JPH03190829A - インダン誘導体の製造方法 - Google Patents

インダン誘導体の製造方法

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JPH03190829A
JPH03190829A JP1328417A JP32841789A JPH03190829A JP H03190829 A JPH03190829 A JP H03190829A JP 1328417 A JP1328417 A JP 1328417A JP 32841789 A JP32841789 A JP 32841789A JP H03190829 A JPH03190829 A JP H03190829A
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松尾 充記
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匡之 大江
Keisaburo Yamaguchi
桂三郎 山口
Teruhiro Yamaguchi
彰宏 山口
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はインダン誘導体の製造方法に関する。
このインダン誘導体は、工業薬品中間体として重要であ
る。このうち、例えばこのものをニトロ化後、還元して
ジアミン類としてイソシアネート、エポキシ樹脂、ビス
マレイミド等の原料として使用することができる。また
、各種樹脂の硬化剤としての用途も多様であり、例えば
イソシアネート類の硬化剤として使用することができる
。さらに、エポキシ樹脂、ビスマレイミド類の硬化剤と
しても使用可能である。
〔従来の技術〕
本発明のインダン誘導体の製造方法として、例えば硫酸
を触媒としてベンゼン誘導体とイソプレンよりインダン
を製造する方法が知られている(P、W、に、フラナガ
ン等;ザ・ジャーナル・オヴ・オーガニ7ク・ケミスト
リー 33巻 No、52000〜2008ページ)。
〔発明が解決しようとする課題〕
前記製造方法では、以下のような問題点があった。すな
わち、 ■ 多量の濃硫酸を触媒として使用する。
■ 硫酸を用いるため、原料や生成物がスルポン化反応
等の副反応を受けやすく、収率の低下や再現性に問題が
ある。
■ スルホン化物の生成は、中和、洗浄工程において分
液性を極端に悪くする。
■ スルホン化反応を抑制するためには、温度を低くせ
ねばならず、その結果、反応温度を一20〜5°Cにコ
ントロールしなげればならない。
■ 廃硫酸の処理が必要である。
〔課題を解決するだめの手段〕
本発明者らは、前記問題点を解決するため鋭意検討した
結果、本発明を完成するにいたった。
本発明は、酸触媒として濃硫酸の代わりにアルカンスル
ホン酸を用いて、スルホン化等の副反応がなく、高収率
に目的物を製造する方法である。
すなわち、本発明は一般式(I) (式中、R,、R,はそれぞれ独立に水素原子または炭
素数1〜4の低級アルキル基を示す。)で表されるベン
ゼン誘導体とイソプレンを、一般式(n) R,−3O,H(II) (式中、R8は、炭素数1〜8の直鎖又は分枝のアルキ
ル基または脂環式アルキル基を示す。)で表されるアル
カンスルホン酸類を触媒として反応させることを特徴と
する一般式(I[I)(式中、R,、R2はそれぞれ独
立に水素原子または炭素数1〜4の低級アルキル基を示
す。)で表されるインダン誘導体の製造方法である。
本発明の製造法の特徴は、 ■ 硫酸を用いないので、原料や生成物がスルボン化反
応を受けない。よって、中和、洗浄時の分液性が硫酸を
使用する方法に比較して飛躍的に向上する。
■ 反応温度を低温下で行う必要がないので、冷却エネ
ルギーが不要となる。
■ アルカンスルホン酸は、分液、回収することができ
、かつ、再使用が可能であるため、廃酸の処理が不要で
ある。
■ 硫酸を使用する方法より収率において10%以上上
回ることができる。
本発明で、使用するベンゼン誘導体としては、ヘンゼン
、トルエン、キュメン、t−ブチルベンゼン、5ec−
ブチルベンゼン、0−キシレン、m−キシレン、p−キ
シレン、0−シメン、m−シメン、p−シメン、2−t
−ブチルトルエン、3−t−ブチルトルエン、4−t−
