JPH03202772A - Apparatus for washing reaction container - Google Patents
Apparatus for washing reaction containerInfo
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
この発明は、反応容器の洗浄装置に関し、より詳しくは
、抗原抗体反応等を行なわせるマイクロプレートの各反
応容器の洗浄を自動的に行なうことができる反応容器の
洗浄装置に関する。[Detailed Description of the Invention] <Industrial Application Field> The present invention relates to a cleaning device for reaction vessels, and more specifically, to automatically clean each reaction vessel of a microplate in which antigen-antibody reactions, etc. are carried out. The present invention relates to a reaction vessel cleaning device that can clean a reaction vessel.
〈従来の技術と発明が解決しようとする課題〉従来、抗
原測定法の一つとして、抗原抗体反応を利用したEIA
(エンザイムイムノアッセイ)が知られている。このE
IAの一例を、工程図を示す第7図を参照しながら説明
すると、まず、反応容器に、固相化した抗体(又は抗原
)を注入し、これに被測定抗原(又は抗体)を添加して
抗原抗体反応を行なわせた後、固相化抗体に結合しなか
った抗原(又は抗体)を取り除くため、洗浄液にて反応
容器内の洗浄を行なう。次いで、酵素標識抗体を添加し
て再び抗原抗体反応を行なわせた後、抗原に結合しなか
った酵素標識抗体を取り除くため、洗浄液による洗浄を
行なう。さらに、基質を添加し、反応停止液を注入して
反応を停止させた後、各反応容器毎に吸光度を測定する
ことにより、抗原量を求めることができる。<Prior art and problems to be solved by the invention> Conventionally, as one of the antigen measurement methods, EIA using antigen-antibody reaction has been used.
(enzyme immunoassay) is known. This E
An example of IA will be explained with reference to FIG. 7 showing a process diagram. First, a solid-phase antibody (or antigen) is injected into a reaction container, and an antigen (or antibody) to be measured is added thereto. After the antigen-antibody reaction is carried out, the inside of the reaction vessel is washed with a washing solution in order to remove the antigen (or antibody) that has not bound to the immobilized antibody. Next, an enzyme-labeled antibody is added to cause the antigen-antibody reaction to occur again, and then washing is performed with a washing solution to remove enzyme-labeled antibodies that have not bound to the antigen. Furthermore, after adding the substrate and injecting a reaction stop solution to stop the reaction, the amount of antigen can be determined by measuring the absorbance of each reaction container.
ところで、上記EIAのうち、マイクロプレートを使用
するマイクロプレート法においては、マイクロプレート
の各反応容器に抗体、被測定抗原、標識抗体等の試薬を
自動的に注入した後、マイクロウオッシャ等にて当該マ
イクロプレートの内部に洗浄液を自動的に注入して洗浄
を行なっている。By the way, among the EIA mentioned above, in the microplate method using a microplate, reagents such as antibodies, antigens to be measured, labeled antibodies, etc. are automatically injected into each reaction container of the microplate, and then the relevant reagents are washed using a microwasher or the like. Cleaning is performed by automatically injecting a cleaning solution into the inside of the microplate.
しかし、上記マイクロプレート法においては、試薬を各
反応容器に対して所定量ずつ順番に注入しているにも拘
らず、各反応容器の洗浄は、マイクロプレート単位に一
斉に行なっている。このため、一つのマイクロプレート
の反応容器相互間で、試薬の反応時間が相違することに
なり、当該反応時間を一定にすることが要求される条件
下の測定において、正確な測定かできないという問題か
あつ tこ 。However, in the microplate method described above, although a predetermined amount of reagent is sequentially injected into each reaction container, each reaction container is washed at the same time in microplate units. For this reason, the reaction time of the reagents differs between the reaction vessels of a single microplate, and there is a problem that only accurate measurements are possible under conditions where the reaction time is required to be constant. Kaatsu tko.
このような問題点を解消するために、上記マイクロプレ
ートに代えて試験管を用い、試験管毎に試薬の反応時間
を計測しながら洗浄を行なう方法も採用されているか、
この場合には、測定に要する工数が非常に多くなるとい
う問題があると共に、試験管に試薬を自動的に注入した
り試験管を洗浄したりする装置が大型化するという問題
があった。In order to solve this problem, a method has been adopted in which test tubes are used instead of the microplates mentioned above, and the reaction time of the reagent is measured for each test tube while washing is performed.
