JPH03207036A - Glass substrate for optical memory element and production thereof - Google Patents

Glass substrate for optical memory element and production thereof

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JPH03207036A
JPH03207036A JP2002896A JP289690A JPH03207036A JP H03207036 A JPH03207036 A JP H03207036A JP 2002896 A JP2002896 A JP 2002896A JP 289690 A JP289690 A JP 289690A JP H03207036 A JPH03207036 A JP H03207036A
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Japan
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grooves
glass substrate
recording medium
optical memory
medium layer
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JP2002896A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshiteru Murakami
善照 村上
Junsaku Nakajima
淳策 中嶋
Akira Takahashi
明 高橋
Kenji Ota
賢司 太田
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Original Assignee
Sharp Corp
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Publication of JPH03207036A publication Critical patent/JPH03207036A/en
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Abstract

PURPOSE:To prevent the nonuniform spreading of a resin for protection at the time of dropping by forming concentrical grooves in the inner peripheral position than a recording medium layer on the surface side of the glass substrate where the recording medium layer is formed. CONSTITUTION:The guide track grooves for guiding a light beam and guide address grooves 5a are provided on the glass substrate 5. The concentrical grooves 5b are provided in the peripheral position inner than the grooves 5a and in the positions nearer toward the outside of the position where a center hub is adhered. The recording medium layer 6 is formed to cover the grooves 5a on the substrate 5 and occupies the intervening regions up to the grooves 5b on the inner peripheral side. The protective layer 7 is formed by applying a UV resin by a spin coating method on the grooves 5b as the start point on the inner peripheral side then toward the outer side and curing the coating by irradiation with UV rays. The dropped resin flows along the grooves 5b by surface tension and does not, therefore, flow to the inner side thereof.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光学的に情報の記録、再生、および消去等を
おこなう光メモリ素子用ガラス基板及びその製造方法に
関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a glass substrate for an optical memory element that optically records, reproduces, erases, etc. information, and a method for manufacturing the same.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

近年、光メモリ素子は高密度大容量メモリ素子として研
究開発が盛んにおこなわれている。光メモリ素子の基板
材質としては、一般には、ガラス、ポリカーボネート、
アクリル等が使用されている。その中でも、光学的特性
、機械的特性、水分の吸透湿特性などの点で最も優れた
ガラスが、光メモリ素子用基板として注目されている。
In recent years, optical memory devices have been actively researched and developed as high-density, large-capacity memory devices. The substrate material for optical memory devices is generally glass, polycarbonate,
Acrylic etc. are used. Among them, glass, which has the best optical properties, mechanical properties, and moisture absorption/permeability properties, is attracting attention as a substrate for optical memory devices.

上記のガラス基板を用いた単板型光メモリ素子は、例え
ば第5図に示すように、主としてガラス基板1、記録媒
体層2、および保護樹脂N3を含む構戒から戒っている
。なお、上記の記録媒体層2は、ガラス基板1上に設け
られており、保護樹脂M3は、記録媒体層2上に設けら
れている。そして、上記保護樹脂層3は、記録媒体層2
を保護するようになっている。
The single-plate optical memory element using the above-mentioned glass substrate is mainly composed of a glass substrate 1, a recording medium layer 2, and a protective resin N3, as shown in FIG. 5, for example. Note that the recording medium layer 2 described above is provided on the glass substrate 1, and the protective resin M3 is provided on the recording medium layer 2. The protective resin layer 3 is formed on the recording medium layer 2.
It is designed to protect.

ガラス基板1には、情報の記録、再生、消去等を光メモ
リ素子に対しておこなう際に照射される光ビームを所定
の位置に案内するためのガイドトラック溝およびガイド
番地溝1a(図中、便宜上太い実線で示す)が形成され
ている。なお、上記の記録媒体層2は、例えば光磁気メ
モリ素子であれば、透明誘電体膜、希土類遷移金属合金
薄膜、および反射膜等が積層された多層構造を威してい
る。
The glass substrate 1 has guide track grooves and guide address grooves 1a (for convenience in the figure) for guiding a light beam irradiated to a predetermined position when recording, reproducing, erasing, etc. information on an optical memory element. ) is formed (indicated by a thick solid line). Note that, for example, in the case of a magneto-optical memory element, the recording medium layer 2 has a multilayer structure in which a transparent dielectric film, a rare earth transition metal alloy thin film, a reflective film, etc. are laminated.

