JPH03240282A - Laser device - Google Patents

Laser device

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JPH03240282A
JPH03240282A JP3706490A JP3706490A JPH03240282A JP H03240282 A JPH03240282 A JP H03240282A JP 3706490 A JP3706490 A JP 3706490A JP 3706490 A JP3706490 A JP 3706490A JP H03240282 A JPH03240282 A JP H03240282A
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JP
Japan
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laser
light
window material
photodetector
transparent window
Prior art date
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Pending
Application number
JP3706490A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masato Aketagawa
正人 明田川
Masayuki Miyahara
正行 宮原
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH03240282A publication Critical patent/JPH03240282A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02Constructional details
    • H01S3/03Constructional details of gas laser discharge tubes
    • H01S3/034Optical devices within, or forming part of, the tube, e.g. windows, mirrors

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Lasers (AREA)

Abstract

PURPOSE:To safely, easily and accurately detect a variation in an optical property due to fog of a transmitting window material, adherence of dust by introducing a laser light from a reference laser to the material, and detecting a reflected light, transmitted light or a scattered light through the material. CONSTITUTION:A laser light from a reference laser 1 impinges obliquely to a transmitting window material 5a (5b) through a prism mirror 2, a mirror 3a (3b), a half mirror 13a (13b), and a reflected light from the material 5a (5b) is detected by a photodetector 8a (8b) through an interference filter 12a (12b). In this case, if the material 5a (5b) has fog or dust, the intensity of the detected light becomes small. Accordingly, an output signal ratio from a monitoring photodetector 14a (14b) is obtained by a discriminator 9. Then, it is compared with a threshold output ratio previously determined here, its result is displayed on a display unit 10 to know a variation in an optical property. Here, when the position of the photodetector 8a (8b) is deviated, a scattered light, etc., can be detected.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はレーザ装置に関し、特にガスレーザ等において
ガス媒質を封じ込めたレーザガス容器の一部に透過窓材
を設け、該透過窓材を介してレーザ光を放射させる際の
該透過窓材のくもり等の経時的な変化による光学的性質
を測定する手段を設けたレーザ装置に関するものである
Detailed Description of the Invention (Industrial Application Field) The present invention relates to a laser device, and in particular, in a gas laser or the like, a transmission window material is provided in a part of a laser gas container in which a gas medium is enclosed, and a laser beam is transmitted through the transmission window material. The present invention relates to a laser device provided with means for measuring optical properties due to changes over time, such as cloudiness, of the transmission window material when emitting light.

(従来の技術) 従来よりガスレーザ(気体レーザ)では石英等のガラス
管内のガス媒質を封入して、石英管の両端に反射鏡を向
い合わせて配置し、高電圧を外部から印加して石英管内
で放電させ、誘導放出を起こさせて、これ、により単色
性の良いコヒーレント光を放射させている。このとき石
英等のガラス管内にガス媒質を封じ込める為に石英等の
ガラス管の一部の光路中に透過窓材を設けている。
(Conventional technology) Conventionally, gas lasers have been made by sealing a gas medium in a glass tube such as quartz, placing reflectors facing each other at both ends of the quartz tube, and applying a high voltage from the outside to the inside of the quartz tube. This causes stimulated emission, which emits highly monochromatic coherent light. At this time, in order to confine the gas medium within the glass tube such as quartz, a transmission window material is provided in a part of the optical path of the glass tube such as quartz.

一般にこの透過窓材はレーザ発振を行うにつれて経時変
化し、例えばくもりが発生し、光学的性質が変化し、レ
ーザから出力される光エネルギーが変化してくる。
Generally, this transparent window material changes over time as laser oscillation is performed, for example, clouding occurs, the optical properties change, and the light energy output from the laser changes.

従来よりこのときの透過窓材の光学的性質の変化を確認
する方法として透過窓材を直接肉眼で観察して行う方法
、レーザ出力の低下を検出して行う方法、放射されるレ
ーザ光束断面の光強度分布を測定して行う方法等が用い
られている。
Conventional methods for confirming changes in the optical properties of the transparent window material at this time include directly observing the transparent window material with the naked eye, detecting a decrease in laser output, and checking the cross section of the emitted laser beam. Methods such as measuring the light intensity distribution are used.