In this case, there is a problem that the number of steps required for the measurement is extremely large, and the equipment that automatically injects the reagent into the test tube and cleans the test tube becomes large.
なお、他の抗原測定法として、上記EIAにおける酵素
標識抗体に代えて、螢光物質を添加して吸光度を求める
ことにより抗原量を測定するFIA1アイソトープを添
加してγ線を検量することにより抗原量を測定するRI
A等が知られているが、これらの測定法においても、上
記EIAと同様な問題があった。。In addition, as another antigen measurement method, instead of the enzyme-labeled antibody in the above EIA, the amount of antigen is measured by adding a fluorescent substance and determining the absorbance.The antigen is measured by adding FIA1 isotope and calibrating the γ-rays. RI to measure quantity
A and the like are known, but these measurement methods also have the same problems as the above-mentioned EIA. .
この発明は上記の問題点に鑑みてなされたものであり、
マイクロプレートを用いた抗原測定を、所望の反応時間
にて正確に行なうことができる反応容器の洗浄装置を提
供することを目的とする。This invention was made in view of the above problems,
An object of the present invention is to provide a reaction container cleaning device that can accurately perform antigen measurement using a microplate in a desired reaction time.
く課題を解決するための手段〉
上記の目的を達成するためのこの発明の反応容器の洗浄
装置は、複数の反応容器を直列に配列したマイクロプレ
ートを、所定時間毎に当該反応容器の配列ピッチずつ間
欠移動させる搬送手段と、間欠移動されるマイクロプレ
ートの反応容器に順次洗浄波を注入する洗浄ノズルと、
反応容器内の液を順次吸引する吸引ノズルと、少なくと
も吸引ノズルを反応容器内に導入可能に昇降させるノズ
ル昇降手段とを具備するものである。Means for Solving the Problems> In order to achieve the above object, the reaction vessel cleaning apparatus of the present invention cleans a microplate in which a plurality of reaction vessels are arranged in series, and changes the arrangement pitch of the reaction vessels at predetermined intervals. a cleaning nozzle that sequentially injects cleaning waves into the reaction container of the microplate that is intermittently moved;
The apparatus is equipped with a suction nozzle that sequentially suctions the liquid in the reaction container, and a nozzle elevating means that raises and lowers at least the suction nozzle so that it can be introduced into the reaction container.
但し、上記反応容器の洗浄装置は、洗浄ノズル及び吸引
ノズルを、マイクロプレートの移動方向に沿って複数ず
つ配列していると共に、上記洗浄液の注入及び液の吸引
を選択的に行なわせる制御手段をさらに具備するもので
あってもよい。However, the reaction vessel cleaning device has a plurality of cleaning nozzles and suction nozzles arranged along the direction of movement of the microplate, and a control means for selectively injecting the cleaning liquid and suctioning the liquid. It may be further provided.
く作用〉
上記の構成の反応容器の洗浄装置であれば、搬送手段に
よってマイクロプレートを所定時間毎に反応容器の配列
ピッチずつ間欠移動させながら、洗浄ノズルによって各
反応容器に洗浄液を順次注入することができる。さらに
、ノズル昇降手段によって吸引ノズルを反応容器内に導
入した状態で、当該吸引ノズルによって、反応容器内の
反応液又は洗浄液を吸引することかでき、その後、ノズ
ル昇降手段によって、吸引ノズルを反応容器から引き出
して、マイクロプレートを反応容器の配列ピッチだけ移
動させることができる。以後、上記動作を繰り返して行
なうことにより、各反応容器を順次洗浄することができ
る。したがって、マイクロプレートを、隣り合う反応容
器間における試薬の分注時間差に対応させて間欠移動さ
せることにより、各反応容器相互間の反応時間を均一に
することができる。In the case of the reaction vessel cleaning apparatus having the above configuration, the cleaning liquid can be sequentially injected into each reaction vessel using the cleaning nozzle while the microplate is intermittently moved by the array pitch of the reaction vessels at predetermined intervals using the transport means. I can do it. Furthermore, with the suction nozzle introduced into the reaction container by the nozzle lifting means, the reaction liquid or washing liquid in the reaction container can be sucked by the suction nozzle, and then the suction nozzle is moved into the reaction container by the nozzle lifting means. The microplate can be moved by the array pitch of the reaction vessels. Thereafter, by repeating the above operations, each reaction container can be washed in sequence. Therefore, by intermittently moving the microplate in accordance with the difference in dispensing time of reagents between adjacent reaction vessels, it is possible to equalize the reaction time between each reaction vessel.
