JPH03174223A - 温度が変動する排ガスの脱硝装置 - Google Patents
温度が変動する排ガスの脱硝装置Info
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-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F01—MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; ENGINE PLANTS IN GENERAL; STEAM ENGINES
- F01N—GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR INTERNAL COMBUSTION ENGINES
- F01N13/00—Exhaust or silencing apparatus characterised by constructional features ; Exhaust or silencing apparatus, or parts thereof, having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F01N1/00 - F01N5/00, F01N9/00, F01N11/00
- F01N13/011—Exhaust or silencing apparatus characterised by constructional features ; Exhaust or silencing apparatus, or parts thereof, having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F01N1/00 - F01N5/00, F01N9/00, F01N11/00 having two or more purifying devices arranged in parallel
-
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- F01N2610/00—Adding substances to exhaust gases
- F01N2610/02—Adding substances to exhaust gases the substance being ammonia or urea
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ガスタービンと蒸気タービンを組合せたコン
バインドプラント又はコジェネレーシッンプラント等か
ら発生する温度が変動する排ガスの脱硝装置に関する。
バインドプラント又はコジェネレーシッンプラント等か
ら発生する温度が変動する排ガスの脱硝装置に関する。
従来、第５図に示すように、ガスタービン０．１からの
排ガスは、アンモニア注入ノズル０４と触媒を用いた脱
硝装置０３をもつ排ガスボイラ０２へ導入され、ここで
排ガスの脱硝と熱回収を行なった上、煙突０５から排出
されている。脱硝装置０３へは、排ガスボイラ０２で排
熱が回収され温度が２００〜４００℃の排ガスが供給さ
れるようになっていて、この温度域で有効な触媒が用い
られている。
排ガスは、アンモニア注入ノズル０４と触媒を用いた脱
硝装置０３をもつ排ガスボイラ０２へ導入され、ここで
排ガスの脱硝と熱回収を行なった上、煙突０５から排出
されている。脱硝装置０３へは、排ガスボイラ０２で排
熱が回収され温度が２００〜４００℃の排ガスが供給さ
れるようになっていて、この温度域で有効な触媒が用い
られている。
［発明が解決しようとする課題］
上記の従来のガスタービンの脱硝装置では、排ガスボイ
ラで温度を２００〜４００℃に下げて同排ガスボイラ内
の脱硝装置で脱硝作用を行なっているために、ガスター
ビンと排ガスボイラで生ずる蒸気を駆動源とする蒸気タ
ービンを備えたコンバインドプラント、コジェネレーシ
ョンプラント等では、ガスタービンの単独運転を行なう
ことができない。
ラで温度を２００〜４００℃に下げて同排ガスボイラ内
の脱硝装置で脱硝作用を行なっているために、ガスター
ビンと排ガスボイラで生ずる蒸気を駆動源とする蒸気タ
ービンを備えたコンバインドプラント、コジェネレーシ
ョンプラント等では、ガスタービンの単独運転を行なう
ことができない。
ガスタービンと蒸気タービンとを組合せるコンバインド
あるいはコジェネレーションプラント等においては、ガ
スタービンの単独運転を可能にすること、及び排熱回収
ボイラの構造を簡略化するために、乾式の脱硝装置をガ
スタービン出口に設置することが要望されている。
あるいはコジェネレーションプラント等においては、ガ
スタービンの単独運転を可能にすること、及び排熱回収
ボイラの構造を簡略化するために、乾式の脱硝装置をガ
スタービン出口に設置することが要望されている。
しかし、この場合、
（１） 現在実用化されている触媒は４００〜４５０
°Ｃを越えた運転が続くと劣化現象を起し、最大６００
℃程度となり得るガスタービン出口には適用することが
できない。
°Ｃを越えた運転が続くと劣化現象を起し、最大６００
℃程度となり得るガスタービン出口には適用することが