(発明が解決しようとする問題点) 従来の透過窓材の光学的性質の変化の確認方法として直
接肉眼で観察する方法は強力なレーザ光を直視する危険
性があること、透過窓材を観察する際、共振器を外さね
ばならなく作業性が悪くなるという問題点があった。
(Problems to be Solved by the Invention) The conventional method of directly observing with the naked eye as a method of confirming changes in the optical properties of a transparent window material has the risk of directly viewing a powerful laser beam, and the observation of a transparent window material There was a problem in that the resonator had to be removed when doing so, resulting in poor workability.

又、レーザ出力の低下を検出する方法やレーザ光束断面
の光強度分布を測定する方法は他の要因と区別すること
が難しいという問題点があった。
Further, there is a problem in that it is difficult to distinguish the method of detecting a decrease in laser output or the method of measuring the light intensity distribution of a cross section of a laser beam from other factors.

本発明は参照レーザと適切に構成した照射手段そして光
検出器を利用することによりレーザ光の被ばくの危険性
がなく、又特別な作業がなく容易にしかも高精度の透過
窓材のくもり等の光学的性質の変化を測定することがで
きるレーザ装置の提供を目的とする。
By using a reference laser, appropriately constructed irradiation means, and photodetector, the present invention eliminates the risk of exposure to laser light, and eliminates the need for special work, allowing for easy and high-precision prevention of fogging of the transparent window material, etc. The object of the present invention is to provide a laser device that can measure changes in optical properties.

(問題点を解決するための手段) 本発明のレーザ装置は、ガス状の媒質を封じ込めたレー
ザガス容器に設けた透過窓材を介してレーザ光束を放射
するようにしたレーザの該透過窓材に、参照光源から参
照光を照射手段により照射し、該透過窓材を介して該参
照光を光検出器で検出し、該光検出器からの出力信号を
利用して該透過窓材の光学的性質を測定したことを特徴
としている。
(Means for Solving the Problems) The laser device of the present invention is configured to emit a laser beam through a transparent window material provided in a laser gas container containing a gaseous medium. , a reference light is irradiated from a reference light source by an irradiation means, the reference light is detected by a photodetector through the transparent window material, and an output signal from the photodetector is used to detect the optical characteristics of the transparent window material. It is characterized by measuring properties.

特に本発明では、前記光検出器は前記透過窓材からの散
乱光又は反射光又は透過光を検出していることを特徴と
している。
In particular, the present invention is characterized in that the photodetector detects scattered light, reflected light, or transmitted light from the transparent window material.

(実施例) 第1図は本発明の第1実施例の要部概略図である。同図
において4はレーザガス容器であり、例えば石英管等か
ら成り、内部には放射レーザ光の波長に対応したガス媒
体が封入されている。
(Embodiment) FIG. 1 is a schematic diagram of a main part of a first embodiment of the present invention. In the figure, reference numeral 4 denotes a laser gas container, which is made of, for example, a quartz tube, and is filled with a gas medium corresponding to the wavelength of the emitted laser beam.

5a。5bは石英より成る透過窓材であり、レーザガス
容@4の光射出面に取着されている。6゜7は各々共振
器ミラーであり、レーザの共振器の一要素を構成してい
る。
5a. 5b is a transparent window material made of quartz, and is attached to the light exit surface of the laser gas container @4. Reference numerals 6 and 7 each designate a resonator mirror, which constitutes one element of the laser resonator.

以上の各要素4,5,6.7は従来公知のレーザと同じ
ものであり、本実施例では主レーザ101の一要素を構
成している。本実施例の主レーザ101はにrFエキシ
マレーザより成る。
Each of the above elements 4, 5, 6.7 is the same as a conventionally known laser, and constitutes one element of the main laser 101 in this embodiment. The main laser 101 of this embodiment consists of an rF excimer laser.

11は主レンズ101から放射された波長λ=248.
4amのレーザ光である。1は参照レーザ(プローブレ
ーザ)であり、主レーザ101の発振波長と異った波長
のレーザ光を放射している。ここで参照レーザはHe−
Noレーザ(λ=632.8nm)より成る。2はプリ
ズムミラー 3a、3bはミラー、13a、13bはハ
ーフミラ−である。
11 is the wavelength λ=248.
It is a 4 am laser beam. A reference laser (probe laser) 1 emits a laser beam having a wavelength different from the oscillation wavelength of the main laser 101. Here the reference laser is He-
It consists of a No laser (λ=632.8 nm). 2 is a prism mirror, 3a and 3b are mirrors, and 13a and 13b are half mirrors.

