JPH03190829A - インダン誘導体の製造方法 - Google Patents
インダン誘導体の製造方法Info
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- JPH03190829A JPH03190829A JP1328417A JP32841789A JPH03190829A JP H03190829 A JPH03190829 A JP H03190829A JP 1328417 A JP1328417 A JP 1328417A JP 32841789 A JP32841789 A JP 32841789A JP H03190829 A JPH03190829 A JP H03190829A
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はインダン誘導体の製造方法に関する。
このインダン誘導体は、工業薬品中間体として重要であ
る。このうち、例えばこのものをニトロ化後、還元して
ジアミン類としてイソシアネート、エポキシ樹脂、ビス
マレイミド等の原料として使用することができる。また
、各種樹脂の硬化剤としての用途も多様であり、例えば
イソシアネート類の硬化剤として使用することができる
。さらに、エポキシ樹脂、ビスマレイミド類の硬化剤と
しても使用可能である。
る。このうち、例えばこのものをニトロ化後、還元して
ジアミン類としてイソシアネート、エポキシ樹脂、ビス
マレイミド等の原料として使用することができる。また
、各種樹脂の硬化剤としての用途も多様であり、例えば
イソシアネート類の硬化剤として使用することができる
。さらに、エポキシ樹脂、ビスマレイミド類の硬化剤と
しても使用可能である。
本発明のインダン誘導体の製造方法として、例えば硫酸
を触媒としてベンゼン誘導体とイソプレンよりインダン
を製造する方法が知られている(P、W、に、フラナガ
ン等;ザ・ジャーナル・オヴ・オーガニ7ク・ケミスト
リー 33巻 No、52000〜2008ページ)。
を触媒としてベンゼン誘導体とイソプレンよりインダン
を製造する方法が知られている(P、W、に、フラナガ
ン等;ザ・ジャーナル・オヴ・オーガニ7ク・ケミスト
リー 33巻 No、52000〜2008ページ)。
前記製造方法では、以下のような問題点があった。すな
わち、 ■ 多量の濃硫酸を触媒として使用する。
わち、 ■ 多量の濃硫酸を触媒として使用する。
■ 硫酸を用いるため、原料や生成物がスルポン化反応
等の副反応を受けやすく、収率の低下や再現性に問題が
ある。
等の副反応を受けやすく、収率の低下や再現性に問題が
ある。
■ スルホン化物の生成は、中和、洗浄工程において分
液性を極端に悪くする。
液性を極端に悪くする。
■ スルホン化反応を抑制するためには、温度を低くせ
ねばならず、その結果、反応温度を一20〜5°Cにコ
ントロールしなげればならない。
ねばならず、その結果、反応温度を一20〜5°Cにコ
ントロールしなげればならない。
■ 廃硫酸の処理が必要である。
本発明者らは、前記問題点を解決するため鋭意検討した
結果、本発明を完成するにいたった。
結果、本発明を完成するにいたった。
本発明は、酸触媒として濃硫酸の代わりにアルカンスル
ホン酸を用いて、スルホン化等の副反応がなく、高収率
に目的物を製造する方法である。
ホン酸を用いて、スルホン化等の副反応がなく、高収率
に目的物を製造する方法である。
すなわち、本発明は一般式(I)
(式中、R,、R,はそれぞれ独立に水素原子または炭
素数1〜4の低級アルキル基を示す。)で表されるベン
ゼン誘導体とイソプレンを、一般式(n) R,−3O,H(II) (式中、R8は、炭素数1〜8の直鎖又は分枝のアルキ
ル基または脂環式アルキル基を示す。)で表されるアル
カンスルホン酸類を触媒として反応させることを特徴と
する一般式(I[I)(式中、R,、R2はそれぞれ独
立に水素原子または炭素数1〜4の低級アルキル基を示
す。)で表されるインダン誘導体の製造方法である。
素数1〜4の低級アルキル基を示す。)で表されるベン
ゼン誘導体とイソプレンを、一般式(n) R,−3O,H(II) (式中、R8は、炭素数1〜8の直鎖又は分枝のアルキ
ル基または脂環式アルキル基を示す。)で表されるアル
カンスルホン酸類を触媒として反応させることを特徴と
する一般式(I[I)(式中、R,、R2はそれぞれ独
立に水素原子または炭素数1〜4の低級アルキル基を示
す。)で表されるインダン誘導体の製造方法である。
本発明の製造法の特徴は、
■ 硫酸を用いないので、原料や生成物がスルボン化反
応を受けない。よって、中和、洗浄時の分液性が硫酸を
使用する方法に比較して飛躍的に向上する。
応を受けない。よって、中和、洗浄時の分液性が硫酸を
使用する方法に比較して飛躍的に向上する。
■ 反応温度を低温下で行う必要がないので、冷却エネ
