JPH03241590A - Gallium arsenide semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Gallium arsenide semiconductor integrated circuit device

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JPH03241590A
JPH03241590A JP2037103A JP3710390A JPH03241590A JP H03241590 A JPH03241590 A JP H03241590A JP 2037103 A JP2037103 A JP 2037103A JP 3710390 A JP3710390 A JP 3710390A JP H03241590 A JPH03241590 A JP H03241590A
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JP
Japan
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decoder
memory cell
gallium arsenide
bit lines
arsenide semiconductor
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JP2037103A
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Inventor
Shuichi Matsue
松江 秀一
Hiroyuki Makino
博之 牧野
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Abstract

PURPOSE:To reduce a Y-decoder part by providing a column selection line which crosses across plural memory cell arrays and extends in a prescribed direction as against the Y-decoder part and transmitting a decoder output to bit lines. CONSTITUTION:The column selection line 5 which crosses across the memory cell arrays 1a-1d and extends in the prescribed direction from the Y-decoder 4 is provided. Then, the bit lines 2a-2d of respective arrays 1a-1d are respective ly connected with the selection line 5 and the Y-decoder output is transmitted to respective bit lines 2a-2d. Consequently, the Y-decoder part can be reduced without the need of provided the Y-decoders for two pairs of memory cell arrays and the drawing distance of a wiring group connected to the Y-decoder part becomes short, whereby the increase of a chip area can be prevented.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、ガリウム砒素半導体基板上に記憶回路を搭
載したガリウム砒素半導体集積回路装置に関し、特に該
記憶回路におけるアドレス選択方式の改良に関するもの
である。
[Detailed Description of the Invention] [Field of Industrial Application] The present invention relates to a gallium arsenide semiconductor integrated circuit device in which a memory circuit is mounted on a gallium arsenide semiconductor substrate, and particularly relates to an improvement in an address selection method in the memory circuit. be.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

第4図は、例えば、電気通信学会技術研究報告νo1.
8B、No、354.ED、88.P、107の第10
図に記載されたガリウム砒素半導体メモリのメモリセル
アレイの構成を示したものである。上記メモリは×4構
成のメモリであり、つまり同時に4つのアドレスに対し
て情報のアクセスが可能となっている。
FIG. 4 shows, for example, IEICE Technical Research Report νo1.
8B, No. 354. ED, 88. P, No. 10 of 107
1 shows the configuration of a memory cell array of the gallium arsenide semiconductor memory shown in the figure. The above memory is a memory with a x4 configuration, that is, information can be accessed at four addresses at the same time.

ここでは、上記半導体メモリは4つのメモリ機能ブロッ
ク(以下I10という)から構成されており、該各I1
0は、ガリウム砒素半導体基板上に形成されたメモリセ
ルアレイ、その周辺部に形成された入出力機能部(11
0部)、並びにビット線及びワード線を有している。
Here, the semiconductor memory is composed of four memory function blocks (hereinafter referred to as I10), and each I1
0 is a memory cell array formed on a gallium arsenide semiconductor substrate, and an input/output function section (11) formed around the memory cell array.
0 part), as well as bit lines and word lines.

図において、1a〜1dはl10−1〜4のメモリセル
アレイ、2a〜2dはl10−1〜4のピント線、3a
〜3dはl10−1〜4のワード線である。また、4a
はl10−1.2用のYデコーダ部、4bは−I10−
3.4用のYデコーダ部で、それぞれ受は持ちIloに
対応するメモリセルアレイのビット線を選択するYデコ
ーダと、ビット線選択のための信号伝送用のYデコーダ
選択信号配線群とから構成されている。
In the figure, 1a to 1d are memory cell arrays of l10-1 to l10-4, 2a to 2d are focus lines of l10-1 to l10-4, and 3a
-3d are word lines of l10-1 to l10-4. Also, 4a
is the Y decoder section for l10-1.2, and 4b is -I10-
The Y decoder section for 3.4 consists of a Y decoder that selects the bit line of the memory cell array corresponding to Ilo, and a Y decoder selection signal wiring group for transmitting the signal for bit line selection. ing.

