JPH03235386A - Microwave laser - Google Patents

Microwave laser

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JPH03235386A
JPH03235386A JP2969590A JP2969590A JPH03235386A JP H03235386 A JPH03235386 A JP H03235386A JP 2969590 A JP2969590 A JP 2969590A JP 2969590 A JP2969590 A JP 2969590A JP H03235386 A JPH03235386 A JP H03235386A
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JP
Japan
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discharge
gas
microwave
laser
discharge section
Prior art date
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JP2969590A
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Japanese (ja)
Inventor
Hideomi Takahashi
秀臣 高橋
Kiyohisa Terai
清寿 寺井
Koichi Nishida
西田 公一
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/097Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
    • H01S3/0975Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser using inductive or capacitive excitation

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Lasers (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain even flow discharge at a normal gas pressure by a method wherein additional gas injection holes are arranged at a proper interval in the longitudinal direction of a discharge part and additional gas is added in the discharge part through the injection holes. CONSTITUTION:When additional gas, such as Xe gas, Ne gas or the like, is injected in a discharge part 24 through additional gas injection holes 35, which are interconnected to the discharge part 24 and are arranged, an ionization part 35a is formed in the vicinity of each injection hole 35, a remaining part 35b and the like and ionized by electrons, which are fed from the ionization part 35a, and the whole discharge is completed. Accordingly, it is eliminated that microwave discharge concentrates on the vicinity of the entrance of the discharge part 24 and even microwave discharge can be obtained at a normal gas pressure. Moreover, as the ratio of gas, which is added to the feed rate of laser gas, is properly selected, the rate of the Xe gas or the like in the circulating laser medium gas becomes a proper one, an electron density in glow discharge plasma is properly reduced and becomes the optimum one for laser excitation and in addition to these, a discharge impedance is also increased and the constitution of a microwave laser becomes an effective one.

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、マイクロ波放電励起を行うマイクロ波レーザ
装置に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object of the Invention] (Industrial Application Field) The present invention relates to a microwave laser device that performs microwave discharge excitation.

(従来の技術) 一般に、レーザ発振を得るためには、レーザ媒質中で空
間的に均一な放電の生成を必要とするが、特にマイクロ
波を放電励起に用いる場合、このことは非常に重要とな
る。即ち、マイクロ波を通常のレーザ発振で用いられる
圧力(20〜200Torr)で用いると、放電維持電
圧、即ち、定常運転電圧に比べ、放電開始電圧が遥かに
高いため、放電を発生させるに充分な強度のマイクロ波
が放電部に入射すると、入口付近に放電が集中的に生じ
る。そのため、この部分に高密度のプラズマが形成され
、インピーダンスが極端に低下する。その結果、入射マ
イクロ波は放電部に入った途端にほとんど100%が反
射されてしまい、放電空間に有効に電気入力が供給され
ないことになる。
(Prior art) Generally, in order to obtain laser oscillation, it is necessary to generate a spatially uniform discharge in the laser medium, but this is especially important when microwaves are used for discharge excitation. Become. That is, when microwaves are used at the pressure used in normal laser oscillation (20 to 200 Torr), the discharge starting voltage is much higher than the discharge sustaining voltage, that is, the steady-state operating voltage, so it is not enough to generate a discharge. When high-intensity microwaves enter the discharge section, discharge occurs intensively near the entrance. Therefore, high-density plasma is formed in this portion, and the impedance is extremely reduced. As a result, almost 100% of the incident microwave is reflected as soon as it enters the discharge section, and no electrical input is effectively supplied to the discharge space.

この様な問題点を解決するために、App 1 i。In order to solve these problems, App 1i.

Phys、Let t、、37 (8)、p673(1
980)に、第4図に示した様なマイクロ波レーザ装置
が提案されている。即ち、第4図において、レーザガス
1は放電部の上部人口2より高圧で供給され、誘電体か
ら構成されたノズル3を通過すると共に高速となり、ガ
ス圧力が低下する。
Phys, Let t,, 37 (8), p673 (1
980) proposed a microwave laser device as shown in FIG. That is, in FIG. 4, a laser gas 1 is supplied at a high pressure from an upper part 2 of a discharge section, and as it passes through a nozzle 3 made of a dielectric material, the speed increases and the gas pressure decreases.

