JPH03223910A - 電気抵抗炉の温度制御装置 - Google Patents
電気抵抗炉の温度制御装置Info
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- JPH03223910A JPH03223910A JP1852990A JP1852990A JPH03223910A JP H03223910 A JPH03223910 A JP H03223910A JP 1852990 A JP1852990 A JP 1852990A JP 1852990 A JP1852990 A JP 1852990A JP H03223910 A JPH03223910 A JP H03223910A
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- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
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- Waste-Gas Treatment And Other Accessory Devices For Furnaces (AREA)
- Control Of Temperature (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
本発明はセラミックス、カーボン等の焼成(焼結)に用
いられる、2.000〜2.400°C程度の最高温度
を持った電気抵抗炉にかかり、特に、ヒータの駆動電流
を制御して炉内を設定温度に維持する制御装置に関する
ものである。
いられる、2.000〜2.400°C程度の最高温度
を持った電気抵抗炉にかかり、特に、ヒータの駆動電流
を制御して炉内を設定温度に維持する制御装置に関する
ものである。
第6図および第7図は単相スター結線を使用した竪型焼
成炉の温度制御装置を示し、第8図および第9図は単相
3回路を使用した横型焼成炉の温度制御装置を示すもの
である。 図中符号1は炉容器であって、この炉容器1の内側には
断熱材2が設けられ、さらに、この断熱材2の内側には
抵抗発熱体としてのヒータ3に囲まれて、インナーケー
ス4が設けられ、その内部にワーク5が配置されるよう
になっている。なお符号6は炉内の温度を測定する熱電
対などの温度センサである。 」二記竪型焼成炉にあっては、前記ヒータ3が互いにス
ター接続されるとともに、パワーターミナルa、〜a3
を介して3相トランス7に接続され、さらにSCR(サ
イリスタ)8を介して3相交流に接続されている。なお
前記サイリスタ8は、前記温度センサ6から供給される
温度データによって前記ヒータ3に供給される電流を制
御するようになっている。 また、横型焼成炉にあっては、前記ヒータ3が3群に分
割されてそれぞれパワーターミナルal+a21bll
b2およびCI+ C2を介してそれぞれ単相トランス
9a〜9Cに接続され、これらの単相トランス9a〜9
Cは、それぞれサイリスタ10a〜10cを介して3相
交流に接続されている。 以上のように構成された制御装置にあっては、竪型横型
のいずれの形式の場合にも、温度センサ6から供給され
るデータによってサイリスタ8.10a〜IOcに各ヒ
ータ3の駆動電流を制御させることにより、炉内の温度
が設定値に維持されるようになっている。 すなわち、サイリスタの点弧角を調整することにより、
第10図(a)または(b)に示すように図中ハツチン
グで示す範囲の面積に相当する電力が各ヒータ3に供給
されて、炉内温度か比例制御されるようになっている。
成炉の温度制御装置を示し、第8図および第9図は単相
3回路を使用した横型焼成炉の温度制御装置を示すもの
である。 図中符号1は炉容器であって、この炉容器1の内側には
断熱材2が設けられ、さらに、この断熱材2の内側には
抵抗発熱体としてのヒータ3に囲まれて、インナーケー
ス4が設けられ、その内部にワーク5が配置されるよう
になっている。なお符号6は炉内の温度を測定する熱電
対などの温度センサである。 」二記竪型焼成炉にあっては、前記ヒータ3が互いにス
ター接続されるとともに、パワーターミナルa、〜a3
を介して3相トランス7に接続され、さらにSCR(サ