一方、保護樹脂層3は、記録媒体層2に傷、および埃な
どが付着するのを防止するとともに、記録媒体層2の酸
化を防止する等の重要な役割を果たすものである。保護
樹脂層3の材料としては、作業性、プロセス時間等の点
でも有利である紫外線硬化型の柑脂(以下UV樹脂と称
す)が多用されている。そして、保護樹脂N3は、主に
スビンコート法により形成される。即ち、上記U■樹脂
を記録媒体層2上に塗布し、その後、紫外線を照射して
該U■樹脂を硬化させることによって、保護樹脂層3が
形成される。
On the other hand, the protective resin layer 3 plays important roles such as preventing scratches, dust, etc. from adhering to the recording medium layer 2, and preventing oxidation of the recording medium layer 2. As the material for the protective resin layer 3, ultraviolet-curable citrus resin (hereinafter referred to as UV resin) is often used because it is advantageous in terms of workability, process time, and the like. The protective resin N3 is mainly formed by a subin coating method. That is, the protective resin layer 3 is formed by applying the above-mentioned U2 resin onto the recording medium layer 2 and then curing the U2 resin by irradiating ultraviolet rays.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

ところが、上記のように、保護樹脂層3を形戒する際に
、スビンコート法によってU■樹脂を塗布する場合には
、記録媒体層2が形成された領域よりも内周位置にUV
樹脂を滴下し、所望の膜厚となる回転数でスピンナーを
回転させることになる。この場合、塗布後の保護樹脂層
3の形状が、例えば第6図に示すように、いびつな形状
となり、ガラス基板lに対して同心円状にはならない。
However, as mentioned above, when coating the protective resin layer 3 with the U resin by the Subin coating method, UV rays are applied to the inner peripheral position than the area where the recording medium layer 2 is formed.
The resin is dropped and the spinner is rotated at a rotation speed that provides the desired film thickness. In this case, the shape of the protective resin layer 3 after coating becomes an irregular shape, as shown in FIG. 6, for example, and is not concentric with the glass substrate l.

従って、製造された光メモリ素子間で、保護樹脂層3の
形状が大きくばらつくという問題点を招来する。
Therefore, a problem arises in that the shape of the protective resin layer 3 varies greatly among manufactured optical memory elements.

ところで、光メモリ素子においては、第7図に示すよう
に、ガラス基板1の中心に設けられた穴の中心と、ガイ
ドトラック溝およびガイド番地溝laの中心とが、一般
に偏心しているため、これを吸収するとともに、光メモ
リ素子をそのドライブ装置の回転スピンドルに装着させ
るためにセンターハブ4と呼ばれる治具が接着される場
合がある。このセンターハブ4のガラス基板1への接着
に際しては、接着領域に、上記保護樹脂層3が不均一な
状態で介在することは、ガラス基板1とセンターハブ4
との平行度を乱し、また接着強度、および信頼性に対し
ても悪影響を及ぼす等の問題点を有している。
By the way, in an optical memory element, as shown in FIG. 7, the center of the hole provided at the center of the glass substrate 1 and the center of the guide track groove and the guide address groove la are generally eccentric. In some cases, a jig called a center hub 4 is bonded to absorb the light and to attach the optical memory element to the rotating spindle of the drive device. When bonding the center hub 4 to the glass substrate 1, the presence of the protective resin layer 3 in an uneven state in the bonding area is a problem that can occur between the glass substrate 1 and the center hub 1.
This has problems such as disturbing the parallelism between the two and having an adverse effect on adhesive strength and reliability.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

請求項第1項の発明に係る光メモリ素子用ガラス基板は
、上記課題を解決するために、記録媒体層が形成された
領域を有する光メモリ素子に供されるガラス基板におい
て、上記の記録媒体層が形成される面側に、しかも記録
媒体層が形成される領域よりも内周位置に、同心円状に
形成された溝を有していることを特徴としている。
In order to solve the above-mentioned problem, a glass substrate for an optical memory element according to the invention of claim 1 is provided, in which the above-mentioned recording medium layer is It is characterized by having grooves formed concentrically on the side where the recording medium layer is formed, and further on the inner circumferential position of the area where the recording medium layer is formed.

また、請求項第2項の発明に係る光メモリ素子用ガラス
基板の製造方法は、上記課題を解決するために、光ビー
ム案内用のガイドトラック溝およびガイド番地溝が形成
される時に、ドライエッチング法により、同時に上記同
心円状の溝が形成されることを特徴としている。
In addition, in order to solve the above problem, the method for manufacturing a glass substrate for an optical memory element according to the invention of claim 2 uses a dry etching method when forming guide track grooves and guide address grooves for guiding a light beam. It is characterized in that the concentric grooves are formed at the same time.

