所望
の位置に、第１の電極２０設置部を含んで一様に
撥インク剤３０を予め塗布しておき、その後で蒸
着マスクを介して金、銅等の親インク性の金属膜
を選択的に蒸着したり、或いは上述の金属膜を一
様に蒸着して後でフオトエツチング等で選択的に
エツチングして所望の第１の電極２０を形成する
ことができる。この製法は撥インク剤の存在する
ために導電塗料の塗布による電極２０の構成がそ
の撥性により困難であることから推奨される製造
である。

なお、第１の電極２０は、支持基板面１１にエ
ツチングや機械加工により20〜70μm程度の幅と
深さを有する溝等の陥没部を形成し、この陥没部
底部更には側壁に親インク性の銀塗料等を付着さ
せたり、銅線等の親インク性の金属細線をこの陥
没部内に配設して構成することができる。特に金
属細線を利用する場合、縁端１３よりも10〜
100μm程度、飛翔間隙７００内に電極先端部２１
を突出させると、クーロン力による飛翔記録が容
易となる。

以上の何れの場合においても、陥没部を除いた
表面１１を形成する電極間隙部にに、前述と同様
に少くとも縁端１３を含むように撥インク剤３０
を塗布して、実質的に撥インク性に構成すること
もできる。

なお、時として電極先端部２１から側縁端面１
２に記録液状インク２２２がまわり込んで付着残
留し、記録画像の品質を低下させる場合がある。
この防止には、少くとも縁端１３を含むよう側縁
端面１２の一部乃至は全面に撥インク剤を塗布す
る等して、実質的に側縁端面１２を撥インク性に
構成することが有効で、本実施例にとどまらず後
述の実施例にも同様に実施できるものとする。

第２図は、本発明にかゝるインク記録ヘツドの
他の実施例と、その応用記録装置の斜視部分構造
と給電方式を示す図である。

なお、以下の実施例を含め、説明の便宜上、第
１図と同種の部は共通番号で示してある。

この実施例は図に示すように支持基板１０の縁
端１３に圧接ローラ６０１を介して記録紙５００
を圧接し、電極先端部２１に生じた記録液状イン
ク部２２２を直接、記録紙５００に接触転写し、
矢印５０２の如く５００を移動させることで付着
インク２４０によるインク記録を行なう場合に有
用である。

支持基板１０は、多孔質体４０側が、例えば厚
10〜30μm程度の弗化エチレン系ポリマーフイル
ム（例えば商品名でテフロン、ジユラコン等）等
の撥インク性層１０″を、好しくは親インク性の
例えばガラス、磁器、プラスチツク板等の層状補
助支持板１０′上に被着した複数材料の累積体で
構成する。この支持基板面１１上に記録密度に応
じた間隔で、幅及び深さが20〜70μm程度の陥没
構１６を形成し、その底部に銀塗料等を塗布して
親インク性の第１の電極２０を形成する。

なお、電極２０の強固な接着には、図示のよう
に、陥没溝１６を撥インク性層１０″を突き抜け
る支持体１０′に迄少くとも達しせしめ、支持体
１０′材料に接着するようすることが望ましい。

なお、この実施例では第２の電極５１は、多孔
質体４０上に銀や黒鉛等のスパツタ膜や塗料膜な
どで、薄く多孔性に被着し、液状インク透過性に
構成され、第１図と同様に構成することができ
る。なお、説明の便宜上、多孔質体４０への液状
インク供給手段は図示省略されている。

この方式では、支持基板表面１１の電気浸透性
は使用されず、電極先端部２１へのの記録液状イ
ンク部２２２の形成、消滅は、陥没溝１６を介し
ての多孔質体４０の液状インクに対する電気浸透
押し出し、吸い上げ作用によつて行わる。

電極間隙部１５では、撥インク性層１０″の撥
インク作用により液状インクの存在は否定され、
切れの良い高解像度のインク記録が行え、然も、
第１図の如きクーロン力飛翔電圧V_Aを必要とし
ないので、低電圧駆動のインク記録装置が実現で
きる。

なお、図において、支持基材１０全体を撥イン
ク性材料１０″そのもので構成し、陥没溝１６を
設けても良い。

第３図は、本発明にかゝるインク記録ヘツドの
更に他の実施例の斜視部分構造図である。

支持基板１０は、補助支持板１０′上に弗化エ
チレン系ポリマーフイルム等の撥インク性層１
０″が被着され、この層１０″には、その一部が表
面１１に露出するよう太さが20〜50μm程度の銅
等の親インク性金属細線からなる第１の電極２０
を１mm当り３〜８本程度埋設される。金属細線と
しては円状断面のものが好しく、その表面は一部
支持基板表面１１、すなわち撥インク性層１０″
の表面に突出してせしめても良いが、好しくは、
支持基板表面１１と共に表面研磨し、この突出部
分を研磨し、図示の如く表面１１と同じ平面内に
金属線上部研磨面を一致させる。

なお、電極先端部２１は縁端１３より飛翔間隙
７００側に、好しくは100μm以内の長さで突出さ
せることができるし、また電極２０を具えた撥イ
ンク性層１０″を補助支持板１０′よりも間隙７０
０側に突出させ、側縁端面１２に段差を設けるこ
ともできる。