一方、放電励起に用いられるマイクロ波4は、図中左方
より導波管5によって供給され、マイクロ波を透過する
圧力隔壁6を通してレーザ放電部11に供給される。
On the other hand, microwaves 4 used for discharge excitation are supplied from the left side in the figure by a waveguide 5, and are supplied to the laser discharge section 11 through a pressure partition 6 that transmits microwaves.

ここで、レーザ放電部11の空間の内、ノズル3の前方
の空間7は高圧力であるため、空間7においては放電は
発生しない。一方、ノズル3の後方の空間8においては
ガス圧力が低下するので、この部分にマイクロ波放電が
発生する。この部分での放電は低ガス圧中ての放電であ
るため一様となり、レーザ放電部11の下流側に配設さ
れた光共振器9により、マイクロ波で励起されたレーザ
ガス中を通るレーザ光が増幅発振される。また、排出ガ
ス10は真空ポンプによって、図中右方へ排出される。
Here, in the space of the laser discharge section 11, the space 7 in front of the nozzle 3 has a high pressure, so no discharge occurs in the space 7. On the other hand, since the gas pressure decreases in the space 8 behind the nozzle 3, microwave discharge occurs in this area. The discharge in this part is uniform because it is a discharge in a low gas pressure, and the laser beam passes through the laser gas excited by microwaves by the optical resonator 9 disposed downstream of the laser discharge section 11. is amplified and oscillated. Further, the exhaust gas 10 is discharged to the right in the figure by a vacuum pump.

(発明が解決しようとする課8) しかしながら、上記の様な構成を有する従来のマイクロ
波レーザ装置においては、以下に述べる様な解決すべき
課題があった。
(Problem 8 to be Solved by the Invention) However, in the conventional microwave laser device having the above configuration, there were problems to be solved as described below.

即ち、高圧で供給されたレーザガス1を、ノズル3を通
して断熱膨張させ、そのガス圧力を低下させるため、レ
ーザガスの全量を排気するための真空ポンプが必要とな
る。また、真空ポンプの排気動力が多大となり、装置の
大型化を招き、全体としてのレーザ発振効率が極端に低
下してしまうという欠点があった。
That is, since the laser gas 1 supplied at high pressure is adiabatically expanded through the nozzle 3 and the gas pressure is lowered, a vacuum pump is required to exhaust the entire amount of the laser gas. Moreover, the exhaust power of the vacuum pump becomes large, leading to an increase in the size of the device, and the overall laser oscillation efficiency is extremely reduced.

また、従来のマイクロ波レーザ装置においては、放電が
ノズルの出口付近に集中してしまうといった欠点もあっ
た。即ち、ノズルから下流に向かっての圧力勾配は、ノ
ズル出口が最低で次第に高くなり、また、マイクロ波電
界強度も絶縁物ノズルの作用で出口付近において最大と
なるので、ノズルの出口付近に放電が集中することにな
る。そのため、ノズル出口部分のガス温度が1−昇して
レーザ励起効率の低下をもたらし、また、アーク限界が
低下してレーザ出力が低下するといった欠点があった。
Additionally, conventional microwave laser devices have the disadvantage that discharge is concentrated near the exit of the nozzle. In other words, the pressure gradient downstream from the nozzle is lowest at the nozzle exit and gradually increases, and the microwave electric field strength also reaches its maximum near the exit due to the effect of the insulator nozzle, so discharge occurs near the nozzle exit. You will have to concentrate. As a result, the gas temperature at the nozzle exit increases by 1-1, resulting in a decrease in laser excitation efficiency, and the arc limit also decreases, resulting in a decrease in laser output.

そこで、これらの欠点を改良したマイクロ波レーザ装置
の開発が切望されていた。
Therefore, there has been a strong desire to develop a microwave laser device that improves these drawbacks.