イリスタ)8を介して3相交流に接続されている。なお
前記サイリスタ8は、前記温度センサ6から供給される
温度データによって前記ヒータ3に供給される電流を制
御するようになっている。 また、横型焼成炉にあっては、前記ヒータ3が3群に分
割されてそれぞれパワーターミナルal+a21bll
b2およびCI+ C2を介してそれぞれ単相トランス
9a〜9Cに接続され、これらの単相トランス9a〜9
Cは、それぞれサイリスタ10a〜10cを介して3相
交流に接続されている。 以上のように構成された制御装置にあっては、竪型横型
のいずれの形式の場合にも、温度センサ6から供給され
るデータによってサイリスタ8.10a〜IOcに各ヒ
ータ3の駆動電流を制御させることにより、炉内の温度
が設定値に維持されるようになっている。 すなわち、サイリスタの点弧角を調整することにより、
第10図(a)または(b)に示すように図中ハツチン
グで示す範囲の面積に相当する電力が各ヒータ3に供給
されて、炉内温度か比例制御されるようになっている。
【発明が解決しようとする課題】
ところで、前記サイリスタ8、あるいは]Oa〜10c
には、ヒータ3の全体に、あるいは、3分の1に供給す
べき最大限の電流(2000°C〜2400°Cの最高
温度で運転する場合の電流)に対応した大容量のものが
用いられているから、例えば前記焼成炉を200°C〜
500°C程度の低い温度まで緩やかに加熱しようとす
る場合には、定格容量の1720程度の小電流しか流れ
ないこととなる。しかしながら、サイリスタによる比例
制御は、定格電流からその1710程度までの範囲に限
られているから、第10図(C)に示すように、1o〜
t、の区間てはON、t、 以降の区間ではOFFと
いったON〜OFF状態を繰り返すことにならざるを得
す、このような0N−OFF制御状態に伴ってオーバー
シュート(過剰制御)、ハンチング(目標温度を中心と
する温度昇降の繰り返し)などの不具合が生じるという
問題がある。 本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、高温、低温
のいずれの場合にもヒータを比例制御し得る制御装置を
得ることを目的とするものである。
には、ヒータ3の全体に、あるいは、3分の1に供給す
べき最大限の電流(2000°C〜2400°Cの最高
温度で運転する場合の電流)に対応した大容量のものが
用いられているから、例えば前記焼成炉を200°C〜
500°C程度の低い温度まで緩やかに加熱しようとす
る場合には、定格容量の1720程度の小電流しか流れ
ないこととなる。しかしながら、サイリスタによる比例
制御は、定格電流からその1710程度までの範囲に限
られているから、第10図(C)に示すように、1o〜
t、の区間てはON、t、 以降の区間ではOFFと
いったON〜OFF状態を繰り返すことにならざるを得
す、このような0N−OFF制御状態に伴ってオーバー
シュート(過剰制御)、ハンチング(目標温度を中心と
する温度昇降の繰り返し)などの不具合が生じるという
問題がある。 本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、高温、低温
のいずれの場合にもヒータを比例制御し得る制御装置を
得ることを目的とするものである。
上記目的を達成するため、本発明は、複数のヒータへそ
れぞれ駆動電流を供給する電源回路の各々に、前記ヒー
タへ供給される電力を前記炉内温度によって制御する電
流制御手段を設け、該電流制御手段に制御信号を供給す
る回路および前記電源回路の少なくとも一部にスイッチ
手段を各々設けてなり、該スイッチ手段は、前記炉内温
度の設定値に対応する必要な数のヒータへ駆動電流を供
給させるべく開閉動作する構成としてなるものである。
れぞれ駆動電流を供給する電源回路の各々に、前記ヒー
タへ供給される電力を前記炉内温度によって制御する電
流制御手段を設け、該電流制御手段に制御信号を供給す
る回路および前記電源回路の少なくとも一部にスイッチ
手段を各々設けてなり、該スイッチ手段は、前記炉内温
度の設定値に対応する必要な数のヒータへ駆動電流を供
給させるべく開閉動作する構成としてなるものである。
上記構成であると、炉内温度の設定値が高い場合には前