特に、洗浄ノズル及び吸引ノズルを、マイクロプレート
の移動方向に沿って複数ずつ配列していると共に、上記
洗浄液の注入及び液の吸引を選択的に行なわせる制御手
段をさらに具備する場合には、所定の反応容器に対する
洗浄液の注入及び液の吸引を規制して、反応時間及び洗
浄回数を調整することができる。In particular, when a plurality of cleaning nozzles and suction nozzles are arranged along the moving direction of the microplate, and further comprising a control means for selectively injecting the cleaning liquid and suctioning the liquid, it is possible to The reaction time and the number of washings can be adjusted by regulating the injection of washing liquid into the reaction container and the suction of the washing liquid.
〈実施例〉 以下、実施例を示す添付図面によって詳細に説明する。<Example> Hereinafter, embodiments will be described in detail with reference to the accompanying drawings showing examples.
第1図は、この発明の反応容器の洗浄装置の一実施例を
示す斜視図である。上記洗浄装置は、マイクロプレート
1を間欠移動させる搬送手段としての搬送ベルト2、と
、マイクロプレート1の搬送方向へ沿って配列され、マ
イクロプレート1の反応容器11に洗浄液を注入する複
数の洗浄ノズル3と、各反応容器11内の反応液や洗浄
液を吸引する吸引ノズル4と、上記洗浄ノズル3及び吸
引ノズル4を、各反応容器11内に導入したり反応容器
11から引き出したりするノズル昇降手段5と、上記洗
浄ノズル3による洗浄液の注入及び吸引ノズル4による
液の吸引を選択的に行なわせる制御手段6とによって主
要部が構成されている。FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of the reaction vessel cleaning apparatus of the present invention. The cleaning device includes a transport belt 2 as a transport means for intermittently moving the microplate 1, and a plurality of cleaning nozzles that are arranged along the transport direction of the microplate 1 and inject a cleaning liquid into the reaction container 11 of the microplate 1. 3, a suction nozzle 4 for sucking the reaction liquid and cleaning liquid in each reaction container 11, and a nozzle elevating means for introducing the cleaning nozzle 3 and suction nozzle 4 into each reaction container 11 and pulling them out from each reaction container 11. 5, and a control means 6 for selectively causing the cleaning nozzle 3 to inject the cleaning liquid and the suction nozzle 4 to suction the liquid.
上記マイクロプレート1は、周知のように、有底円筒状
の反応容器11を複数個直列に配列したものであり、全
体が透明なプラスチックにて一体成形されている(第2
図参照)。As is well known, the microplate 1 is made up of a plurality of bottomed cylindrical reaction vessels 11 arranged in series, and the entire microplate 1 is integrally molded from transparent plastic.
(see figure).
搬送ベルト2は、図示しないプーリに巻き掛けられた状
態で、洗浄ノズル3及び吸引ノズル4の直下を通るよう
に設けられている。この搬送ベルト2は、マイクロプレ
ート1を、その反応容器11の配列ピッチA(第2図参
照)ずつ間欠移動させるように、ステッピングモータに
よって駆動される。この搬送ベルト2は、抗原等の試薬
を、−の反応容器11から当該反応容器11に隣設する
反応容器11に分注する際の時間差と等しい時間間隔毎
に駆動するように制御されている。The conveyor belt 2 is wound around a pulley (not shown) and is provided so as to pass directly below the cleaning nozzle 3 and the suction nozzle 4. This conveyor belt 2 is driven by a stepping motor so as to intermittently move the microplate 1 by the arrangement pitch A (see FIG. 2) of the reaction vessels 11. This conveyor belt 2 is controlled to be driven at time intervals equal to the time difference when dispensing a reagent such as an antigen from a negative reaction container 11 to a reaction container 11 adjacent to the reaction container 11. .