各Ilo内でのメモリセルの選択は、ビット線2a〜2
d及びワード線3a〜3dの選択によりなされる。この
際、l10−1.2及びl10−3.4用のYデコーダ
4a  4bには、上記配線郡を介して全く同一の信号
からなるYデコーダ選択信号群が印加される。
Memory cell selection within each Ilo is based on bit lines 2a to 2.
d and word lines 3a to 3d. At this time, a group of Y decoder selection signals consisting of exactly the same signals is applied to the Y decoders 4a and 4b for l10-1.2 and l10-3.4 via the above wiring group.

ところで、各I10のメモリセルアレイ1a〜1dで、
ビット線2a〜2dがワード線3a〜3dに比べ短く設
定されているのは、以下の理由による。
By the way, in each memory cell array 1a to 1d of I10,
The reason why the bit lines 2a to 2d are set shorter than the word lines 3a to 3d is as follows.

一般に、ガリウム砒素半導体MESFETでは、シリコ
ン半導体MO3FETに比べ、サブスレッショルド領域
でのソース・ドレイン電流が大きく、また高い温度依存
性を持っている。このため、MESFETでメモリセル
アレイを構成した場合、第5図に示した経路14でリー
ク電流がピント線10からセルグランドに向かって流れ
る。ビット線の信号振巾は約0.2■から0.6Vにあ
り、またメモリセル9の記憶ノードの信号振巾は約0゜
0■から0.6Vにあるため、上記リーク電流は第5図
に示された状態、すなわち、ビット線10がHigh”
レベルにあり、アクセストランジスタ13を経て接続さ
れたメモリセル9の記憶ノード11が“’Low”レベ
ルにある状態の時最大になる。
In general, a gallium arsenide semiconductor MESFET has a larger source/drain current in the subthreshold region and a higher temperature dependence than a silicon semiconductor MO3FET. Therefore, when a memory cell array is constructed using MESFETs, leakage current flows from the focus line 10 toward the cell ground through the path 14 shown in FIG. Since the signal amplitude of the bit line is approximately 0.2 to 0.6 V, and the signal amplitude of the storage node of the memory cell 9 is approximately 0°0 to 0.6 V, the leakage current is The state shown in the figure, that is, the bit line 10 is High"
level, and reaches its maximum level when the storage node 11 of the memory cell 9 connected via the access transistor 13 is at the "'Low" level.

従ってビット線10からセルグランドへ向かって流れる
リーク電流の総和は、そのビット線10に接続されたメ
モリセル9の保持データの“High”、 “Low”
の割合で変化し、このリーク電流の総和の変化はビット
線10の“”High’”レベルに直接影響を及ぼす。
Therefore, the total leakage current flowing from the bit line 10 toward the cell ground is the “High” or “Low” level of the data held in the memory cell 9 connected to the bit line 10.
This change in the total leakage current directly affects the "High" level of the bit line 10.

さらにビット線は通常、センス能力の高いアンプが接続
されているため、ビット線のHi g h ”レベルの
ばらつきはアクセスタイムのばらつきを招く。特に、高
温動作時では上記リーク電流が飛躍的に増加するため、
アクセスタイムの劣化のみならず、読み出し動作不良を
ももたらす。
Furthermore, since the bit line is usually connected to an amplifier with high sensing ability, variations in the high level of the bit line lead to variations in access time.Especially, during high temperature operation, the above leakage current increases dramatically. In order to
This not only degrades access time but also causes read operation failure.

そこで上記従来例では、このような電流リークの対策の
1つとして、1本のビット線に接続されるメモリセル数
を減らす、つまりビット線を短くすることにより、ビッ
ト線からのリーク電流の総和を抑えている。
Therefore, in the conventional example described above, one measure against such current leakage is to reduce the number of memory cells connected to one bit line, that is, to shorten the bit line, thereby reducing the total leakage current from the bit line. is suppressed.