記スイッチ手段が「閉」となってすべてのヒータに駆動
電流が供給され、また、炉内温度の設定値が低い場合に
は、一部のスイッチ手段のみが「閉」となるため、対応
する一部のヒータのみに電力が供給されて、それぞれの
電流制御手段により温度制御される。
記スイッチ手段が「閉」となってすべてのヒータに駆動
電流が供給され、また、炉内温度の設定値が低い場合に
は、一部のスイッチ手段のみが「閉」となるため、対応
する一部のヒータのみに電力が供給されて、それぞれの
電流制御手段により温度制御される。
以下、図面を参照して本発明の一実施例を説明する。な
お、図中従来例と共通の部分には同一符号を付し、説明
を簡略化する。 第1図および第2図は本発明の第1実施例にかかる竪型
焼結炉を示すものである。この竪型焼結炉のヒータ3は
、6つ(3対)の領域(それぞれA−Fの符号を付す)
に分割されており、それぞれパワーターミナルal+8
2+t)I+l)2+CI+C2+d l+d2+el
+e2+fl+f2から電源が供給されるようになって
いる。すなわち前記各パワーターミナルa −fは、そ
れぞれサイリスタ12A〜12F、 トランス13A
〜13F、および、電磁開閉器MCa−MCfを介して
3相交流電源に接続されている。また、温度制御装置T
ICは、温度センサ6から供給される温度データによっ
て前記サイリスタ12A−12Fを点弧角制御して、炉
内温度を設定値に維持するようになっている。 また第3図および第4図は本発明の第2実施例にかかる
横型焼結炉を示すもので、この第2実施例においては、
焼結炉内のヒータ3が8つ(4対)の領域に区画されて
、それぞれ、パワーターミナルaI+a2bl+b2+
CI+c2+dI’d2+el+e2f l+ f 2
1g +2g 2を介して電源か供給されるようになっ
ている。 また」1記構成の焼結炉の制御回路は第5図に示すよう
な構成となっている。 すなわち、各サイリスタ12A〜12F(12G)の定
格電流は、各群のヒータ3A〜3F(3G)の最大出力
に応して選択されており、それぞれ電磁開閉器M Ca
−M Cf (M Cg )を介して電源に接続され
、温度センサ6から供給される温度データにより、コン
トローラTICに制御されて炉内温度を設定値に維持す
べ(動作するようになっている。また、各サイリスタ1
2A〜12F(12G)へ制御信号を供給する回路には
、それぞれスイッチSa”−3r(Sg)か設けられて
おり、これらは、それぞれスイッチ操作部14によって
開閉操作されるようになっている。 すなわちスイッチ操作部14は、炉内温度の設定値ある
いは111八度を上Hさせるべき度合なとの運転条件に
応して前記スイッチSa〜Sf(Sg)の一部を「閉」
とするもので、例えば炉内を 2.000°C〜2.4
00°Cの最高温度まで加熱しようとする場合にはすべ
てのスイッチSa=Sf(Sg)を「閉」とし、また、
炉内を200°C〜500°Cの比較的低い温度まで緩
やかに加熱しようとする場合には、スイッチを一つおき
に(S a、S c、S e、および横型の場合にはさ
らにSgの第1群スイッチ、またはSb、Sd、Sfの
第2群スイッチのいずれか)を「閉」とずべ(各スイッ
チSa−3f(Sg)を操作するようになっている。な
おスイッチ操作部14は、炉について設定条件(例えば
設定温度についてのしきい値)を判断して各スイッチの
設定条件を決定する判断手段としてのマイクロプロセッ
ザーあるいは、あるいは運転条件に応じた人為的な判断
結果を入力するキーボードなどの入力手段のいずれであ
ってもよい。 以上のように構成された制御回路によれば、第1実施例
、第2実施例のいずれも場合においても、設定温度か低
い場合に、第1群スイッチか「閉」、第2群スイッチが
「開」の開閉状態、または、第1群スイッチ「開−1、
第2群スイッチが「閉」の開閉状態に−・定周期毎に切
替られ、この結果、これらに対応するヒータ3A、3C
,3E(3G)または313 、3 I) 、 3 F
を交互に運転すべ(サイリスタ12A〜12F(12G
)の−・部に制御信号としての温度データか供給される
。したがって、前記スイッチか[閉]となって制御信号
か供給され得る状態となった→ノーイリスタ12A〜1
2F(12G)には、いずれも定格に近い制御電流か供
給されることとなり、ON〜OFF制御となるこ々なく