同図では参照レーザ1からのレーザ光をプリズムミラー
2により2方向に分割しミラー3a(3b)とハーフミ
ラ−13m (13b)を介して透過窓材5a (5b
)に斜方向から所定角度で入射させている。12al、
12bl。
In the figure, a laser beam from a reference laser 1 is divided into two directions by a prism mirror 2, and transmitted through a mirror 3a (3b) and a half mirror 13m (13b) to a transparent window material 5a (5b).
) at a predetermined angle from an oblique direction. 12al,
12bl.

12a2.12b2は各々干渉フィルターであり、参照
レーザ1の発振波長光を透過する分光特性を有している
。8a、8bは光検出器である。
Reference numerals 12a2 and 12b2 each indicate an interference filter, which has a spectral characteristic that allows light of the oscillation wavelength of the reference laser 1 to pass therethrough. 8a and 8b are photodetectors.

同図では透過窓材5a (5b)に入射した参照レーザ
1からのレーザ光のうち透過窓材5a(5b)からの反
射光の強度を干渉フィルター12al (12bl)を
介して光検出器8a(8b)で検出している。
In the figure, the intensity of the reflected light from the transparent window material 5a (5b) among the laser beams from the reference laser 1 that entered the transparent window material 5a (5b) is detected by the photodetector 8a ( 8b).

14a、14bはモニター用の光検出器である。光検出
器14a (14b)はハーフミラ−13a(13b)
で反射分割された参照レーザ1の一部のレーザ光を干渉
フィルター12a2(12b2)を介して検出し、参照
レーザ1の光出力を検出している。9は判別回路、10
は表示器である。
14a and 14b are photodetectors for monitoring. The photodetector 14a (14b) is a half mirror 13a (13b)
A part of the laser beam of the reference laser 1 that has been reflected and split is detected via an interference filter 12a2 (12b2), and the optical output of the reference laser 1 is detected. 9 is a discrimination circuit, 10
is an indicator.

判別回路9は光検出器8a (8b)からの出力信号が
所定値以上あるか否かをモニター用の光検出量14a 
(14b)からの出力信号を参照して判別している。そ
して表示器10は判別回路9による判別結果を表示して
いる。
The determination circuit 9 determines whether the output signal from the photodetector 8a (8b) is greater than or equal to a predetermined value using a photodetection amount 14a for monitoring.
The determination is made with reference to the output signal from (14b). The display 10 displays the determination result by the determination circuit 9.

本実施例では従来のガスレーザと同様にレーザガス容器
4と透過窓材5a (5b)を挟む共振器ミラー6.7
の間でレーザガス容器4中のレーザ媒質が放電等で励起
されると誘電放出が起こり、レーザ発振し、単色性のコ
ヒーレントなレーザ光11が共振器ミラー7を通過し放
射される。このとき透過窓材5a (5b)は経時的に
変化し例えばくもりが生じてきて、又ホコリ等が付着し
て光学的性質が変化してくる。又取扱上キズが付着した
りする場合がある。
In this embodiment, similarly to a conventional gas laser, a resonator mirror 6.7 sandwiching a laser gas container 4 and a transmission window material 5a (5b) is used.
When the laser medium in the laser gas container 4 is excited by discharge or the like between the two, dielectric emission occurs, laser oscillation occurs, and a monochromatic coherent laser beam 11 passes through the resonator mirror 7 and is emitted. At this time, the transmission window material 5a (5b) changes over time, for example, becomes cloudy, and dust and the like adhere to it, causing its optical properties to change. Also, there may be scratches due to handling.