〔作 用〕[For production]

請求項第1項の発明の構戒においては、記録媒体層が形
成される領域よりも内周位置に、同心円状の溝が形成さ
れているので、記録媒体の保護用樹脂をスピンコート法
で塗布する際に、滴下された保護用樹脂が、その表面張
力によって溝に沿って流れるようになる。従って、滴下
された樹脂は、同心円状の溝よりも内周側へは流れ込ま
ない。
In the structure of the invention as claimed in claim 1, since the concentric grooves are formed at the inner peripheral position of the area where the recording medium layer is formed, the protective resin for the recording medium is applied by spin coating. During application, the dropped protective resin flows along the grooves due to its surface tension. Therefore, the dropped resin does not flow toward the inner periphery of the concentric grooves.

これにより、保護用樹脂の滴下時に生じる該樹脂の不均
一な広がりを防止できるので、スピンナ一回転後も均一
でかつ再現性のある保護樹脂層を形成することができる
This makes it possible to prevent the protective resin from spreading non-uniformly which occurs when the protective resin is dropped, so that it is possible to form a protective resin layer that is uniform and reproducible even after one rotation of the spinner.

請求項第2項の発明においては、同心円状の溝の形成が
、ドライエッチング法により、ガイドトラック溝および
ガイド番地溝の形戒と同時におこなわれるので、製造コ
ストを低減できるとともに、製造工程上のロスを著しく
低減できる。
In the invention of claim 2, the concentric grooves are formed by dry etching at the same time as the guide track grooves and the guide address grooves are formed, so manufacturing costs can be reduced and manufacturing process improvements can be made. Loss can be significantly reduced.

〔実施例〕〔Example〕

本発明の一実施例を第1図ないし第3図に基づいて説明
すれば、以下のとおりである。
An embodiment of the present invention will be described below based on FIGS. 1 to 3.

本発明に係る光メモリ素子用ガラス基板を用いた光メモ
リ素子は、例えば第l図(a)(b)に示すように、主
としてガラス基Fi5、記録媒体層6、保護樹脂層7、
およびセンターハブ8から構威されている。上記の記録
媒体N6は、ガラス基板5上に設けられている。紫外線
硬化型樹脂(以下UV樹脂と称す)からなる保護樹脂層
7は、記録媒体層6上に設けられている。また、センタ
ーハブ8は、ガラス基板5の中心穴部に嵌合するように
接着されている。
An optical memory element using a glass substrate for an optical memory element according to the present invention mainly includes a glass base Fi5, a recording medium layer 6, a protective resin layer 7, as shown in FIGS. 1(a) and 1(b), for example.
and a center hub 8. The recording medium N6 described above is provided on the glass substrate 5. A protective resin layer 7 made of an ultraviolet curable resin (hereinafter referred to as UV resin) is provided on the recording medium layer 6. Further, the center hub 8 is bonded so as to fit into the center hole of the glass substrate 5.

上記のガラス基板5上には、図示しない光学ヘッドから
出射される光ビームを案内するためのガイドトラック溝
およびガイド番地溝5a(図中に、便宜上太い実線で示
す)が設けられており、さらにガイドトラソク溝および
ガイド番地溝5aより内周位置で、しかもセンターハブ
8の接着位置より外寄りの位置に、本発明に係る同心円
状の溝5bが設けられている。
A guide track groove and a guide address groove 5a (indicated by thick solid lines in the figure for convenience) are provided on the glass substrate 5 for guiding the light beam emitted from an optical head (not shown), and further A concentric groove 5b according to the present invention is provided at an inner peripheral position than the guide truss groove and the guide address groove 5a, and at a position closer to the outer side than the bonding position of the center hub 8.

上記の記録媒体層6は、ガラス基板5上のガイドl・ラ
ソク溝およびガイド番地溝5aを覆うように形成されて
おり、内周側へは同心円状の溝5bまでの間の図示した
領域、外周側へはガラス基板5の外端までの間の図示し
た領域に及んでいる。
The recording medium layer 6 is formed so as to cover the guide l/rasok groove and the guide address groove 5a on the glass substrate 5, and the area shown in the figure up to the concentric groove 5b toward the inner circumference, The outer peripheral side extends to the illustrated region up to the outer end of the glass substrate 5.

記録媒体層6は多層構造をなしており、例えばガラス基
板5の側から、順次、第l透明誘電体膜、希土類遷移金
属合金薄膜、第2透明誘電体膜、および金属反射膜(こ
れらの薄膜は図示しない)が積層された構戒となってい
る。
The recording medium layer 6 has a multilayer structure, and includes, for example, a first transparent dielectric film, a rare earth transition metal alloy thin film, a second transparent dielectric film, and a metal reflective film (these thin films) sequentially from the glass substrate 5 side. (not shown) are layered.

