JPH03186247A - Pulse wave detecting device - Google Patents
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- JPH03186247A JPH03186247A JP32684489A JP32684489A JPH03186247A JP H03186247 A JPH03186247 A JP H03186247A JP 32684489 A JP32684489 A JP 32684489A JP 32684489 A JP32684489 A JP 32684489A JP H03186247 A JPH03186247 A JP H03186247A
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- Measuring Pulse, Heart Rate, Blood Pressure Or Blood Flow (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、生体の動脈内の圧脈波を、その生体の皮膚上
から動脈に向かって圧力検出素子を押圧することにより
検出する脈波検出装置に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of Industrial Application The present invention relates to a pulse wave detection device that detects pressure pulse waves in an artery of a living body by pressing a pressure detection element from the skin of the living body toward the artery. It is related to.
従来の技術
生体の動脈内の圧脈波を、その生体の皮膚上から動脈に
向かって圧力検出素子を押圧することにより検出する脈
波検出装置の一種に、圧力検出素子が形成された半導体
基板の一面を生体の皮膚に押圧する形成のものがある。Prior Art A semiconductor substrate on which a pressure detection element is formed is a type of pulse wave detection device that detects pressure pulse waves in an artery of a living body by pressing a pressure detection element from the skin of the living body toward the artery. There is one that is formed so that one side of the body is pressed against the skin of the living body.
たとえば、実開平1−43905号に記載された脈波検
出装置がそれである。For example, there is a pulse wave detection device described in Utility Model Application Publication No. 1-43905.
発明が解決すべき課題
ところで、上記従来の脈波検出装置によれば、検出対象
からの圧力が伝播されたときに歪が生じるように半導体
基板の一部に薄肉部が形成され、この薄肉部に形成され
た半導体歪ゲージにより圧力が電気信号に変換され、圧
力信号として出力されるようになっている。しかし、半
導体基板の一面に形成された圧力検出素子を生体の皮膚
に押圧した状態で圧力検出が継続される際において、圧
力に変動がないのにも拘わらず、時として圧力信号波形
のオフセットが急変したり或いは外来光に感応して圧力
信号が変動する不都合があった。Problems to be Solved by the Invention However, according to the above-mentioned conventional pulse wave detection device, a thin part is formed in a part of the semiconductor substrate so that distortion occurs when pressure from a detection target is propagated, and this thin part Pressure is converted into an electrical signal by a semiconductor strain gauge formed in the sensor, and the pressure is output as a pressure signal. However, when pressure detection is continued with a pressure detection element formed on one side of a semiconductor substrate pressed against the skin of a living body, there is sometimes an offset in the pressure signal waveform even though there is no change in pressure. There is a problem in that the pressure signal fluctuates due to sudden changes or in response to external light.
本発明は以上の事情を背景として為されたものであり、
その目的とするところは、脈波検出中において圧力信号
波形の急変のない脈波検出装置を提供することにある。The present invention has been made against the background of the above circumstances,
The purpose is to provide a pulse wave detection device in which the pressure signal waveform does not suddenly change during pulse wave detection.
課題を解決するための手段
かかる目的を遠戚するため、本発明者等は種々検討を行
うとともに確認試験を重ねた結果、生体に発生する静電
気が圧力信号に影響することを見出した。本発明はかか
る知見に基づいて為されたものである。Means for Solving the Problems In order to remotely achieve this objective, the present inventors conducted various studies and conducted confirmation tests, and as a result, they discovered that static electricity generated in living organisms affects pressure signals. The present invention has been made based on this knowledge.
すなわち、本発明の要旨とするところは、感圧素子が一
面に形成された半導体基板を備え、その半導体基板の一
面を生体の皮膚に押圧することにより、その皮膚下に位
置する動脈から発生する圧脈波を検出する脈波検出装置
において、導電性材料から成るシールド層を前記半導体
基板の一面に設けたことにある。In other words, the gist of the present invention is to provide a semiconductor substrate on which a pressure-sensitive element is formed on one side, and to press one side of the semiconductor substrate against the skin of a living body to detect pressure-sensitive elements generated from arteries located under the skin. In a pulse wave detection device for detecting pressure pulse waves, a shield layer made of a conductive material is provided on one surface of the semiconductor substrate.