また、GaAsRAMは、素子特性の均一性を広い領域
に保つことが困難であるため、チップ面積低減の他、で
きるだけチップの対角線距離が短いことが望ましい。こ
のため上記従来例では、さらにカラム(ビット線)の本
数増加に対し、■10−1.2間及びl10−3.4間
にYデコーダを配置することにより、チップの形状が極
端に細長くなることを防いでいる。
Further, in GaAsRAM, it is difficult to maintain uniformity of device characteristics over a wide area, so in addition to reducing the chip area, it is desirable to shorten the diagonal distance of the chip as much as possible. For this reason, in the above conventional example, as the number of columns (bit lines) increases, the chip shape becomes extremely elongated by placing Y decoders between ■10 and 1.2 and between l10 and 3.4. It prevents that.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

従来のガリウム砒素半導体メモリは以上のように構成さ
れており、チップの対角線距離の短縮のためにYデコー
ダ選択信号配線群をl10−1゜2及びIlo−3,4
のメモリセルアレイ間に配置しているが、この場合、Y
デコーダ選択信号配線群の引き回し距離が長くなり、つ
まりYデコーダ部4a、4b間での上記配線郡の引き回
し、また外部から該両Yデコーダ部4a、4bまでの配
線郡の引き回し距離が必要となり、チップ面積が増大す
ることとなる。この結果ガリウム砒素半導体では、広い
領域で均一な素子特性を得ることが困難であるというこ
とから、著しい歩留りの低下をもたらすという問題点が
あった。
A conventional gallium arsenide semiconductor memory is configured as described above, and in order to shorten the diagonal distance of the chip, the Y decoder selection signal wiring group is arranged as l10-1゜2 and Ilo-3,4.
In this case, Y
The routing distance of the decoder selection signal wiring group becomes longer, that is, the routing distance of the wiring group between the Y decoder sections 4a and 4b, and the routing distance of the wiring group from the outside to both Y decoder sections 4a and 4b becomes necessary. The chip area will increase. As a result, in gallium arsenide semiconductors, it is difficult to obtain uniform device characteristics over a wide area, resulting in a significant decrease in yield.

この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、Yテコ−1部の選択信号配線群の引き回し距
離を短くしてチップ面積の増大を防止することのできる
記憶回路を有するガリウム砒素半導体集積回路装置を得
ることを目的とする。
This invention was made to solve the above-mentioned problems, and has a memory circuit that can prevent an increase in chip area by shortening the routing distance of the selection signal wiring group of the first Y lever. The object is to obtain a gallium arsenide semiconductor integrated circuit device.

〔課題を解決するための手段〕 この発明に係るガリウム砒素半導体集積回路装置は、そ
の記憶回路において、1つないし複数個のメモリセルア
レイを横断してYテコ−1部に対し所定方向に延びるカ
ラム選択線を設け、上記所定方向に位置するビット線に
は、上記Yテコ−1部のデコーダ出力が上記カラム選択
線を介して同時に伝達されるようにしたものである。
[Means for Solving the Problems] A gallium arsenide semiconductor integrated circuit device according to the present invention has a memory circuit including a column extending in a predetermined direction with respect to a portion of a Y lever across one or more memory cell arrays. A selection line is provided, and the decoder output of the first Y lever is simultaneously transmitted to the bit lines located in the predetermined direction via the column selection line.

〔作用〕[Effect]

この発明においては、ガリウム砒素半導体メモリ(記憶
回路)を、Yデコーダ部に対し同一方向に位置する2つ
以上のビット線についてはこれらが1つのYデコーダ部
のデコーダ出力により同時に選択されるよう構成したか
ら、同一のビット線選択信号を発生するYデコーダ部を
削減することができる。これによりYデコーダ部に接続
されているYデコーダ選択信号配線群の引き回し距離が
短縮されることとなり、チップ面積の増大を抑制するこ
とができる。
In this invention, the gallium arsenide semiconductor memory (memory circuit) is configured such that two or more bit lines located in the same direction with respect to the Y decoder section are simultaneously selected by the decoder output of one Y decoder section. Therefore, the number of Y decoders that generate the same bit line selection signal can be reduced. As a result, the routing distance of the Y decoder selection signal wiring group connected to the Y decoder section is shortened, and an increase in chip area can be suppressed.