、点弧角制御される。また、設定温度が高い場合、ある
いは、急速な温度−1,昇か要求された場合には、ずへ
てのスイッチSa−5f(Sg)か1−閉」とされるこ
ととなり、全部のりイリスタ12A S−12F(12
G)かl晶度データによって常時制御されて、すべての
ヒータ3A〜3F(3G)が駆動される。 さらに、設定された運転条件に応じて、上記のようにヒ
ータ3A〜3F(3G)を−・つおきに(同時に3基ず
つ)運転する方式に代え、例えばヒータ3A〜3F(3
G)を二つおきに(同時に2基ずつ)運転する方式とし
てもよい。そして実施例のように、運転されるヒータ3
Δ〜3F(3G)か炉の周方向へ等間隔に選択されてい
れば、炉内の温度分布を一定にすることができる。 なお実施例ではサイリスタ(制御手段)の制御電流の供
給系、および主電流の供給系の両方にスイッチを設ける
ようにしたが、いずれか−・方のみにスイッチを設けて
、そのスイッチを炉の運転条件に応じて操作するように
してもよく、制御装置のコスI・面から見て、主電流の
供給系のスイッチ(大容量のスイッチ)を操作するより
、制御電流の供給系のスイッチ(小容量のスイッチ)を
制御することか有利なのはもちろんである。
お、図中従来例と共通の部分には同一符号を付し、説明
を簡略化する。 第1図および第2図は本発明の第1実施例にかかる竪型
焼結炉を示すものである。この竪型焼結炉のヒータ3は
、6つ(3対)の領域(それぞれA−Fの符号を付す)
に分割されており、それぞれパワーターミナルal+8
2+t)I+l)2+CI+C2+d l+d2+el
+e2+fl+f2から電源が供給されるようになって
いる。すなわち前記各パワーターミナルa −fは、そ
れぞれサイリスタ12A〜12F、 トランス13A
〜13F、および、電磁開閉器MCa−MCfを介して
3相交流電源に接続されている。また、温度制御装置T
ICは、温度センサ6から供給される温度データによっ
て前記サイリスタ12A−12Fを点弧角制御して、炉
内温度を設定値に維持するようになっている。 また第3図および第4図は本発明の第2実施例にかかる
横型焼結炉を示すもので、この第2実施例においては、
焼結炉内のヒータ3が8つ(4対)の領域に区画されて
、それぞれ、パワーターミナルaI+a2bl+b2+
CI+c2+dI’d2+el+e2f l+ f 2
1g +2g 2を介して電源か供給されるようになっ
ている。 また」1記構成の焼結炉の制御回路は第5図に示すよう
な構成となっている。 すなわち、各サイリスタ12A〜12F(12G)の定
格電流は、各群のヒータ3A〜3F(3G)の最大出力
に応して選択されており、それぞれ電磁開閉器M Ca
−M Cf (M Cg )を介して電源に接続され
、温度センサ6から供給される温度データにより、コン
トローラTICに制御されて炉内温度を設定値に維持す
べ(動作するようになっている。また、各サイリスタ1
2A〜12F(12G)へ制御信号を供給する回路には
、それぞれスイッチSa”−3r(Sg)か設けられて
おり、これらは、それぞれスイッチ操作部14によって
開閉操作されるようになっている。 すなわちスイッチ操作部14は、炉内温度の設定値ある
いは111八度を上Hさせるべき度合なとの運転条件に
応して前記スイッチSa〜Sf(Sg)の一部を「閉」
とするもので、例えば炉内を 2.000°C〜2.4
00°Cの最高温度まで加熱しようとする場合にはすべ
てのスイッチSa=Sf(Sg)を「閉」とし、また、
炉内を200°C〜500°Cの比較的低い温度まで緩
やかに加熱しようとする場合には、スイッチを一つおき
に(S a、S c、S e、および横型の場合にはさ
らにSgの第1群スイッチ、またはSb、Sd、Sfの
第2群スイッチのいずれか)を「閉」とずべ(各スイッ
チSa−3f(Sg)を操作するようになっている。な
おスイッチ操作部14は、炉について設定条件(例えば
設定温度についてのしきい値)を判断して各スイッチの
設定条件を決定する判断手段としてのマイクロプロセッ
ザーあるいは、あるいは運転条件に応じた人為的な判断
結果を入力するキーボードなどの入力手段のいずれであ
ってもよい。 以上のように構成された制御回路によれば、第1実施例
、第2実施例のいずれも場合においても、設定温度か低