洗浄ノズル3と吸引ノズル4とは、図の場合それぞれ5
個ずつ設けられており、反応容器11毎に対をなしてい
る。この洗浄ノズル3及び吸引ノズル4は、各反応容器
11の内部に一組ずつ導入できるように、互いに近接さ
せた状態で設けられている(第3図参照)。但し、洗浄
ノズル3の下端は、吸引ノズル4の下端よりも所定高さ
上方に位置するように設定されている。また、上記洗浄
ノズル3及び吸引ノズル4には、それぞれチューブ31
.41が接続されており、洗浄ノズル3には、第5図に
示すように、洗浄液タンクT1から吐出ポンプP1によ
り上記チューブ31を通して、反応停止酸、生理食塩水
、純水等の洗浄液が供給される。また、吸引ノズル4は
、上記チューブ41を介して、吸引ポンプP2に接続さ
れており、この吸引ポンプP2の吐出口は、回収タンク
T2に連通されている。The cleaning nozzle 3 and the suction nozzle 4 are each 5 in the figure.
They are provided one by one, and form a pair for each reaction vessel 11. The cleaning nozzle 3 and the suction nozzle 4 are provided close to each other so that one set can be introduced into each reaction container 11 (see FIG. 3). However, the lower end of the cleaning nozzle 3 is set to be located above the lower end of the suction nozzle 4 by a predetermined height. Further, the cleaning nozzle 3 and the suction nozzle 4 each have a tube 31.
.. 41 is connected to the cleaning nozzle 3, and a cleaning liquid such as reaction stopping acid, physiological saline, pure water, etc. is supplied to the cleaning nozzle 3 from a cleaning liquid tank T1 through the tube 31 by a discharge pump P1. Ru. Further, the suction nozzle 4 is connected to a suction pump P2 via the tube 41, and a discharge port of the suction pump P2 is communicated with a recovery tank T2.
ノズル昇降手段5は、洗浄ノズル3及び吸引ノズル4を
クランプするクランプ部51と、クランプ部51に接続
されたアーム52と、アーム52を支軸53aを中心に
回動自在に支持する支持部53と、支持部53を昇降さ
せる昇降部54とによって構成されている。The nozzle elevating means 5 includes a clamp part 51 that clamps the cleaning nozzle 3 and the suction nozzle 4, an arm 52 connected to the clamp part 51, and a support part 53 that supports the arm 52 rotatably around a support shaft 53a. and an elevating section 54 that moves the support section 53 up and down.
上記クランプ部51及びアーム52は、−組のノズル3
.4毎にそれぞれ独立して設けられている。また、支持
部53の支軸53aは、各アーム52を挾んで対向配置
された一対の支持板53b間に架設されており、各アー
ム52は上記支軸53aに回動自在に支持されている。The clamp portion 51 and the arm 52 are connected to the - group of nozzles 3.
.. 4 are provided independently. Further, the support shaft 53a of the support portion 53 is installed between a pair of support plates 53b which are arranged opposite to each other with each arm 52 in between, and each arm 52 is rotatably supported by the support shaft 53a. .
さらに、昇降部54は、一対のガイドポスト54aに上
下動自在に支持された可動ブロック54bと、この可動
ブロック54bに螺合されたねじ部材54cと、ねし部
材54cを正転及び逆転可能に回転駆動するモータ54
dとによって構成されている。なお、上記アーム52は
、第3図に示す水平状態が、その回動範囲の下限となる
ように設定されている。Further, the elevating section 54 can rotate a movable block 54b vertically movably supported by a pair of guide posts 54a, a screw member 54c screwed to the movable block 54b, and a screw member 54c in the normal and reverse directions. Rotationally driven motor 54
d. The arm 52 is set so that the horizontal state shown in FIG. 3 is the lower limit of its rotation range.
また、各アーム52の途中部には、後述するストッパー
62と協働してアーム52の下方への回動を規制するピ
ン52aが垂設されている。このピン52aは、洗浄ノ
ズル3及び吸引ノズル4の配列方向に沿って直列に配列
されている。Furthermore, a pin 52a is vertically provided in the middle of each arm 52 to restrict the downward rotation of the arm 52 in cooperation with a stopper 62, which will be described later. The pins 52a are arranged in series along the direction in which the cleaning nozzles 3 and the suction nozzles 4 are arranged.