ブチルトルエン、2−3ec−ブチルトルエン、3−3
ecブチルトルエン、4Sec−ブヂルI・ルエン、0
−ジイソブロビルヘンゼン、m−ジイソブロピルヘンゼ
ン、p−ジイソプロピルλンセ゛ン等があげられるが、
これらのみに限定されるものではない。
これらの原料をアルカンスルホン酸触媒の存在下、イソ
プレンと反応させてインダン誘導体を製造する。
アルカンスルホン酸の量は、イソプレンに対して0.0
5〜20倍モル使用し、好ましくは0.3〜2.0倍モ
ルである。
ベンゼン誘導体とイソプレンの反応では、通常ベンゼン
誘導体を過剰に使用して行う。例えばイソプレンに対し
ベンゼン誘導体は、2〜20モル比、好ましくは2〜8
モル比の範囲で反応させてインダン誘導体を製造する。
反応温度は、10〜80°C1好ましくは20〜50°
Cの範囲で行う。
この際、原料等の沸点以上となる場合は、オートクレー
ブ等の加圧反応器を使用して行うことができる。この圧
力としては、通常10atm以下が一般的に多用される
前記反応温度で、反応温度が低すぎると環化反応の進行
が遅く、収率も低い。反応温度が高すぎるとイソプレン
の重合等、副反応が起こりやすく、収率は低下する。
反応を行う際、まず原料となるヘンゼン誘導体に触媒の
アルカンスルホン酸を装入するが、このときの温度は、
前記反応温度と同じでよい。
上記の如く調整した原料系にイソプレンを装入するが、
この際、イソプレンを0〜15倍モルのヘンゼン誘導体
で希釈してもなんらさしつかえない。
また、滴下速度は、反応温度をコントロールできる範囲
で行い、好ましくは1〜10時間で滴下を行う。滴下終
了後、同温度で0〜10時間、好ましくは1〜4時間攪
拌を行う。
反応の進行および終点は、ガスクロマトグラフィーで追
跡が可能である。
反応終了後、触媒のアルカンスルホン酸を分液し、水洗
する。この洗浄工程においての分液性は、硫酸使用法と
比較して、硫酸使用法では1時間以上経過後も懸濁状態
であるのに対し、本発明の方法では、5〜15分で分液
可能である。洗浄後の反応混合物を、濃縮、蒸留の後、
目的物であるインダン誘導体を得る。
このようにして製造できるインダン誘導体は、二般式(
III)で表され、R1、R2はそれぞれ独立に水素原
子または炭素数1〜4のアルキル基を示す。
これらのインダン誘導体としては、 1,1−ジメチル
インダン、 Ll4− トリメチルインダン、1.1.
5−トリメチルインダン、 1.R6−トリメチルイン
ダン、 1,1,4.5−テトラメチルインダン、1.
1,4.6−テトラメチルインダン、1,1,4.7−
テトラメチルインダン、1,1−ジメチル−4−イソプ
ロピルインダン、1.1−ジメチル−5−イソプロピル
インダン、 1.1−ジメチル−6−イソプロピルイン
ダン、1.1−ジメチル−4−t−ブチルインダン、1
,1−ジメチル−5−t−ブチルインダン、1.1−ジ
メチル−6−t−ブチルインダン、1.1ジメチル−4
−sec−ブチルインダン、1.1−ジメチル−5−s
ec−ブチルインダン、1.1−ジメチル6−see−
ブチルインダン、Ll、4−1−ジメチル5−イソプロ
ピルインダン、 1.R4−)ジメチル−5−t−ブチ
ルインダン、LL、4−)ジメチル5−3ec−ブチル
インダン、1.R4−トリメチル6−イソプロピルイン
ダン、Ll、4−トリメチル−6−t−ブチルインダン
、Ll、4−トリメチル6−3ec−ブチルインダン、
1..1.4−トリメチル7−イソプロピルインダン、
 1.R4−1−リメチルー7−t−ブチルインダン、
Ll4−1−リメチル7−sec−ブチルインダン、1
.、R5−1−ジメチル4−イソプロピルインダン、 
Ll5− )ツメチル−4−1−ブチルインダン、Ll
5− トリメチル4−sec−ブチルインダン、Ll、
5− )リフチル6−イソプロビルインダン、 1,1
.5−1−ジメチル−6−L−ブチルインダン、1.R
5−トリメチル6−sec−ブチルインダン、 1,1
.5−1−リメチル7−イソプロビルインダン、 1,
1..5−トリメチル−7−t−ブチルインダン、1.
1.5− トリメチル7−sec−ブチルインダン、■
、1,6−トリメチル4−イソプロピルインダン、 1
.R6−1−ジメチル−4−L−ブチルインダン、1.
