JPH03237135A - Heat-resistant film - Google Patents

Heat-resistant film

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JPH03237135A
JPH03237135A JP3484490A JP3484490A JPH03237135A JP H03237135 A JPH03237135 A JP H03237135A JP 3484490 A JP3484490 A JP 3484490A JP 3484490 A JP3484490 A JP 3484490A JP H03237135 A JPH03237135 A JP H03237135A
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soluble resin
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Abstract

PURPOSE:To obtain the title film having a specific thermal dimensional change ratio, dimensional stability and excellent mechanical characteristics such as Young's modulus and tensile strength, comprising an aromatic polyamide and soluble resin in a specific ratio. CONSTITUTION:(A) A soluble resin (e.g. polycarbonate) is blended with (B) 5-90wt.% aromatic polyamide and (C) a solvent (e.g. N-methyl-2 pyrrolidone) to give the objective film having <=50% thermal dimensional change ratio at 250 deg.C under 0.5kg/mm<2> load at least in one direction and improved temperature characteristics of the aromatic polyamide, especially water vapor absorption.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野〕 本発明は、耐熱性フィルムに関するものであり、更に詳
しくは、耐熱性の低い樹脂と芳香族ポリアミドがブレン
ドされた耐熱性フィルムに関するものである。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a heat-resistant film, and more particularly to a heat-resistant film that is a blend of a resin with low heat resistance and an aromatic polyamide. .

[従来の技術] ポリカーボネート、ポリスルフォン、ポリエーテルイミ
ド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフィドスルフォ
ンなどに代表される非品性フィルムは、優れた光学的性
質、電気的性質、熱的性質から、液晶用透明導電フィル
ム、プリンターインクリボン、コンデンサー、プリント
基板、電気絶縁材料など幅広い用途展開が行なわれてい
る。しかしながら、比較的安価で、かつ湿度特性が良好
なこれら非品性フィルムの大きな欠点としては、ガラス
転移点以上の温度でフィルムが急激に軟化流動してしま
い、市場の要求する高耐熱性材料としては不満が残る。
[Prior art] Non-grade films such as polycarbonate, polysulfone, polyetherimide, polyethersulfone, and polysulfide sulfone are used as transparent conductive materials for liquid crystals due to their excellent optical, electrical, and thermal properties. It is being used in a wide range of applications, including films, printer ink ribbons, capacitors, printed circuit boards, and electrical insulation materials. However, a major drawback of these non-quality films, which are relatively inexpensive and have good humidity characteristics, is that they rapidly soften and flow at temperatures above the glass transition point, and are not suitable for the high heat-resistant materials required by the market. remains dissatisfied.

また機械特性が結晶性のフィルムに較べて悪いことも大
きな欠点である。
Another major drawback is that the mechanical properties are poorer than that of crystalline films.

一方、耐熱フィルムとしては芳香族ポリアミド、芳香族
ポリイミドから成るフィルムが知られているが、耐熱性
・機械特性は良好であるが、生産性が悪いためコストが
高かったり、湿度特性も非品性フィルムに較べると悪い
On the other hand, films made of aromatic polyamide and aromatic polyimide are known as heat-resistant films, but although they have good heat resistance and mechanical properties, they are expensive due to poor productivity, and have inferior humidity characteristics. It's worse than film.

これら樹脂の欠点を補なう一つの方法として分子複合の
検討も行なわれている。例えば剛直な構造をもつポリパ
ラフェニレンテレフタルアミド(芳香族ポリアミド)と
ナイロン6を分子複合し高強度のフィルムが得られたり
(J、 MACRMOL、5CIPHYS、 、 B1
7 (4)、 591〜615(1980) ) 、剛
直な補強用高分子と屈曲性の骨格を有するマトリックス
分子とから高分子複合体が得られた例(特公平l−36
785)が報告されている。
Molecular conjugation is also being investigated as a method to compensate for the drawbacks of these resins. For example, a high-strength film can be obtained by molecularly compositing polyparaphenylene terephthalamide (aromatic polyamide) with a rigid structure and nylon 6 (J, MACRMOL, 5 CIPHYS, , B1
7 (4), 591-615 (1980)), an example in which a polymer composite was obtained from a rigid reinforcing polymer and a matrix molecule having a flexible skeleton (Japanese Patent Publication No. 1-36
785) has been reported.

また、結晶性の低い芳香族ポリアミドに非品性のポリエ
ーテルスルホンなどの結晶化促進剤をブレンドすること
で、芳香族ポリアミドの結晶性を上げ耐熱フィルムを得
るという報告もある(高分子学会予稿集、38 (12
)、4149〜4154 (1989) ’)。
There is also a report that by blending aromatic polyamide with low crystallinity with a crystallization accelerator such as non-quality polyether sulfone, the crystallinity of aromatic polyamide is increased and a heat-resistant film is obtained (Proceedings of the Society of Polymer Science and Technology). Collection, 38 (12
), 4149-4154 (1989)').

[発明が解決しようとする課題] しかし、例えばポリパラフェニレンテレフタルアミドと
ナイロン6の分子複合体フィルムは、ポリパラフェニレ
ンテレフタルアミドが有機溶媒に不溶なため、濃硫酸に
溶解させ、多量の水で再沈殿させて高温下で熱圧縮して
フィルムにするという非常に煩雑な製法が必要なため工
業化しても高価になり、得られるフィルムも伸度の小さ
なもろいフィルムしかできない。又、特公平1−367
85では剛直な補強用高分子としてポリパラフェニレン
ベンズビスチアドール、ポリパラフェニレンテレフタル
アミドなどが挙げられているが、これらのポリマも上記
同様、酸性溶媒に溶解して製膜する必要があるため高価
となり、また、得られるフィルムも伸度が小さい。
[Problems to be Solved by the Invention] However, for example, a molecular composite film of polyparaphenylene terephthalamide and nylon 6 can be prepared by dissolving it in concentrated sulfuric acid and adding a large amount of water, since polyparaphenylene terephthalamide is insoluble in organic solvents. It requires a very complicated production method of re-precipitation and heat compression at high temperatures to form a film, making it expensive even if it is industrialized, and the resulting film is only a brittle film with low elongation. Also, Tokuko 1-367
85 lists polyparaphenylenebenzbisthiadol, polyparaphenylene terephthalamide, etc. as rigid reinforcing polymers, but as above, these polymers also need to be dissolved in an acidic solvent to form a film. It is expensive, and the resulting film also has low elongation.

さらに、結晶性の低い芳香族ポリアミドに非品性のポリ
マをブレンドするという方法は、結晶化に長時間を有し
生産性が悪いばかりでなく、得られるフィルムの機械特
性も悪く実用的ではない。
Furthermore, the method of blending a non-quality polymer with an aromatic polyamide with low crystallinity not only takes a long time to crystallize, resulting in poor productivity, but also has poor mechanical properties of the resulting film, making it impractical. .

本発明は、かかる課題を改善し、機械的特性、化学的特
性(主に吸湿特性)、さらに経済性(コスト)に優れた
耐熱性フィルムを提供することを目的とする。
It is an object of the present invention to solve these problems and provide a heat-resistant film with excellent mechanical properties, chemical properties (mainly moisture absorption properties), and economical efficiency (cost).