〔実施例〕〔Example〕

以下、この発明の実施例を図について説明する。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第1図は本発明の第1の実施例によるガリウム砒素半導
体集積回路装置を説明するための図であり、ガリウム砒
素半導体メモリのメモリセルアレイの構成を示している
。図において、第4図と同一符号は同一または相当部分
を示し、4はチップ周辺部に配設されたYデコーダ部、
5は複数個のメモリセルアレイ1a〜ICを横断して上
記Yデコーダ部4に対し紙面右方向に延びるカラム選択
線であり、該カラム選択線5により上記Yデコーダ部4
に対し同一方向に位置するビット線2a〜2dとYデコ
ーダ部4のYデコーダとが接続されている。これにより
1つのYデコーダ部4のデコーダ出力より各メモリセル
アレイ1a〜1dのビット線2a〜2dが同時に選択さ
れるようになっている。なお上記Yデコーダ部4へのビ
ット線選択のための情報信号は、従来と同様Yデコーダ
選択信号線部から供給するようにしている。
FIG. 1 is a diagram for explaining a gallium arsenide semiconductor integrated circuit device according to a first embodiment of the present invention, and shows the configuration of a memory cell array of a gallium arsenide semiconductor memory. In the figure, the same reference numerals as in FIG. 4 indicate the same or corresponding parts, and 4 is a Y decoder section disposed around the chip;
Reference numeral 5 denotes a column selection line extending across the plurality of memory cell arrays 1a to IC to the right side of the paper with respect to the Y decoder section 4.
The bit lines 2a to 2d located in the same direction as the Y decoder section 4 are connected to the bit lines 2a to 2d. As a result, the bit lines 2a to 2d of each memory cell array 1a to 1d are simultaneously selected by the decoder output of one Y decoder section 4. Note that the information signal for bit line selection to the Y decoder section 4 is supplied from the Y decoder selection signal line section as in the conventional case.

次に作用効果について説明する。Next, the effects will be explained.

Yデコーダ選択信号配線群からYデコーダ部4にビット
線選択信号が入力されると、所定のカラム選択線5にY
デコーダ出力、つまり選択信号が伝達される。この時こ
のカラム選択線5に接続されたl10−1〜4のビット
線2a〜2dが同時に選択される。このようにして1つ
のYデコーダ部4により全I10のビット線が同時に選
択される。
When a bit line selection signal is input from the Y decoder selection signal wiring group to the Y decoder section 4, the Y decoder selection signal is input to a predetermined column selection line 5.
A decoder output, ie a selection signal, is transmitted. At this time, the bit lines 2a to 2d of l10-1 to l10-4 connected to this column selection line 5 are simultaneously selected. In this way, all I10 bit lines are selected simultaneously by one Y decoder section 4.

このように本実施例では、複数個のメモリセルアレイ1
a〜ICを横断してYデコーダ部4に対し紙面右方向に
延びるカラム選択線5を設け、上記Yデコーダ部4のデ
コーダ出力が上記カラム選択線5を介して上記方向に位
置するビット線2a〜2dに同時に伝達されるようにし
たので、同一のビット線選択信号を発生するYデコーダ
部4の数を少な(する、つまり従来2つであったYデコ
ーダ部を1つにすることができる。これによりYデコー
ダ部4に接続されているYデコーダ選択信号配線群の引
き回し距離を短(でき、チップ面積の増大を抑制するこ
とができる。
In this way, in this embodiment, a plurality of memory cell arrays 1
A column selection line 5 is provided which extends rightward in the paper plane with respect to the Y decoder section 4 across the IC, and the decoder output of the Y decoder section 4 is located in the above direction via the column selection line 5. 2d, the number of Y decoder sections 4 that generate the same bit line selection signal can be reduced (in other words, the conventional two Y decoder sections can be reduced to one). As a result, the routing distance of the Y decoder selection signal wiring group connected to the Y decoder section 4 can be shortened, and an increase in chip area can be suppressed.

