JPH03212900A - Semiconductor memory and its testing method - Google Patents

Semiconductor memory and its testing method

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JPH03212900A
JPH03212900A JP2007599A JP759990A JPH03212900A JP H03212900 A JPH03212900 A JP H03212900A JP 2007599 A JP2007599 A JP 2007599A JP 759990 A JP759990 A JP 759990A JP H03212900 A JPH03212900 A JP H03212900A
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JP
Japan
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memory cell
data
circuit
node
line
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JP2007599A
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Japanese (ja)
Inventor
Kenichi Yasuda
憲一 安田
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To decide the address of a defective memory cell by storing normal/ defective data in a register at every decision of the normal/defective condition of a memory cell, and making access the register. CONSTITUTION:Plural bit lines 1,... are intersected orthogonally to plural word lines 2,..., and plural memory cells 3,... connecting the bit lines 1 and the word lines 2 are provided at each of those crossing points. The bit lines 1,... are connected selectively to one input side of comparators 6,... and inversion circuit selection switch S3 sides by the switching operations of comparator selection switches S1,... The comparators 6,... compare data read out of the memory cells 3,... with prescribed data, and write comparison results or the data in the memory cell on the registers 10,... In such a way, it is possible to specify the register on which write is performed by making access the registers sequentially, and to detect the address of a normal memory cell.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体記憶装置及びそのテスト方法に関するも
のである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a semiconductor memory device and a test method thereof.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

半導体メモリの大容量化が進み、そのテスト時間の増加
が問題視されており、その解決策として種々のテスト方
法が提案されている。ラインテストモードと称するテス
ト方法はその1つであり、この方法は1列分の複数のメ
モリセルにデータを書込み、それを読出したデータと書
込んだデータとを比較することによりデータの一致、不
一致を検出してメモリセルをテストするものである。
As the capacity of semiconductor memories continues to increase, an increase in testing time has become a problem, and various testing methods have been proposed as solutions to this problem. One such test method is the line test mode, which writes data to multiple memory cells for one column and compares the read data with the written data to check whether the data matches. It tests memory cells by detecting mismatches.

第5図は1989年電子情報通信学会秋季全国大会講演
論文集C−155に記載されているラインテストモード
を実現するためのメモリセルアレイの構成図であり、第
6図はその1行分の回路図である。
Figure 5 is a configuration diagram of a memory cell array for realizing the line test mode described in the 1989 Institute of Electronics, Information and Communication Engineers Autumn National Conference Proceedings C-155, and Figure 6 is the circuit for one row. It is a diagram.

先ず第5図に示している半導体記憶装置の動作を説明す
る。この半導体記憶装置は、通常、ビ・7ト線1及びワ
ード線2により選択されたメモリセル3にデータを書込
み、またメモリセル3がら、それに書込んだデータを読
出す。
First, the operation of the semiconductor memory device shown in FIG. 5 will be explained. This semiconductor memory device normally writes data into a memory cell 3 selected by a bit line 1 and a word line 2, and also reads data written into the memory cell 3.

半導体記憶装置をテストする場合は、先ず複数のランチ
回路選択スイッチSt、S2・・・を閉路してI10線
8と複数のランチ回路4.4・・・とを接続して、外部
からI10線8を介して例えば“1”のテストデータを
ラッチ回路4.4・・・に与える。各ランチ回路4.4
・・・は与えられたテストデータを期待値としてラッチ
する。
When testing a semiconductor memory device, first close a plurality of launch circuit selection switches St, S2..., connect the I10 line 8 and a plurality of launch circuits 4, 4..., and connect the I10 line from the outside. For example, test data of "1" is applied to the latch circuits 4, 4, . . . Each launch circuit 4.4
... latches the given test data as an expected value.

続いて、複数の比較回路選択スイッチS1.sI・・・
を図の上側へ、また複数の反転回路選択スイッチS:+
、Sz・・・を図の上側へ切換えるとともに、1つのワ
ード線2を立上げて、そのワード線2に接続されている
同列の複数のメモリセル3,3・・・に、ランチ回路4
,4・・・がランチしているテストデータ“ビを書込む
。なおメモリセル3,3・・・に“ONのテストデータ
を書込む場合は、反転回路選択スイッチS、、S、・・
・を図の下側へ切換えて、反転回路5.5・・・で反転
させたものを書込む。
Subsequently, a plurality of comparison circuit selection switches S1. sI...
to the upper side of the diagram, and multiple inverting circuit selection switches S: +
, Sz .
, 4... are launched. When writing test data "ON" to the memory cells 3, 3..., the inversion circuit selection switches S, , S,...
・Switch to the lower side of the diagram and write the inverted result using the inverting circuit 5.5...

このようにして、夫々のワード線2.2・・・に接続さ
れているメモリセル3,3・・・へのテストデータの書
込みが終了すると、比較回路選択スイッチSIS、・・
・を図の下側に切換えて、前記ワード線2を立上げて、
それに接続されているメモリセル3゜3・・・のデータ
を読出して比較回路6.6・・・へ与える。またそのメ
モリセル3,3・・・の書込み時のデータと同じテスト
データをラッチ回路4.4から与えるべく、メモリセル
3,3・・・のデータが例えば“1”(“O”)の場合
は反転回路選択スイッチS3.S、・・・を図の上側(
下側)へ切換動作させて、メモリセル3,3・・・に書
込んだデータと同データをラッチ回路4,4・・・から
比較回路6.6・・・へ与える。比較回路6,6・・・
夫々は両データを同時に比較し、その一致、不一致を検
出する。
In this way, when the writing of test data to the memory cells 3, 3, . . . connected to the respective word lines 2, 2, .
・Switch to the lower side of the figure, raise the word line 2,
The data of the memory cells 3.3... connected thereto is read out and applied to the comparison circuits 6, 6.... In addition, in order to give the same test data as the data written to the memory cells 3, 3, etc. from the latch circuit 4.4, the data of the memory cells 3, 3, etc. is set to "1"("O"), for example. In this case, the inversion circuit selection switch S3. S, ... at the top of the figure (
The same data written in the memory cells 3, 3, . . . is applied from the latch circuits 4, 4, . . . to the comparison circuits 6, 6, . Comparison circuit 6, 6...
Each compares both data simultaneously and detects a match or mismatch.

全ての比較回路6,6・・・の比較結果が一致している
場合は比較回路の出力側が接続されているマツチ線7が
“ビになる。また比較回路6.6・・・のいずれかの比
較結果が不一致である場合はマツチvA7が“0”にな
り、これをエラー信号として当該ワード線2に接続され
ているいずれかのメモリセル3を不良と判定することに
なる。このようにしてワード線2を単位として、夫々の
ワード線2に接続されている複数のメモリセル3.3・
・・の良否を一括して判定する。
If the comparison results of all the comparison circuits 6, 6... match, the match wire 7 to which the output side of the comparison circuit is connected becomes "B". Also, any of the comparison circuits 6, 6... If the comparison results do not match, match vA7 becomes "0", and this is used as an error signal to determine that one of the memory cells 3 connected to the word line 2 is defective. A plurality of memory cells 3.3 and 3 connected to each word line 2 are connected to each word line 2 as a unit.
The quality of... is determined all at once.