[課題を解決するための手段] 本発明は、芳香族ポリアミドと可溶性樹脂とのブレンド
樹脂からなるフィルムであって、該芳香族ポリアミドの
量がブレンド樹脂の5重量%以上90重量%以下の範囲
であり、該フィルムの少なくとも一方向の荷重(0,5
kg/mm2)下の250℃の熱寸法変化率が50%以
下であることを特徴とする耐熱性フィルムである。
[Means for Solving the Problems] The present invention provides a film made of a blend resin of an aromatic polyamide and a soluble resin, wherein the amount of the aromatic polyamide is in the range of 5% to 90% by weight of the blend resin. and the load in at least one direction of the film (0,5
This is a heat-resistant film characterized by a thermal dimensional change rate of 50% or less at 250° C. under kg/mm2).

本発明の芳香族ポリアミドとは、一種以上の、−数式 %式% で示される繰り返し単位を50モル%以上含むものが好
ましく、70モル%以上から成るものがより好ましい。
The aromatic polyamide of the present invention preferably contains 50 mol% or more, more preferably 70 mol% or more of one or more repeating units represented by the formula %.

ここでAr1.Ar2は少なくとも一個の芳香環を含む
一種以上の構造からなり、同一組成でも異なっていても
よく、これらの代表例としては次のちのが挙げられる。
Here, Ar1. Ar2 is composed of one or more structures containing at least one aromatic ring, and may have the same or different compositions, and representative examples thereof include the following.

また、これらの芳香環の環上の水素の一部が、ハロゲン
基(特に塩素)、ニトロ基、C1〜C3のアルキル基(
特にメチル基)、C1〜C3のアルコキシ基などの置換
基で置換されているものも含む。また、Xは、−〇−、
−CH2−−so2−、−s−、−co−などである。
In addition, some of the hydrogen atoms on the aromatic rings are halogen groups (especially chlorine), nitro groups, C1 to C3 alkyl groups (
In particular, those substituted with substituents such as methyl group) and C1-C3 alkoxy groups are also included. Also, X is -〇-,
-CH2--so2-, -s-, -co-, etc.

これらは単独または共重合の形で含まれる。These may be included alone or in copolymerized form.

本発明の目的である耐熱性向上という観点から、Ar、
、Ar2は主としてパラ配向で剛直な構造が好ましく、
また、芳香環にハロゲン基やアルキル基などの置換基を
有するものは、溶媒に対する溶解性、可溶性樹脂との相
溶性が高くより好ましい。さらに、ハロゲン基は得られ
るフィルムの湿度特性を向上させるので好ましい。
From the viewpoint of improving heat resistance, which is the objective of the present invention, Ar,
, Ar2 preferably has a rigid structure with mainly para orientation,
Further, those having a substituent such as a halogen group or an alkyl group on the aromatic ring are more preferable because of their high solubility in solvents and high compatibility with soluble resins. Furthermore, halogen groups are preferred because they improve the humidity characteristics of the resulting film.

また、溶媒に対する溶解性、可溶性樹脂との相溶性が高
くなる点では、 −0−−CH2−、−3o2−、−8−CO− などを介して2個の芳香環が結合している構造が共重合
されているのも好ましいが、多過ぎると逆に熱特性、機
械特性、湿度特性を悪化させることになる。
In addition, in terms of increasing solubility in solvents and compatibility with soluble resins, structures in which two aromatic rings are bonded via -0--CH2-, -3o2-, -8-CO-, etc. It is also preferable that these are copolymerized, but if the amount is too high, the thermal properties, mechanical properties, and humidity properties will be adversely affected.

すなわち、 例えば、 Ar、: (Ar3)、(Ar4) b (Ar、、)
That is, for example, Ar,: (Ar3), (Ar4) b (Ar,,)
.

Ar2’ :  (Ar6) d (Ar7) eただ
し、 a十り+d+e≧0.5 b+e≧0. 5 c<0.4 Ar3、Ar6二 Ar4、Ar、:Ar3 、Ar6が核置換(ハロゲン
など)された基 Ar。
Ar2': (Ar6) d (Ar7) eHowever, a+d+e≧0.5 b+e≧0. 5 c<0.4 Ar3, Ar6 2 Ar4, Ar: A group Ar in which Ar3 and Ar6 are substituted with a nucleus (such as a halogen).

を満たす芳香族ポリアミドが好ましい。なお、Ar1、
Ar2を構成する、Ar3、Ar4、A r 5 、A
 r 6 、A r 7以外の基は、上式を満足してい
れば特に制限はない。
Aromatic polyamides that satisfy the following conditions are preferred. In addition, Ar1,
Ar3, Ar4, A r 5 , A constituting Ar2
Groups other than r 6 and A r 7 are not particularly limited as long as they satisfy the above formula.

(ここでp、qは1〜4の整数、p+q≧1)(ここで
Q=O〜4の整数) などで表わされる一種以上の芳香族ポリアミドと、可溶
性樹脂との溶液は、長時間保存しても極めて安定であり
、得られるフィルムも強靭で耐熱性、湿度特性の良好な
ものとなる。
(Here, p and q are integers of 1 to 4, p+q≧1) (Here, Q = an integer of O to 4) A solution of one or more aromatic polyamides and a soluble resin cannot be stored for a long time. The resulting film is also tough and has good heat resistance and humidity characteristics.

また、本発明の可溶性樹脂とは、前述した芳香族ポリア
ミドを溶解する溶媒に、1重量%以上溶解する樹脂一種
以上を意味し、特に限定されるものではない。芳香族ポ
リアミドと可溶性樹脂の両者を溶解する溶媒としては、
取り扱いやすさなどを考慮すると有機系の溶媒が好まし
く、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルアセトアミ
ド、へキサメチレンホスホルアミド、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルイミダゾリジノンなどのアミド系極性溶
媒やジメチルスルホンなどが挙げられるが、特にN−メ
チル−2−ピロリドンおよびN−メチル−2−ピロリド
ンと他のアミド系極性溶媒の混合物が好ましい。これら
の溶媒を用いた場合特に、ポリカーボネート、ポリフッ
化ビニリデン、ポリメチルメタアクリレート、ポリスチ
レン、ポリビニルアルコール、ポリエーテルスルホン、
ポリスルホン、ボリアリレート、ポリスルフィドスルホ
ン、ポリエーテルイミドなどが好ましく、高温での機械
特性の改良が顕著で湿度特性の優れている非品性樹脂、
例えば、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポ
リスルホン、ボリアリレート、ポリスルフィドスルホン
がより好ましい。特に、CH。
Moreover, the soluble resin of the present invention refers to one or more resins that dissolve 1% by weight or more in the solvent that dissolves the aromatic polyamide described above, and is not particularly limited. As a solvent that dissolves both aromatic polyamide and soluble resin,
Considering ease of handling, organic solvents are preferred, and amide polar solvents such as N-methyl-2-pyrrolidone, dimethylacetamide, hexamethylene phosphoramide, dimethylformamide, and dimethylimidazolidinone, and dimethylsulfone are preferred. Among them, N-methyl-2-pyrrolidone and a mixture of N-methyl-2-pyrrolidone and other amide polar solvents are particularly preferred. In particular, when these solvents are used, polycarbonate, polyvinylidene fluoride, polymethyl methacrylate, polystyrene, polyvinyl alcohol, polyether sulfone,
Polysulfone, polyarylate, polysulfide sulfone, polyetherimide, etc. are preferable, and non-grade resins with remarkable improvement in mechanical properties at high temperatures and excellent humidity properties.
For example, polycarbonate, polyether sulfone, polysulfone, polyarylate, and polysulfide sulfone are more preferred. In particular, CH.