制御手段6は、洗浄ノズル3に対する洗浄液の供給を制
御する電磁開閉弁61(第5図参照)と、洗浄ノズル3
及び吸引ノズル4の下降を規制するストッパー62とを
備えている。上記電磁開閉弁61は、洗浄液の供給を個
別に制御できるように、各洗浄ノズル3毎に設けられて
いる。また、ストッパー62は、洗浄ノズル3及び吸引
ノズル4の配列方向に沿って配置された軸62bを中心
に回転可能に支持されたドラム状のものであり、その外
周には、上記アーム52に垂設されたピン52aを導入
可能なピン穴62aが配列されている。The control means 6 includes an electromagnetic on-off valve 61 (see FIG. 5) that controls the supply of cleaning liquid to the cleaning nozzle 3;
and a stopper 62 for regulating the descent of the suction nozzle 4. The electromagnetic on-off valve 61 is provided for each cleaning nozzle 3 so that the supply of cleaning liquid can be individually controlled. Further, the stopper 62 is a drum-shaped member that is rotatably supported around a shaft 62b arranged along the arrangement direction of the cleaning nozzle 3 and the suction nozzle 4, and has a part on its outer periphery that is perpendicular to the arm 52. Pin holes 62a are arranged into which the provided pins 52a can be introduced.
このピン穴62aは、ストッパー62の周方向において
等間隔に設定された複数の母線L1〜L8のそれぞれに
沿って配列されており、その形成パターンは、母線L1
〜L8毎に異ならせてあり(第6図参照)、例えば母線
Ll上においては、ピン52aの軸心位置に対応する周
方向の線分X1〜X5毎に形成されており、母線L2上
においては周方向の線分X5にのみ形成されており、母
線L3上においては周方向の線分X5及びX4ににのみ
形成されている。また、上記ストッパー62は、ビン穴
62aの何れかのパターンが頂部にくるように、図示し
ないステッピングモータにて回転される。このステッピ
ングモータによるストッパー62の回転制御は、マイク
ロコンピュータに所望するピン穴62aのパターンを人
力することにより行なわれる。ここに、所望のピン穴6
2aのパターンが選択された状態で、可動ブロック54
bが下降すると、各アーム52は当該ピン穴62aのパ
ターンに対応して下方への移動が許容されたり規制され
たりする。即ち、複数のアーム52のうち、可動ブロッ
ク54bの下降時にピン52 a カl:’ン穴62a
に導入されたものだけが、可動ブロック54bと共に下
方へ移動することができ、ひいては、当該アーム52に
支持された洗浄ノズル3及び吸引ノズル4をマイクロプ
レート1の反応容器11内に導入することができる(第
3図参照)。また、ピン52aがピン穴62aに導入さ
れないアーム52は、当該ピン52aがストッパー62
の外周に突き当たり、昇降部54の下降に伴なって、ア
ーム52が第4図に示すように時計回りに相対的に回動
されて、当該アーム52に支持された洗浄ノズル3及び
吸引ノズル4の反応容器11内への導入が規制される。The pin holes 62a are arranged along each of a plurality of generatrix lines L1 to L8 set at equal intervals in the circumferential direction of the stopper 62, and their formation pattern is
-L8 (see Fig. 6). For example, on the generatrix Ll, they are formed for each line segment X1 to X5 in the circumferential direction corresponding to the axial center position of the pin 52a, and on the generatrix L2, is formed only on the circumferential line segment X5, and on the generatrix L3, it is formed only on the circumferential line segments X5 and X4. Further, the stopper 62 is rotated by a stepping motor (not shown) so that one of the patterns of the bottle holes 62a is at the top. Rotation control of the stopper 62 by this stepping motor is performed by manually inputting a desired pattern of pin holes 62a to a microcomputer. Here, the desired pin hole 6
With pattern 2a selected, the movable block 54
When b is lowered, downward movement of each arm 52 is permitted or restricted in accordance with the pattern of the pin holes 62a. That is, among the plurality of arms 52, when the movable block 54b is lowered, the pin 52a is inserted into the hole 62a.
Only those introduced into the microplate 1 can move downward together with the movable block 54b, and in turn, the cleaning nozzle 3 and the suction nozzle 4 supported by the arm 52 can be introduced into the reaction container 11 of the microplate 1. Yes (see Figure 3). Further, in the arm 52 in which the pin 52a is not introduced into the pin hole 62a, the pin 52a is inserted into the stopper 62a.
As the elevating part 54 descends, the arm 52 is relatively rotated clockwise as shown in FIG. 4, and the cleaning nozzle 3 and suction nozzle 4 supported by the arm 52 are introduction into the reaction vessel 11 is regulated.