次に第5図に示した半導体記憶装置の1行分を詳細に示
す第6図によりその動作を説明する。ここでメモリ部は
便宜上ダイナミックアクセスメモリとして説明するが、
スタチックメモリ又はEFROMであっても同様である
Next, the operation will be explained with reference to FIG. 6, which shows in detail one row of the semiconductor memory device shown in FIG. 5. Here, the memory section will be explained as dynamic access memory for convenience, but
The same applies to static memory or EFROM.

いま、テストデータは電源線VCC及び接地線GNDと
接続されているラッチ回路4に、例えばノードN5を“
0”、ノードN6を“1″ としてラッチさせており、
このテストデータによりメモリセル3aに“1”を書込
んでいるとする。
Now, the test data is sent to the latch circuit 4 connected to the power supply line VCC and the ground line GND, for example, by connecting the node N5 to "
0”, node N6 is latched as “1”,
It is assumed that "1" is written into the memory cell 3a using this test data.

メモリセル3aのデータとランチ回路4のテストデータ
とを比較するに当たり、先ず1本のワード線2(図の左
)を立上げると、そのワード線2に接続しているスイッ
チングトランジスタBがオンして、メモリセル3aのデ
ータが読出されて、図示しないセンスアンプがそれを増
幅して、ビット線1、反転ビット線Tに相補のデータを
出力する。
When comparing the data of the memory cell 3a and the test data of the launch circuit 4, first, when one word line 2 (on the left in the figure) is turned on, the switching transistor B connected to that word line 2 is turned on. Then, the data in the memory cell 3a is read out, a sense amplifier (not shown) amplifies it, and outputs complementary data to the bit line 1 and the inverted bit line T.

前述のようにメモリセル3aに“1”が書込まれていた
場合は、反転ビットITのノードN2が“1”ノードN
1が“θ″になる。
If “1” is written in the memory cell 3a as described above, the node N2 of the inverted bit IT becomes the “1” node N.
1 becomes “θ”.

次に信号TIを立上げてスイッチングトランジスタST
、 、 ST、をオン(第5図の反転回路選択スイッチ
S3を上側へ切換えた状態に対応)させることにより、
ラッチ回路4のテストデータをそのままビット線1及び
反転ビット線Tへ出力し、ノードN5が“0′″のため
ノードN3が“ONに、またノードN6が1”のためノ
ードN4が“1”になる。
Next, raise the signal TI and switch the switching transistor ST.
By turning on , , ST (corresponding to the state in which the inversion circuit selection switch S3 in FIG. 5 is switched to the upper side),
The test data of the latch circuit 4 is output as it is to the bit line 1 and the inverted bit line T, and since the node N5 is "0'", the node N3 is "ON", and because the node N6 is "1", the node N4 is "1". become.

マツチ線7は、比較回路6が比較動作をする直前にプリ
チャージされて、メモリセル3aから読出したデータと
、ラッチ回路4からのテストデータとが一致している場
合は“1“(プリチャージ状態)を保持し、不一致の場
合は“θ″になる。
The match line 7 is precharged immediately before the comparison circuit 6 performs the comparison operation, and if the data read from the memory cell 3a matches the test data from the latch circuit 4, the match line 7 is set to "1" (precharged). state), and if there is a mismatch, it becomes “θ”.

即ち、前述のようにスイソチングトランジスタST9.
 ST、をオンさせることにより、ノードN3が“0”
、ノードN4が“1”になり、前述したようにメモリセ
ル3aから読出したデータによりノードN2が“1″、
ノードN1が“0”になった場合、両データを比較する
ために信号COMPを“1″にするとスイッチングトラ
ンジスタST、 、 ST、がオンする。そのときノー
ドN4が“1”のために、そのノードN4の電圧をゲー
トに与えているスイッチングトランジスタST&(図の
上)がオンしている。そしてノードN1が0”であるか
らノードN7は“O”になってトランジスタCがオフし
、マツチ線7は“1”を保持し、比較回路6の比較結果
が一致を示し、メモリセル3aを良と判定することにな
る。
That is, as described above, switching transistor ST9.
By turning on ST, node N3 becomes “0”
, the node N4 becomes "1", and as described above, the node N2 becomes "1" due to the data read from the memory cell 3a.
When the node N1 becomes "0", when the signal COMP is set to "1" in order to compare both data, the switching transistors ST, ST, ST are turned on. At this time, since the node N4 is "1", the switching transistor ST& (upper part of the figure) whose gate receives the voltage of the node N4 is turned on. Since the node N1 is "0", the node N7 becomes "O" and the transistor C is turned off, the match line 7 holds "1", the comparison result of the comparator circuit 6 shows a match, and the memory cell 3a is turned off. It will be judged as good.

一方、メモリセル3aから読出したデータによりノード
N2が“0”、ノードN1が“1”になった場合には、
信号COMPを“1”にしてスイッチングトランジスタ
s”r、 、 ST3をオンさせると、前述したように
ノードN3が“O”、ノードN4が”1”であるから、
ノードN4の電圧をゲートに与えているスイッチングト
ランジスタ5T6(図の上)がオンしているためにノー
ドN7は“1”になってトランジスタCがオンし、マツ
チ線7は′0″になる。それにより比較回路6の比較結
果が不一致を示し、メモリセル3aを不良と判定するこ
とになる。
On the other hand, when the data read from the memory cell 3a causes the node N2 to become "0" and the node N1 to "1",
When the signal COMP is set to "1" and the switching transistors s"r, , ST3 are turned on, the node N3 is "O" and the node N4 is "1" as described above.
Since the switching transistor 5T6 (upper part of the figure) applying the voltage of the node N4 to its gate is on, the node N7 becomes "1", the transistor C is turned on, and the match line 7 becomes '0'. As a result, the comparison result of the comparator circuit 6 shows a mismatch, and the memory cell 3a is determined to be defective.

更に、メモリセル3aに“0″のデータを書込んでいる
場合には、信号T2を“1″にしてスイッチングトラン
ジスタST、 、 ST、をオンさせて(反転回路選択
スイッチS3を第5図の下側へ切換えた状態に相当)、
ラッチ回路4のテストデータを反転させたテストデータ
をピント線1及び反転ビット線Tに与える。それにより
ノードN3が“1”ノードN4が“0”になる。そして
前述したと同様に信号COMPを“1”にしてスイッチ
ングトランジスタST:l 、 ST3をオンさせ比較
回路6で、メモリセル3aから読出したデータとランチ
回路4のテストデータとを比較するが、この場合は、ノ
ードN3が“1”であるからスイッチングトランジスタ
ST。
Furthermore, when data "0" is written in the memory cell 3a, the signal T2 is set to "1" to turn on the switching transistors ST, ST, (the inverting circuit selection switch S3 is turned on as shown in FIG. 5). (equivalent to the state switched to the lower side),
Test data obtained by inverting the test data of the latch circuit 4 is applied to the focus line 1 and the inverted bit line T. As a result, the node N3 becomes "1" and the node N4 becomes "0". Then, as described above, the signal COMP is set to "1" to turn on the switching transistors ST:l and ST3, and the comparison circuit 6 compares the data read from the memory cell 3a with the test data of the launch circuit 4. In this case, since the node N3 is "1", the switching transistor ST.