CH。CH.

の基本骨格AとゝC=Oの構造を両方有する樹脂/ は、該芳香族ポリアミドとの相溶性が非常によいために
、芳香族ポリアミドと可溶性樹脂を上記溶媒に溶解して
得られるブレンド溶液は長期保存安定性に優れ、また機
械特性や透明性に優れたフィルムが得られるなどの理由
で、より好ましい。例えばポリカーボネート、ボリアリ
レートなどが挙げられ、経済性の点からポリカーボネー
トがさらに好ましい。上記基本骨格Aには置換基があっ
てもよく、例えばハロゲン基などが挙げられる。また、
上記芳香族ポリアミドと可溶性樹脂とのブレンド樹脂に
さらに、第3成分として別の樹脂が該可溶性樹脂の好ま
しくは40重量%以下、より好ましくは30重量%以下
、さらに好ましくは20重量%以下添加されていてもよ
く、例えば、可溶性樹脂としてポリカーボネートを用い
た場合、これにポリエーテルスルホン、ポリスルホンな
どを添加すると、機械特性が向上する。また、上記溶媒
の他に、可溶性樹脂の良溶媒、例えばジオキサン、テト
ラヒドロフラン、塩化メチレン、クロロホルム、1,1
.2−トリクロロエタン、トリクレン、アセトン、トル
エンなどを、可溶性樹脂と芳香族ポリアミドが相溶する
のを妨げない範囲内で、好ましくは全溶媒量の20重量
%以内、より好ましくは15重量%以内でなら含まれて
もさし支えない。
The resin having both the basic skeleton A and the C=O structure has very good compatibility with the aromatic polyamide, so a blend solution obtained by dissolving the aromatic polyamide and the soluble resin in the above solvent. is more preferable because it has excellent long-term storage stability and provides a film with excellent mechanical properties and transparency. Examples include polycarbonate and polyarylate, with polycarbonate being more preferred from the economic point of view. The basic skeleton A may have a substituent, such as a halogen group. Also,
Further, another resin is added as a third component to the blend resin of the aromatic polyamide and soluble resin, preferably at most 40% by weight, more preferably at most 30% by weight, even more preferably at most 20% by weight of the soluble resin. For example, when polycarbonate is used as the soluble resin, mechanical properties are improved by adding polyethersulfone, polysulfone, etc. In addition to the above solvents, good solvents for soluble resins such as dioxane, tetrahydrofuran, methylene chloride, chloroform, 1,1
.. 2-Trichloroethane, tricrene, acetone, toluene, etc. may be used within a range that does not prevent the soluble resin and the aromatic polyamide from being compatible, preferably within 20% by weight of the total solvent amount, more preferably within 15% by weight. I don't mind if it is included.

上述したブレンド溶液を、溶液製膜することでブレンド
樹脂からなるフィルムが得られる。
A film made of a blend resin can be obtained by solution casting the blend solution described above.

本発明のフィルム中の芳香族ポリアミドの量は、ブレン
ド樹脂の5重量%以上90重量%以下の範囲であること
が必要である。芳香族ポリアミドの量がこの範囲より少
ない場合、もはや耐熱性向上の効果は見られず、高温で
の機械特性が極端に悪化する。好ましくは7重量%以上
、より好ましくは10重量%以上である。また、芳香族
ポリアミドの量がこの範囲より多い場合は経済的メリッ
トがなくなりまた、湿度特性が悪化する。好ましくは7
0重量%以下、より好ましくは50重量%以下である。
The amount of aromatic polyamide in the film of the present invention needs to be in the range of 5% to 90% by weight of the blend resin. When the amount of aromatic polyamide is less than this range, the effect of improving heat resistance is no longer observed, and the mechanical properties at high temperatures are extremely deteriorated. Preferably it is 7% by weight or more, more preferably 10% by weight or more. Furthermore, if the amount of aromatic polyamide is greater than this range, there will be no economic advantage and the humidity characteristics will deteriorate. Preferably 7
It is 0% by weight or less, more preferably 50% by weight or less.

本発明のフィルムの少なくとも一方向の荷重(0,5k
g/肛2)下の250℃の熱寸法変化率は50%以下で
ある。50%より大きいと、感熱転写用途などに代表さ
れる高温で張力がかかるような場合使用に耐えない。好
ましくは40%以下、より好ましくは20%以下である
Load of the film of the present invention in at least one direction (0.5k
The thermal dimensional change rate at 250°C under g/anal 2) is 50% or less. If it is larger than 50%, it cannot withstand use in cases where tension is applied at high temperatures, such as in thermal transfer applications. Preferably it is 40% or less, more preferably 20% or less.

本発明において得られるフィルムの少なくとも一方向の
250℃の熱収縮率は20%以下が好ましい。より好ま
しくは10%以下、さらに好ましくは5%以下である。
The heat shrinkage rate at 250° C. in at least one direction of the film obtained in the present invention is preferably 20% or less. More preferably it is 10% or less, and still more preferably 5% or less.

20%より大きくなると、寸法安定性が悪く、例えば感
熱転写用途、フレキシブル回路基板、コンデンサー用途
の分野では実用に耐えない。また、少なくとも一方向の
200℃での熱収縮率は10%以下が好ましく、5%以
下がより好ましい。さらに、少なくとも一方向の300
℃の熱収縮率は30%以下が好ましく、20%以下がよ
り好ましい。また、少なくとも一方向の熱膨張係数は、
5 X 10−5/℃以下が好ましく、4 X 10−
5/℃以下がより好ましい。5×(0−5/℃を超える
と、フレキシブル回路基板用途での使用に耐えない。
If it exceeds 20%, the dimensional stability will be poor and it will not be practical in the fields of thermal transfer applications, flexible circuit boards, and capacitor applications, for example. Further, the heat shrinkage rate at 200° C. in at least one direction is preferably 10% or less, more preferably 5% or less. Additionally, at least 300 in one direction
The heat shrinkage rate at °C is preferably 30% or less, more preferably 20% or less. In addition, the coefficient of thermal expansion in at least one direction is
5 x 10-5/°C or less is preferable, and 4 x 10-5/°C or less is preferable.
5/°C or less is more preferable. If it exceeds 5×(0-5/°C), it cannot withstand use in flexible circuit board applications.

フィルムの吸湿率は5%以下が好ましく、より好ましく
は3%以下、さらに好ましくは1%以下である。5%よ
り大きいと吸湿による寸法変化が大きくなり実用に耐え
ない。また、少なくとも一方向の湿度膨張係数は、5X
10−5/%RH以下が好ましい。4X10−5/%R
H以下がより好ましい。
The moisture absorption rate of the film is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, still more preferably 1% or less. If it is more than 5%, the dimensional change due to moisture absorption becomes large and it is not suitable for practical use. Further, the humidity expansion coefficient in at least one direction is 5X
10-5/%RH or less is preferable. 4X10-5/%R
H or less is more preferable.