上記の保護樹脂層7は、UV樹脂をスピンコート法によ
り、同心円状の溝5bを内周側の開始点として、これよ
り外側に塗布した後、紫外線照射により硬化させて設け
られている。
The above-mentioned protective resin layer 7 is provided by applying a UV resin to an area outside of the concentric groove 5b as a starting point on the inner circumferential side using a spin coating method, and then curing it by irradiating ultraviolet rays.

ここで、上記の光メモリ素子の第1−の製造方法につい
て説明すれば、以下のとおりである。
Here, the first manufacturing method of the above-mentioned optical memory element will be explained as follows.

光メモリ素子の製造に際し、まず、ガラス基板5を用意
する。ガラス基板5は、通常、板状のガラスに対して内
・外径加工を施すことによって所望の形状を得ている。
When manufacturing an optical memory element, first, a glass substrate 5 is prepared. The glass substrate 5 usually has a desired shape by processing the inner and outer diameters of a plate-shaped glass.

この際、必要に応して、表面研磨、強化処理が施されて
製造される。しかし、本発明に係る同心円状の溝5bは
、ガラス基板5の製造時に、例えば内・外径加工と並行
して形成される。なお、同心円状の溝5bの形状は、V
字形、U字形、あるいは矩形などのいずれでもよく、特
に形状は問わない。
At this time, if necessary, surface polishing and strengthening treatment are performed before manufacturing. However, the concentric grooves 5b according to the present invention are formed at the time of manufacturing the glass substrate 5, for example, in parallel with the inner and outer diameter processing. Note that the shape of the concentric groove 5b is V
The shape is not particularly limited, and may be a letter shape, a U shape, or a rectangle.

次に、このように基板製造の段階で、あらかしめ同心円
状の溝5bが設けられたガラス基板5上に、ドライエッ
チング法によりガイドトラック溝およびガイド番地溝5
aを形戒する。
Next, at the stage of manufacturing the substrate, guide track grooves and guide address grooves 5 are formed by dry etching on the glass substrate 5 on which the concentric grooves 5b have been formed.
Precept the form of a.

ガイドトランク溝およびガイド番地溝5aの形成を第2
図に基づいて以下に詳述する。
The formation of the guide trunk groove and the guide address groove 5a is performed in the second step.
The details will be explained below based on the figures.

まず、第2図(a)に示すように、ガラス基板5上に形
成された同心円状の溝5bが設けられた面側に、レジス
トN9 (便宜上、ハッチングで示す)をスビンコート
法により塗布し形成する。
First, as shown in FIG. 2(a), a resist N9 (indicated by hatching for convenience) is coated on the side of the glass substrate 5 on which the concentric grooves 5b are formed by a subin coating method. do.

そして、第2図(b)に示すように、レジスト層9上に
所望のガイドトラック溝およびガイド番地溝5aのパタ
ーンが得られるようにレーザカッティング露光法、また
はフォトマスクを用いた密着露光法によって、レジスト
を露光し、これを現像処理し、パターンを形成する。
Then, as shown in FIG. 2(b), a laser cutting exposure method or a contact exposure method using a photomask is used to obtain a desired pattern of guide track grooves and guide address grooves 5a on the resist layer 9. , the resist is exposed and developed to form a pattern.

次に、第2図(C)に示すように、ガイドトラック溝お
よびガイド番地溝5aのパターンが形成されたガラス基
板5に、ドライエンチング装置を用いて、ガラスのドラ
イエソチング処理を施し、ガラス基板5上に実際のガイ
ドトラック溝およびガイド番地溝5aを形成する。
Next, as shown in FIG. 2(C), the glass substrate 5 on which the patterns of the guide track grooves and the guide address grooves 5a are formed is subjected to a glass dry etching process using a dry etching device. Actual guide track grooves and guide address grooves 5a are formed on the glass substrate 5.

そして、第2図(d)に示すように、アンシング、洗浄
等で残留レジストを除去すると、所望のガイドトラック
溝およびガイド番地溝5aが得られる。
Then, as shown in FIG. 2(d), by removing the residual resist by unsinging, cleaning, etc., desired guide track grooves and guide address grooves 5a are obtained.

上記のようにして形成されたガイドトラック溝およびガ
イド番地溝5a上に、スパッタリング法によって、記録
媒体層6が形成され、さらに保護樹脂層7が形成される
プロセスへ移行する。
A recording medium layer 6 is formed by sputtering on the guide track grooves and guide address grooves 5a formed as described above, and then the process moves on to forming a protective resin layer 7.