この際、上記反応容器11内への導入が規制された洗浄
ノズル3から洗浄液が吐出されないように、対応する電
磁開閉弁61が閉状態に維持される。なお、電磁開閉弁
61の開閉は、選択されたピン52aの形成パターンに
応じて上記マイクロコンピュータにより制御される。At this time, the corresponding electromagnetic on-off valve 61 is maintained in a closed state so that the cleaning liquid is not discharged from the cleaning nozzle 3 whose introduction into the reaction vessel 11 is restricted. The opening and closing of the electromagnetic on-off valve 61 is controlled by the microcomputer according to the selected formation pattern of the pins 52a.
上記の構成の反応容器の洗浄装置の動作は以下の通りで
ある。まず、搬送ベルト2によってマイクロプレート1
の搬送方向下流側の端部に位置する反応容器11が、搬
送方向上流側の端部に位置する一組のノズル3.4の直
下に移動されると、ねし部材54cが回動されて、可動
ブロック54bが下降する。そして、ピン52aがスト
ッパー62のピン穴62 aに導入されるアーム52に
ついては、その洗浄ノズル3及び吸引ノズル4が、マイ
クロプレート1の反応容器11内に一定速度で導入され
る。この導入中に、吸引ノズル4によって当該反応容器
11内の反応液が順次吸引されて、回収タンクT2に回
収される。反応液の吸引が完了した時点で、ねじ部材5
4cが逆転され、て、洗浄ノズル3及び吸引ノズル4が
が上昇する。そして、洗浄ノズル3が反応容器11の口
縁部付近まで上昇した時点で、各ノズル3,4の上昇が
停止されると共に、当該反応容器11内に洗浄ノズル3
を通して洗浄液が注入される。その後、再び各ノズル3
,4が下降されて、吸引ノズル4により反応容器11内
の洗浄液が吸引されて回収タンクT2に回収される。以
後所定時間にわたって上記動作が繰り返して行なわれた
後、各ノズル3゜4が反応容器11から引き出される。The operation of the reaction vessel cleaning device having the above configuration is as follows. First, the microplate 1 is transported by the conveyor belt 2.
When the reaction container 11 located at the downstream end in the transport direction is moved directly below the pair of nozzles 3.4 located at the upstream end in the transport direction, the screw member 54c is rotated. , the movable block 54b descends. As for the arm 52 whose pin 52a is introduced into the pin hole 62a of the stopper 62, its cleaning nozzle 3 and suction nozzle 4 are introduced into the reaction container 11 of the microplate 1 at a constant speed. During this introduction, the reaction liquid in the reaction container 11 is sequentially sucked by the suction nozzle 4 and collected into the collection tank T2. When suction of the reaction liquid is completed, screw member 5
4c is reversed, and the cleaning nozzle 3 and suction nozzle 4 are raised. Then, when the cleaning nozzle 3 rises to near the mouth edge of the reaction vessel 11, the rising of each nozzle 3, 4 is stopped, and the cleaning nozzle 3 is placed inside the reaction vessel 11.
Cleaning liquid is injected through the After that, each nozzle 3 again
, 4 are lowered, and the cleaning liquid in the reaction container 11 is sucked by the suction nozzle 4 and collected into the collection tank T2. Thereafter, after the above operation is repeated for a predetermined period of time, each nozzle 3.4 is pulled out from the reaction vessel 11.
次いて、搬送ベルト2によりマイクロプレート1が反応
容器11の形成ピッチAたけ間欠移動され、マイクロプ
レート1の搬送方向下流側の端部に位置する反応容器1
1が、搬送方向上流側の端部から2番目に位置する一組
のノズル3,4の直下に搬送され、同時に、上記反応容
器11に隣設する反応容器11が、搬送方向上流側の端
部に位置するノズル3.4の直下に移動される。そして
、上記ノズル3.4が反応容器11内に導入され、上記
と同様にして、反応容器11の洗浄が行われる。以後上
記動作が各反応容器11毎に繰り返して行われ、反応容
器11の洗浄が完了する。Next, the microplate 1 is intermittently moved by the formation pitch A of the reaction vessels 11 by the conveyor belt 2, and the reaction vessel 1 is positioned at the downstream end of the microplate 1 in the conveyance direction.