本発明のフィルムは少なくとも一方向の破断伸度が10
%以上が好ましい。より好ましくは15%以上、さらに
好ましくは20%以上である。10%未満ではフィルム
のハンドリング時や加工時にフィルム破れを起こし実用
に耐えない。また、少なくとも一方向の強度は5kg/
1m112以上が好ましく、より好ましくは7kg/l
lll112以上、さらに好ましくは9 kg / m
m 2以上である。少なくとも一方向のヤング率は15
0kg/mm2以上が好ましく、さらに好ましくは20
0kg/mm2以上である。さらに本発明のフィルムの
少なくとも一方向のF−5値(伸度5%の時の強度)は
4 kg / mm 2以上が好ましく、6 kg /
 am 2以上がより好ましい。
The film of the present invention has a breaking elongation of 10 in at least one direction.
% or more is preferable. More preferably it is 15% or more, and still more preferably 20% or more. If it is less than 10%, the film will break during handling or processing, making it unusable. In addition, the strength in at least one direction is 5 kg/
1 m112 or more is preferable, more preferably 7 kg/l
lll112 or more, more preferably 9 kg/m
m2 or more. Young's modulus in at least one direction is 15
0 kg/mm2 or more is preferable, more preferably 20 kg/mm2 or more.
It is 0 kg/mm2 or more. Further, the F-5 value (strength at 5% elongation) of the film of the present invention in at least one direction is preferably 4 kg/mm2 or more, and 6 kg/mm2 or more.
am 2 or more is more preferable.

本発明のフィルムの厚みは0.2〜200μmが好まし
く、l〜50Iimがより好ましい。また、本フィルム
の密度は1.0〜1.5g/cm3が好ましく、1.1
〜1.4g/cm3がより好ましい。
The thickness of the film of the present invention is preferably 0.2 to 200 μm, more preferably 1 to 50 μm. In addition, the density of this film is preferably 1.0 to 1.5 g/cm3, and 1.1
-1.4g/cm3 is more preferable.

本発明のフィルムの、誘電率(1kHz)は。The dielectric constant (1kHz) of the film of the present invention is:

2〜7が好ましい。また、誘電正接(lkHz)は、3
%以下が好ましい。より好ましくは、2%以下である。
2 to 7 are preferred. In addition, the dielectric loss tangent (lkHz) is 3
% or less is preferable. More preferably, it is 2% or less.

本発明のフィルムの光線透過率は、50%以上が好まし
い。より好ましくは、60%以上である。
The light transmittance of the film of the present invention is preferably 50% or more. More preferably, it is 60% or more.

本発明のフィルムの平均表面粗さ(Ra)は、10〜5
00nmが好ましく、より好ましくは30〜300nm
である。この範囲であると加工時の作業性や使用時の走
行性が一層よくなり特に望ましい。なおこの表面粗さを
達成するには、無機、有機の微粒子を添加することが有
効である。
The average surface roughness (Ra) of the film of the present invention is 10 to 5.
00 nm is preferable, more preferably 30 to 300 nm
It is. This range is particularly desirable since workability during processing and runnability during use will be even better. Note that in order to achieve this surface roughness, it is effective to add inorganic or organic fine particles.

また、本発明のフィルムの少なくとも一方向の端裂抵抗
は、0.05kg/μm以上が好ましい。
Furthermore, the tear resistance of the film of the present invention in at least one direction is preferably 0.05 kg/μm or more.

これ未満であるとフィルムのハンドリング時や加工時に
フィルム破れを起こし実用に耐えない。より好ましくは
、0.1kg/μm以上、さらに好ましくは、0.3k
g/μm以上である。
If it is less than this, the film will break during handling or processing, making it unsuitable for practical use. More preferably 0.1 kg/μm or more, even more preferably 0.3 k
g/μm or more.

次に、本発明の耐熱性フィルム製造方法について説明す
るが、これに限定されるものではない。
Next, the method for producing a heat-resistant film of the present invention will be described, but the method is not limited thereto.

本発明の芳香族ポリアミドはジイソシアネートとジカル
ボン酸、あるいはジ酸クロリドとジアミンとの反応で得
られる。ジ酸クロリドとジアミンとからの場合は、N−
メチル−2−ピロリドン、ジメチルアセトアミドなどの
アミド系極性溶媒中で溶液重合したり、水系媒体を使用
する界面重合などで合成される。ジ酸クロリドとジアミ
ンを低水分のアミド系極性溶媒中で低温下(通常50℃
以下、好ましくは30℃以下)で■〜2時間撹拌し重合
される。モノマの添加順序は特に限定されるものではな
い。重合後発生した塩酸を無機アルカリあるいは有機系
の中和剤で中和する。また、ジイソシアネートとジカル
ボン酸との反応は、アミド系極性溶媒中、触媒の存在下
、通常は高温下(50〜200℃)で行なわれる。これ
らのポリマ溶液はそのままブレンド用原液にしてもよく
、またポリマーを一度単離してから溶媒に再溶解してブ
レンド用原液を調製してもよい。ブレンド用原液には、
溶解助剤として無機塩、例えば塩化カルシウム、塩化マ
グネシウムなどを添加する場合もある。
The aromatic polyamide of the present invention is obtained by reacting a diisocyanate and a dicarboxylic acid, or a diacid chloride and a diamine. In the case of diacid chloride and diamine, N-
It is synthesized by solution polymerization in an amide polar solvent such as methyl-2-pyrrolidone or dimethylacetamide, or by interfacial polymerization using an aqueous medium. Dioxychloride and diamine are mixed in a low moisture amide polar solvent at low temperature (usually 50°C).
The polymerization is then carried out by stirring at a temperature (preferably below 30°C) for ~2 hours. The order of adding the monomers is not particularly limited. Hydrochloric acid generated after polymerization is neutralized with an inorganic alkali or organic neutralizing agent. Further, the reaction between the diisocyanate and the dicarboxylic acid is carried out in an amide polar solvent in the presence of a catalyst, usually at a high temperature (50 to 200°C). These polymer solutions may be used as they are as a stock solution for blending, or the polymer may be isolated once and then redissolved in a solvent to prepare a stock solution for blending. The blending stock solution includes
In some cases, inorganic salts such as calcium chloride and magnesium chloride are added as solubilizing agents.

耐熱性フィルムの機械的特性を向上させるためにはポリ
マの分子量を一定以上にしておく必要があり、この尺度
としては固有粘度(η1nh)をもって表わすのが便利
である。すなわち、固有粘度が、N−メチル−2−ピロ
リドンに溶解する場合は、好ましくは1.0〜10.0
、より好ましくは1.5〜7.0である。
In order to improve the mechanical properties of a heat-resistant film, it is necessary to keep the molecular weight of the polymer above a certain level, and it is convenient to express this in terms of intrinsic viscosity (η1nh). That is, the intrinsic viscosity is preferably 1.0 to 10.0 when dissolved in N-methyl-2-pyrrolidone.
, more preferably 1.5 to 7.0.

上記芳香族ポリアミドと可溶性樹脂とのブレンドの方法
としては、芳香族ポリアミドと可溶性樹脂のそれぞれの
ブレンド原液を別個に調製しその原液同士をブレンドす
る方法、可溶性樹脂を溶解したアミド系極性溶媒溶液を
調整し、その中で前述した芳香族ポリアミドの重合を行
ない、重合とブレンドを同時に行なう方法などが挙げら
れる。
Methods for blending the above-mentioned aromatic polyamide and soluble resin include methods of separately preparing blend stock solutions of the aromatic polyamide and soluble resin and blending the stock solutions, and a method of blending the stock solutions of the aromatic polyamide and the soluble resin. Examples include a method in which the above-mentioned aromatic polyamide is polymerized and the polymerization and blending are performed simultaneously.