(図の下)がオンする。そしてノードN2が“0”であ
ればノードN7は“O”になり、マツチ線7は“1”を
保持しメモリセル3aを良と判定する。
(bottom of the figure) turns on. If the node N2 is "0", the node N7 becomes "O", the match line 7 holds "1", and the memory cell 3a is determined to be good.

一方、メモリセル3aから読出したデータによりノード
N2が“1′の場合は、スイッチングトランジスタ5T
sC図の下)とST、(図の下)とを介してノードN7
が“1”になり、マツチ線7が“0”になり、メモリセ
ル3aを不良と判定する。
On the other hand, if the node N2 is "1" according to the data read from the memory cell 3a, the switching transistor 5T
node N7 via sC (bottom of the diagram) and ST, (bottom of the diagram)
becomes "1", the match line 7 becomes "0", and the memory cell 3a is determined to be defective.

このようにして、メモリセル3aに“0”を書込んだ場
合も、“1“を書込んだ場合と同様にメモリセル3aの
良否を判定できる。
In this way, even when "0" is written to the memory cell 3a, it is possible to determine whether the memory cell 3a is good or bad in the same way as when "1" is written.

そのような比較動作を終了する都度、リセット信号RS
を“l”にすることにより、そのリセット信号R3を与
えたトランジスタDをオンさせてノードN7を“0”に
して、不一致の場合にオンしたトランジスタCをオフさ
せる。
Each time such a comparison operation is completed, the reset signal RS
By setting the reset signal R3 to "L", the transistor D to which the reset signal R3 is applied is turned on, the node N7 is set to "0", and the transistor C, which was turned on in the case of mismatch, is turned off.

このようにしてワード線2ごとに、ワード線2に接続さ
れている複数のメモリセル3,3・・・から読出したデ
ータとテストデータとの比較動作を繰り返して全てのメ
モリセルの良否が判定される。
In this way, for each word line 2, the operation of comparing the test data with the data read from the plurality of memory cells 3, 3, etc. connected to the word line 2 is repeated to determine the quality of all memory cells. be done.

したがって、1回の比較動作で1列分のメモリセルのテ
ストができてテスト時間が大幅に短縮する。
Therefore, one column of memory cells can be tested in one comparison operation, and the test time is significantly shortened.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

ところで、前述した半導体記憶装置では、1列分のメモ
リセルを同時にテストできるが、不良メモリセルの行ア
ドレスを判別できない。それ故、不良メモリセルの行ア
ドレスが必要なテスト、例えば冗長使用の可否を判定す
べきテストをすることができないという問題がある。
By the way, in the semiconductor memory device described above, one column of memory cells can be tested at the same time, but the row address of a defective memory cell cannot be determined. Therefore, there is a problem in that it is not possible to perform a test that requires the row address of a defective memory cell, for example, a test that determines whether redundancy can be used.

本発明は斯かる問題に鑑み、不良メモリセルのアドレス
を検出できる半導体記憶装置及びそのテスト方法を提供
することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION In view of this problem, it is an object of the present invention to provide a semiconductor memory device and a test method thereof that can detect the address of a defective memory cell.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

第1発明に係る半導体記憶装置は、前述の比較回路の比
較結果又はメモリセルのデータを与えるべき、レジスタ
を一又は複数の比較回路ごとに設けて、レジスタを順次
アクセスできる構成にする。
A semiconductor memory device according to a first aspect of the present invention has a configuration in which a register is provided for each of one or more comparison circuits to which the comparison result of the above-mentioned comparison circuit or data of a memory cell is to be given, and the registers can be sequentially accessed.

第2発明に係る半導体記憶装置のテスト方法は、比較回
路の比較結果が不一致の場合は、データを比較すべくデ
ータを読出したメモリセルを不良と判定し、比較回路の
比較結果又はメモリセルから読出したデータを対応する
レジスタへ与えた後、レジスタを順次アクセスして同列
中の複数の付勢のうちの不良メモリセルを特定する。
In the test method for a semiconductor memory device according to the second invention, if the comparison results of the comparison circuits do not match, the memory cell from which the data was read for data comparison is determined to be defective, and the comparison results of the comparison circuits or the memory cells are determined to be defective. After applying the read data to the corresponding register, the registers are sequentially accessed to identify a defective memory cell among a plurality of activated cells in the same column.

〔作用〕[Effect]

第1.第2両発明において、比較回路は、メモリセルか
ら読出したデータと所定データとを比較する。比較結果
が不一致であると比較回路の比較結果又はメモリセルの
データをレジスタに書込む。
1st. In the second aspect of the invention, the comparison circuit compares the data read from the memory cell with predetermined data. If the comparison result is a mismatch, the comparison result of the comparison circuit or the data of the memory cell is written into the register.

従ってレジスタを順次アクセスすれば、前記の書込みが
あったレジスタを特定することができ、不良メモリセル
のアドレスが判る。
Therefore, by sequentially accessing the registers, it is possible to specify the register to which the above-mentioned writing has occurred, and the address of the defective memory cell can be determined.

〔実施例〕 以下本発明をその実施例を示す図面ムこよって詳述する
[Examples] The present invention will be described in detail below with reference to the drawings showing examples thereof.

第1図は本発明に係る半導体記憶装置の構成図、第2図
はその1行分を詳細に示した回路図である。
FIG. 1 is a configuration diagram of a semiconductor memory device according to the present invention, and FIG. 2 is a circuit diagram showing one row thereof in detail.