1 is transported directly below a pair of nozzles 3 and 4 located second from the upstream end in the transport direction, and at the same time, the reaction container 11 adjacent to the reaction container 11 is transported to the upstream end in the transport direction. The nozzle 3.4 is moved directly below the nozzle 3.4. The nozzle 3.4 is then introduced into the reaction vessel 11, and the reaction vessel 11 is cleaned in the same manner as described above. Thereafter, the above operation is repeated for each reaction vessel 11, and cleaning of the reaction vessel 11 is completed.
このように、上記洗浄装置によれば、マイクロプレート
1の反応容器11相互間における分注時間の差に対応し
て、反応容器11を順次洗浄することができるので、反
応容器11相互間における反応時間を均一にすることが
できる。In this way, according to the cleaning device, the reaction vessels 11 can be sequentially cleaned in accordance with the difference in dispensing time between the reaction vessels 11 of the microplate 1, so that the reaction between the reaction vessels 11 can be reduced. You can even out the time.
一方、ピン5.2gがストッパー62のピン穴62aに
導入されないアーム52については、当該アーム52に
支持されたノズル3.4の反応容器11内への導入が阻
止されると共に、電磁開閉弁61により洗浄液の注入が
停止されて、反応容器ll内の洗浄が規制される。した
がって、ストッパー62のピン穴62aの形成パターン
を適宜選択することにより、所望の反応容器11につい
ての反応時間及び洗浄回数を調整することができる。On the other hand, for the arm 52 in which the pin 5.2g is not introduced into the pin hole 62a of the stopper 62, the nozzle 3.4 supported by the arm 52 is prevented from being introduced into the reaction vessel 11, and the electromagnetic on-off valve 61 The injection of the cleaning liquid is stopped, and the cleaning inside the reaction vessel 11 is regulated. Therefore, by appropriately selecting the formation pattern of the pin holes 62a of the stopper 62, it is possible to adjust the reaction time and the number of washings for a desired reaction container 11.
なお、上記実施例においては、−組のノズル3゜4を、
一つのアーム52によって一体的に昇降しているが、こ
れらを、マイクロプレート1の搬送方向に沿って交互に
配列して、それぞれ単独のアーム52によって個別に昇
降させるようにしてもよい。In the above embodiment, the - group of nozzles 3°4 is
Although they are integrally raised and lowered by one arm 52, they may be arranged alternately along the transport direction of the microplate 1 and individually raised and lowered by a single arm 52.
また、ノズル3.4の構成数としては、適宜増減して実
施することができ、例えば各反応容器11相互間の反応
時間を均一にすることだけを目的とするのであれば、ノ
ズル3.4は、少なくと一組設けられていればよい。Further, the number of nozzles 3.4 can be increased or decreased as appropriate. For example, if the purpose is to make the reaction time uniform among the reaction vessels 11, the number of nozzles 3.4 can be increased or decreased as appropriate. It suffices if at least one set is provided.
このほか、この発明の反応容器の洗浄装置は、上記実施
例に限定されるものでなく、例えば、搬送手段として、
前記搬送ベルト2に代えて、マイクロプレート1の側面
を挾み込んだ状態で間欠駆動される一対又は複数対の搬
送ローラを用いること、洗浄ノズル3を昇降させること
なく反応容器11の口縁部より僅かに上方に固定してお
くこと等積々の設計変更を施すことができる。In addition, the reaction container cleaning device of the present invention is not limited to the above embodiments, and for example, as a conveying means,
Instead of the conveyor belt 2, one or more pairs of conveyor rollers that are driven intermittently while sandwiching the sides of the microplate 1 can be used, and the mouth edge of the reaction vessel 11 can be moved without raising or lowering the cleaning nozzle 3. Numerous design changes can be made, such as fixing it slightly upward.
また、この発明の反応容器の洗浄装置は、EIAのほか
、FIASRIAにおける種々の洗浄工程に使用するこ
とができる。Furthermore, the reaction vessel cleaning apparatus of the present invention can be used in various cleaning processes in FIASRIA in addition to EIA.
〈発明の効果〉
以上のように、この発明の反応容器の洗浄装置によれば
、マイクロプレートの各反応容器に試薬を分注する際の
時間差に応じて、反応容器を順次洗浄することができる
きるので、反応容器相互間における反応時間を均一にす
ることができ、ひいては抗原量等の測定を正確に行なう
ことができる。<Effects of the Invention> As described above, according to the reaction vessel cleaning device of the present invention, the reaction vessels can be sequentially cleaned according to the time difference when dispensing reagents to each reaction vessel of a microplate. Therefore, the reaction time between the reaction containers can be made uniform, and the amount of antigen, etc. can be measured accurately.