こうして得られた製膜原液から得られる見かけの固有粘
度はO0l〜8.0が好ましく、より好ましくは0.2
〜5.0である。溶液粘度は、自由に選べるが流延性の
点から5〜50000ポイズ/30℃が望ましく、10
〜20000ボイズが更に望ましい。樹脂濃度は1〜5
0%が望ましく、5〜30%が更に望ましい。
The apparent intrinsic viscosity obtained from the film-forming stock solution thus obtained is preferably O0l to 8.0, more preferably 0.2
~5.0. The solution viscosity can be freely selected, but from the viewpoint of flowability, it is preferably 5 to 50,000 poise/30°C, and 10
~20,000 voids is more desirable. Resin concentration is 1-5
0% is desirable, and 5 to 30% is more desirable.

この製膜原液は以下の方法でフィルムにする。This film-forming stock solution is made into a film by the following method.

まず、乾湿式法だが、ドクターナイフ、口金などにより
フィルム状に支持体上に流延され、通常50〜250℃
の範囲、より好ましくは60〜200℃で一定時間乾燥
される。50℃未満では溶媒の蒸発速度が遅く、250
℃を越えると溶媒の突沸が起こりフィルムの品質の低下
をきたす。乾燥されたフィルムは支持体より剥離され、
水系の媒体中へ浸漬または媒体を噴霧せられて無機塩お
よび溶媒が抽出される。水系の媒体とは、水を主成分と
する液体であり、ポリマに対しては貧溶媒であるが、無
機塩やアミド系極性溶媒には親和性のある液体のことで
ある。例えば、水単独、水と原液を構成しているアミド
系極性溶媒との混合物、水とエチレングリコール、アセ
トン、低級アルコールとの混合物が挙げられるが、水の
比率とじて少なくとも50%以上が脱塩・脱溶媒速度や
溶媒回収を考慮すると望ましい。また、湿式浴の温度は
通常5〜90℃が適当である。該湿式1程では溶解助剤
となる無機塩とアミド系極性溶媒が抽出される訳である
が、該湿式1程終了直後のフィルム中で無機塩残存量は
ポリマ当り3%以下、より好ましくは■%以下がよい。
First, in the wet-dry method, a film is cast onto a support using a doctor knife, a nozzle, etc., and the temperature is usually 50 to 250°C.
It is dried for a certain period of time, preferably at 60 to 200°C. Below 50°C, the evaporation rate of the solvent is slow;
If the temperature exceeds ℃, bumping of the solvent occurs and the quality of the film deteriorates. The dried film is peeled off from the support,
The inorganic salt and solvent are extracted by immersion or spraying into an aqueous medium. The aqueous medium is a liquid whose main component is water, which is a poor solvent for polymers but has an affinity for inorganic salts and amide polar solvents. Examples include water alone, a mixture of water and an amide polar solvent constituting the stock solution, and a mixture of water and ethylene glycol, acetone, or lower alcohol, but at least 50% of the water is desalted. - Desirable considering desolvation speed and solvent recovery. Further, the temperature of the wet bath is usually 5 to 90°C. In the first stage of the wet process, inorganic salts and amide polar solvents that serve as dissolution aids are extracted, but the amount of inorganic salts remaining in the film immediately after the first stage of the wet process is preferably 3% or less per polymer, more preferably. ■% or less is better.

アミド系極性溶媒の残存率は特に規定されないが溶媒回
収を考慮すれば出来るだけ抽出した方が有利である。該
湿式1程中のフィルムは水系媒体で膨潤した状態にある
ため湿式温度範囲での延伸が行いやすく最終フィルムの
機械特性向上のため、−殻内に工程中で1゜01〜5.
0倍に縦方向に延伸される。湿式1程を終了したフィル
ムは、水系媒体の蒸発、アミド系極性溶媒の蒸発のため
加熱が行われる。この加熱工程では最終的に100℃以
上、好ましくは200℃以上500℃以下の処理が行な
われるが、50〜100℃で一旦水分を乾燥した後(水
分量がフィルム重量に対して20重量%以下まで)、上
記温度での加熱を行なうと、本発明の特性を有するフィ
ルムが得られやすく好ましい。また、該加熱工程では横
方向に1.01〜5. 0倍延伸される。また必要に応
じてリラックスなども行なわれても何ら問題はない。
Although the residual rate of the amide polar solvent is not particularly defined, it is advantageous to extract as much as possible in consideration of solvent recovery. During the first wet process, the film is in a swollen state with an aqueous medium, so it is easy to stretch in the wet temperature range, and in order to improve the mechanical properties of the final film, the film is swollen in the wet process by 1° to 5° during the process.
Stretched 0 times in the machine direction. After the first wet process, the film is heated to evaporate the aqueous medium and the amide polar solvent. In this heating step, the temperature is finally 100°C or higher, preferably 200°C or higher and 500°C or lower, but after drying the water at 50 to 100°C (the water content is 20% by weight or less based on the film weight). Heating at the above-mentioned temperature is preferred because it makes it easier to obtain a film having the characteristics of the present invention. In addition, in the heating step, 1.01 to 5. Stretched 0 times. There is no problem in relaxing if necessary.

次に、湿式法は、口金から直接、あるいは−旦支持体上
にフィルム上に成形して、水系(メタノール、エタノー
ルなどのアルコールを含んでいてもアルコールだけでも
よい)の媒体中に導入する方法である。多量のアミド系
極性溶媒などを含むため、水系の媒体中で急激な無機塩
やアミド系極性溶媒の置換が行われ最終フィルムにボイ
ドの発生あるいはフィルムの面荒れが起こりやすくなる
ために、前述の水系の媒体中に必要に応じて置換速度を
制御するため無機塩、例えば、塩化カルシウム、塩化リ
チウム、臭化リチウムなどが含有されたり、水槽を多段
にして、水とアミド系極性溶媒・無機塩の混合物などに
濃度勾配を持たせたりする。乾湿式法同様に本工程で縦
方向に1601〜5倍延伸してもよい。湿式1程を終了
したフィルムは乾湿式法と同様に加熱(200〜500
℃)と横方向の延伸(1,01〜5.0倍)が行われる
。この加熱前に一旦50〜100℃で水分を乾燥するの
が好ましく、熱ロールや熱風によって行なわれ、場合に
より1.01〜5倍の縦延伸も行なわれる。
Next, the wet method is a method in which the material is introduced into an aqueous medium (containing alcohol such as methanol or ethanol, or only alcohol) directly from the die or by forming the film onto a support. It is. Because it contains a large amount of amide-based polar solvents, inorganic salts and amide-based polar solvents are rapidly replaced in the aqueous medium, which tends to cause voids or surface roughness in the final film. Inorganic salts such as calcium chloride, lithium chloride, lithium bromide, etc. may be contained in the aqueous medium to control the substitution rate as necessary, or water and amide polar solvents/inorganic salts may be added to the water tank in multiple stages. to create a concentration gradient in a mixture of Similar to the wet-dry method, the film may be stretched 1601 to 5 times in the longitudinal direction in this step. After the first wet process, the film is heated (200 to 500
°C) and transverse stretching (1.01 to 5.0 times). Before this heating, it is preferable to once dry the moisture at 50 to 100°C, and this is carried out using hot rolls or hot air, and longitudinal stretching by 1.01 to 5 times is also carried out depending on the case.