本発明は、以上の様な従来技術の欠点を解消するために
提案されたもので、その目的は、通常のガス圧力で一様
なグロー放電を得ることのできる、総合効率の良い、コ
ンパクトなマイクロ波レーザ装置を提供することにある
The present invention was proposed in order to eliminate the above-mentioned drawbacks of the prior art, and its purpose is to create a compact, highly efficient overall system that can obtain a uniform glow discharge under normal gas pressure. An object of the present invention is to provide a microwave laser device.

[発明の構成] (課題を解決するための手段) 本発明は、真空容器内にレーザ媒質ガスを低ガス圧で封
入し、このガスを放電部に循環させ、前記放電部の外部
に配設したマイクロ波電源よりマイクロ波を供給して放
電させ、レーザ媒質ガスを励起するマイクロ波レーザ装
置において、前記放電部の長手方向に、添加ガス注入口
を適当な間隔をおいて配設し、前記添加ガス注入口から
、放電を促進し電子温度を低下させる作用を有する添加
ガスを放電部内に添加するように構成したことを特徴と
するものである。
[Structure of the Invention] (Means for Solving the Problems) The present invention is characterized in that a laser medium gas is sealed in a vacuum container at a low gas pressure, the gas is circulated to a discharge part, and the gas is disposed outside the discharge part. In a microwave laser device that excites a laser medium gas by supplying microwaves from a microwave power source, the gas is discharged, and additional gas inlets are disposed at appropriate intervals in the longitudinal direction of the discharge part, The present invention is characterized in that an additive gas having the effect of promoting discharge and lowering the electron temperature is added into the discharge section from the additive gas injection port.

(作用) 本発明のマイクロ波レーザ装置によれば、マイクロ波電
源が作動してマイクロ波が放電部に供給されると、放電
部にはXe、Ne、Hg等の添加ガスが注入され、しか
も、その添加量は例えばレーザガス流の方向に増大する
ように調整されているので、マイクロ波の点弧が一様と
なり、且つ、添加ガスが適当量レーザガスに混合される
ので、マイクロ波放電の電子温度が適当な値に下がり、
レーザ励起に最適なものとなる。
(Function) According to the microwave laser device of the present invention, when the microwave power source is activated and microwaves are supplied to the discharge section, an additive gas such as Xe, Ne, Hg, etc. is injected into the discharge section; For example, the amount of the added gas is adjusted to increase in the direction of the laser gas flow, so that the ignition of the microwave becomes uniform, and since the added gas is mixed with the laser gas in an appropriate amount, the electrons of the microwave discharge are The temperature drops to a suitable value,
This makes it ideal for laser excitation.

(実施例) 以下、本発明の一実施例を第1図及び第2図に基づいて
具体的に説明する。
(Example) Hereinafter, an example of the present invention will be specifically described based on FIGS. 1 and 2.

本実施例においては、第1図に示した様に、マイクロ波
発振器21によって送り出されたマイクロ波22が、導
波管23内に放射されるように構成されている。また、
前記導波管23内には、石英ガラス等のマイクロ波損失
の少ない絶縁物から成る放電部24が挿入されている。
In this embodiment, as shown in FIG. 1, the microwave 22 sent out by the microwave oscillator 21 is configured to be radiated into a waveguide 23. Also,
A discharge section 24 made of an insulator with low microwave loss, such as quartz glass, is inserted into the waveguide 23 .

そして、この放電部24の先端は循環風洞26となって
真空容器27が構成され、その内部には、熱交換器28
及び送風機29が設けられている。そして、前記真空容
器27内をレーザガスが図中矢印20方向に循環される
ように構成されている。また、前記真空容器27には、
排気弁33を介して真空排気ポンプ30が接続され、容
器内を真空排気できるように構成されている。また、ガ
ス供給弁32を・介してレーザガスボンベ31が接続さ
れ、容器内にレーザガスを充填できるように構成されて
いる。
The tip of this discharge section 24 becomes a circulation wind tunnel 26 to constitute a vacuum container 27, and a heat exchanger 28 is installed inside the vacuum container 27.
and a blower 29 are provided. The laser gas is configured to be circulated within the vacuum vessel 27 in the direction of arrow 20 in the figure. Further, the vacuum container 27 includes:
A vacuum pump 30 is connected via an exhaust valve 33, and is configured to evacuate the inside of the container. Further, a laser gas cylinder 31 is connected via a gas supply valve 32, so that the container can be filled with laser gas.