しかも、マイクロプレートを使用することから、測定を
能率的に行なうことができると共に、装置を小形化する
ことができる。Moreover, since a microplate is used, measurements can be carried out efficiently and the apparatus can be made smaller.
特に、洗浄ノズル及び吸引ノズルを、マイクロプレート
の移動方向に沿って複数ずつ配列していると共に、上記
洗浄液の注入及び液の吸引を選択的に行なわせる制御手
段をさらに具備する場合には、各反応容器について、試
薬の反応時間及び洗浄回数を個別にコントロールするこ
とができる結果、抗原量等の測定を種々の条件下で容易
かつ能率的に行なうことができるという特有の効果を奏
する。In particular, when a plurality of cleaning nozzles and suction nozzles are arranged along the moving direction of the microplate, and a control means for selectively injecting the cleaning liquid and suctioning the liquid is provided, each As a result of being able to individually control the reaction time of the reagent and the number of washings of the reaction container, a unique effect is achieved in that the amount of antigen, etc. can be measured easily and efficiently under various conditions.
第1図はこの発明の反応容器の洗浄装置の一実施例を示
す斜視図、
第2図はマイクロプレートの斜視図、
第3図はノズルを反応容器内に導入した状態を示す側面
図、
第4図は反応容器内へのノズルの導入が規制された状態
を示す側面図、
第5図は配管系統を示す概略図、
第6図はストッパーのピン穴形成パターンを示す展開図
、
第7図はEIAの工程図。
4・・・吸引ノズル、5・・・ノズル昇降手段、6・・
・制御手段。FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of the reaction container cleaning device of the present invention, FIG. 2 is a perspective view of a microplate, FIG. 3 is a side view showing a state in which a nozzle is introduced into the reaction container, and FIG. Figure 4 is a side view showing a state in which the introduction of the nozzle into the reaction vessel is restricted, Figure 5 is a schematic diagram showing the piping system, Figure 6 is a developed view showing the pin hole formation pattern of the stopper, Figure 7 is a process diagram of EIA. 4... Suction nozzle, 5... Nozzle lifting means, 6...
- Control means.
Claims (1)
を、所定時間毎に当該反応容器の配列ピッチずつ間欠移
動させる搬送手段と、間欠移動されるマイクロプレート
の反応容器に順次洗浄液を注入する洗浄ノズルと、反応
容器内の液を順次吸引する吸引ノズルと、少なくとも吸
引ノズルを反応容器内に導入可能に昇降させるノズル昇
降手段とを具備することを特徴とする反応容器の洗浄装
置。 2、洗浄ノズル及び吸引ノズルを、マイクロプレートの
移動方向に沿って複数ずつ配列していると共に、上記洗
浄液の注入及び液の吸引を選択的に行なわせる制御手段
をさらに具備する請求項1記載の反応容器の洗浄装置。[Claims] 1. A transport means for intermittently moving a microplate in which a plurality of reaction vessels are arranged in series by the arrangement pitch of the reaction vessels at predetermined time intervals; Cleaning of a reaction vessel characterized by comprising a cleaning nozzle for injecting a cleaning liquid, a suction nozzle for sequentially suctioning the liquid in the reaction vessel, and a nozzle elevating means for raising and lowering at least the suction nozzle so as to be introduced into the reaction vessel. Device. 2. The microplate according to claim 1, further comprising a plurality of cleaning nozzles and suction nozzles arranged along the moving direction of the microplate, and a control means for selectively injecting the cleaning liquid and suctioning the liquid. Reaction vessel cleaning equipment.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34004389A JPH03202772A (en) | 1989-12-29 | 1989-12-29 | Apparatus for washing reaction container |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34004389A JPH03202772A (en) | 1989-12-29 | 1989-12-29 | Apparatus for washing reaction container |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03202772A true JPH03202772A (en) | 1991-09-04 |
Family
ID=18333187
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP34004389A Pending JPH03202772A (en) | 1989-12-29 | 1989-12-29 | Apparatus for washing reaction container |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03202772A (en) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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-
1989
- 1989-12-29 JP JP34004389A patent/JPH03202772A/en active Pending
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