次に、乾式法である。この方法は湿式法とは逆に抽出工
程を省いたプロセスであり、有機系溶媒を使用し製膜原
液中に溶解助剤である無機塩を含まないものに限って可
能となる方法である。ドクターナイフや口金より支持体
上へ流延された原液は乾湿式法同様に乾燥されて支持体
から剥離され、支持体と加熱工程の間で縦方向に1,0
1〜5゜0倍延伸される。乾式1程を終了したフィルム
は乾湿式法と同様な加熱と延伸が行われる。以上のよう
にして本発明の耐熱性フィルムを得ることができる。
Next is the dry method. This method is the opposite of the wet method, in that it omits the extraction step, and is only possible when an organic solvent is used and the membrane forming stock solution does not contain an inorganic salt as a solubilizing agent. The stock solution cast onto the support using a doctor knife or a nozzle is dried and peeled off from the support in the same manner as the dry-wet method.
Stretched 1 to 5 degrees 0 times. After completing the first dry process, the film is heated and stretched in the same manner as in the wet-dry process. The heat-resistant film of the present invention can be obtained in the manner described above.

かくして得られた本発明の耐熱性フィルムは、感熱転写
用リボン、プリント基板、コンデンサー電気絶縁材料用
途などがあるが、特に感熱転写リボン、プリント基板、
コンデンサー用途が望ましい。
The thus obtained heat-resistant film of the present invention can be used for thermal transfer ribbons, printed circuit boards, capacitor electrical insulation materials, etc., but in particular, it can be used for thermal transfer ribbons, printed circuit boards,
Desirable for capacitor applications.

[実施例] 次に実施例に基づいて本発明の実施態様を説明するが、
これに限定されるものではない。なお、実施例中の特性
の測定法は以下の通りである。
[Example] Next, embodiments of the present invention will be described based on Examples.
It is not limited to this. In addition, the method of measuring the characteristics in the examples is as follows.

■ 固有粘度(η1nh) 下式により、N−メチル−2−ピロリドンを溶媒として
0.5g/100m1,30℃の条件下にウベローデ型
粘度計を用いて測定した。
(2) Intrinsic viscosity (η1nh) Measured using an Ubbelohde viscometer at 0.5 g/100 ml and 30° C. using N-methyl-2-pyrrolidone as a solvent according to the following formula.

■ 溶液粘度(ポイズ) 回転式B型粘度計(東京計器)を用い、温度30℃で測
定した。
■ Solution viscosity (poise) Measured using a rotating B-type viscometer (Tokyo Keiki) at a temperature of 30°C.

■ 破断伸度、強度、ヤング率、F−5値TR8型引張
り試験器で幅10mm、長さ50mm。
■ Elongation at break, strength, Young's modulus, F-5 value TR8 type tensile tester, width 10 mm, length 50 mm.

引張り速度300mm/分の条件で測定した。The measurement was performed at a tensile speed of 300 mm/min.

■ 熱収縮率(%) 無荷重で所定の温度に設定したオーブン中で10分間加
熱後、室温にもどして寸法を測り、下式の計算式より算
出した。
■ Thermal shrinkage rate (%) After heating for 10 minutes in an oven set at a predetermined temperature with no load, the product was returned to room temperature, the dimensions were measured, and the calculation was calculated using the formula below.

X100  (%) ■ 吸湿率(%) 150℃、60分絶乾後と、75%RH中に48時間放
置後のフィルム重量を測定し、下記の計算式により算出
した。
X100 (%) Moisture absorption rate (%) The weight of the film was measured after being completely dried at 150° C. for 60 minutes and after being left in 75% RH for 48 hours, and calculated using the following formula.

吸湿率=(75%RH,48時間放置後のフィルム重量
−絶乾時のフィルム重量) /(絶乾時のフィルム重量) X100(%) ■ 熱膨張係数(α) 熱収縮や吸脱湿の影響を除くためフィルムを一旦150
℃まで加熱し、徐々に冷却していった時の80〜150
℃の領域における寸法変化から計算した。寸法変化量は
、熱機械分析計(TMA)によって測定した。
Moisture absorption rate = (75% RH, weight of film after being left for 48 hours - weight of film when completely dry) / (weight of film when completely dry) To remove the influence, set the film to 150
80-150 when heated to ℃ and gradually cooled
Calculated from dimensional changes in the °C range. The amount of dimensional change was measured by a thermomechanical analyzer (TMA).

■ 湿度膨張係数(β) 恒温恒湿槽中で、脱湿時(約30%RH)と加湿時(約
80%RH)でそれぞれ平衡になった時のフィルム長を
読み取りその差(伸び量)を使い下式より求めた。
■ Humidity expansion coefficient (β) In a constant temperature and humidity chamber, read the film length when it reaches equilibrium during dehumidification (approximately 30% RH) and humidification (approximately 80% RH), and read the difference (amount of elongation). It was calculated using the formula below.

ΔH:加湿時と脱湿時の湿度差(%RH)■ 荷重下の
熱寸法変化率 荷重0 、 5 kg / mm 2を掛けて温度25
0℃で10分間、オープン中に入れ、室温にもどして寸
法を測り、下式の計算式より算出した。
ΔH: Humidity difference between humidification and dehumidification (%RH)■ Thermal dimensional change rate under load Multiply the load by 0 and 5 kg/mm2 to get the temperature by 25
It was placed in the open at 0° C. for 10 minutes, returned to room temperature, measured, and calculated using the following formula.

■ 誘電率、tanδ ASTM−D−150−81に準する。■ Dielectric constant, tanδ Conforms to ASTM-D-150-81.

0 光線透過率 ASTM  D−1003に準拠して測定した。0 Light transmittance Measured in accordance with ASTM D-1003.

■ 平均表面粗さ(Ra) 小板研究所製の高精度薄膜段差測定器ET−10を用い
て測定した。条件は下記の通りであり、20回の平均値
をもって値とした。
(2) Average surface roughness (Ra) Measured using a high-precision thin film step measuring device ET-10 manufactured by Koita Research Institute. The conditions were as follows, and the average value of 20 times was taken as the value.

・触針先端半径:0.5μm ・触針荷重  : 5mg ・測定長   :1mm ・カットオフ値:0.08mm なお、Raの定義は、例えば、奈良治部著「表面粗さの
測定・評価法」 (総合技術センター 1983)に示
されているものである。
・Stylus tip radius: 0.5μm ・Stylus load: 5mg ・Measurement length: 1mm ・Cutoff value: 0.08mm The definition of Ra can be found, for example, in “Measurement and evaluation method of surface roughness” written by Jibu Nara. ” (Sogo Technological Center 1983).

0 端裂抵抗(k g/μm) JIS−C−2318に準拠して測定し、厚み1μmあ
たりに換算した。
0 End tear resistance (kg/μm) Measured in accordance with JIS-C-2318, and calculated per 1 μm thickness.

なお、以下の実施例で用いた部は全て重量部を表わす。Note that all parts used in the following examples represent parts by weight.

実施例1 75mo1%の2−クロロパラフェニレンジアミン(以
下CPAと略す)と25mo1%の4゜4゛ −ジアミ
ノジフェニルエーテル(以下4,4′DAEと略す)を
、100mo1%の2−りo。
Example 1 75 mo1% of 2-chloroparaphenylenediamine (hereinafter abbreviated as CPA) and 25 mo1% of 4'4'-diaminodiphenyl ether (hereinafter abbreviated as 4,4'DAE) were mixed with 100 mo1% of 2-diamine.