ここで、保護樹脂層7が形成されるプロセスを第3図に
基づいて説明すると、以下のとおりである。
Here, the process of forming the protective resin layer 7 will be explained based on FIG. 3 as follows.

まず、スビンナ一回転テーブル13にガラス基板5を装
着した後、第3図(a)に示すように、同心円状の溝5
bが設けられた位置よりやや外側のガラス基板5上の位
置に、UV樹脂IOを任意量滴下させる。UV樹脂10
の滴下に際しては、滴下口を固定しておき、ガラス基板
5をゆっくり回転させながら滴下してもよいし、また逆
に、滴下口を円周方向に移動させて滴下してもよい。
First, after mounting the glass substrate 5 on the subinner rotary table 13, as shown in FIG.
An arbitrary amount of UV resin IO is dropped at a position on the glass substrate 5 slightly outside the position where b is provided. UV resin 10
When dropping, the droplet may be fixed while slowly rotating the glass substrate 5, or conversely, the droplet may be moved in the circumferential direction and dropped.

このようにして滴下されたUV樹脂10は、第3図(b
)に示すように、その表面張力により同心円状の溝5b
に沿って、しかも同心円状の溝5bよりも内側へは流れ
込まずに広がる。
The UV resin 10 dropped in this way is shown in FIG.
), the surface tension creates concentric grooves 5b.
It spreads along the concentric groove 5b without flowing inward.

次に、上記状態からスピンナ一回転テーブルl3を任意
の回転数で回転させれば、第3図(c)に示すように、
同心円状の溝5bを開始点としてUV樹脂■0が形成さ
れる。
Next, if the spinner-rotary table l3 is rotated at an arbitrary rotation speed from the above state, as shown in FIG. 3(c),
UV resin 0 is formed starting from the concentric groove 5b.

そして、第3図(d)に示すように、紫外線を上方から
照射することによって、U■樹脂が硬化し、保護樹脂層
7が形成されることになる。
Then, as shown in FIG. 3(d), by irradiating ultraviolet rays from above, the U resin is cured and a protective resin layer 7 is formed.

最後に、ガラス基板5の中心穴と、ガイドトランク溝お
よびガイド番地溝5aとの偏心を少なくするために設け
られたセンターハプ8をガラス基板5上に、接着剤や両
面テープなどで接着して本発明に係る光メモリ素子を得
る。
Finally, the center hole 8 provided to reduce eccentricity between the center hole of the glass substrate 5 and the guide trunk groove and guide address groove 5a is adhered onto the glass substrate 5 with adhesive or double-sided tape. An optical memory device according to the present invention is obtained.

以上のように、本実施例によれば、ガラス基板5に滴下
されたU■樹脂10は、同心円状の溝5bにおける表面
張力によって、同心円状の溝5bより内側へは流れ込ま
なくなる。従って、保護樹脂層7がガラス基板5上に均
一に、しかも再現性よく形成されるので、高品質の光メ
モリ素子を製造できる。
As described above, according to this embodiment, the U resin 10 dropped onto the glass substrate 5 does not flow inward from the concentric grooves 5b due to the surface tension in the concentric grooves 5b. Therefore, the protective resin layer 7 is formed uniformly on the glass substrate 5 with good reproducibility, so that a high quality optical memory element can be manufactured.

本発明に係る光メモリ素子用ガラス基板の第2の製造方
法を第4図に基づいて説明すると、以下のとおりである
The second method for manufacturing a glass substrate for an optical memory element according to the present invention will be explained below with reference to FIG.

前記の第1の製造方法においては、同心円状の溝5bは
あらかじめガラス基板5の製造段階で設けられていた。
In the first manufacturing method described above, the concentric grooves 5b were provided in advance at the manufacturing stage of the glass substrate 5.

ここで開示する第2の製造方法では、同心円状の溝5b
の形戒が、ドライエッチング法を用いて、ガイドトラッ
ク溝およびガイド番地溝5aの形成と並行しておこなわ
れる点が上述の第1の製造方法と異なる点である。以下
にその詳細な説明を記す。
In the second manufacturing method disclosed herein, concentric grooves 5b
The manufacturing method differs from the first manufacturing method described above in that the formation of the guide track grooves and the guide address grooves 5a is performed in parallel with the formation of the guide track grooves and the guide address grooves 5a using a dry etching method. A detailed explanation is given below.