そこで本実施例では参照レーザ1からレーザ光をプリズ
ム、ミラー2、ミラー3m(3b)、ハーフミラ−13
a (13b)を介して透過窓材5a(5b)に斜方向
から入射させている。そして透過窓材5a (5b)か
らの反射光を干渉フィルター12g (12b)を介し
て光検出器8a(8b)で検出している。このとき透過
窓材5a(5b)に前述したような原因により光学的性
質の変化があると光検出器8a (8b)で検出される
光強度は減少する。
Therefore, in this embodiment, the laser beam is transmitted from the reference laser 1 to the prism, the mirror 2, the mirror 3m (3b), and the half mirror 13.
The light is made to enter the transmission window material 5a (5b) from an oblique direction via a (13b). The reflected light from the transparent window material 5a (5b) is detected by a photodetector 8a (8b) via an interference filter 12g (12b). At this time, if the optical properties of the transparent window material 5a (5b) change due to the reasons described above, the light intensity detected by the photodetector 8a (8b) decreases.

本実施例では光検出器8a (8b)からの出力信号E
。utとモニター用の光検出1314 a 。
In this embodiment, the output signal E from the photodetector 8a (8b)
. Light detection 1314a for ut and monitor.

14bからの出力信号E1゜。の比E。ut/Eea。Output signal E1° from 14b. The ratio of E. ut/Eea.

1を判別回路9で求め、予め定められたしきい値出力比
と比べて低いか否かを判別している。即ち透過窓材5a
 (5b)にくもり等があり光学的性質が変化している
か否かを判別している。そしてこの結果を表示器10に
表示している。
1 is determined by a discriminating circuit 9, and it is determined whether or not it is lower than a predetermined threshold output ratio. That is, the transparent window material 5a
It is determined whether there is cloudiness or the like in (5b) and the optical properties have changed. This result is then displayed on the display 10.

尚、本実施例において光検出器8a (8b)により透
過窓材5a (5b)からの反射光を検出する代わりに
光検出器8a、8bの位置を第5図に示すように正反射
光位置からずらして透過窓材5a (5b)から生ずる
散乱光を検出して、このときの散乱光量がどの程度ある
かをモニター用の光検出器14a、14bからの出力信
号を参照して検出するようにしても本発明の目的を同様
に達成することができる。
In this embodiment, instead of using the photodetector 8a (8b) to detect the reflected light from the transparent window material 5a (5b), the positions of the photodetectors 8a and 8b are changed to the specularly reflected light position as shown in FIG. Scattered light generated from the transparent window material 5a (5b) is detected by shifting the light from the transmitting window material 5a (5b), and the amount of scattered light at this time is detected by referring to the output signals from the monitoring photodetectors 14a and 14b. However, the object of the present invention can be achieved in the same way.

又、本実施例において参照レーザ1として主レーザ10
1からの発振波長と同一波長の光を放射するレーザを用
いても本発明の目的を同様に達成することができる。又
He−Neレーザ以外の他の光源の使用も可能である。
In addition, in this embodiment, the main laser 10 is used as the reference laser 1.
The object of the present invention can be similarly achieved by using a laser that emits light of the same wavelength as the oscillation wavelength from 1. It is also possible to use other light sources than the He-Ne laser.

第2図〜第4図は各々本発明の第2〜第4実施例の要部
概略図である。
2 to 4 are schematic diagrams of main parts of second to fourth embodiments of the present invention, respectively.

これらの各実施例において第1図で示した要素と同一要
素には同符番な付している。
In each of these embodiments, the same elements as those shown in FIG. 1 are given the same reference numerals.

次にこれらの各実施例について主に第1図の第1実施例
と異なる構成を中心に説明する。
Next, each of these embodiments will be described, focusing mainly on the configurations that are different from the first embodiment shown in FIG.

第2図の第2実施例ではレーザガス容器4の一部に光通
過窓21a、21bを設けている。モして該光通過窓2
1a、21bを利用して透過窓材5a (5b)に斜方
向から入射した参照レーザ1のレーザ光のうち透過窓材
5m (5b)を透過したレーザ光を光検出器8a (
8b)で検出している。
In the second embodiment shown in FIG. 2, a part of the laser gas container 4 is provided with light passing windows 21a and 21b. The light passing window 2
1a and 21b, a photodetector 8a (
8b).

そして光検出器8a(8b)からの出力信号とモニター
用の光検出器14a (14b)からの出力信号を利用
して第1実施例と同様にして透過窓材5a、5bの光学
的性質の変化を検出し、その検出結果を表示器10に表
示している。
Then, using the output signal from the photodetector 8a (8b) and the output signal from the monitoring photodetector 14a (14b), the optical properties of the transparent window materials 5a, 5b are determined in the same manner as in the first embodiment. Changes are detected and the detection results are displayed on the display 10.