い場合に、第1群スイッチか「閉」、第2群スイッチが
「開」の開閉状態、または、第1群スイッチ「開−1、
第2群スイッチが「閉」の開閉状態に−・定周期毎に切
替られ、この結果、これらに対応するヒータ3A、3C
,3E(3G)または313 、3 I) 、 3 F
を交互に運転すべ(サイリスタ12A〜12F(12G
)の−・部に制御信号としての温度データか供給される
。したがって、前記スイッチか[閉]となって制御信号
か供給され得る状態となった→ノーイリスタ12A〜1
2F(12G)には、いずれも定格に近い制御電流か供
給されることとなり、ON〜OFF制御となるこ々なく
、点弧角制御される。また、設定温度が高い場合、ある
いは、急速な温度−1,昇か要求された場合には、ずへ
てのスイッチSa−5f(Sg)か1−閉」とされるこ
ととなり、全部のりイリスタ12A S−12F(12
G)かl晶度データによって常時制御されて、すべての
ヒータ3A〜3F(3G)が駆動される。 さらに、設定された運転条件に応じて、上記のようにヒ
ータ3A〜3F(3G)を−・つおきに(同時に3基ず
つ)運転する方式に代え、例えばヒータ3A〜3F(3
G)を二つおきに(同時に2基ずつ)運転する方式とし
てもよい。そして実施例のように、運転されるヒータ3
Δ〜3F(3G)か炉の周方向へ等間隔に選択されてい
れば、炉内の温度分布を一定にすることができる。 なお実施例ではサイリスタ(制御手段)の制御電流の供
給系、および主電流の供給系の両方にスイッチを設ける
ようにしたが、いずれか−・方のみにスイッチを設けて
、そのスイッチを炉の運転条件に応じて操作するように
してもよく、制御装置のコスI・面から見て、主電流の
供給系のスイッチ(大容量のスイッチ)を操作するより
、制御電流の供給系のスイッチ(小容量のスイッチ)を
制御することか有利なのはもちろんである。
以」−の説明で明らかな、ム)に、本発明は、複数のヒ
ータと電源との間にそれぞれ設けられた電源回路の各々
に電流制御手段を設けるようにしたから、該制御手段に
よって前記複数のヒータを一部ずつ駆動することができ
、また、該制御手段に制御信号を供給する回路、または
駆動電流の供給回路にスイッチ手段をそれぞれ設けて、
該スイッチ手段により、前記制御手段への制御信号の供
給、あるいはヒータへの駆動電流の供給を必要に応じて
制限するようにしたから、炉内温度の設定値が高い場合
には前記スイッチ手段を「閉」としてすべての電流制御
手段によりヒータを駆動し、一方、炉内温度の設定値が
低い場合には、一部のスイッチ手段のみを「閉」として
、対応する電流制御手段のみを経由して一部のヒータに
電力を供給することができ、したがって、各電流制御手
段を設定温度の高低にかかわらず、常時、定格電流近く
で点弧角制御して、0N−OFF制御時よりも正確に炉
内を設定温度に制御することができるという効果を奏す
る。
ータと電源との間にそれぞれ設けられた電源回路の各々
に電流制御手段を設けるようにしたから、該制御手段に
よって前記複数のヒータを一部ずつ駆動することができ
、また、該制御手段に制御信号を供給する回路、または
駆動電流の供給回路にスイッチ手段をそれぞれ設けて、
該スイッチ手段により、前記制御手段への制御信号の供
給、あるいはヒータへの駆動電流の供給を必要に応じて
制限するようにしたから、炉内温度の設定値が高い場合
には前記スイッチ手段を「閉」としてすべての電流制御
手段によりヒータを駆動し、一方、炉内温度の設定値が
低い場合には、一部のスイッチ手段のみを「閉」として
、対応する電流制御手段のみを経由して一部のヒータに
電力を供給することができ、したがって、各電流制御手
段を設定温度の高低にかかわらず、常時、定格電流近く
で点弧角制御して、0N−OFF制御時よりも正確に炉
内を設定温度に制御することができるという効果を奏す
る。
第1図および第2図は本発明が適用される竪型焼成炉の
第1実施例を示すもので、第1図は縦断面図、第2図は
第1図の■−■線に沿う矢視図、第3図および第4図は
本発明が適用される横型焼成炉の第2実施例を示すもの
で、第3図は縦断面1− 図、第4図は第3図のIV−IV線に沿う矢視図、第5
図は前記第1実施例および第2実施例の焼成炉に適用さ
れる制御回路の回路図、第6図は竪型焼成炉の一従来例