なお、上記実施例では、Yデコーダ部4をチップ周辺に
配置しているが、これはチップ中央、例えばメモリセル
アレイ間に設けてもよい。第2図はこのような構成の第
2の実施例を示しており、ここでは、Yデコーダ部4が
メモリセルアレイ1b、lc間に配置されており、その
他の構成は上記第1の実施例と同一で゛あり、この場合
も該実施例と同様の効果を奏する。
In the above embodiment, the Y decoder section 4 is arranged at the periphery of the chip, but it may also be arranged at the center of the chip, for example between the memory cell arrays. FIG. 2 shows a second embodiment with such a configuration, in which the Y decoder section 4 is arranged between the memory cell arrays 1b and lc, and the other configurations are the same as in the first embodiment. They are the same, and in this case also the same effects as in the embodiment are achieved.

また、上記各実施例ではメモリセルアレイを、メモリセ
ルアレイ毎に入出力部を持つI10構成とした×4構成
のメモリについて説明したが、メモリの構成はこれに限
るものではない。
Further, in each of the above embodiments, a memory having a ×4 configuration in which the memory cell array has an I10 configuration in which each memory cell array has an input/output section has been described, but the memory configuration is not limited to this.

第3図は本発明の第3の実施例として×1構成。FIG. 3 shows a ×1 configuration as a third embodiment of the present invention.

つまり情報のアクセスを1つのアドレス毎に行う構成の
メモリを示しており、図においてIla〜lidはそれ
ぞれガリウム砒素半導体基板上に形成された第1〜第4
のメモリセルアレイ、22a〜22dは上記各メモリセ
ルアレイllミル11d毎に分割された分割ビット線で
ある。またチップ周辺部には上記第1の実施例と同様Y
デコーダ部4が配置されており、該デコーダ部4に対し
て同一方向に位置する各分割ビット線22a〜22dに
対して、1つのカラム選択線5がこれらの各分割ビット
線と接続可能に配設されている。そしてここでは、さら
に上記カラム選択線5と各分割ビット線22a〜22d
との接続を行うZデコーダ部7が配設されている。
In other words, it shows a memory configured to access information for each address.
The memory cell arrays 22a to 22d are divided bit lines divided for each memory cell array 11d. Also, Y is provided around the chip as in the first embodiment.
A decoder section 4 is arranged, and one column selection line 5 is arranged so as to be connectable to each of the divided bit lines 22a to 22d located in the same direction with respect to the decoder section 4. It is set up. Here, the column selection line 5 and each divided bit line 22a to 22d are further explained.
A Z decoder section 7 is provided for connection with the Z decoder section 7.

この構成のメモリでは、分割ビット線22a〜22dの
選択及びワード線33a〜33dの選択が行われ、各メ
モリセルアレイlla〜lidに対して、それぞれ同一
位置のアドレスが設定される。またZデコーダ部7が、
メインデータ線8からの信号を受けると、その第1〜第
6のデータ信号IJ16a〜6dにデータ信号を出力し
てメモリセルアレイIla〜lidを選択する。これに
より所定のメモリセルアレイのアドレスが1つ指定され
る。
In the memory having this configuration, the divided bit lines 22a to 22d and the word lines 33a to 33d are selected, and addresses at the same position are set for each memory cell array lla to lid. In addition, the Z decoder section 7
When receiving a signal from the main data line 8, it outputs a data signal to the first to sixth data signals IJ16a to IJ6d to select memory cell arrays Ila to lid. As a result, one address of a predetermined memory cell array is designated.