テレフタル酸クロリド(以下CTPCと略す)とN−メ
チル−2−ピロリドン(以下NMPと略す)中で20℃
以下で反応させ、芳香族ポリアミドのNMP溶液を得た
。この溶液を多量の水に投入し、再沈・乾燥して粉体状
のポリマを得た。このポリマ20部をNMP 200部
に溶解させ、この中に別に調整しておいたポリカーボネ
ート(PC)30部を含むNMP溶液200部を加えて
ブレンド溶液を得た。固有粘度は1.3であり溶液粘度
は610ポイズであった。
20°C in terephthalic acid chloride (hereinafter abbreviated as CTPC) and N-methyl-2-pyrrolidone (hereinafter abbreviated as NMP)
The reaction was performed as follows to obtain an NMP solution of aromatic polyamide. This solution was poured into a large amount of water, reprecipitated and dried to obtain a powdery polymer. 20 parts of this polymer was dissolved in 200 parts of NMP, and 200 parts of a separately prepared NMP solution containing 30 parts of polycarbonate (PC) was added thereto to obtain a blend solution. The intrinsic viscosity was 1.3 and the solution viscosity was 610 poise.

この製膜用原液を、アプリケータを用いてガラス板上に
均一に流延し、120℃のオープン中で8分間乾燥後、
ガラス板より剥離して流水中に10分間浸漬する。緊張
下に100℃のオープン中で一旦水分を乾燥した後、1
分間300℃で加熱して厚み9μmの最終フィルムを得
た。得られたフィルムの破断伸度は25%、引張り強度
12kg/ll0112、ヤング率450kg/mm2
、F −5値11kg/IItl12、端裂抵抗は0.
52kg/μmであり、250℃、10分間の熱収縮率
は0.5%、250℃の荷重(0,5)cg/1m12
)下の熱寸法変化は15%、熱膨張係数(α)は1.7
X10−5部℃、吸湿率は1.0%、平均表面粗さは8
0部mと強靭で湿度特性、耐熱性、作業性に優れたフィ
ルムであった。
This film-forming stock solution was uniformly cast onto a glass plate using an applicator, and after drying in an open environment at 120°C for 8 minutes,
Peel it off from the glass plate and immerse it in running water for 10 minutes. After drying the moisture in an open environment at 100℃ under tension,
Heating at 300° C. for minutes yielded a final film with a thickness of 9 μm. The resulting film had a breaking elongation of 25%, a tensile strength of 12 kg/ll, and a Young's modulus of 450 kg/mm2.
, F-5 value 11kg/IItl12, end tear resistance 0.
52 kg/μm, heat shrinkage rate at 250°C for 10 minutes is 0.5%, load at 250°C (0.5) cg/1m12
) The thermal dimensional change below is 15%, and the thermal expansion coefficient (α) is 1.7.
X10-5 parts ℃, moisture absorption rate is 1.0%, average surface roughness is 8
The film was strong with a weight of 0 parts m, and had excellent humidity characteristics, heat resistance, and workability.

実施例2 CPA70mo 1%、4.4” −ジアミノジフェニ
ルスルホン(以下DASと略す)30mo1%とCTP
C50mo 1%、テレフタル酸クロリド(以下TPC
と略す)50mo1%との反応後単離して得られた芳香
族ポリアミド35部を300部のNMPに溶かした溶液
と、ポリカーボネート15部を含むNMP溶液100部
をブレンドした。このブレンド溶液を、ガラス板上にキ
ャストし150℃で4分間乾燥後さらに30秒間230
℃で乾燥した。このフィルムをストレッチャーを使い2
50℃で縦横とも1.3倍延伸した後、さらに280℃
で加熱した。得られたフィルムは、表1に示すように優
れた特性を有していた。
Example 2 CPA70mo 1%, 4.4”-diaminodiphenylsulfone (hereinafter abbreviated as DAS) 30mo1% and CTP
C50mo 1%, terephthalic acid chloride (hereinafter referred to as TPC)
A solution prepared by dissolving 35 parts of aromatic polyamide obtained by isolation after reaction with 50 mo1% of polyamide in 300 parts of NMP was blended with 100 parts of an NMP solution containing 15 parts of polycarbonate. This blended solution was cast onto a glass plate, dried at 150°C for 4 minutes, and then heated at 230°C for an additional 30 seconds.
Dry at °C. Use this film with a stretcher 2
After stretching 1.3 times in length and width at 50℃, further stretching at 280℃
heated with. The obtained film had excellent properties as shown in Table 1.

実施例3 CPA100mo1%とCTPCloomo 1%を反
応させる際に、得られる芳香族ポリアミド30部に対し
てポリカーボネート70部を予め溶解したNMP中で重
合した。こうして得られた溶液を、アプリケータを用い
てガラス板上に均一に流延し、流水中に浸漬すると自然
にガラス板から剥離してくる。さらに10分間浸漬し、
脱溶媒して、100℃のオーブン中で一旦水分を乾燥し
た後、1分間300℃で加熱して厚み5μmの最終フィ
ルムを得た。表1に示すような非常に特性の優れたフィ
ルムであった。
Example 3 When 100 mo1% of CPA was reacted with 1% of CTPCroomo, 70 parts of polycarbonate was polymerized in NMP in which 70 parts of polycarbonate was dissolved in advance based on 30 parts of the resulting aromatic polyamide. The solution thus obtained is uniformly cast onto a glass plate using an applicator, and when immersed in running water, it naturally peels off from the glass plate. Soak for another 10 minutes,
After removing the solvent and once drying the moisture in an oven at 100°C, the film was heated at 300°C for 1 minute to obtain a final film with a thickness of 5 μm. The film had very excellent properties as shown in Table 1.

実施例4 実施例1と同様な方法で、4.4’−DAEI 00m
o1%とCTPCloomo 1%から得られた芳香族
ポリアミド30部とポリエーテルスルホン(PES)7
0部からなるフィルムを作製した。
Example 4 In the same manner as in Example 1, 4.4'-DAEI 00m
30 parts of aromatic polyamide obtained from o1% and CTPCloomo 1% and polyethersulfone (PES) 7
A film consisting of 0 parts was produced.

表1に示すような非常に特性の優れたフィルムであった
The film had very excellent properties as shown in Table 1.

実施例5 実施例2と同様な方法で、3.4’−DAE 100m
o1%とTPC100mo1%から得られた芳香族ポリ
アミド20部とポリカーボネート80部からなるフィル
ムを作製した。なお、縦横とも1゜6倍の延伸を行なっ
た。表1に示すように特性の非常に優れたフィルムであ
った。
Example 5 In the same manner as in Example 2, 3.4'-DAE 100m
A film was produced consisting of 20 parts of aromatic polyamide obtained from 1% o and 100 mo1% of TPC and 80 parts of polycarbonate. Note that the film was stretched 1°6 times both in the length and width. As shown in Table 1, the film had very excellent properties.

実施例6 実施例1と同様な方法で、CPA85mo1%、4.4
’−DAE 15mo 1%とCTPC100m。
Example 6 In the same manner as in Example 1, CPA85mol1%, 4.4
'-DAE 15mo 1% and CTPC 100m.

1%の反応から得られる芳香族ポリアミド10部と、ポ
リカーボネート40部を含むNMP溶液350部を調製
した。溶液粘度は、30℃で80ポイズであった。この
ブレンド原液を、幅100mm1スリット0.1mmの
口金から連続的に水中に押し出し、水中で縦方向に1.
05倍延伸し、95℃で水分を乾燥した後、290℃で
横方向に1.3倍延伸しながら加熱を行ない長尺のフィ
ルムを得た。表1に示すように特性の非常に優れたフィ
ルムであった。
350 parts of an NMP solution containing 10 parts of aromatic polyamide obtained from a 1% reaction and 40 parts of polycarbonate was prepared. The solution viscosity was 80 poise at 30°C. This blended stock solution was continuously extruded into water through a nozzle with a width of 100 mm and 1 slit of 0.1 mm, and vertically 1.
The film was stretched 0.5 times and dried at 95° C., and then heated at 290° C. while being stretched 1.3 times in the transverse direction to obtain a long film. As shown in Table 1, the film had very excellent properties.