なお、前記排気弁33及びガス供給弁32は制御器34
に接続され、それぞれその開閉が制御されている。さら
に、前記放電部24には、添加ガス注入口35が放電部
の長手方向に適当な間隔をおいて設けられている。なお
、前記放電部の両側には、半透過ミラー36及び全反射
ミラー37が配設されて一対の光共振器が形成され、放
電部24に生じたグロー放電によってレーザ光が励起さ
れ、レーザ光38として外部に取り出されるように構成
されている。
Note that the exhaust valve 33 and the gas supply valve 32 are controlled by a controller 34.
are connected to each other, and their opening and closing are controlled. Further, the discharge section 24 is provided with additive gas inlets 35 at appropriate intervals in the longitudinal direction of the discharge section. A semi-transmissive mirror 36 and a total reflection mirror 37 are disposed on both sides of the discharge section to form a pair of optical resonators, and the glow discharge generated in the discharge section 24 excites the laser beam. 38 and is configured to be taken out to the outside.

なお、前記添加ガス注入口35から放電部には、放電を
促進し且つ電子温度を低下させる作用を有するXe、N
e、Hg等のガスが供給される。
In addition, from the additive gas inlet 35 to the discharge section, Xe, N, which has the effect of promoting discharge and lowering the electron temperature.
Gases such as e, Hg, etc. are supplied.

この様な構成を有する本実施例のマイクロ波レーザ装置
においては、以下に述べる様にして一様なグロー放電を
得ることができる。即ち、真空容器27内は、排気弁3
3を介して真空排気ポンプ30によって真空排気される
。真空に排気された後、排気弁33は閉じられ、ガス供
給弁32が開けられて、レーザガスボンベ31よりレー
ザガスが容器内に一定圧力まで注入される。このガス供
給は、第1図中破線で示した様に、通常は制御器34に
よって排気弁33及びガス供給弁32が制御され、注入
と排気が交互または連続的に行われ、レーザガスが常時
少量ずつ交換されている。また、真空容器27内には放
電部24が配設され、送風機29によってレーザガスが
循環されている。さらに、放電部24を出たレーザガス
は、マイクロ波放電による加熱効果により高温となるの
で、熱交換器28によって冷却される。
In the microwave laser device of this embodiment having such a configuration, uniform glow discharge can be obtained as described below. That is, inside the vacuum container 27, the exhaust valve 3
3 and is evacuated by a vacuum pump 30. After being evacuated, the exhaust valve 33 is closed, the gas supply valve 32 is opened, and laser gas is injected into the container from the laser gas cylinder 31 to a constant pressure. As shown by the broken line in FIG. 1, this gas supply is normally performed by controlling the exhaust valve 33 and the gas supply valve 32 by a controller 34, so that injection and exhaust are performed alternately or continuously, so that a small amount of laser gas is always supplied. are being exchanged. Further, a discharge section 24 is disposed within the vacuum container 27, and laser gas is circulated by a blower 29. Further, the laser gas that has exited the discharge section 24 has a high temperature due to the heating effect of the microwave discharge, and is therefore cooled by the heat exchanger 28 .