まず、従来どおりの内・外径加工が施されただけのガラ
ス基板11を用意する。
First, a glass substrate 11 is prepared which has only been subjected to inner and outer diameter processing in the conventional manner.

次に、第4図(a)に示すように、ガラス基板11上に
、前記の第1の製造方法と同様に、レジスト層12(便
宜上ハンチングで示す)を形戒する。この時、レジスト
層l2の内周側塗布開始点は、同心円状の溝5bを得よ
うとする領域よりも内側になるように設定する。
Next, as shown in FIG. 4(a), a resist layer 12 (shown by hunting for convenience) is formed on the glass substrate 11 in the same manner as in the first manufacturing method. At this time, the coating start point on the inner peripheral side of the resist layer 12 is set to be inside the region where the concentric grooves 5b are to be obtained.

次に、レーザカッティング露光法、またはフォトマスク
を用いた密着露光法によって、前記の第1の製造方法と
同様にして、ガイドトラック溝およびガイド番地溝5a
(便宜上クロスハッチングで示す)の露光をおこなうが
、この時さらに、第4図(b)に示すように、同心円状
の溝5b(便宜上クロスハッチングで示す)の露光も同
時におこなう。この時、レーザカッティング露光法を採
用した場合であれば、露光半径位置を変えるだけでよい
し、フォトマスクを用いた密着露光法を採用した場合で
あれば、あらかじめフォトマスクにパターンを形成して
おくだけでよい。
Next, by a laser cutting exposure method or a contact exposure method using a photomask, the guide track groove and the guide address groove 5a are formed in the same manner as in the first manufacturing method described above.
At this time, as shown in FIG. 4(b), the concentric grooves 5b (shown by cross-hatching for convenience) are also exposed at the same time. At this time, if a laser cutting exposure method is used, it is sufficient to simply change the exposure radius position, or if a contact exposure method using a photomask is used, a pattern is formed on the photomask in advance. Just leave it there.

次に、第2図(b)に示したように、レジスト層9上に
所望のガイドトラック溝およびガイド番地溝53のパタ
ーンが得られるようにレーザヵッティング露光法、また
はフォトマスクを用いた密着露光法によって、レジスト
を露光し、これを現像処理し、パターンを形戒する。
Next, as shown in FIG. 2(b), a laser cutting exposure method or a close contact using a photomask is used to obtain a desired pattern of guide track grooves and guide address grooves 53 on the resist layer 9. Using the exposure method, the resist is exposed, developed, and the pattern formed.

次に、前記の第1の製造方法で示したプロセスと同しよ
うに、ガイドトランク溝およびガイド番地溝5aのパタ
ーン、および同心円状の溝5bのパターンが形成された
ガラス基板l1に対して、ドライエッチング装置を用い
て、ガラスのドライエッチング処理を施し、ガラス基板
11上に実際のガイドトラック溝およびガイド番地溝5
aと、同心円状の溝5bとを形戒する。
Next, in the same manner as in the process shown in the first manufacturing method, the glass substrate l1 on which the patterns of the guide trunk groove and the guide address groove 5a and the pattern of the concentric grooves 5b are formed is dried. Using an etching device, the glass is dry-etched to create actual guide track grooves and guide address grooves 5 on the glass substrate 11.
a and the concentric groove 5b.

そして、アッシングや洗浄等で残留レジストを除去する
。これ以降は上記第1の製造方法と同様の製造工程を経
て所望の光メモリ素子用ガラス基板を得る。
Then, the remaining resist is removed by ashing, cleaning, etc. After this, a desired glass substrate for an optical memory element is obtained through the same manufacturing steps as in the first manufacturing method.

上記第2の製造方法によれば、あらかじめガラス基板1
1に同心円状の溝5bの加工を施さなくてもよい。しか
も、同心円状の溝5bは、ガイドトラック溝およびガイ
ド番地溝5aが形成される際に同時に形成される。従っ
て、製造コストを低滅することができるとともに、製造
方法上の工程のロスを低減させることができる。
According to the second manufacturing method, the glass substrate 1
It is not necessary to process the concentric grooves 5b in 1. Furthermore, the concentric grooves 5b are formed simultaneously when the guide track grooves and the guide address grooves 5a are formed. Therefore, manufacturing costs can be reduced, and process losses in the manufacturing method can be reduced.