第3図の第3実施例ではレーザガス容器4の光透過部の
一部にARコーティング膜から成る反射部31を設けて
いる。そして参照レーザ1からのレーザ光をハーフミラ
−13aを介して一方の透過窓材5aに斜方向から入射
させ、該透過窓材5aを通過したレーザ光を反射部31
で反射させた後、他方の透過窓材5bに入射させ該透過
窓材5bを通過したレーザ光を光検出器8で検出してい
る。
In the third embodiment shown in FIG. 3, a reflection section 31 made of an AR coating film is provided in a part of the light transmission section of the laser gas container 4. Then, the laser beam from the reference laser 1 is made obliquely incident on one of the transparent window materials 5a through the half mirror 13a, and the laser beam that has passed through the transparent window material 5a is reflected into the reflection section 31.
After being reflected by the laser beam, the laser beam is incident on the other transparent window material 5b, and the laser beam that has passed through the transparent window material 5b is detected by the photodetector 8.

そして光検出器8からの出力信号とモニター用の光検出
器14からの出力信号とを利用して第1実施例と同様に
して透過窓材5a、5bの光学的性質の変化を検出し、
その検出結果を表示器10に表示している。
Then, using the output signal from the photodetector 8 and the output signal from the monitoring photodetector 14, a change in the optical properties of the transparent window materials 5a and 5b is detected in the same manner as in the first embodiment,
The detection results are displayed on the display 10.

本実施例では1つのレーザ光を反射部31を利用し2つ
の透過窓材に入射させることにより装置全体の簡素化を
図っている。
In this embodiment, one laser beam is made incident on two transmitting window materials using the reflecting section 31, thereby simplifying the entire apparatus.

第4図の第4実施例において41は挿脱可能の回動ミラ
ー、42は回動ミラー41を収納する収納部、43は挿
脱可能の光検出手段であり、干渉フィルター12と光検
出器8を有している。
In the fourth embodiment shown in FIG. 4, 41 is a rotatable mirror that can be inserted and removed, 42 is a storage part that stores the rotary mirror 41, and 43 is a light detection means that can be inserted and removed, and an interference filter 12 and a photodetector are shown. It has 8.

本実施例では透過窓材5a、5bの光学的性質の変化を
検出するときのみ回動ミラー41と光検出手段43を同
図に示すように主レーザの共振器ミラー6.7の間の光
路中に配置している。そして参照レーザ1からのレーザ
光をハーフミラ−13を介し回動ミラー41で反射させ
て、2つの透過窓材5a、5bをレーザガス容器4を介
して順次透過させている。そしてこのときの透過光を干
渉フィルター1281を介し、光検出器8aで検出して
いる。これにより第1実施例と同様にして透過部材5a
、5bの光学的性質の変化を検出している。
In this embodiment, only when detecting a change in the optical properties of the transmission window materials 5a and 5b, the rotating mirror 41 and the light detection means 43 are connected to the optical path between the main laser resonator mirrors 6 and 7 as shown in the figure. It is placed inside. Then, the laser beam from the reference laser 1 is reflected by the rotating mirror 41 via the half mirror 13, and is sequentially transmitted through the two transmission window materials 5a and 5b via the laser gas container 4. The transmitted light at this time is detected by the photodetector 8a via the interference filter 1281. As a result, in the same manner as in the first embodiment, the transparent member 5a
, 5b is detected.