第1図において複数のビット線1,1.1・・・と複数
のワード線2,2.2とが直交しており、それらの各交
叉点にはビット線1及びワード線2と接続している複数
のメモリセル3,3.3・・・を設けている。夫々のビ
ット線1,1・・・は、比較回路選択スイッチS+、S
I・・・の切換動作により、比較回路6,6・・・の−
入力端と反転回路選択スイッチS3側とに選択的に接続
される。比較回路6゜6・・・の出力はマツチ線7に与
えられる。I10線8は、ランチ回路選択スイッチSz
、Sz・・・を介してランチ回路4,4・・・と接続さ
れる。ランチ回路4.4・・・は反転回路選択スイッチ
S3.S3・・・の切換動作により、反転回路5,5・
・・を介し又は反転回路5.5・・・を介さずに前記比
較回路6,6・・・の他人力側と接続される。また4つ
の比較回路6゜6・・・の出力は、4つで1単位として
OR回路ILIL11へ入力される。OR回路11,1
1.11の各出力はレジスタ10.10.10へ各別に
与えられ、レジスタ10.1010は縦続接続されて並
列人力/直列出力のシフトレジスタを構成している。
In FIG. 1, a plurality of bit lines 1, 1.1, . A plurality of memory cells 3, 3.3, . . . are provided. Each bit line 1, 1... is connected to a comparison circuit selection switch S+, S
By the switching operation of I..., the - of the comparison circuits 6, 6...
It is selectively connected to the input terminal and the inverting circuit selection switch S3 side. The outputs of the comparison circuits 6.6, . . . are applied to the match line 7. I10 line 8 is the launch circuit selection switch Sz
, Sz, . . . are connected to the launch circuits 4, 4, . Launch circuits 4.4... are inverted circuit selection switches S3. By the switching operation of S3..., the inverting circuits 5, 5.
. . or not through the inverting circuits 5, 5, . Further, the outputs of the four comparison circuits 6, 6, . . . are inputted as one unit to the OR circuit ILIL11. OR circuit 11,1
Each output of 1.11 is given separately to a register 10.10.10, and the registers 10.1010 are connected in cascade to form a parallel manual/serial output shift register.

第2図においては、ビット線1及び反転ビットvATの
夫々には、信号TRが与えられるスイッチングトランジ
スタST、及び図示しないデコーダからの選択信号Y、
、が与えられるスイッチングトランジスタSTtが介装
されている。ワード線2はトランジスタBのゲートと接
続されている。反転ビット線TはトランジスタBとメモ
リセル3aとの直列回路を介して接地されている。
In FIG. 2, the bit line 1 and the inverted bit vAT each include a switching transistor ST to which a signal TR is applied, and a selection signal Y from a decoder (not shown).
, a switching transistor STt is interposed. Word line 2 is connected to the gate of transistor B. The inverted bit line T is grounded through a series circuit of a transistor B and a memory cell 3a.

またビット線1及び反転ビット線Tの夫々は、比較回路
6に設けており、信号CO?IPが与えられるスイッチ
ングトランジスタST3 と、それと直列接続されたス
イッチングトランジスタST6とを各別に介してトラン
ジスタCのゲート及びトランジスタDと接続されている
。これらのスイッチングトランジスタST、 、 ST
3は前記比較回路選択スイッチS、に対応している。
Further, each of the bit line 1 and the inverted bit line T is provided in the comparator circuit 6, and the signal CO? It is connected to the gate of the transistor C and the transistor D through a switching transistor ST3 to which IP is applied and a switching transistor ST6 connected in series with it. These switching transistors ST, , ST
3 corresponds to the comparison circuit selection switch S.

比較回路6の出力たるトランジスタCの出力は冗長使用
する時に溶断させるヒユーズFを介してマツチ線7に与
えられ、マツチ線7はNAND回路15の一方の反転入
力端子と接続されている。比較回路6のトランジスタC
をオフさせるためのリセット信号R5がトランジスタD
に与えられている。スイッチングトランジスタST、と
STtとの間のビ。
The output of the transistor C, which is the output of the comparator circuit 6, is applied to a match wire 7 via a fuse F that is blown when redundant use is performed, and the match wire 7 is connected to one inverting input terminal of the NAND circuit 15. Transistor C of comparison circuit 6
The reset signal R5 for turning off the transistor D
is given to. Bi between switching transistors ST and STt.

ト線1及び反転ビット線Tと接続されている反転回路5
のスイッチングトランジスタST、には信号T2が与え
られ、スイッチングトランジスタST、には信号T1が
与えられる。これらのスイッチングトランジスタST4
. STSは前記反転回路選択スイ・ノチS3と対応し
ている。ランチ回路4には電源線VCC及び接地線GN
Dが接続されている。そしてビット線1及び反転ビット
線TはI10線8及び反転I10線丁と接続されている
。前記比較回路6が不一致を検出したときに“1”にな
るノードN7の信号は、冗長回路の数に応じて置き換え
可能な単位、例えば4つの行のメモリを1ブロツクとし
てメモリの良否を判定できるように、他の3つの図示し
ない比較回路の各ノードの信号とともにOR回路11へ
入力されており、その出力は転送ゲート13を介してレ
ジスタエ0のトランジスタST、とインバータ部■vl
  とのノードN8に与えられる。また前記NANO回
路工5の他方の反転入力端子には、不良メモリの行アド
レスを調べるべくレジスタ10を順次アクセス、即ちシ
リアルアクセスするときに発生させる図示しない回路か
ら転送禁止信号TILTが与えられ、NAND回路15
の出力たる転送信号TWは転送ゲ−ト13のゲート端子
に与えられる。レジスタ1oはクロック信号S0が与え
られるトランジスタST7゜インバータ部n、、反転ク
ロック信号S+(−3o)が与えられるトランジスタS
T、及びインバータ部■v2の直列回路により構成され
ている。
an inverting circuit 5 connected to the bit line 1 and the inverted bit line T;
A signal T2 is applied to the switching transistor ST, and a signal T1 is applied to the switching transistor ST. These switching transistors ST4
.. STS corresponds to the inversion circuit selection switch S3. The launch circuit 4 has a power line VCC and a ground line GN.
D is connected. The bit line 1 and the inverted bit line T are connected to the I10 line 8 and the inverted I10 line. The signal at the node N7, which becomes "1" when the comparison circuit 6 detects a mismatch, can be used to determine the quality of the memory in units that can be replaced depending on the number of redundant circuits, for example, four rows of memory as one block. As shown in FIG.
is given to node N8. Further, the other inverting input terminal of the NANO circuit 5 is given a transfer inhibit signal TILT from a circuit (not shown) that is generated when sequentially accessing the register 10, that is, serially accessing the register 10 to check the row address of the defective memory. circuit 15
Transfer signal TW, which is the output of transfer signal TW, is applied to the gate terminal of transfer gate 13. The register 1o is a transistor ST7 to which a clock signal S0 is applied, an inverter section n, and a transistor S to which an inverted clock signal S+(-3o) is applied.
It is constituted by a series circuit of T and an inverter section v2.

次にこのように構成した半導体記憶装置の動作を先ず第
1図により説明する。この半導体記憶装置は、通常、ビ
ット線l及びワード線2により選択されたメモリセル3
にデータを書込み、またメモリセル3から、それに書込
んだデータを読出す。
Next, the operation of the semiconductor memory device configured as described above will be explained first with reference to FIG. This semiconductor memory device usually has a memory cell 3 selected by a bit line 1 and a word line 2.
Data is written to the memory cell 3, and the written data is read from the memory cell 3.