作用および発明の効果
このようにすれば、感圧素子が形成されている半導体基
板の一面に導電性材料から威るシールド層が設けられる
ので、半導体基板の押圧面が静電シールドされる。この
ため、生体に生じる静電気の影響を受は難くなって、圧
力信号のオフセットが急変したり或いは外来光に感応し
て圧力信号が変動することが解消される。Operation and Effects of the Invention In this manner, a shield layer made of a conductive material is provided on one surface of the semiconductor substrate on which the pressure-sensitive element is formed, so that the pressing surface of the semiconductor substrate is electrostatically shielded. Therefore, it is less susceptible to the effects of static electricity generated in the living body, and it is possible to eliminate sudden changes in the offset of the pressure signal or fluctuations in the pressure signal in response to external light.
実施例
以下、本発明の一実施例を図面に基づいて詳細に説明す
る。EXAMPLE Hereinafter, an example of the present invention will be described in detail based on the drawings.
第2図は、本発明の一実施例である脈波検出装置を示す
断面図である。ハウジング10は、樹脂製であって全体
として容器状を威し、長手方向の側面の基本形状が三日
月状に形成されているとともに、底壁の幅方向中間部が
長手方向に沿って所定形状に突き出した形状とされてい
る。このようなハウジング10は、その開口端がたとえ
ば手首などの生体の一部においてその表面12に対向す
る状態で装着バンド14により着脱可能に取り付けられ
るようになっている。FIG. 2 is a sectional view showing a pulse wave detection device which is an embodiment of the present invention. The housing 10 is made of resin and has a container-like shape as a whole, and the basic shape of the longitudinal side surface is formed in a crescent shape, and the widthwise middle part of the bottom wall has a predetermined shape along the longitudinal direction. It is said to have a protruding shape. Such a housing 10 is configured to be removably attached using a mounting band 14 with its open end facing a surface 12 of a part of a living body such as a wrist.
減速ギアユニット22をハウジング10に固定するため
に、断面り字形の樹脂製の支持プレート24がねじ部材
23により減速ギアユニット22に固定されており、そ
の−面から突き出す一対のブラケット26(一方のみ図
示)がねじ部材25によりハウジング10の相対向する
側壁18に固着されている。減速ギアユニット22は、
第1歯車30と噛み合う第2歯車32と、第2歯車32
と同軸に固定された第3歯車34と、第3歯車34と噛
み合う第4歯車36と、第4歯車36と同軸に固定され
た第5歯車38と、第5歯車38と噛み合う状態で駆動
モータ40の出力軸42に固定された第6歯車44とを
金属製の枠部材28内にそれぞれ回転可能に備えている
。上記第1歯車30は、枠部材28に嵌め着けられた樹
脂製の軸受46を貫通した送りねじ48の一端部に固定
されている。これにより、送りねじ48と駆動モータ4
0とが作動的に連結され、駆動モータ40により送りね
じ48が回転駆動されるようになっている。なお、上記
駆動モータ40は、枠部材28に固定されている。In order to fix the reduction gear unit 22 to the housing 10, a support plate 24 made of resin and having an angular cross section is fixed to the reduction gear unit 22 by screw members 23, and a pair of brackets 26 (only one of which (shown) are fixed to opposing side walls 18 of the housing 10 by screw members 25. The reduction gear unit 22 is
a second gear 32 that meshes with the first gear 30;
a third gear 34 coaxially fixed to the third gear 34; a fourth gear 36 meshing with the third gear 34; a fifth gear 38 coaxially fixing the fourth gear 36; and a drive motor in mesh with the fifth gear 38. A sixth gear 44 fixed to the output shaft 42 of 40 is rotatably provided within the metal frame member 28. The first gear 30 is fixed to one end of a feed screw 48 that passes through a resin bearing 46 fitted to the frame member 28. As a result, the feed screw 48 and the drive motor 4
0 are operatively connected to each other, and the feed screw 48 is rotationally driven by the drive motor 40. Note that the drive motor 40 is fixed to the frame member 28.