以上に開示した第1、および第2の光メモリ素子用ガラ
ス基板の製造方法における光メモリ素子の各部の寸法、
および形状は、例えば外径が86mm、中心穴径が15
mmであり、ガラス基板5の厚みは1.2mのものを使
用し、ガイドトラック溝およびガイド番地溝5aの範囲
を40InIl1ないし82mmに設定している。また
、センターハブ8のガラス基板5(またはガラス基板1
1)への接着部の外径を22恥とした場合、記録媒体層
6の形成領域は、36mmないし84mmが好ましく、
従って同心円状の溝5bの形戒位置は、22mmないし
36mmの範囲になり、好ましくは24aunないし3
0鴫の範囲の位置である。
Dimensions of each part of the optical memory element in the first and second methods of manufacturing a glass substrate for an optical memory element disclosed above,
For example, the outer diameter is 86 mm and the center hole diameter is 15 mm.
mm, the thickness of the glass substrate 5 is 1.2 m, and the range of the guide track grooves and guide address grooves 5a is set to 40 InIl1 to 82 mm. In addition, the glass substrate 5 (or glass substrate 1
When the outer diameter of the adhesive part to 1) is 22 mm, the formation area of the recording medium layer 6 is preferably 36 mm to 84 mm,
Therefore, the shape position of the concentric groove 5b is in the range of 22 mm to 36 mm, preferably 24 mm to 36 mm.
The position is within the range of 0.

また、同心円状の溝5bの溝の形状、および寸法は、第
1の製造方法に示したように、ガラス基板5の製造時に
内・外径加工と並行して、例えば切削加工によって形成
する場合には、溝の幅が05閣ないし2.0皿、溝の深
さが0.1mmないしO、2InlI1程度が好ましい
。この時、溝の形状については■字形、U字形、あるい
は矩形などが挙げられるが、特にその形状は問わない。
Further, the shape and dimensions of the concentric grooves 5b are determined by, for example, cutting when the glass substrate 5 is manufactured in parallel with the inner and outer diameter machining, as shown in the first manufacturing method. Preferably, the width of the groove is 0.5 mm to 2.0 mm, and the depth of the groove is 0.1 mm to 0.2 mm. At this time, the shape of the groove may be a ■-shape, a U-shape, or a rectangle, but the shape is not particularly limited.

また、第2の製造方法により形成される同心円状の溝5
bは、ガイドトラノク溝およびガイド番地溝5aの形戒
と、同時にトライエッチング法によって形成されるので
、その溝の形状、および寸法は、第1の製造方法とは異
なり、ガイドトラック溝およびガイド番地溝5aと同程
度の溝の深さ、即ち0.04μmないし0.10μmと
極めて浅くなる。従って、溝の幅もガイドトラック溝お
よびガイド番地溝5aと同じオーダー、即ち1μm前後
で形成しておいたのでは意味をなさないので、溝の幅に
ついては、0.5鵬ないし2.0肋程度が好ましい。ま
た、この場合でも、溝の形状については、特に問わない
Further, concentric grooves 5 formed by the second manufacturing method
b is formed by the try etching method at the same time as the shape of the guide track groove and the guide address groove 5a, so the shape and dimensions of the groove are different from the first manufacturing method. The depth of the groove is about the same as 5a, that is, 0.04 μm to 0.10 μm, which is extremely shallow. Therefore, it would be meaningless to form the groove width in the same order as the guide track groove and the guide address groove 5a, that is, around 1 μm. degree is preferred. Further, even in this case, the shape of the groove is not particularly limited.

〔発明の効果] 請求項第1項の発明に係る光メモリ素子用ガラス基板は
、以上のように、記録媒体層が形成される面側であって
、記録媒体層が形成される領域よりも内周位置に、同心
円状の溝が形成されている構或である。
[Effects of the Invention] As described above, the glass substrate for an optical memory element according to the invention of claim 1 has a surface on which the recording medium layer is formed, and which is inner than the area where the recording medium layer is formed. It has a structure in which concentric grooves are formed at circumferential positions.

それゆえ、保護用樹脂の滴下時の不均一な広がりがなく
、しかも同心円状になるので、製造した光メモリ素子間
で形状がばらつかな《なる。従って、保護樹脂層をガラ
ス基板上に均一で、しかも外観を綺麗に形成できるので
、高品質で商品価値の高い光メモリ素子を再現性よく得
ることができるという効果を奏する。
Therefore, the protective resin does not spread non-uniformly when it is dropped, and moreover, it becomes concentric, so that the shape of the manufactured optical memory elements does not vary. Therefore, the protective resin layer can be formed on the glass substrate uniformly and with a beautiful appearance, resulting in the effect that an optical memory element of high quality and high commercial value can be obtained with good reproducibility.