半導体記憶装置をテストする場合は、先ず複数のラッチ
回路選択スイッチS2.SZ・・・を閉路してI10線
8と複数のラッチ回路4,4・・・とを接続して、外部
からI10線8を介して例えば“ビのテストデータをラ
ンチ回路4,4・・・に与える。各ランチ回路4,4・
・・は与えられたテストデータを期待値としてランチす
る。
When testing a semiconductor memory device, first select a plurality of latch circuit selection switches S2. SZ... is closed to connect the I10 line 8 and the plurality of latch circuits 4, 4..., and the test data of, for example, "B" is transmitted from the outside via the I10 line 8 to the launch circuits 4, 4...・Give to each launch circuit 4, 4・
... launches the given test data as the expected value.

続いて、複数の比較回路選択スイッチS、、s。Subsequently, a plurality of comparison circuit selection switches S,,s.

・・・を図の上側へ、また複数の反転回路選択スイ。...to the upper side of the diagram, and select multiple inverting circuits.

チS:+、Si・・・を図の上側へ切換えるとともに、
1つのワード線2を立上げて、そのワード線2に接続さ
れている同列の複数のメモリセル3,3・・・に、ラッ
チ回路4,4・・・がラッチしているテストデータ“ビ
を書込む。なおメモリセル3,3・・・に“0”のテス
トデータを書込む場合は、反転回路選択スイッチ33.
Sl・・・を図の下側へ切換えて、反転回路5.5・・
・で反転させたものを書込む。
Switch S:+, Si... to the upper side of the diagram, and
When one word line 2 is turned on, the test data “bit” latched by the latch circuits 4, 4, etc. are transferred to the plurality of memory cells 3, 3, . When writing test data of "0" to the memory cells 3, 3, . . . , the inversion circuit selection switch 33.
Switch Sl... to the lower side of the diagram, and invert circuit 5.5...
・Write the inverted version.

このようにして、夫々のワード線2,2・・・に接続さ
れているメモリセル3,3・・・へのテストデータの書
込みが終了すると、比較回路選択スイッチS。
In this way, when the writing of test data to the memory cells 3, 3, . . . connected to the respective word lines 2, 2, .

Sl・・・を図の下側に切換えて、前記ワード線2を立
上げて、それに接続されているメモリセル3゜3・・・
のデータを読出して比較回路6,6・・・へ与える。ま
たそのメモリセル3,3・・・の書込み時のデータと同
じテストデータをラッチ回路4,4から与えるべく、メ
モリセル3,3・・・のデータが例えば“1“(“0”
)の場合は反転回路選択スイッチS3.Sl・・・を図
の上側(下側)へ切換動作させて、メモリセル3,3・
・・に書込んだデータと同データをランチ回路4,4・
・・から比較回路6.6・・・へ与える。比較回路6,
6・・・夫々は両データを同時に比較し、その一致、不
一致を検出する。
SL... is switched to the lower side of the figure, the word line 2 is raised, and the memory cells 3゜3... connected to it are switched to the lower side of the diagram.
The data is read out and applied to the comparison circuits 6, 6, . . . In addition, in order to give the same test data as the data written to the memory cells 3, 3, etc. from the latch circuits 4, 4, the data of the memory cells 3, 3, etc. is changed to, for example, “1” (“0”).
), the inversion circuit selection switch S3. By switching Sl... to the upper side (lower side) of the diagram, the memory cells 3, 3.
The same data as the data written to... is sent to the launch circuit 4,4.
... to the comparison circuit 6.6... Comparison circuit 6,
6... Each compares both data at the same time and detects a match or mismatch.

そして全ての比較回路6.6・・・の比較結果が一致し
ている場合は比較回路の出力側が接続されているマツチ
線7が“1″になる。また比較回路6゜6・・・のいず
れかの比較結果が不一致である場合はマツチ線7が“0
″になり、これをエラー信号として当8亥ワード線2に
接続されているいずれかのメモリセル3を不良と判定す
ることになる。このようにしてワード線2を単位として
、夫々のワード線2に接続されている複数のメモリセル
3.3・・・の良否を一括して判定する。
If the comparison results of all the comparison circuits 6, 6, . . . match, the match line 7 to which the output sides of the comparison circuits are connected becomes "1". Also, if the comparison results of any of the comparison circuits 6, 6, etc. do not match, the match line 7 will be set to “0”.
'', and this is used as an error signal to determine that one of the memory cells 3 connected to the current word line 2 is defective.In this way, each word line is The quality of a plurality of memory cells 3, 3, .

次に第1図に示した半導体記憶装置の1行分を詳細に示
す第2図によりその動作を説明する。ここでメモリ部は
便宜上ダイナミックアクセスメモリとして説明するが、
スタチックメモリ又はEPROMであっても同様である
Next, the operation will be explained with reference to FIG. 2, which shows in detail one row of the semiconductor memory device shown in FIG. 1. Here, the memory section will be explained as dynamic access memory for convenience, but
The same applies to static memory or EPROM.

いま、テストデータは電源線VCC及び接地線GNDと
接続されているランチ回路4に、例えばノードN5を“
0”、ノードN6を“l”としてラッチさせており、こ
のテストデータによりメモリセル3aに“1”を書込ん
でいるとする。
Now, the test data is sent to the launch circuit 4 connected to the power supply line VCC and the ground line GND, for example, by connecting the node N5 to "
0'', node N6 is latched as ``l'', and it is assumed that ``1'' is written in the memory cell 3a using this test data.

メモリセル3aのデータとラッチ回路4のテストデータ
とを比較するに当たり、先ず1本のワード線2(図の左
)を立上げると、そのワード線2に接続しているスイッ
チングトランジスタBがオンして、メモリセル3aのデ
ータが読出されて、図示しないセンスアンプがそれを増
幅して、ビット線1、反転ビット線Tに相補のデータを
出力する。
When comparing the data in the memory cell 3a and the test data in the latch circuit 4, first, when one word line 2 (on the left in the figure) is turned on, the switching transistor B connected to that word line 2 is turned on. Then, the data in the memory cell 3a is read out, a sense amplifier (not shown) amplifies it, and outputs complementary data to the bit line 1 and the inverted bit line T.

前述のようにメモリセル3aに“1”が書込まれていた
場合は、反転ビット線TのノードN2が”1″ノードN
1が“0”になる。
If "1" is written in the memory cell 3a as described above, the node N2 of the inverted bit line T becomes the "1" node N.
1 becomes “0”.

次に信号TIを立上げてスイッチングトランジスタST
5 、 STSをオン(第5図の反転回路選択スイッチ
S3を上側へ切換えた状態に対応)させることにより、
ラッチ回路4のテストデータをそのままビット線1及び
反転ビット&iTへ出力し、ノードN5が”0”のため
ノードN3が“0″に、またノードN6が“1”のため
ノードN4が“1″になる。
Next, raise the signal TI and switch the switching transistor ST.
5. By turning on STS (corresponding to the state in which the inversion circuit selection switch S3 in Fig. 5 is switched to the upper side),
The test data of the latch circuit 4 is output as it is to the bit line 1 and the inverted bit &iT, and since the node N5 is "0", the node N3 is "0", and because the node N6 is "1", the node N4 is "1". become.