ハウジング10の端部には、偏心軸受50を嵌め着ける
ための穴52が形成されており、前記送りねじ48の他
端部はその偏心軸受50により支持されている。これに
より送りねじ48は、回転可能な状態でハウジング10
の幅方向中央に位置させられている。この偏心軸受50
の回転位置が変更されることにより、偏心穴58に嵌合
された送りねじ48の他端部が第2図中上下および左右
方向に変位させられるようになっている。A hole 52 into which an eccentric bearing 50 is fitted is formed at the end of the housing 10, and the other end of the feed screw 48 is supported by the eccentric bearing 50. As a result, the feed screw 48 is rotatably attached to the housing 10.
It is located at the center in the width direction. This eccentric bearing 50
By changing the rotational position of the feed screw 48, the other end of the feed screw 48 fitted into the eccentric hole 58 can be displaced in the vertical and horizontal directions in FIG.
押圧装置66番よ、送りねじ48に螺合された螺合部材
68およびその螺合部材68の下側にダイヤフラム70
を介して固定された角筒状部材72とから構成されてい
る。そして、ダイアフラム70の中央部には、脈波セン
サ74が固定されている。上記螺合部材68とダイアフ
ラム70とによって圧力室76が形成されるので、この
圧力室76に図示しない圧力調節装置から所定の圧力が
供給されると、上記脈波センサ74が圧力室76の圧力
に応じた押圧力で生体の表面12に向かって押圧される
ようになっている。脈波センサ74の押圧面78には、
後述のように、半導体歪抵抗や感圧ダイオード等の複数
の圧力検出素子が配列された半導体基板が設けられてお
り、駆動モータ40により駆動されることにより脈波セ
ンサ74が動脈80の真上に位置させられるとともに、
動脈80の壁の一部が平坦になるように押圧された状態
で、動脈80から心拍に同期して発生する圧脈波が検出
されるようになっている。Pressing device No. 66, a threaded member 68 threaded onto the feed screw 48 and a diaphragm 70 underneath the threaded member 68.
It is composed of a rectangular tubular member 72 fixed via a cylindrical member 72. A pulse wave sensor 74 is fixed to the center of the diaphragm 70. A pressure chamber 76 is formed by the screw member 68 and the diaphragm 70, so when a predetermined pressure is supplied to this pressure chamber 76 from a pressure regulating device (not shown), the pulse wave sensor 74 detects the pressure in the pressure chamber 76. It is pressed toward the surface 12 of the living body with a pressing force corresponding to the pressure. On the pressing surface 78 of the pulse wave sensor 74,
As will be described later, a semiconductor substrate is provided on which a plurality of pressure detection elements such as semiconductor strain resistors and pressure-sensitive diodes are arranged, and when driven by the drive motor 40, the pulse wave sensor 74 is positioned directly above the artery 80. In addition to being located in
A pressure pulse wave generated from the artery 80 in synchronization with the heartbeat is detected while a portion of the wall of the artery 80 is pressed flat.
上記脈波センサ74は、第1図に詳しく示すように、導
体が積層配線され且つ裏面に増幅用IC82およびマル
チプレクサ用IC84などが固着されてケース部材86
の開口に嵌め着けられたセラミック基板88と、セラ果
ツク或いは樹脂などの電気的絶縁材料から構成され且つ
スルーホールなどによって表裏に配線されてセラミック
基板88に重ねた状態でケース部材86の開口に嵌め着
けられた支持プレート90と、その支持プレート90の
中央部に固着されることにより支持されているセンサ本
体92とを備えている。このセンサ本体92は、第3図
の斜視図にも示すように、比較的剛性の高い材料から構
成されているバックアツプ板96と、このバックアツプ
板96の表面に接着された半導体基板98とから構成さ
れている。As shown in detail in FIG. 1, the pulse wave sensor 74 has a case member 86 in which conductors are laminated and wired, and an amplification IC 82, a multiplexer IC 84, etc. are fixed to the back surface.