第４図は、本発明にかかるインク記録ヘツドの
更に他の実施例の斜視部分構造図である。

この実施例では、親インク性金属線から成る第
２の電極２０は、弗化エチレン系ポリマー等の撥
インク性被覆１０で被覆され、この被覆線相互
は互に連なつて帯状帯を形成し、その被覆ピツチ
が記録ピツチを形成する。この帯状体は補助支持
板１０′上に接着剤（図示省略）等で接着され、
多孔質体４０側は平面研磨され、電極２０は半円
状断面を有して露出している。

第３図を含めて第４図の実施例は、第１の電極
２０として金属細線を利用することから、導電性
に優れた電極が形成できること、特に第４図では
被覆金属線を使用により狭いピツチ間隔の電極２
０が構成できること等から、高記録密度のインク
記録ヘツドが容易に形成できると共に、第２の電
極２０の引き出しが容易で、安定な給電動作の行
える利点がある。

以上述べた種々の構成は互に適宜組合せて実施
できるものとする。

以上、詳述したように本発明は、電気浸透現象
を利用したインク記録ヘツドにおいて、第１の電
極の電極部を使用される液状インクに対して親イ
ンク性に構成すると共に、支持基材の内、少くと
も記録液状インク部を形成する第２の電極先端部
側の第１の電極相互間に位置する支持基材表面を
実質的に前記液状インクに対して撥インク性に構
成したインク記録ヘツドであつて、撥インク性の
付与によつて安定、高解像度のインク記録が実現
でき、その応用たるインク記録装置の性能を飛躍
的に向上、改善でき産業上、極めて有用である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明にかかるインク記録ヘツドの一
実施例とその応用記録装置の斜視部分構造と給電
方式を示す図、第２図は本発明にかかるインク記
録ヘツドの他の実施例とその応用記録装置の斜視
部分構造と給電方式を示す図、第３図は、本発明
にかゝるインク記録ヘツドの更に他の実施例の斜
視部分構造図、第４図は本発明にかゝるインク記
録ヘツドの一実施例の斜視部分構造図である。 １０……支持基板、２０……第１の電極、３０
……撥インク剤、４０……多孔質体、５０……第
２の電極、６０……封着剤、１００……インク記
録ヘツド、２００……液状インク、３００……イ
ンク容器、４００，４０１……信号電圧源、５０
０……記録紙、６００……補助電極、７００……
飛翔間隙、V_A……飛翔電圧、V_B……オン電圧、
V_B′……オフ電圧。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 記録密度に対応して互に絶縁された複数個の
   第１の電極を有する支持基材面上に多孔質体が設
   置され、この多孔質体の第１の電極に対する反対
   面側に液状インク透過性の第２の電極を位置せし
   め、前記多孔質体に液状インクを供給含浸させる
   と共に、前記第１及び第２の電極間に信号電圧を
   印加して前記液状インクを前記多孔質体を介して
   電気浸透させ、前記第１の電極の先端部側に、前
   記信号電圧に対応して制御された記録液状インク
   部を形成する関係にあるインク記録ヘツドにおい
   て、前記第１の電極部を、前記液状インクに対し
   て親インク性に構成すると共に、前記支持基材表
   面の内、少くとも前記先端部側の第１の電極相互
   間に位置する支持基材表面部を実質的に前記液状
   インクに対して撥インク性に構成したことを特徴
   とするインク記録ヘツド。 ２ 前記撥インク性の構成が、前記支持基材表面
   への撥インク剤の塗布によることをを特徴とする
   特許請求の範囲第１項記載のインク記録ヘツド。 ３ 前記撥インク性の構成が、前記支持基材その
   ものを撥インク性材料で構成したことを特徴とす
   る特許請求の範囲第１項記載のインク記録ヘツ
   ド。 ４ 前記支持基材は、前記多孔質体側が撥インク
   性材料から成る複数材料の累積体から成ることを
   特徴とする特許請求の範囲第１項記載のインク記
   録ヘツド。 ５ 前記撥インク性材料層表面に前記親インク性
   の第１の電極を設置したことを特徴とする特許請
   求の範囲第４項記載のインク記録ヘツド。 ６ 前記累積体の多孔質体設置面に陥没部が設け
   られ、この陥没部内に前記親インク性の第１の電
   極を設置したことを特徴とする特許請求の範囲第
   ４項記載のインク記録ヘツド。 ７ 前記第１の電極は親インク性の金属細線から
   成り、この金属細線は記録密度に応じた間隔で配
   列されると共に、金属細線夫々は撥インク性の誘
   電体材料に埋設あるいは被覆絶縁されて帯状体を
   形成し、この帯状体は補助支持基板に接着され、
   且つこの帯状体の前記補助支持基板に対する反対
   面側に、前記金属線の一部を露出せしめて互に絶
   縁された複数個の第１の電極を有する支持基材面
   を形成せしめたことを特徴とする特許請求の範囲
   第１項記載のインク記録ヘツド。 ８ 前記金属線は、前記撥インク性の誘電体材料
   と共に表面研磨され、前記金属線の露出表面と前
   記支持基材面とは同一面を形成することを特徴と
   する特許請求の範囲第１項記載のインク記録ヘツ
   ド。