また、本実施例のマイクロ波レーザ装置においては、放
電が絶縁物製放電管内で発生すると共に、前記放電部2
4に連通して配設された添加ガス注入口35から、Xe
、N6等の添加ガスが放電部24内に注入される。これ
らの添加ガスは、放電を発生しやすくし、また、電子温
度を低下させる作用が顕著なものである。そして、第1
図において、放電部にマイクロ波が入射してきた場合、
そのマイクロ波電界強度は通常は放電を起こさない維持
電圧に近いものであるため、通常は放電を起こさない。
In addition, in the microwave laser device of this embodiment, discharge is generated within the discharge tube made of an insulator, and the discharge portion 2
From the additive gas inlet 35 disposed in communication with
, N6, or the like is injected into the discharge section 24. These additive gases facilitate the generation of discharge and have a remarkable effect of lowering the electron temperature. And the first
In the figure, when microwaves are incident on the discharge part,
Since the microwave electric field strength is close to the sustaining voltage that normally does not cause discharge, it does not normally cause discharge.

しかし、本実施例においては、放電部に設けられた添加
ガス注入口35から、Xe、Ne等の添加ガスが放電部
24内に注入されるため、第2図に示した様に、添加ガ
ス注入口35の注入口近傍に電離部35aが形成される
。この電離部35aより供給される電子が残りの部分3
5b等を電離し、全体の放電が完成する。したがって、
マイクロ波放電が放電部の入口付近に集中することがな
くなり、−様なマイクロ波放電を得ることができる。さ
らに、レーザガスの供給量に対して、少量添加されるガ
スの割合が適切に選定されているので、循環しているレ
ーザ媒質ガス中のXe等の割合が適切なものとなる。そ
の結果、グロー放電プラズマの電子密度が適当に低減さ
れ、レーザ励起に最適なものとなることに加えて、放電
インピーダンスも上がり、全体の装置構成が効果的なも
のとなり、コンパクトな構成となる。
However, in this embodiment, since the additive gas such as Xe and Ne is injected into the discharge part 24 from the additive gas inlet 35 provided in the discharge part, the additive gas is injected into the discharge part 24 as shown in FIG. An ionized portion 35a is formed near the injection port 35. The electrons supplied from this ionization part 35a remain in the remaining part 3.
5b etc., and the entire discharge is completed. therefore,
The microwave discharge is no longer concentrated near the entrance of the discharge section, and a negative-like microwave discharge can be obtained. Furthermore, since the ratio of the small amount of gas added to the amount of laser gas supplied is appropriately selected, the ratio of Xe, etc. in the circulating laser medium gas becomes appropriate. As a result, the electron density of the glow discharge plasma is appropriately reduced, making it optimal for laser excitation, and the discharge impedance is also increased, making the overall device configuration more effective and compact.

この様に、本実施例によれば、マイクロ波のエネルギー
が効果的に放電部に注入されるので、様なグロー放電を
形成することができる。また、放電プラズマのインピー
ダンスが適切なものとなり、電源回路を含めた構成がコ
ンパクトになる上、電子温度を適当に低下させることが
できるので、高効率の大出力レーザが得られる。
In this manner, according to this embodiment, microwave energy is effectively injected into the discharge portion, so that various glow discharges can be formed. In addition, the impedance of the discharge plasma becomes appropriate, the configuration including the power supply circuit becomes compact, and the electron temperature can be appropriately lowered, so that a high-efficiency, high-output laser can be obtained.

なお、本発明は上述した実施例に限定されるものではな
く、第3図に示した様に、マイクロ波放電部の周辺に、
その放電状況を把握することのできる検出器40を設け
、この検出器40からの情報をもとにして、前記添加ガ
ス注入口35の開閉を調節し、添加ガスの注入を制御す
るように構成しても良い。この場合、放電部内の状況に
即して添加ガスの注入量を制御できるので、放電が一様
になり、また、最適な状態に保持される。
Note that the present invention is not limited to the embodiments described above, and as shown in FIG. 3, around the microwave discharge section,
A detector 40 capable of grasping the discharge status is provided, and based on information from the detector 40, opening and closing of the additive gas injection port 35 is adjusted to control injection of the additive gas. You may do so. In this case, since the injection amount of the additive gas can be controlled according to the situation inside the discharge section, the discharge becomes uniform and is maintained in an optimal state.