A ceramic substrate 88 is fitted into the opening of the case member 86, and the ceramic substrate 88 is made of an electrically insulating material such as ceramic or resin, and is wired on the front and back sides through through holes. It includes a support plate 90 that is fitted, and a sensor main body 92 that is supported by being fixed to the center of the support plate 90. As shown in the perspective view of FIG. 3, this sensor body 92 includes a back-up plate 96 made of a relatively rigid material, and a semiconductor substrate 98 bonded to the surface of this back-up plate 96. It consists of
上記バックアツプ板96と半導体基板9日とは、エポキ
シ樹脂或いはシリコンゴムなどにより好適に接着される
。上記バックアツプ板96は、石英ガラス製或いは半導
体基板98と同じ半導体製の厚内板などが用いられる。The backup plate 96 and the semiconductor substrate 9 are preferably bonded together using epoxy resin, silicone rubber, or the like. As the backup plate 96, a thick inner plate made of quartz glass or the same semiconductor as the semiconductor substrate 98 is used.
なお、熱膨張差の影響を除去するためには、半導体基板
98と同じ半導体製のバックアツプ板96の上にシリコ
ンゴムを用いて半導体基板98を接着するのが最も好ま
しい組み合わせである。In order to eliminate the influence of the difference in thermal expansion, the most preferable combination is to bond the semiconductor substrate 98 onto a backup plate 96 made of the same semiconductor as the semiconductor substrate 98 using silicone rubber.
本実施例では、半導体基板98はシリコン単結晶板であ
り、第3図に示すように、その中央部には、接触圧を検
知するための複数の感圧素子100が一方向に沿って配
列されている。本実施例の脈波検出装置は、上記感圧素
子100が動脈80の真上に位置し且つそれらの配列方
向が動脈80と直交する姿勢で、脈波センサ74が押圧
されるようになっている。500μm乃至1500um
の厚みとされることにより剛性が高められているバック
アツプ板96には、支持プレート90およびセラもツク
基板88の中央穴を通して半導体基板98の裏面(非押
圧側の面)に大気圧を導くための貫通穴102が設けら
れている。半導体基板98は、3005クロン程度の厚
みを備えており、その裏面に長手状の凹陥部が形成され
ることにより、厚みが数乃至十数ξクロンの薄肉部10
6が形成されている。第4図に示すように、上記薄肉部
106には、半導体基板98の厚みよりも低い高さを備
え且つ上記長手状の凹陥部を横断する突条108が一定
の間隔で複数本形成され、上記薄肉部106の突条10
8の間に位置する部分において前記感圧素子100が複
数設けられているのである。In this embodiment, the semiconductor substrate 98 is a silicon single crystal plate, and as shown in FIG. 3, a plurality of pressure sensitive elements 100 for detecting contact pressure are arranged in one direction in the center thereof. has been done. In the pulse wave detection device of this embodiment, the pulse wave sensor 74 is pressed when the pressure sensing element 100 is positioned directly above the artery 80 and the arrangement direction thereof is perpendicular to the artery 80. There is. 500μm to 1500um
The back-up plate 96, which has increased rigidity by having a thickness of A through hole 102 is provided for this purpose. The semiconductor substrate 98 has a thickness of about 3005 ξcm, and by forming a longitudinal concave portion on the back surface, a thin portion 10 having a thickness of several to tens of ξcm is formed.
6 is formed. As shown in FIG. 4, a plurality of protrusions 108 are formed at regular intervals in the thin portion 106 and have a height lower than the thickness of the semiconductor substrate 98 and cross the longitudinal recessed portion. Projection 10 of the thin wall portion 106
A plurality of the pressure sensitive elements 100 are provided in the portion located between the pressure sensitive elements 8 and 8.
上記突条10Bの高さは、クロストークを防止するため
に適宜決定される。The height of the protrusion 10B is appropriately determined to prevent crosstalk.