マツチ線7は、比較回路6が比較動作をする直前にプリ
チャージされて、メモリセル3aから読出したデータと
、ランチ回路4からのテストデータとが一致している場
合は“1′(プリチャージ状態を保持し、不一致の場合
は“0”になる。
The match line 7 is precharged immediately before the comparison circuit 6 performs the comparison operation, and if the data read from the memory cell 3a matches the test data from the launch circuit 4, the match line 7 is set to "1' (precharged). The status is held and becomes "0" if there is a mismatch.

即ち、前述のようにスイッチングトランジスタSTS 
、 STsをオンさせることにより、ノードN3が“0
”、ノードN4が“1”になり、前述したようにメモリ
セル3aから読出したデータによりノードN2が“1”
、ノードN1が“0”になった場合、両データを比較す
るために信号COMPを“1”にするとスイッチングト
ランジスタSTs 、 ST3がオンする。そのときノ
ードN4が“1”のために、そのノードN4の電圧をゲ
ートに与えているスイッチングトランジスタ5T6(図
の上)がオンしている。そしてノードN1が“0″であ
るからノードN7は“0″になってトランジスタCがオ
フし、マツチ線7は“1”を保持し、比較回路6の比較
結果が一致を示し、メモリセル3aを良と判定すること
になる。
That is, as mentioned above, the switching transistor STS
, by turning on STs, node N3 becomes “0”.
”, the node N4 becomes “1”, and as mentioned above, the node N2 becomes “1” due to the data read from the memory cell 3a.
, when the node N1 becomes "0", the switching transistors STs and ST3 are turned on when the signal COMP is set to "1" in order to compare both data. At this time, since the node N4 is "1", the switching transistor 5T6 (upper part of the figure) whose gate is supplied with the voltage of the node N4 is turned on. Since the node N1 is "0", the node N7 becomes "0" and the transistor C is turned off, the match line 7 holds "1", the comparison result of the comparator circuit 6 shows a match, and the memory cell 3a will be judged as good.

一方、メモリセル3aから読出したデータによりノード
N2が“O”、ノードN1が“1”になった場合には、
信号COMPを“1”にしてスイッチングトランジスタ
ST、 、 ST、をオンさせると、前述したようにノ
ードN3が“0′、ノードN4が“1″であるから、ノ
ードN4の電圧をゲートに与えているスイッチングトラ
ンジスタST、(図の上)がオンしているためにノード
N7は“l”になってトランジスタCがオンし、マツチ
線7は“0″になる。それにより比較回路6の比較結果
が不一致を示し、メモリセル3aを不良と判定すること
になる。
On the other hand, when the node N2 becomes "O" and the node N1 becomes "1" due to the data read from the memory cell 3a,
When the signal COMP is set to "1" to turn on the switching transistors ST, , ST, the node N3 is "0" and the node N4 is "1" as described above, so the voltage of the node N4 is applied to the gate. Since the switching transistor ST (upper part of the figure) is on, the node N7 becomes "L", transistor C is turned on, and the match line 7 becomes "0".As a result, the comparison result of the comparator circuit 6 indicates a mismatch, and the memory cell 3a is determined to be defective.

更に、メモリセル3aに“0”のデータを書込んでいる
場合には、信号T2を“1”にしてスイッチングトラン
ジスタST4. ST4をオンさせて(反転回路選択ス
イッチS3を第5図の下側へ切換えた状態に相当)、ラ
ンチ回路4のテストデータを反転させたテストデータを
ビット線1及び反転ビット線Tに与える。それによりノ
ードN3が“ビノードN4が“0″になる。そして前述
したと同様に信号COMPを“1′にしてスイッチング
トランジスタST3 、 STIをオンさせ比較回路6
で、メモリセル3aから読出したデータとランチ回路4
のテストデータとを比較するが、この場合は、ノードN
3が1″であるからスイッチングトランジスタST&(
図の下)がオンする。そしてノードN2が“O″であれ
ばノードN7は“0″になり、マツチ線7は“1”を保
持しメモリセル3aを良と判定する。
Further, when data "0" is written in the memory cell 3a, the signal T2 is set to "1" and the switching transistors ST4. ST4 is turned on (corresponding to the state in which the inversion circuit selection switch S3 is switched to the lower side in FIG. 5), and test data obtained by inverting the test data of the launch circuit 4 is applied to the bit line 1 and the inversion bit line T. As a result, the node N3 becomes "binode N4" becomes "0".Then, similarly to the above, the signal COMP is set to "1", switching transistors ST3 and STI are turned on, and the comparison circuit 6 is turned on.
The data read from the memory cell 3a and the launch circuit 4
In this case, node N
Since 3 is 1″, the switching transistor ST&(
below) is turned on. If the node N2 is "O", the node N7 becomes "0", the match line 7 holds "1", and the memory cell 3a is determined to be good.

一方、メモリセル3aから読出したデータによりノード
N2が“1”の場合は、スイッチングトランジスタST
:+(図の下)とST、(図の下)とを介してノードN
7が“1”になり、マツチ線7が“0”になり、メモリ
セル3aを不良と判定する。
On the other hand, if the node N2 is "1" according to the data read from the memory cell 3a, the switching transistor ST
:+ (bottom of the diagram) and ST, (bottom of the diagram) to the node N
7 becomes "1", match line 7 becomes "0", and the memory cell 3a is determined to be defective.

このようにして、メモリセル3aに“0”を書込んだ場
合も、“1”を書込んだ場合と同様にメモリセル3aの
良否を判定できる。
In this way, even when "0" is written to the memory cell 3a, the quality of the memory cell 3a can be determined in the same way as when "1" is written.

そのような比較動作を終了する都度、リセット信号RS
を“1”にすることにより、そのリセット信号l?sを
与えたトランジスタDをオンさせてノードN7を“0”
にして、不一致の場合にオンしたトランジスタCをオフ
させる。
Each time such a comparison operation is completed, the reset signal RS
By setting "1" to "1", the reset signal l? Turn on the transistor D to which s is applied and set the node N7 to “0”
and turns off the transistor C that was turned on in the case of mismatch.

このようにしてワード線2ごとに、ワード線2に接続さ
れている複数のメモリセル3,3・・・から読出したデ
ータとテストデータとの比較動作を繰り返して全てのメ
モリセルの良否が判定される。
In this way, for each word line 2, the operation of comparing the test data with the data read from the plurality of memory cells 3, 3, etc. connected to the word line 2 is repeated to determine the quality of all memory cells. be done.

ところで、マツチ線7が“O”になり、また転送禁止信
号TRIが“0″であるとNAND回路15が出力する
転送信号TWが“1”になって転送ゲート13がオンす
る。そのため比較回路6のノードN7の“1″がOR回
路11を介してレジスタ10へ与えられ、レジスタ10
のノードN8に“1″がランチされる。
By the way, when the match line 7 becomes "O" and the transfer inhibit signal TRI is "0", the transfer signal TW output from the NAND circuit 15 becomes "1" and the transfer gate 13 is turned on. Therefore, "1" at the node N7 of the comparator circuit 6 is applied to the register 10 via the OR circuit 11, and the register 10
"1" is launched at node N8.