第6図は本発明のレーザ装置を塔載した露光装置の構成
図である。Aは露光光学系を有する露光装置本体を示す
。100は第1図乃至第5図に示したにrFエキシマレ
ーザ装置であり、防振クツション104上のレーザ定盤
3上に設置されたXYθステージ102上に固定されて
いる。Bはレーザ装置100からのレーザ光120を露
光装置本体Aの光学系へ伝送する伝送系であり、図示さ
れたミラー105を含む複数個の光学部品で構成されて
いる。106は照明光学系、109は半導体製造用の回
路パターンが描かれたレチクル、190はレチクルホル
ダ、110はレチクル109の回路パターンを投影する
為の投影レンズ系、111はレンズ支持台、112はウ
ェハ、113はウェハ112を吸着固定するチャック、
114はXYステージ、115はステッパ一定盤、11
6は防振クツションである。レーザ装置100から射出
したレーザ光120は伝送系Bを透通して露光装置本体
Aの照明光学系106に入射する。そして照明光学系1
06でビーム径を拡大された後、レチクル109、投影
レンズ系110を経て、112のウェハ上に到達する。
FIG. 6 is a block diagram of an exposure apparatus equipped with the laser apparatus of the present invention. A indicates an exposure apparatus main body having an exposure optical system. Reference numeral 100 denotes the rF excimer laser device shown in FIGS. 1 to 5, and is fixed on an XYθ stage 102 placed on a laser surface plate 3 on a vibration-proof cushion 104. B is a transmission system that transmits the laser beam 120 from the laser device 100 to the optical system of the exposure apparatus main body A, and is composed of a plurality of optical components including the illustrated mirror 105. 106 is an illumination optical system, 109 is a reticle on which a circuit pattern for semiconductor manufacturing is drawn, 190 is a reticle holder, 110 is a projection lens system for projecting the circuit pattern of the reticle 109, 111 is a lens support, and 112 is a wafer. , 113 is a chuck that suctions and fixes the wafer 112;
114 is an XY stage, 115 is a stepper constant plate, 11
6 is an anti-vibration cushion. Laser light 120 emitted from laser device 100 passes through transmission system B and enters illumination optical system 106 of exposure apparatus main body A. And illumination optical system 1
After the beam diameter is expanded in step 06, the beam passes through a reticle 109 and a projection lens system 110, and reaches the wafer 112.

照明光学系106と投影レンズ系110から成る露光用
光学系はステッパ一定盤115に固定されたレンズ支持
台111によってすべて一体化されて固定されているた
め、露光装置本体A内での各光学系の相対位置は実質的
に不変である。レチクル109上には前述のように回路
パターンが描かれており、レーザ光で照明することによ
り、投影レンズ系110を介して115に縮小されてウ
ェハ112上に転写される。
The exposure optical system consisting of the illumination optical system 106 and the projection lens system 110 is all integrated and fixed by the lens support stand 111 fixed to the stepper fixed plate 115, so each optical system in the exposure apparatus main body A The relative positions of are virtually unchanged. A circuit pattern is drawn on the reticle 109 as described above, and by illuminating it with a laser beam, it is reduced to a size 115 and transferred onto the wafer 112 via the projection lens system 110.

ウェハ112はウェハチャック113上に真空吸着され
ており、ウェハチャック113はステッパ一定盤115
上に設けられた可動のXYステージ114上に固定され
ている。ウェハ112をXYステージ114により互い
に直交するXおよびYの2方向に搬送することができ、
縮小されたパターンを、ウェハ112上の任意の位置に
転写することができる。
The wafer 112 is vacuum-adsorbed onto a wafer chuck 113, and the wafer chuck 113 is attached to a stepper fixed plate 115.
It is fixed on a movable XY stage 114 provided above. The wafer 112 can be transported by the XY stage 114 in two directions, X and Y, which are orthogonal to each other.
The reduced pattern can be transferred to any location on the wafer 112.

通常ウェハ112上には数十ショットの縮小パターンが
転写されるため、XYステージ114をXまたはY方向
に移動させてはレーザ光を照射して転写をするという動
作を繰り返し行うことになる。
Usually, several dozen shots of reduced patterns are transferred onto the wafer 112, so the operation of moving the XY stage 114 in the X or Y direction, irradiating laser light, and performing transfer is repeated.

又、117はXYステージ114上に固接した光検出器
から成る照度計であり、XYステージ114を駆動する
ことにより、投影レンズ系110の像面に位置付けられ
、投影レンズ系110の像面における照度を測定する。
Further, 117 is an illuminance meter consisting of a photodetector fixed on the XY stage 114, and by driving the XY stage 114, it is positioned on the image plane of the projection lens system 110. Measure illuminance.

この照度計117で測定される照度がウェハ112面上
での照度として見なされ、露光時の露光量制御のための
制御データとして用いられる。
The illuminance measured by this illuminance meter 117 is regarded as the illuminance on the surface of the wafer 112, and is used as control data for controlling the exposure amount during exposure.