第4図は、半導体基板98の押圧面を正面から見た図で
あり、上記突条108の間の薄肉部106に配設されて
いる感圧素子100の構成を示している。図においては
1つの感圧素子100についての配置および接続構造が
示されている。4つの歪抵抗素子110a、110b、
110c、110dは、たとえば所定の不純物の拡散或
いは注入などの良く知られた半導体製造手法を用いて形
成されている。また、上記4つの歪抵抗素子11Oa、
110b、110C1110dの電橋を構成するための
導体112a、112b、112c、112dも、所定
の不純物の拡散或いは注入などの良く知られた半導体製
造手法を用いて形成されている。上記歪抵抗素子110
a、110b、110c、110dおよび導体112a
、112b、112c、112dにより構成された電橋
は、それが配設されている薄肉部106に加えられた歪
に対応した電気信号を発生するので、1つの感圧素子1
00を構成しているのである。なお、上記歪抵抗素子1
10a、110b、110c、110dおよび導体11
2a、、112b、112c。FIG. 4 is a front view of the pressing surface of the semiconductor substrate 98, and shows the configuration of the pressure sensitive element 100 disposed in the thin portion 106 between the protrusions 108. In the figure, the arrangement and connection structure of one pressure sensitive element 100 is shown. four strain resistance elements 110a, 110b,
110c and 110d are formed using well-known semiconductor manufacturing techniques such as diffusion or implantation of predetermined impurities. In addition, the four strain resistance elements 11Oa,
The conductors 112a, 112b, 112c, and 112d for constituting the electric bridges 110b, 110C, and 1110d are also formed using well-known semiconductor manufacturing techniques such as diffusion or implantation of predetermined impurities. The strain resistance element 110
a, 110b, 110c, 110d and conductor 112a
, 112b, 112c, and 112d generates an electric signal corresponding to the strain applied to the thin wall portion 106 on which it is installed, so one pressure-sensitive element 1
00. Note that the strain resistance element 1
10a, 110b, 110c, 110d and conductor 11
2a, 112b, 112c.
112dは、半導体基板98の不純物濃度を局所的に高
めることにより構成されているので、通常は目視できな
い。112d is formed by locally increasing the impurity concentration of the semiconductor substrate 98, and therefore cannot normally be visually observed.
第1図に戻って、前記増幅用IC82およびマルチプレ
クサ用IC84とセラミック基板88との間、セラミッ
ク基板88と支持プレート90との間、および半導体基
板98と支持プレー)90との間は、ボンディングワイ
ヤ114によって相互に接続されている。そして、上記
半導体基板98の上には、エポキシ樹脂やシリコン樹脂
などにより構威された絶縁保護層116がコーティング
されることにより、ボンディングワイヤ114の接続部
分が保護されている。また、その絶縁保護層116の上
には、導電性シリコンゴムから成るシールド層11Bが
全面的にコーティングされることにより、前記感圧素子
100が静電シールドされている。このシールド層11
Bは、接地されているケース部材86と銅箔120を介
して接続されることにより接地電位とされているのであ
る。Returning to FIG. 1, bonding wires are connected between the amplification IC 82 and multiplexer IC 84 and the ceramic substrate 88, between the ceramic substrate 88 and the support plate 90, and between the semiconductor substrate 98 and the support plate 90. 114. The semiconductor substrate 98 is coated with an insulating protection layer 116 made of epoxy resin, silicone resin, or the like to protect the connection portion of the bonding wire 114. Moreover, the pressure-sensitive element 100 is electrostatically shielded by coating the entire surface of the insulating protection layer 116 with a shield layer 11B made of conductive silicone rubber. This shield layer 11
B is connected to the grounded case member 86 via the copper foil 120, so that it has a ground potential.
上記シールド層11Bは、たとえば20Ω/ cm ”
程度のシート抵抗値を備えたものである。また、絶縁保
護層116およびシールド層118の厚みは半導体基板
9日上において200μ以下であるので、圧力検出に支
障が出ないようになっている。The shield layer 11B has a thickness of, for example, 20Ω/cm”
It has a sheet resistance value of about. Further, since the thickness of the insulating protective layer 116 and the shield layer 118 is 200 μm or less on the semiconductor substrate 9 days, pressure detection is not hindered.