を示す縦断面図、第7図は第6図の■−■線に沿う矢視
図、第8図は横型焼成炉の一従来例を示す縦断面図、第
9図は第8図のIX■線に沿う矢視図、第10図はサイ
リスタ制御の説明図である。 3A〜3G・・・・・・ヒータ、12A〜12G・・・
・・・サイリスク、13A〜13G・・・・・・、トラ
ンス、14・・・・・・スイッチ操作部、M Ca −
M Cg・・・・・・電磁開閉器、Sa〜Sg・・・・
・・スイッチ。
第1実施例を示すもので、第1図は縦断面図、第2図は
第1図の■−■線に沿う矢視図、第3図および第4図は
本発明が適用される横型焼成炉の第2実施例を示すもの
で、第3図は縦断面1− 図、第4図は第3図のIV−IV線に沿う矢視図、第5
図は前記第1実施例および第2実施例の焼成炉に適用さ
れる制御回路の回路図、第6図は竪型焼成炉の一従来例
を示す縦断面図、第7図は第6図の■−■線に沿う矢視
図、第8図は横型焼成炉の一従来例を示す縦断面図、第
9図は第8図のIX■線に沿う矢視図、第10図はサイ
リスタ制御の説明図である。 3A〜3G・・・・・・ヒータ、12A〜12G・・・
・・・サイリスク、13A〜13G・・・・・・、トラ
ンス、14・・・・・・スイッチ操作部、M Ca −
M Cg・・・・・・電磁開閉器、Sa〜Sg・・・・
・・スイッチ。
Claims (1)
- 複数のヒータへそれぞれ駆動電流を供給する電源回路の
各々に、前記ヒータへ供給される電力を前記炉内温度に
よって制御する電流制御手段を設け、該電流制御手段に
制御信号を供給する回路および前記電源回路の少なくと
も一部にスイッチ手段を各々設けてなり、該スイッチ手
段は、前記炉内温度の設定値に対応する数のヒータへ駆
動電流を供給させるべく開閉動作することを特徴とする
電気抵抗炉の温度制御装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1852990A JPH03223910A (ja) | 1990-01-29 | 1990-01-29 | 電気抵抗炉の温度制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1852990A JPH03223910A (ja) | 1990-01-29 | 1990-01-29 | 電気抵抗炉の温度制御装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03223910A true JPH03223910A (ja) | 1991-10-02 |
Family
ID=11974156
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1852990A Pending JPH03223910A (ja) | 1990-01-29 | 1990-01-29 | 電気抵抗炉の温度制御装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03223910A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05173652A (ja) * | 1991-12-26 | 1993-07-13 | Canon Inc | 定着器の加熱ヒーター装置およびその温度制御装置 |
KR100522793B1 (ko) * | 2003-01-13 | 2005-10-18 | 한화기계주식회사 | 공업용 로의 에너지 소비 최적화 시스템 및 그 방법 |
-
1990
- 1990-01-29 JP JP1852990A patent/JPH03223910A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05173652A (ja) * | 1991-12-26 | 1993-07-13 | Canon Inc | 定着器の加熱ヒーター装置およびその温度制御装置 |
KR100522793B1 (ko) * | 2003-01-13 | 2005-10-18 | 한화기계주식회사 | 공업용 로의 에너지 소비 최적화 시스템 및 그 방법 |
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