次にレジスタ10のトランジスタST、にクロ・ツクS
Next, the clock S is applied to the transistor ST of the register 10.
.

SIを与えると、トランジスタST7がオンし、次いで
そのレジスタ10のトランジスタST8がオンして、ノ
ードN8の内容が次のレジスタ10(図の上側)に与え
られて、不良メモリセルに対応しているデータがクロッ
クS。とS、とにより次のレジスタ10ヘシフトし、レ
ジスタ10は順次アクセス、つまりシリアルアクセスさ
れることになる。それによりレジスタの出力側で“1″
のデータを得たときの2クロック単位のカウント値によ
り不良メモリセルの行アドレスを前述したブロック単位
で判定でき、その判定時間はメモリセルを個々に判定す
る場合の2に短縮されることになる。それにより不良メ
モリセルを含む4つのメモリセルを、そのブロック単位
で冗長メモリセルに置き換えることができる。
When SI is applied, transistor ST7 is turned on, and then transistor ST8 of that register 10 is turned on, and the contents of node N8 are applied to the next register 10 (upper part of the diagram), corresponding to the defective memory cell. Data is clock S. and S, the register 10 is shifted to the next register 10, and the register 10 is sequentially accessed, that is, serially accessed. This causes “1” on the output side of the register.
The row address of the defective memory cell can be determined in block units as described above based on the count value in units of 2 clocks when data is obtained, and the determination time is reduced to 2 times compared to determining each memory cell individually. . Thereby, four memory cells including a defective memory cell can be replaced with redundant memory cells in block units.

なお、このようにレジスタ10を順次アクセスしている
期間には、次の列のメモリセルのデータとランチ回路4
のテストデータとを比較してメモリセルの良否を判定す
るラインテストを併行させ得る。その場合、転送禁止信
号TRIはレジスタ10を順次アクセスしたときに“1
”になり、転送ゲート13がオフして、そのときは不良
メモリセルのデータが得られてもレジスタ10へ転送せ
ず、レジスタは不良メモリセルのデータをランチしない
Note that during the period when the registers 10 are sequentially accessed in this way, the data in the memory cells of the next column and the launch circuit 4 are accessed sequentially.
A line test can be performed in parallel to determine the quality of the memory cell by comparing it with the test data of the memory cell. In that case, the transfer inhibit signal TRI is set to “1” when the register 10 is sequentially accessed.
'', the transfer gate 13 is turned off, and at that time, even if the data of the defective memory cell is obtained, it is not transferred to the register 10, and the register does not launch the data of the defective memory cell.

第3図は本発明の他の実施例を示す半導体記憶装置の構
成図であり、例えばシリアルアクセスメモリを備えてい
る画像処理用2ポートRAMのように、メモリセルから
読出したデータをレジスタへ転送し、そのレジスタを順
次アクセスしてシリアルI10線に出力できる半導体記
憶装置に本発明を適用した例である。この半導体記憶装
置はメモリセル3から読出したデータが転送ゲート13
を介してシリアルアクセスメモリ12のレジスタ10へ
与えられる。マツチ線7の信号はNAND回路15の一
方の反転入力端子に与えられ、他方の反転入力端子には
転送禁止信号TRIが与えられる。
FIG. 3 is a configuration diagram of a semiconductor memory device showing another embodiment of the present invention, in which data read from a memory cell is transferred to a register, such as a 2-port RAM for image processing equipped with a serial access memory. This is an example in which the present invention is applied to a semiconductor memory device that can sequentially access the registers and output them to the serial I10 line. In this semiconductor memory device, the data read from the memory cell 3 is transferred to the transfer gate 13.
The signal is applied to the register 10 of the serial access memory 12 via the serial access memory 12. The signal on the match line 7 is applied to one inverting input terminal of the NAND circuit 15, and the transfer inhibit signal TRI is applied to the other inverting input terminal.

NAND回路15の出力は、転送許可信号TREが入力
される017回路16へ入力される。OR回路16が出
力する転送信号TWは転送ゲー)13のゲートに与えら
れる。それ以外の他の構成は第1図に示した半導体記憶
装置と同様となっている。
The output of the NAND circuit 15 is input to the 017 circuit 16 to which the transfer permission signal TRE is input. The transfer signal TW output from the OR circuit 16 is applied to the gate of the transfer gate 13. The other structure is the same as that of the semiconductor memory device shown in FIG.

第4図は第3図の半導体記憶装置の3行分を詳細に示し
た回路図である。各ビット線l及び各反転ビット線Tの
信号は転送ゲート13を介してシリアルアクセスメモリ
12のレジスタ10.10.10へ各別に与えられてお
り、また対になっているトランジスタST9. ST、
を各別に介してシリアルI10線14及び反転シリアル
I10線口へ与えられる。シリアルアクセスメモリ12
の各対のトランジスタST。
FIG. 4 is a circuit diagram showing in detail three rows of the semiconductor memory device of FIG. The signals on each bit line l and each inverted bit line T are separately applied to registers 10, 10, 10 of serial access memory 12 via transfer gate 13, and transistors ST9, . ST,
are applied to the serial I10 line 14 and the inverted serial I10 line port via the serial I10 line 14 and the inverted serial I10 line port, respectively. Serial access memory 12
of each pair of transistors ST.

ST、のゲートには例えばシフトレジスタであるシリア
ルセレクタ17の出力信号が与えられる。マツチ線7は
NAND回路15の一方の反転入力端子と接続されてお
り、他方の反転入力端子には転送禁止信号TRIが入力
される。NAND回路15の出力は、転送許可信号TR
Eが入力されるOR回路16へ入力される。
For example, an output signal from a serial selector 17, which is a shift register, is applied to the gate of ST. The match line 7 is connected to one inverting input terminal of the NAND circuit 15, and the transfer inhibit signal TRI is input to the other inverting input terminal. The output of the NAND circuit 15 is the transfer permission signal TR.
It is input to the OR circuit 16 to which E is input.

OR回路16が出力する転送信号TWは転送ゲート13
のゲート端子へ与えられる。そして、それ以外の各行に
おける他の構成部分は第2図に示したものと同様となっ
ている。
The transfer signal TW output from the OR circuit 16 is transferred to the transfer gate 13
is applied to the gate terminal of The other constituent parts in each row are the same as those shown in FIG. 2.

この半導体記憶装置は、通常の場合、転送信号1弱は転
送許可信号TREによって制御され、メモリセル3とレ
ジスタ10との間でデータの転送を行う。
In this semiconductor memory device, normally, the transfer signal 1 is controlled by the transfer permission signal TRE, and data is transferred between the memory cell 3 and the register 10.

またメモリセルの良否の判定は第2図に示している半導
体記憶装置と同様に行われる。
Further, determination of the quality of the memory cell is performed in the same manner as in the semiconductor memory device shown in FIG.