ルギーが不要となる。
ルギーが不要となる。
■ アルカンスルホン酸は、分液、回収することができ
、かつ、再使用が可能であるため、廃酸の処理が不要で
ある。
、かつ、再使用が可能であるため、廃酸の処理が不要で
ある。
■ 硫酸を使用する方法より収率において10%以上上
回ることができる。
回ることができる。
本発明で、使用するベンゼン誘導体としては、ヘンゼン
、トルエン、キュメン、t−ブチルベンゼン、5ec−
ブチルベンゼン、0−キシレン、m−キシレン、p−キ
シレン、0−シメン、m−シメン、p−シメン、2−t
−ブチルトルエン、3−t−ブチルトルエン、4−t−
ブチルトルエン、2−3ec−ブチルトルエン、3−3
ecブチルトルエン、4Sec−ブヂルI・ルエン、0
−ジイソブロビルヘンゼン、m−ジイソブロピルヘンゼ
ン、p−ジイソプロピルλンセ゛ン等があげられるが、
これらのみに限定されるものではない。
、トルエン、キュメン、t−ブチルベンゼン、5ec−
ブチルベンゼン、0−キシレン、m−キシレン、p−キ
シレン、0−シメン、m−シメン、p−シメン、2−t
−ブチルトルエン、3−t−ブチルトルエン、4−t−
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−ジイソブロビルヘンゼン、m−ジイソブロピルヘンゼ
ン、p−ジイソプロピルλンセ゛ン等があげられるが、
これらのみに限定されるものではない。
これらの原料をアルカンスルホン酸触媒の存在下、イソ
プレンと反応させてインダン誘導体を製造する。
プレンと反応させてインダン誘導体を製造する。
アルカンスルホン酸の量は、イソプレンに対して0.0
5〜20倍モル使用し、好ましくは0.3〜2.0倍モ
ルである。
5〜20倍モル使用し、好ましくは0.3〜2.0倍モ
ルである。
ベンゼン誘導体とイソプレンの反応では、通常ベンゼン
誘導体を過剰に使用して行う。例えばイソプレンに対し
ベンゼン誘導体は、2〜20モル比、好ましくは2〜8
モル比の範囲で反応させてインダン誘導体を製造する。
誘導体を過剰に使用して行う。例えばイソプレンに対し
ベンゼン誘導体は、2〜20モル比、好ましくは2〜8
モル比の範囲で反応させてインダン誘導体を製造する。
反応温度は、10〜80°C1好ましくは20〜50°
Cの範囲で行う。
Cの範囲で行う。
この際、原料等の沸点以上となる場合は、オートクレー
ブ等の加圧反応器を使用して行うことができる。この圧
力としては、通常10atm以下が一般的に多用される
。
ブ等の加圧反応器を使用して行うことができる。この圧
力としては、通常10atm以下が一般的に多用される
。
前記反応温度で、反応温度が低すぎると環化反応の進行
が遅く、収率も低い。反応温度が高すぎるとイソプレン
の重合等、副反応が起こりやすく、収率は低下する。
が遅く、収率も低い。反応温度が高すぎるとイソプレン
の重合等、副反応が起こりやすく、収率は低下する。
反応を行う際、まず原料となるヘンゼン誘導体に触媒の
アルカンスルホン酸を装入するが、このときの温度は、
前記反応温度と同じでよい。
アルカンスルホン酸を装入するが、このときの温度は、
前記反応温度と同じでよい。
上記の如く調整した原料系にイソプレンを装入するが、
この際、イソプレンを0〜15倍モルのヘンゼン誘導体
で希釈してもなんらさしつかえない。
この際、イソプレンを0〜15倍モルのヘンゼン誘導体
で希釈してもなんらさしつかえない。
また、滴下速度は、反応温度をコントロールできる範囲
で行い、好ましくは1〜10時間で滴下を行う。滴下終
了後、同温度で0〜10時間、好ましくは1〜4時間攪
拌を行う。
で行い、好ましくは1〜10時間で滴下を行う。滴下終
了後、同温度で0〜10時間、好ましくは1〜4時間攪
拌を行う。
反応の進行および終点は、ガスクロマトグラフィーで追
跡が可能である。
跡が可能である。
反応終了後、触媒のアルカンスルホン酸を分液し、水洗
する。この洗浄工程においての分液性は、硫酸使用法と
比較して、硫酸使用法では1時間以上経過後も懸濁状態
であるのに対し、本発明の方法では、5〜15分で分液
可能である。洗浄後の反応混合物を、濃縮、蒸留の後、
目的物であるインダン誘導体を得る。
する。この洗浄工程においての分液性は、硫酸使用法と
比較して、硫酸使用法では1時間以上経過後も懸濁状態
であるのに対し、本発明の方法では、5〜15分で分液
可能である。洗浄後の反応混合物を、濃縮、蒸留の後、
目的物であるインダン誘導体を得る。
このようにして製造できるインダン誘導体は、二般式(
III)で表され、R1、R2はそれぞれ独立に水素原
子または炭素数1〜4のアルキル基を示す。
III)で表され、R1、R2はそれぞれ独立に水素原
子または炭素数1〜4のアルキル基を示す。
これらのインダン誘導体としては、 1,1−ジメチル
インダン、 Ll4− トリメチルインダン、1.1.