[発明の効果コ 以上述べた様に、本発明によれば、放電部の長手方向に
、添加ガス注入口を適当な間隔をおいて配設し、前記添
加ガス注入口から、放電を促進し電子温度を低下させる
作用を有する添加ガスを放電部内に添加するように構成
することにより、通常のガス圧力で−様なグロー放電を
得ることのできる、総合効率の良い、コンパクトなマイ
クロ波レーザ装置を提供することができる。
[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, the additive gas inlets are disposed at appropriate intervals in the longitudinal direction of the discharge section, and the discharge is promoted from the additive gas inlets. A compact microwave laser device with good overall efficiency that can obtain a similar glow discharge with normal gas pressure by adding an additive gas that has the effect of lowering the electron temperature into the discharge section. can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明のマイクロ波レーザ装置の一実施例を示
す構成図、第2図は第1図のA部拡大断面図、第3図は
本発明の他の実施例を示す断面図、第4図は従来例の主
要部を示す断面図である。 1・・・レーザガス、3・・・ノズル、4・・・マイク
ロ波、5・・・導波管、6・・・圧力隔壁、8・・・マ
イクロ波放電、9・・・光共振器、10・・・排出ガス
、11・・・レーザ放電部、21−・・・マイクロ波発
振器、22・・・マイクロ波、23・・・導波管、24
・・・放電部、26・・・循環風洞、27・・・真空容
器、28・・・熱交換器、29・・・送風機、30・・
・真空排気ポンプ、31・・・レーザガスボンベ、32
・・・ガス供給弁、33・・・排気弁、34・・・制御
器、35・・・添加ガス注入口、36・・・半透過ミラ
ー、37・・・全反射ミラー 38・・・レーザ光、4
0・・・検出器。
FIG. 1 is a configuration diagram showing one embodiment of the microwave laser device of the present invention, FIG. 2 is an enlarged sectional view of section A in FIG. 1, and FIG. 3 is a sectional view showing another embodiment of the present invention. FIG. 4 is a sectional view showing the main parts of the conventional example. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Laser gas, 3... Nozzle, 4... Microwave, 5... Waveguide, 6... Pressure partition, 8... Microwave discharge, 9... Optical resonator, DESCRIPTION OF SYMBOLS 10... Exhaust gas, 11... Laser discharge part, 21-... Microwave oscillator, 22... Microwave, 23... Waveguide, 24
...Discharge part, 26...Circulation wind tunnel, 27...Vacuum container, 28...Heat exchanger, 29...Blower, 30...
・Vacuum pump, 31... Laser gas cylinder, 32
...Gas supply valve, 33...Exhaust valve, 34...Controller, 35...Additional gas inlet, 36...Semi-transmissive mirror, 37...Total reflection mirror 38...Laser light, 4
0...Detector.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 真空容器内にレーザ媒質ガスを低ガス圧で封入し、この
ガスを放電部に循環させ、前記放電部の外部に配設した
マイクロ波電源よりマイクロ波を供給して放電させ、レ
ーザ媒質ガスを励起するマイクロ波レーザ装置において
、 前記放電部の長手方向に、添加ガス注入口を適当な間隔
をおいて配設し、前記添加ガス注入口から、放電を促進
し電子温度を低下させる作用を有する添加ガスを放電部
内に添加するように構成したことを特徴とするマイクロ
波レーザ装置。
[Claims] A laser medium gas is sealed in a vacuum container at low gas pressure, this gas is circulated to a discharge section, and a microwave is supplied from a microwave power source disposed outside the discharge section to generate a discharge. In a microwave laser device that excites a laser medium gas, additive gas inlets are disposed at appropriate intervals in the longitudinal direction of the discharge section, and the additive gas inlets promote discharge and increase the electron temperature. 1. A microwave laser device characterized by being configured such that an additive gas having an effect of reducing the temperature is added into a discharge section.
JP2969590A 1990-02-13 1990-02-13 Microwave laser Pending JPH03235386A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4331054A1 (en) * 1992-09-14 1994-03-17 Matsushita Electric Ind Co Ltd Gas laser oscillator with high velocity axial flow - uses gas flow rectifier in gas circulation system providing radial velocity component perpendicular to discharge tube axis

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