以上のように構威さ、れた脈波検出装置が生体の動脈8
0上に装着され、図示しない起動操作釦が操作されると
、図示しない制御回路が押圧装置66を制御して、動脈
80に平坦部が形成される程度にか脈波センサ74を押
圧させ且つその状態を維持する。そして、この状態で動
脈80から発生する圧脈波が感圧素子100により検出
されるとともに、図示しない測定回路において、最適位
置に位置する感圧素子100から出力される圧力信号に
基づいて動脈80内の血圧が決定されるのである。The pulse wave detection device constructed as described above can be used to
0, and when a start operation button (not shown) is operated, a control circuit (not shown) controls the pressing device 66 to press the pulse wave sensor 74 to the extent that a flat portion is formed in the artery 80, and Maintain that state. In this state, the pressure pulse wave generated from the artery 80 is detected by the pressure sensing element 100, and in a measurement circuit (not shown), the pressure pulse wave generated from the artery 80 is detected based on the pressure signal output from the pressure sensing element 100 located at the optimal position. The blood pressure within the body is determined.
本実施例においては、前述のように、半導体基板98が
シールド層118によって静電シールドされているので
、生体の表面12に押圧されている状態において、生体
の静電気が発生しても、圧力信号波形に急激なオフセッ
ト変化が発生したり或いは外来光に感応して圧力信号が
変動することが好適に防止される。シールド層118が
設けられていない状態において、静電気が加えられると
、何故に圧力信号のオフセット変化や光感応現象が発生
するかは、MOSFETと類似の効果であろうと推定さ
れるが、正確には不明である。しかし、本発明者等の実
験によれば、シールド層118が設けられていない従来
の構造の脈波センサに対して、−20kVの静電気を5
0mm1隔した電極から付与することにより、生体の表
面12に押圧されていたときと同様の圧力信号波形のオ
フセット変化および光感応現象を再現できた。そして、
前述の実施例のようにシールド層118が設けられてい
る脈波センサ74に対して同様の実験をしたところ、上
記圧力信号波形のオフセット変化および光感応現象は見
られなかったのである。In this embodiment, as described above, since the semiconductor substrate 98 is electrostatically shielded by the shield layer 118, even if static electricity is generated in the living body while being pressed against the surface 12 of the living body, the pressure signal will not be detected. It is advantageous to prevent sudden offset changes in the waveform or fluctuations in the pressure signal in response to external light. The reason why an offset change in the pressure signal and a photosensitive phenomenon occur when static electricity is applied in a state where the shield layer 118 is not provided is presumed to be due to an effect similar to that of a MOSFET, but the exact reason is It is unknown. However, according to experiments conducted by the present inventors, a pulse wave sensor with a conventional structure in which the shield layer 118 is not provided has a static electricity of -20 kV.
By applying from electrodes spaced apart by 0 mm, it was possible to reproduce the offset change in the pressure signal waveform and the photosensitive phenomenon similar to when the pressure signal was pressed against the surface 12 of the living body. and,
When a similar experiment was conducted on the pulse wave sensor 74 provided with the shield layer 118 as in the above embodiment, no offset change in the pressure signal waveform or the photosensitive phenomenon was observed.
以上、本発明の一実施例を図面に基づいて説明したが、
本発明はその他の態様においても適用される。Although one embodiment of the present invention has been described above based on the drawings,
The invention also applies in other aspects.
たとえば、前述の実施例においては、導電性シリコンゴ
ムにより成るシールド層118によって半導体基板98
の押圧面側が静電シールドされていたが、前記銅箔12
0に電気的に接続されて金属薄膜や導電性プラスチック
シートが前記絶縁層glJiil16の表面或いは内部
に固着されていてもよいのである。上記金属薄膜や導電
性プラスチックシートの材質、硬さ、厚みは、圧力検出
に支障がないように決定される。For example, in the embodiment described above, the shield layer 118 made of conductive silicone rubber protects the semiconductor substrate 98.