1.6−トリメチル4−sec−ブチルインダン、1,
1,6−トリメチル5−イソプロピルインダン、]、L
6− トリメチル−5−t−ブチルインダン、1,1.
il−ジメチル5−sec−ブチルインダン、1,1.
6− )リメチル7−イソプロビルインダン、1.1.
6−1−リメチルー7−t−ブチルインダン、Ll6−
 )リメチル7−sec−ブチルインダン、Ll7−1
−ジメチル4−イソプロピルインダン、 1..1.7
−)ジメチル−4−t−ブチルインダン、1,1.7−
)ジメチル4−sec−ブチルインダン、1.R7−)
ジメチル5−イソプロピルインダン、 1,1,7−ド
リメチルー5−t−ブチルインダン、1,1..7−)
ジメチル5−8ec−ブチルインダン、1.R7−トリ
メチル6−イソプロビルインダン、 Ll、7− )ツ
メチル−6−t−ブチルインダン、1,1.7−ドリメ
チル6−sec−ブチルインダン、1.1−ジメチル4
.5−ジイソプロピルインダン、1,1−ジメチル4.
6−ジイソプロピルインダン、 1,1−ジメチル−4
,7−ジイソプロピルインダン等が挙げられるが、これ
らのみに限定されるものではない。
以下、実施例により本発明の方法を更に詳しく説明する
〔実施例〕
攪拌機、温度計及び冷却管を装備した反応フラスコにm
−キシレン200 g (I,,88mol)、メタン
スルホン酸29g (0,30mol)をそれぞれ装入
し、40°Cに加熱した。これにイソプレン40 g 
(0,59mol)、m−キシレン62 g (0,5
8mol)の混合物を、反応温度を40°C前後に保ち
つつ、3時間かけて滴下装入し、さらに1時間、同温度
で攪拌した。反応終了後、メタンスルホン酸層を静置分
液し、有機層に水100gを加え、アンモニア水で中和
した。水層を分液した後、過剰のm−キシレンを減圧留
去した。得られた残渣を減圧蒸留して、無色透明液体の
1.1.4.6−チトラメチルインダンを得た。
収量 87.1g(収率85%) 沸点 97〜98°C(8mmHg) 〔比較例〕 比較例として、硫酸触媒法による製造例を以下に示す。
攪拌機、温度計及び冷却管を装備した反応フラスコにm
−キシレン300g (2,82mol)を装入し、1 15°Cに冷却して93%硫酸165g (I,56m
ol)を滴下装入した。これにイソプレン68g (I
,00mol)、m−キシレン150g (I,41m
ol)の混合物を、反応温度を一10°C前後に保ちつ
つ、7時間かけて滴下装入し、さらに1時間、同温度で
攪拌した。反応終了後、硫酸層を静置分液し、有機層に
20%食塩水300gを添加し、アンモニアで中和した
。分液性が非常に悪く、70〜80°Cまで加温し、5
時間静置したが、白濁した有機層しか得られなかった。
また、過剰のm−キシレンを減圧留去する際、水分が多
量に残っているため、突沸しやすい。
引き続き残渣を減圧蒸留して、Ll、4.6−チトラメ
チルインダンを得た。
収量 129g(収率 69%) 沸点 105〜106°C(I6mm Hg)〔効果J このように、ベンゼン誘導体とイソプレンの反応におい
て、従来用いられてきた硫酸に変えて、アルカンスルホ
ン酸を使用することにより、収率の向上を達成するとと
もに、製造工程の大幅な簡2 酪化が可能となった。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R_1、R_2はそれぞれ独立に水素原子また
    は炭素数1〜4の低級アルキル基を示す。)で表される
    ベンゼン誘導体とイソプレンを、一般式(II) R_3−SO_3H(II) (式中、R_3は、炭素数1〜8の直鎖又は分枝のアル
    キル基または脂環式アルキル基を示す。)で表されるア
    ルカンスルホン酸類を触媒として反応させることを特徴
    とする一般式(III) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中、R_1、R_2はそれぞれ独立に水素原子また
    は炭素数1〜4の低級アルキル基を示す。)で表される
    インダン誘導体の製造方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS4966654A (ja) * 1972-10-24 1974-06-27

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