第6図に示す露光装置ではレーザ装置100の透通窓材
の劣化が随時正確にモニターできる為、レーザ装置10
0をこの透過窓の劣化により露光装置の性能が極端に低
下しない適当な時期に交換することが可能である。
In the exposure apparatus shown in FIG. 6, the deterioration of the transparent window material of the laser apparatus 100 can be accurately monitored at any time.
0 can be replaced at an appropriate time when the performance of the exposure apparatus will not deteriorate excessively due to deterioration of the transmission window.

(発明の効果) 本発明によれば前述のような構成により参照レーザから
のレーザ光を透過窓材に入射させ、該透過窓材を介した
反射光又は透過光又は散乱光を検出することにより、透
過窓材のくもりの発生やホコリの付着等による光学的性
質の変化を安全で容易にしかも高精度に検出することが
できるレーザ装置を達成することが出来る。
(Effects of the Invention) According to the present invention, by making the laser beam from the reference laser enter the transparent window material with the above-described configuration and detecting the reflected light, transmitted light, or scattered light through the transparent window material, Therefore, it is possible to achieve a laser device that can safely, easily, and highly accurately detect changes in optical properties due to clouding of a transmission window material, adhesion of dust, etc.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図〜第4図は各々本発明の第1〜第4実施例の要部
概略図、第5図は第1図の一部分を変更したときの一実
施例の要部概略図、第6図は本発明のレーザ装置を半導
体製造用の露光装置に通用したときの一実施例の概略図
である。 図中51は参照レーザ(プローブレーザ)、2はプリズ
ムミラー 3a、3bはミラー 4はレーザガス容器、
5a、5bは透過窓材、6,7は共振器ミラー、8,8
a、8b、14a。 14bは光検出器、9は判別回路、10は表示器、11
はレーザ光、f2al、12bl。 12a2,12b2.12は干渉フィルター13a、1
3bはハーフミラ−である。
1 to 4 are schematic diagrams of the main parts of the first to fourth embodiments of the present invention, respectively, FIG. 5 is a schematic diagram of the main parts of one embodiment when a part of FIG. The figure is a schematic diagram of an embodiment in which the laser device of the present invention is applied to an exposure device for semiconductor manufacturing. In the figure, 51 is a reference laser (probe laser), 2 is a prism mirror, 3a and 3b are mirrors, 4 is a laser gas container,
5a, 5b are transparent window materials, 6, 7 are resonator mirrors, 8, 8
a, 8b, 14a. 14b is a photodetector, 9 is a discrimination circuit, 10 is a display, 11
is laser light, f2al, 12bl. 12a2, 12b2.12 are interference filters 13a, 1
3b is a half mirror.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)ガス状の媒質を封じ込めたレーザガス容器に設け
た透過窓材を介してレーザ光束を放射するようにしたレ
ーザの該透過窓材に、参照光源から参照光を照射手段に
より照射し、該透過窓材を介して該参照光を光検出器で
検出し、該光検出器からの出力信号を利用して該透過窓
材の光学的性質を測定したことを特徴とするレーザ装置
(1) A reference light source is used to irradiate a reference light from a reference light source to a transparent window material of a laser that emits a laser beam through a transparent window material provided in a laser gas container that confines a gaseous medium. A laser device characterized in that the reference light is detected by a photodetector through a transparent window material, and the optical properties of the transparent window material are measured using an output signal from the photodetector.
(2)前記光検出器は前記透過窓材からの散乱光又は反
射光又は透過光を検出していることを特徴とする請求項
1記載のレーザ装置。
(2) The laser device according to claim 1, wherein the photodetector detects scattered light, reflected light, or transmitted light from the transmission window material.
(3)前記参照光源は、参照光としてのレーザ光を放射
する参照レーザより成ることを特徴とする請求項1記載
のレーザ装置。
(3) The laser device according to claim 1, wherein the reference light source comprises a reference laser that emits laser light as reference light.
(4)前記レーザから発振されるレーザ光の波長と前記
参照レーザから発振されるレーザ光の波長は異っている
ことを特徴とする請求項3記載のレーザ装置。
(4) The laser device according to claim 3, wherein the wavelength of the laser light emitted from the laser and the wavelength of the laser light emitted from the reference laser are different.
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