ところで、ラインテストにより、比較回路6がメモリセ
ル3aから読出したデータとラッチ回路5のテストデー
タとを比較した結果が不一致であるとマツチ線7が“O
”になる。そのとき転送禁止信号TRIが“0”である
と、転送信号蓮が“I“になり、レジスタ10ヘメモリ
セル3aのデータが転送され、レジスタ10はそれを記
憶する。それによリメモリセル3aの不良データをラッ
チする。
By the way, in the line test, if the comparison circuit 6 compares the data read from the memory cell 3a with the test data of the latch circuit 5, and the result is a mismatch, the match line 7 becomes "O".
". At that time, if the transfer inhibit signal TRI is "0", the transfer signal REN becomes "I", and the data of the memory cell 3a is transferred to the register 10, and the register 10 stores it. Latch bad data.

その後、不良メモリのアドレスを判定する場合は、シリ
アルセレクタ17により各対のトランジスタST9 、
 ST9を順次的にオンさせてレジスタ10.10゜1
0を順次アクセスする。そうすると、レジスタ10の内
容がシリアルI10線5反転シリアルI10線14゜口
に出力されて、シリアルI10線3反転シリアルI10
線14.■から順次得られるレジスタ10の内容と、シ
リアルI10線14、反転I10線口に接続している図
示しないテスタのテストデータとを比較して不一致と判
断したときのシリアルセレクタ17のアクセス回数から
不良メモリセルのアドレスを判定する。
After that, when determining the address of the defective memory, the serial selector 17 selects each pair of transistors ST9,
Turn on ST9 sequentially and register 10.10゜1
Access 0 sequentially. Then, the contents of register 10 are output to serial I10 line 5 inverted serial I10 line 14°, and serial I10 line 3 inverted serial I10
Line 14. The number of accesses to the serial selector 17 when comparing the contents of the register 10 sequentially obtained from (1) with the test data of a tester (not shown) connected to the serial I10 line 14 and the inverted I10 line port and determining that they do not match indicates the failure. Determine the address of the memory cell.

なお、レジスタ10にデータの転送をした後は次の列の
メモリセルのラインテストを続行することができる。
Note that after the data is transferred to the register 10, the line test of the memory cells in the next column can be continued.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上詳述したように、第1発明の半導体記憶装置によれ
ば、メモリセルの良否の判定及びその判定をする都度、
良否のデータをレジスタに記憶させるから、レジスタを
アクセスすることにより、不良メモリセルのアドレスを
判定でき、冗長使用に適する半導体記憶装置を提供でき
る。また第2発明のテスト方法によれば、メモリセルの
良否判定及びメモリアクセスの良否データの記憶動作が
併行するから、メモリセルの良否及び不良メモリのアド
レスを判定する時間が短くてすむ等の優れた効果を奏す
る。
As described in detail above, according to the semiconductor memory device of the first invention, the quality of the memory cell is determined and each time the determination is made,
Since the pass/fail data is stored in the register, the address of the defective memory cell can be determined by accessing the register, and a semiconductor memory device suitable for redundant use can be provided. Further, according to the test method of the second invention, since the determination of the quality of the memory cell and the storage operation of the quality data of the memory access are performed in parallel, the time required to determine the quality of the memory cell and the address of the defective memory can be shortened. It has a great effect.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明に係る半導体記憶装置の構成図、第2図
はその1行分を詳細に示した回路図、第3図は本発明の
他の実施例を示す半導体記憶装置の構成図、第4図はそ
の3行分を詳細に示した回路図、第5図は従来の半導体
記憶装置の構成図、第6図はその1行分を詳細に示した
回路図である。 1・・・ビット線 T・・・反転ビット線 2・・・ワ
ードvA 3・・・メモリセル 4・・・ラッチ回路 
5・・・判定回路 6・・・比較回路 7・・・マツチ
線 8・・・T10線)・・・反転T10線 10・・
・レジスタ 13・・・転送ゲート14・・・シリアル
T10線 口・・・反転シリアルT10線15・・・N
AND回路 S、・・・比較回路選択スイッチS2・・
・ランチ回路選択スイッチ S3・・・反転回路選択ス
イッチ なお、図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。
FIG. 1 is a block diagram of a semiconductor memory device according to the present invention, FIG. 2 is a circuit diagram showing one line of the device in detail, and FIG. 3 is a block diagram of a semiconductor memory device showing another embodiment of the present invention. , FIG. 4 is a circuit diagram showing three lines in detail, FIG. 5 is a configuration diagram of a conventional semiconductor memory device, and FIG. 6 is a circuit diagram showing one line in detail. 1...Bit line T...Inverted bit line 2...Word vA 3...Memory cell 4...Latch circuit
5... Judgment circuit 6... Comparison circuit 7... Match wire 8... T10 line)... Inverted T10 line 10...
・Register 13...Transfer gate 14...Serial T10 line Mouth...Inverted serial T10 line 15...N
AND circuit S,... Comparison circuit selection switch S2...
- Launch circuit selection switch S3... Inversion circuit selection switch Note that in the drawings, the same reference numerals indicate the same or equivalent parts.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)マトリクス状に配したメモリセルと、該メモリセ
ルから読出したデータ及び所定データを比較する比較回
路とを有する半導体記憶装置において、 前記比較回路の比較結果又は前記メモリセ ルのデータを与えるべきレジスタを、一又は複数の比較
回路に対応させて複数個設けており、前記レジスタを順
次アクセス可能に構成してあることを特徴とする半導体
記憶装置。
(1) In a semiconductor memory device having memory cells arranged in a matrix and a comparison circuit that compares data read from the memory cells and predetermined data, the comparison result of the comparison circuit or the data of the memory cells should be provided. 1. A semiconductor memory device comprising a plurality of registers corresponding to one or more comparison circuits, the registers being configured to be sequentially accessible.
(2)請求項1に記載の半導体記憶装置のテスト方法に
おいて、 前記比較回路の比較結果が不一致の場合は、データを比
較すべくデータを読出したメモリセルを不良と判定する
とともに、比較回路の比較結果又は前記メモリセルから
読出したデータを前記レジスタへ与えた後、レジスタを
順次アクセスして前記メモリセルを特定することを特徴
とする半導体記憶装置のテスト方法。
(2) In the method for testing a semiconductor memory device according to claim 1, if the comparison results of the comparison circuit do not match, the memory cell from which the data was read to be compared is determined to be defective, and the comparison circuit 1. A method for testing a semiconductor memory device, comprising applying a comparison result or data read from the memory cell to the register, and then sequentially accessing the register to identify the memory cell.
JP2007599A 1990-01-16 1990-01-16 Semiconductor memory and its testing method Pending JPH03212900A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006252702A (en) * 2005-03-11 2006-09-21 Nec Electronics Corp Semiconductor integrated circuit apparatus and its inspection method
US7562269B2 (en) 2003-04-08 2009-07-14 Elpida Memory, Inc. Semiconductor storage device

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