この場合も上記各実施例と同様、1つのYデコーダ部4
のデコーダ出力により、該デコーダ部4に対して同一方
向に位置するビット線22a〜22dの選択が可能であ
るため、同一のカラム選択信号を発生するYデコーダ部
の個数を少なくして、Yデコーダ選択信号配線群の引き
回し距離を短くすることができ、チップ面積の増大を抑
制することができる。
In this case, as in each of the above embodiments, one Y decoder section 4
Since the bit lines 22a to 22d located in the same direction with respect to the decoder section 4 can be selected by the decoder output, the number of Y decoder sections that generate the same column selection signal can be reduced, and the Y decoder The routing distance of the selection signal wiring group can be shortened, and an increase in chip area can be suppressed.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上のように、この発明に係るガリウム砒素半導体集積
回路装置によれば、1つないし複数個のメモリセルアレ
イを横断してYデコーダ部に対し所定方向に延びるカラ
ム選択線を設け、上記Yデコーダ部のデコーダ出力が上
記カラム選択線を介して上記所定方向に位置するビット
線に同時に伝達されるようにしたので、同一のビット線
選択信号を発生するYデコーダ部を削減することができ
、これによりYデコーダ部に接続されている配線群の引
き回し距離が短くなり、チップ面積の増大を防止するこ
とができる効果がある。
As described above, according to the gallium arsenide semiconductor integrated circuit device according to the present invention, a column selection line is provided that extends in a predetermined direction with respect to the Y decoder section across one or more memory cell arrays, and Since the decoder outputs of the Y decoders are simultaneously transmitted to the bit lines located in the predetermined direction via the column selection lines, it is possible to reduce the number of Y decoders that generate the same bit line selection signals. This has the effect that the routing distance of the wiring group connected to the Y decoder section is shortened, and an increase in chip area can be prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図はこの発明の第1の実施例によるガリウム砒素半
導体集積回路装置を説明するためのメモリセルアレイの
構成図、第2図はこの発明の第2の実施例装置を説明す
るためのメモリセルアレイの構成図、第3図はこの発明
の第3の実施例装置を説明するためのメモリセルアレイ
の構成図、第4図は従来のガリウム砒素半導体メモリの
メモリセルアレイを示す構成図、第5図はビット線から
のリーク電流の経路を示す回路図である。 ■a〜1dはl10−1〜4のメモリセルアレイ、2a
〜2dはl10−1〜4のビット線、3a〜3dはl1
0−1〜4のワード線、4はYデコーダ部、5はカラム
選択線、lla〜lidは第1〜第4のメモリセルアレ
イ、22a〜22dは第1〜第4の分割ビット線、33
a〜33dは第1〜第4のワード線、6a〜6dは第1
〜第4のデータ線、7はZデコーダ、8はメインデータ
線である。 なお図中同一符号は同−又は相当部分を示す。 震1図
FIG. 1 is a configuration diagram of a memory cell array for explaining a gallium arsenide semiconductor integrated circuit device according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a memory cell array for explaining a second embodiment of the device of the present invention. FIG. 3 is a configuration diagram of a memory cell array for explaining the third embodiment of the present invention, FIG. 4 is a configuration diagram showing a memory cell array of a conventional gallium arsenide semiconductor memory, and FIG. FIG. 3 is a circuit diagram showing a path of leakage current from a bit line. ■A to 1d are memory cell arrays of l10-1 to 4, 2a
~2d are bit lines of l10-1~4, 3a~3d are l1
0-1 to 4 word lines, 4 is a Y decoder section, 5 is a column selection line, lla to lid are first to fourth memory cell arrays, 22a to 22d are first to fourth divided bit lines, 33
a to 33d are the first to fourth word lines, 6a to 6d are the first
˜4th data line, 7 is a Z decoder, and 8 is a main data line. Note that the same reference numerals in the figures indicate the same or equivalent parts. Earthquake 1 diagram

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)ガリウム砒素半導体基板上に記憶回路を搭載し、
該記憶回路を複数のメモリセルアレイとそのビット線を
選択するYデコーダ部とを有する構成としたガリウム砒
素半導体集積回路装置において、 上記Yデコーダ部を、 該Yデコーダ部に対し所定方向に延びる複数のカラム選
択線を有し、 デコーダ出力を該カラム選択線を介して、上記Yデコー
ダ部に対し所定方向に位置する各ビット線に同時に伝達
するものとしたことを特徴とするガリウム砒素半導体集
積回路装置。
(1) A memory circuit is mounted on a gallium arsenide semiconductor substrate,
In a gallium arsenide semiconductor integrated circuit device in which the memory circuit has a plurality of memory cell arrays and a Y-decoder section for selecting bit lines thereof, the Y-decoder section includes a plurality of Y-decoder sections extending in a predetermined direction with respect to the Y-decoder section. A gallium arsenide semiconductor integrated circuit device comprising a column selection line, and a decoder output is simultaneously transmitted to each bit line located in a predetermined direction with respect to the Y decoder section via the column selection line. .
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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63247990A (en) * 1987-10-21 1988-10-14 Hitachi Ltd Semiconductor memory device

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