また、請求項第2項の発明に係る光メモリ素子用ガラス
基板の製造方法は、以上のように、光ビーム案内用のガ
イドトラック溝およびガイド番地溝の形成と並行して、
上記同心円状の溝の形成がドライエッチング法によりお
こなわれる構戒をなしている。
Further, as described above, in the method for manufacturing a glass substrate for an optical memory element according to the invention of claim 2, in parallel with the formation of the guide track groove and the guide address groove for guiding the light beam,
The concentric grooves are formed by dry etching.

それゆえ、同心円状の溝が、ガイドトラック溝およびガ
イド番地溝の形成時に、同時にドライエノチング法を用
いて形成することができるので、製造コストを低減させ
ることができるとともに、製造工程におけるロスを低減
させることができるという効果を奏する。
Therefore, the concentric grooves can be formed using the dry enoching method at the same time as the guide track grooves and guide address grooves are formed, so manufacturing costs can be reduced and losses in the manufacturing process can be reduced. This has the effect that it can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図ないし第3図は、本発明の一実施例を示すもので
ある。 第1図(a)は、本発明に係るガラス基板を用いた光メ
モリ素子の概略の構或を示す平面図である。 第l図(b)は、第1図(a)で示したガラス基板を用
いた光メモリ素子の断面図である。 第2図は、ドライエッチング法により、あらかじめガラ
ス基板上に、ガイドトラック溝およびガイド番地溝を形
成する工程を示す図である。 第3図は、ガラス基板上にスパッタリング法により記録
媒体層を形成した後、保護樹脂層を形成する工程を示す
図である。 第4図は、同心円状の溝をドライエッチング法により形
成する工程を示す図である。 第5図ないし第7図は、従来例を示すものである。 第5図は、従来の光メモリ素子の概略の構或を示す図で
ある。 第6図は、保護樹脂層を形成する際、UV樹脂塗布後の
保護樹脂層の形状を示す図である。 第7図は、センターハブがガラス基板に接着された状態
を示す図である。 5はガラス基牟反、5aはガイドトラック溝およびガイ
ド番地溝、5bは同心円状の溝、6は記録媒体層、7は
保護樹脂層である。
1 to 3 show one embodiment of the present invention. FIG. 1(a) is a plan view showing a schematic structure of an optical memory element using a glass substrate according to the present invention. FIG. 1(b) is a sectional view of an optical memory element using the glass substrate shown in FIG. 1(a). FIG. 2 is a diagram showing a step of forming guide track grooves and guide address grooves on a glass substrate in advance by dry etching. FIG. 3 is a diagram showing a step of forming a protective resin layer after forming a recording medium layer on a glass substrate by a sputtering method. FIG. 4 is a diagram showing a process of forming concentric grooves by dry etching. 5 to 7 show conventional examples. FIG. 5 is a diagram showing a schematic structure of a conventional optical memory element. FIG. 6 is a diagram showing the shape of the protective resin layer after UV resin application when forming the protective resin layer. FIG. 7 is a diagram showing a state in which the center hub is adhered to a glass substrate. 5 is a glass substrate, 5a is a guide track groove and a guide address groove, 5b is a concentric groove, 6 is a recording medium layer, and 7 is a protective resin layer.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、記録媒体層が形成された領域を有する光メモリ素子
に供されるガラス基板において、上記の記録媒体層が形
成される面側であって、記録媒体層が形成される領域よ
りも内周位置に、同心円状の溝が形成されていることを
特徴とする光メモリ素子用ガラス基板。 2、光ビーム案内用のガイドトラック溝およびガイド番
地溝の形成と並行して、上記同心円状の溝の形成がドラ
イエッチング法によりおこなわれることを特徴とする請
求項第1項に記載の光メモリ素子用ガラス基板の製造方
法。
[Scope of Claims] 1. In a glass substrate used for an optical memory element having an area on which a recording medium layer is formed, the surface side on which the recording medium layer is formed is the side on which the recording medium layer is formed. 1. A glass substrate for an optical memory element, characterized in that a concentric groove is formed at an inner peripheral position of the region. 2. The optical memory element according to claim 1, wherein the concentric grooves are formed by dry etching in parallel with the formation of the guide track grooves and guide address grooves for guiding the light beam. A method for manufacturing a glass substrate for
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0723261A2 (en) * 1995-01-23 1996-07-24 Canon Kabushiki Kaisha Optical recording medium and process for producing same

Cited By (2)

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EP0723261A2 (en) * 1995-01-23 1996-07-24 Canon Kabushiki Kaisha Optical recording medium and process for producing same
EP0723261A3 (en) * 1995-01-23 1996-09-04 Canon Kk Optical recording medium and process for producing same

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