5−トリメチルインダン、 1.R6−トリメチルイン
ダン、 1,1,4.5−テトラメチルインダン、1.
1,4.6−テトラメチルインダン、1,1,4.7−
テトラメチルインダン、1,1−ジメチル−4−イソプ
ロピルインダン、1.1−ジメチル−5−イソプロピル
インダン、 1.1−ジメチル−6−イソプロピルイン
ダン、1.1−ジメチル−4−t−ブチルインダン、1
,1−ジメチル−5−t−ブチルインダン、1.1−ジ
メチル−6−t−ブチルインダン、1.1ジメチル−4
−sec−ブチルインダン、1.1−ジメチル−5−s
ec−ブチルインダン、1.1−ジメチル6−see−
ブチルインダン、Ll、4−1−ジメチル5−イソプロ
ピルインダン、 1.R4−)ジメチル−5−t−ブチ
ルインダン、LL、4−)ジメチル5−3ec−ブチル
インダン、1.R4−トリメチル6−イソプロピルイン
ダン、Ll、4−トリメチル−6−t−ブチルインダン
、Ll、4−トリメチル6−3ec−ブチルインダン、
1..1.4−トリメチル7−イソプロピルインダン、
1.R4−1−リメチルー7−t−ブチルインダン、
Ll4−1−リメチル7−sec−ブチルインダン、1
.、R5−1−ジメチル4−イソプロピルインダン、
Ll5− )ツメチル−4−1−ブチルインダン、Ll
5− トリメチル4−sec−ブチルインダン、Ll、
5− )リフチル6−イソプロビルインダン、 1,1
.5−1−ジメチル−6−L−ブチルインダン、1.R
5−トリメチル6−sec−ブチルインダン、 1,1
.5−1−リメチル7−イソプロビルインダン、 1,
1..5−トリメチル−7−t−ブチルインダン、1.
1.5− トリメチル7−sec−ブチルインダン、■
、1,6−トリメチル4−イソプロピルインダン、 1
.R6−1−ジメチル−4−L−ブチルインダン、1.
1.6−トリメチル4−sec−ブチルインダン、1,
1,6−トリメチル5−イソプロピルインダン、]、L
6− トリメチル−5−t−ブチルインダン、1,1.
il−ジメチル5−sec−ブチルインダン、1,1.
6− )リメチル7−イソプロビルインダン、1.1.
6−1−リメチルー7−t−ブチルインダン、Ll6−
)リメチル7−sec−ブチルインダン、Ll7−1
−ジメチル4−イソプロピルインダン、 1..1.7
−)ジメチル−4−t−ブチルインダン、1,1.7−
)ジメチル4−sec−ブチルインダン、1.R7−)
ジメチル5−イソプロピルインダン、 1,1,7−ド
リメチルー5−t−ブチルインダン、1,1..7−)
ジメチル5−8ec−ブチルインダン、1.R7−トリ
メチル6−イソプロビルインダン、 Ll、7− )ツ
メチル−6−t−ブチルインダン、1,1.7−ドリメ
チル6−sec−ブチルインダン、1.1−ジメチル4
.5−ジイソプロピルインダン、1,1−ジメチル4.