The pressing surface side of the copper foil 12 was electrostatically shielded.
A thin metal film or a conductive plastic sheet may be electrically connected to the insulating layer 16 and fixed to the surface or inside of the insulating layer 16. The material, hardness, and thickness of the metal thin film and conductive plastic sheet are determined so as not to interfere with pressure detection.
また、半導体基板98自体の押圧面に、チタン、クロム
などの導電性薄膜を2酸化シリコンや窒化膜のような絶
縁層を介して形成し、その導電性薄膜を接地電位とする
ことにより、静電シールドが行われてもよいのである。Furthermore, by forming a conductive thin film of titanium, chromium, etc. on the pressing surface of the semiconductor substrate 98 itself via an insulating layer such as silicon dioxide or nitride film, and setting the conductive thin film to a ground potential, static electricity can be achieved. Electrical shielding may also be provided.
この場合には、半導体基板98の押圧面全体ではなく、
ボンディングワイヤ114をボンディングするためのパ
ッドを除いて導電性薄膜が形成される必要があるが、少
なくとも前記感圧素子100が覆われるように形成され
ればよいのである。上記導電性薄膜の材質、厚みも、圧
力検出に支障がないように決定される。In this case, instead of the entire pressing surface of the semiconductor substrate 98,
Although it is necessary to form a conductive thin film except for the pad for bonding the bonding wire 114, it is sufficient if it is formed so as to cover at least the pressure sensitive element 100. The material and thickness of the conductive thin film are also determined so as not to interfere with pressure detection.
なお、上述したのはあくまでも本発明の一実施例であり
、本発明はその目的を逸脱しない範囲で種々変更が加え
られ得るものである。The above-mentioned embodiment is merely one embodiment of the present invention, and various modifications may be made to the present invention without departing from its purpose.
第1図は、第2図の脈波センサを詳しく示す断面図であ
る。第2図は、本発明の一実施例の脈波検出装置を示す
縦断面を示す図である。第3図は、第2図の脈波センサ
に含まれるセンサ本体を示す斜視図である。第4図は、
第3図の半導体基板の−面に設けられる感圧素子の構造
を説明する図である。
8
:半導体基板
00
:感圧素子
118:シールド層FIG. 1 is a sectional view showing the pulse wave sensor of FIG. 2 in detail. FIG. 2 is a longitudinal cross-sectional view showing a pulse wave detection device according to an embodiment of the present invention. 3 is a perspective view showing a sensor body included in the pulse wave sensor of FIG. 2. FIG. Figure 4 shows
FIG. 4 is a diagram illustrating the structure of a pressure sensitive element provided on the negative side of the semiconductor substrate in FIG. 3; 8: Semiconductor substrate 00: Pressure sensitive element 118: Shield layer
Claims (1)
体基板の一面を生体の皮膚に押圧することにより、該皮
膚下に位置する動脈から発生する圧脈波を検出する脈波
検出装置において、 導電性材料から成るシールド層を前記半導体基板の一面
に設けたことを特徴とする脈波検出装置。[Claims] A semiconductor substrate having a pressure-sensitive element formed on one side, and by pressing one side of the semiconductor substrate against the skin of a living body, detects pressure pulse waves generated from arteries located under the skin. A pulse wave detection device comprising: a shield layer made of a conductive material provided on one surface of the semiconductor substrate.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32684489A JPH03186247A (en) | 1989-12-16 | 1989-12-16 | Pulse wave detecting device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP32684489A JPH03186247A (en) | 1989-12-16 | 1989-12-16 | Pulse wave detecting device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03186247A true JPH03186247A (en) | 1991-08-14 |
Family
ID=18192346
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP32684489A Pending JPH03186247A (en) | 1989-12-16 | 1989-12-16 | Pulse wave detecting device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03186247A (en) |
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1989
- 1989-12-16 JP JP32684489A patent/JPH03186247A/en active Pending
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