実施例7 実施例1でポリカーボネートをボリアリレート(”Uポ
リマ”)に変える以外は全く同様な方法でフィルムを作
製したところ、表1に示すような非常に優れた特性を有
するフィルムであった。
Example 7 A film was prepared in exactly the same manner as in Example 1 except that polyarylate ("U polymer") was used instead of polycarbonate, and the film had excellent properties as shown in Table 1.

比較例1 ポリカーボネートのNMP溶液をガラス板上に流延し、
120℃で6分乾燥後、210℃に加熱して得たポリカ
ーボネートのみからなるフィルムの特性は、表1に示す
ように熱特性が非常に悪いフィルムであった。
Comparative Example 1 A polycarbonate NMP solution was cast onto a glass plate,
The properties of the film made only of polycarbonate obtained by drying at 120°C for 6 minutes and then heating to 210°C were very poor in thermal properties, as shown in Table 1.

比較例2 実施例1で、芳香族ポリアミドの量を1部に変えた以外
は同様な方法でフィルムを作製しようとしたが、300
℃では溶融しフィルムが得られなかった。そこで加熱温
度を250℃に変えてフィルムを得たが、表1に示した
ように熱特性の非常に悪いものであった。
Comparative Example 2 A film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the amount of aromatic polyamide was changed to 1 part.
At ℃, it melted and no film was obtained. Therefore, a film was obtained by changing the heating temperature to 250°C, but as shown in Table 1, the thermal properties were very poor.

比較例3 実施例1と同様な方法で、4.4′−ジアミノジフェニ
ルメタン100mo1%とTPCloom。
Comparative Example 3 In the same manner as in Example 1, 100 mo1% of 4,4'-diaminodiphenylmethane and TPCloom were added.

1%の反応から得られる芳香族ポリアミド95部と、ポ
リカーボネート5部からなるフィルムを作製したが、湿
度特性の悪いフィルムであった。
A film was produced consisting of 95 parts of aromatic polyamide obtained from a 1% reaction and 5 parts of polycarbonate, but the film had poor humidity characteristics.

以上のように、本発明の範囲外のフィルムは、熱特性、
湿度特性のいずれかが劣るものであった。
As mentioned above, films outside the scope of the present invention have thermal properties,
Either of the humidity characteristics was poor.

実施例8 実施例1と同様にして得られた製膜用原液に、ポリエー
テルスルホンが3部(ポリカーボネートに対して10重
量%)溶解したNMP溶液20部を加え新たな製膜用原
液とし、実施例1と同様な方法で厚み8μmのフィルム
を得た。得られたフィルムの破断伸度は30%、引張り
強度16kg/則2、ヤング率420kg/lll12
、端裂抵抗は0゜66kg/μmであり、250℃、1
0分間の熱収縮率は0. 4%、250℃の荷重下(0
,5kg/mm2)の熱寸法変化は12%、吸湿率は1
.0%1、湿度膨張係数(β)は2.1xlO−’/%
RHと強靭で湿度特性、耐熱性に優れたフィルムであっ
た。また、誘電率εは3.5、tanδは0゜7%と電
気特性にも優れ、光線透過率は75%で光学特性も優れ
ていた。さらに、表面の平均突起高さは120nmと平
滑性のよいフィルムであった。
Example 8 20 parts of an NMP solution in which 3 parts of polyether sulfone (10% by weight based on polycarbonate) was dissolved was added to the membrane-forming stock solution obtained in the same manner as in Example 1 to prepare a new membrane-forming stock solution, A film with a thickness of 8 μm was obtained in the same manner as in Example 1. The elongation at break of the obtained film was 30%, the tensile strength was 16 kg/Rule 2, and the Young's modulus was 420 kg/lll12.
, end tear resistance is 0°66 kg/μm, 250°C, 1
The heat shrinkage rate for 0 minutes is 0. 4% under load at 250℃ (0
, 5kg/mm2), the thermal dimensional change is 12%, and the moisture absorption rate is 1.
.. 0%1, humidity expansion coefficient (β) is 2.1xlO-'/%
The film had excellent RH, toughness, humidity characteristics, and heat resistance. Further, the dielectric constant ε was 3.5, and the tan δ was 0°7%, indicating excellent electrical properties, and the light transmittance was 75%, indicating excellent optical properties. Furthermore, the average height of protrusions on the surface was 120 nm, and the film had good smoothness.

[発明の効果] 本発明で得られる芳香族ポリアミドと可溶性樹脂とのブ
レンド樹脂からなるフィルムは、可溶性樹脂の軟化流動
点以上の温度でも流動せず、高温での熱収縮率も小さく
寸法安定性に優れており、また、可溶性樹脂の単体フィ
ルムに比較して機械特性、特にヤング率や引張り強度が
優れており、ハンドリング、加工時の取り扱いが容易で
薄膜化もしやすい。さらに、芳香族ポリアミドの最大の
欠点と言われている湿度特性(特に吸湿性)が改良され
る。
[Effects of the Invention] The film made of the blended resin of aromatic polyamide and soluble resin obtained by the present invention does not flow even at temperatures above the softening pour point of the soluble resin, has a low thermal shrinkage rate at high temperatures, and has good dimensional stability. It also has better mechanical properties, especially Young's modulus and tensile strength, than a single film of soluble resin, and is easy to handle and process, and can be easily formed into a thin film. Furthermore, the humidity properties (especially hygroscopicity), which are said to be the biggest drawback of aromatic polyamides, are improved.

また、本発明の芳香族ポリアミドと可溶性樹脂は相溶性
が非常によいためにブレンド溶液の長期安定性に優れ、
また、得られるフィルム中でも2種のポリマが微分散し
やすく界面でのミクロボイドの発生が抑えられるため機
械特性や透明性に優れている。
In addition, since the aromatic polyamide of the present invention and the soluble resin have very good compatibility, the blend solution has excellent long-term stability.
In addition, the two types of polymers are easily finely dispersed in the resulting film, and the generation of microvoids at the interface is suppressed, resulting in excellent mechanical properties and transparency.

さらに、比較的安価な可溶性樹脂を使用しているためフ
ィルムの製造コストを下げることが可能となる。
Furthermore, since a relatively inexpensive soluble resin is used, the manufacturing cost of the film can be reduced.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)芳香族ポリアミドと可溶性樹脂とのブレンド樹脂
からなるフィルムであって、該芳香族ポリアミドの量が
ブレンド樹脂の5重量%以上90重量%以下の範囲であ
り、該フィルムの少なくとも一方向の荷重(0.5kg
/mm^2)下の250℃の熱寸法変化率が50%以下
であることを特徴とする耐熱性フィルム。
(1) A film made of a blended resin of an aromatic polyamide and a soluble resin, in which the amount of the aromatic polyamide is in the range of 5% to 90% by weight of the blended resin, and the amount of the aromatic polyamide is in the range of 5% to 90% by weight of the blended resin, and Load (0.5kg
/mm^2) A heat-resistant film having a thermal dimensional change rate of 50% or less at 250°C.
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