6−ジイソプロピルインダン、 1,1−ジメチル−4
,7−ジイソプロピルインダン等が挙げられるが、これ
らのみに限定されるものではない。
インダン、 Ll4− トリメチルインダン、1.1.
5−トリメチルインダン、 1.R6−トリメチルイン
ダン、 1,1,4.5−テトラメチルインダン、1.
1,4.6−テトラメチルインダン、1,1,4.7−
テトラメチルインダン、1,1−ジメチル−4−イソプ
ロピルインダン、1.1−ジメチル−5−イソプロピル
インダン、 1.1−ジメチル−6−イソプロピルイン
ダン、1.1−ジメチル−4−t−ブチルインダン、1
,1−ジメチル−5−t−ブチルインダン、1.1−ジ
メチル−6−t−ブチルインダン、1.1ジメチル−4
−sec−ブチルインダン、1.1−ジメチル−5−s
ec−ブチルインダン、1.1−ジメチル6−see−
ブチルインダン、Ll、4−1−ジメチル5−イソプロ
ピルインダン、 1.R4−)ジメチル−5−t−ブチ
ルインダン、LL、4−)ジメチル5−3ec−ブチル
インダン、1.R4−トリメチル6−イソプロピルイン
ダン、Ll、4−トリメチル−6−t−ブチルインダン
、Ll、4−トリメチル6−3ec−ブチルインダン、
1..1.4−トリメチル7−イソプロピルインダン、
1.R4−1−リメチルー7−t−ブチルインダン、
Ll4−1−リメチル7−sec−ブチルインダン、1
.、R5−1−ジメチル4−イソプロピルインダン、
Ll5− )ツメチル−4−1−ブチルインダン、Ll
5− トリメチル4−sec−ブチルインダン、Ll、
5− )リフチル6−イソプロビルインダン、 1,1
.5−1−ジメチル−6−L−ブチルインダン、1.R
5−トリメチル6−sec−ブチルインダン、 1,1
.5−1−リメチル7−イソプロビルインダン、 1,
1..5−トリメチル−7−t−ブチルインダン、1.
1.5− トリメチル7−sec−ブチルインダン、■
、1,6−トリメチル4−イソプロピルインダン、 1
.R6−1−ジメチル−4−L−ブチルインダン、1.
1.6−トリメチル4−sec−ブチルインダン、1,
1,6−トリメチル5−イソプロピルインダン、]、L
6− トリメチル−5−t−ブチルインダン、1,1.
il−ジメチル5−sec−ブチルインダン、1,1.
6− )リメチル7−イソプロビルインダン、1.1.
6−1−リメチルー7−t−ブチルインダン、Ll6−
)リメチル7−sec−ブチルインダン、Ll7−1
−ジメチル4−イソプロピルインダン、 1..1.7
−)ジメチル−4−t−ブチルインダン、1,1.7−
)ジメチル4−sec−ブチルインダン、1.R7−)
ジメチル5−イソプロピルインダン、 1,1,7−ド
リメチルー5−t−ブチルインダン、1,1..7−)
ジメチル5−8ec−ブチルインダン、1.R7−トリ
メチル6−イソプロビルインダン、 Ll、7− )ツ
メチル−6−t−ブチルインダン、1,1.7−ドリメ
チル6−sec−ブチルインダン、1.1−ジメチル4
.5−ジイソプロピルインダン、1,1−ジメチル4.
6−ジイソプロピルインダン、 1,1−ジメチル−4
,7−ジイソプロピルインダン等が挙げられるが、これ
らのみに限定されるものではない。
以下、実施例により本発明の方法を更に詳しく説明する
。
。
攪拌機、温度計及び冷却管を装備した反応フラスコにm
−キシレン200 g (I,,88mol)、メタン
スルホン酸29g (0,30mol)をそれぞれ装入
し、40°Cに加熱した。これにイソプレン40 g
(0,59mol)、m−キシレン62 g (0,5
8mol)の混合物を、反応温度を40°C前後に保ち
つつ、3時間かけて滴下装入し、さらに1時間、同温度
で攪拌した。反応終了後、メタンスルホン酸層を静置分
液し、有機層に水100gを加え、アンモニア水で中和
した。水層を分液した後、過剰のm−キシレンを減圧留
去した。得られた残渣を減圧蒸留して、無色透明液体の
1.1.4.6−チトラメチルインダンを得た。
−キシレン200 g (I,,88mol)、メタン
スルホン酸29g (0,30mol)をそれぞれ装入
し、40°Cに加熱した。これにイソプレン40 g
(0,59mol)、m−キシレン62 g (0,5
8mol)の混合物を、反応温度を40°C前後に保ち
つつ、3時間かけて滴下装入し、さらに1時間、同温度
で攪拌した。反応終了後、メタンスルホン酸層を静置分
液し、有機層に水100gを加え、アンモニア水で中和
した。水層を分液した後、過剰のm−キシレンを減圧留
去した。得られた残渣を減圧蒸留して、無色透明液体の
1.1.4.6−チトラメチルインダンを得た。
収量 87.1g(収率85%)
沸点 97〜98°C(8mmHg)
〔比較例〕
比較例として、硫酸触媒法による製造例を以下に示す。
攪拌機、温度計及び冷却管を装備した反応フラスコにm
−キシレン300g (2,82mol)を装入し、1 15°Cに冷却して93%硫酸165g (I,56m
ol)を滴下装入した。これにイソプレン68g (I
,00mol)、m−キシレン150g (I,41m
ol)の混合物を、反応温度を一10°C前後に保ちつ
つ、7時間かけて滴下装入し、さらに1時間、同温度で
攪拌した。反応終了後、硫酸層を静置分液し、有機層に
20%食塩水300gを添加し、アンモニアで中和した
。分液性が非常に悪く、70〜80°Cまで加温し、5
時間静置したが、白濁した有機層しか得られなかった。
−キシレン300g (2,82mol)を装入し、1 15°Cに冷却して93%硫酸165g (I,56m
ol)を滴下装入した。これにイソプレン68g (I
,00mol)、m−キシレン150g (I,41m
ol)の混合物を、反応温度を一10°C前後に保ちつ
つ、7時間かけて滴下装入し、さらに1時間、同温度で
攪拌した。反応終了後、硫酸層を静置分液し、有機層に
20%食塩水300gを添加し、アンモニアで中和した
。分液性が非常に悪く、70〜80°Cまで加温し、5
時間静置したが、白濁した有機層しか得られなかった。
また、過剰のm−キシレンを減圧留去する際、水分が多
量に残っているため、突沸しやすい。
量に残っているため、突沸しやすい。
引き続き残渣を減圧蒸留して、Ll、4.6−チトラメ
チルインダンを得た。
チルインダンを得た。
収量 129g(収率 69%)
沸点 105〜106°C(I6mm Hg)〔効果J
このように、ベンゼン誘導体とイソプレンの反応におい
て、従来用いられてきた硫酸に変えて、アルカンスルホ
ン酸を使用することにより、収率の向上を達成するとと
もに、製造工程の大幅な簡2 酪化が可能となった。
て、従来用いられてきた硫酸に変えて、アルカンスルホ
ン酸を使用することにより、収率の向上を達成するとと
もに、製造工程の大幅な簡2 酪化が可能となった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R_1、R_2はそれぞれ独立に水素原子また
は炭素数1〜4の低級アルキル基を示す。)で表される
ベンゼン誘導体とイソプレンを、一般式(II) R_3−SO_3H(II) (式中、R_3は、炭素数1〜8の直鎖又は分枝のアル
キル基または脂環式アルキル基を示す。)で表されるア
ルカンスルホン酸類を触媒として反応させることを特徴
とする一般式(III) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中、R_1、R_2はそれぞれ独立に水素原子また
は炭素数1〜4の低級アルキル基を示す。)で表される
インダン誘導体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1328417A JP2792967B2 (ja) | 1989-12-20 | 1989-12-20 | インダン誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1328417A JP2792967B2 (ja) | 1989-12-20 | 1989-12-20 | インダン誘導体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03190829A true JPH03190829A (ja) | 1991-08-20 |
JP2792967B2 JP2792967B2 (ja) | 1998-09-03 |
Family
ID=18210030
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1328417A Expired - Lifetime JP2792967B2 (ja) | 1989-12-20 | 1989-12-20 | インダン誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2792967B2 (ja) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4966654A (ja) * | 1972-10-24 | 1974-06-27 |
-
1989
- 1989-12-20 JP JP1328417A patent/JP2792967B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4966654A (ja) * | 1972-10-24 | 1974-06-27 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2792967B2 (ja) | 1998-09-03 |
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