できない。
（２）また、５５０℃程度まで適用出来る触媒も開発さ
れつつあるが、この触媒は低温域（２００〜４５０’Ｃ
）での性能が低く、ガスタービン側の負荷変化に対応す
ることができない。
れつつあるが、この触媒は低温域（２００〜４５０’Ｃ
）での性能が低く、ガスタービン側の負荷変化に対応す
ることができない。
等の問題があり、ガスタービン出口でも広範囲にＮＯ８
低減が可能な脱硝装置は実現されていない。
低減が可能な脱硝装置は実現されていない。
本発明は、上記の問題点を解決した温度の変動するガス
タービンその他からの排ガスの脱硝装置を提供しようと
するものである。
タービンその他からの排ガスの脱硝装置を提供しようと
するものである。
本発明の温度が変動する排ガスの脱硝装置は次の手段を
講じた。
講じた。
（１） ガス流れ方向に並列に配置された高温度領域
用脱硝触媒層と低温度領域用脱硝触媒層を備えた高低温
脱硝装置、及び上記高・低温領域用脱硝触媒層の上流側
に設けられたダンパとアンモニア注入ノズルを備えた。
用脱硝触媒層と低温度領域用脱硝触媒層を備えた高低温
脱硝装置、及び上記高・低温領域用脱硝触媒層の上流側
に設けられたダンパとアンモニア注入ノズルを備えた。
（２）上記（１）の脱硝装置において、上記高低温脱硝
装置が排ガス発生源の直後に設けられている。
装置が排ガス発生源の直後に設けられている。
（３）上記（１）の脱硝装置において、上記高低温脱硝
装置が、排ガス発生源と選択的に排ガスを迂回させる迂
回路を有する排ガスボイラとの間に配置されている。
装置が、排ガス発生源と選択的に排ガスを迂回させる迂
回路を有する排ガスボイラとの間に配置されている。
（４）上記（１）の脱硝装置において、上記高低温脱硝
装置の高温度領域用脱硝触媒層は（：ｕＳＯｎ−ゼオラ
イト系触媒、低温度領域用脱硝触媒層はＶＷ／ＴｉＯ！
系触媒で構成されている。
装置の高温度領域用脱硝触媒層は（：ｕＳＯｎ−ゼオラ
イト系触媒、低温度領域用脱硝触媒層はＶＷ／ＴｉＯ！
系触媒で構成されている。
［作 用］
上記（１）の本発明では、排ガスの温度が変動し、例え
ば、排ガス温度が高いときには、ダンパを作動させて排
ガスを高低温脱硝装置の高温度領域用触媒層へ導入して
脱硝を行ない、また排ガス温度が低いときには、ダンパ
を作動させて排ガスを同脱硝装置の低温度領域用触媒層
へ導入して脱硝を行なう、このようにして、排ガスの温
度が変動しても効率の良い脱硝が行なわれる。
ば、排ガス温度が高いときには、ダンパを作動させて排
ガスを高低温脱硝装置の高温度領域用触媒層へ導入して
脱硝を行ない、また排ガス温度が低いときには、ダンパ
を作動させて排ガスを同脱硝装置の低温度領域用触媒層
へ導入して脱硝を行なう、このようにして、排ガスの温
度が変動しても効率の良い脱硝が行なわれる。
上記（２）の本発明では、上記のように、高低温脱硝装
置によって排ガスの温度が変動しても効率の良い脱硝が
行なわれると共に、高低温脱硝装置を排ガス発生源の直
後に配Ｉしたために、後続の排ガスボイラ等の機器が簡
略化される。
置によって排ガスの温度が変動しても効率の良い脱硝が
行なわれると共に、高低温脱硝装置を排ガス発生源の直
後に配Ｉしたために、後続の排ガスボイラ等の機器が簡
略化される。
上記（３）の本発明では、同様に排ガスの温度変動に拘
らず効率の良い脱硝が行なわれる。また同時に、排ガス
を排ガスボイラに適当な割合で導入することができ、排
ガスボイラによる必要な量の蒸気量が確保されると共に
、排ガスの発生源をガスタービンとしてこれに排ガスボ
イラの発生蒸気を用いる蒸気タービンを組合せたプラン
トではガスタービンを単独運転することが可能になる。
らず効率の良い脱硝が行なわれる。また同時に、排ガス
を排ガスボイラに適当な割合で導入することができ、排
ガスボイラによる必要な量の蒸気量が確保されると共に
、排ガスの発生源をガスタービンとしてこれに排ガスボ
イラの発生蒸気を用いる蒸気タービンを組合せたプラン
トではガスタービンを単独運転することが可能になる。
更にまた、排ガスボイラには脱硝装置等を備える必要が
なくなるので、その構造が簡略化される。
なくなるので、その構造が簡略化される。
上記（４）の本発明では、上記した成分の高低温領域の
触媒を採用することによって、排ガスの温度の変動に拘
らず高い脱硝性能が維持される。
触媒を採用することによって、排ガスの温度の変動に拘
らず高い脱硝性能が維持される。
〔実施例〕
本発明の一実施例を第１図及び第２図によって説明する
。ｌはガスタービンで、ガスタービン１の排ガス管路７
に、上流側から順にアンモニア注入ノズル４、高低温脱
硝装置５及び図示しない蒸気タービン用の蒸気を発生す
る排ガスボイラ２を配置し、その後流側の煙突１１から
排ガスを排出するようになっている。同高低温脱硝装置
３の出口側は管路８に接続され、同管路８は排ガスボイ
ラ２に接続され、同排ガスボイラ２の出口は管路９によ
り煙突１１に接続されている。上記高低温脱硝装置３は
、排ガスの流れ方向に２分割され、分割された部分に低
温領域用層触媒３Ａ及び高温領域用触媒層３Ｂが排ガス
の流れ方向に並列に配置され、また、高低温脱硝装置３
内において両触媒ｒｆｊ３＾、３Ｂの上流側に排ガスの
切換え用ダンパ５が設けられている。１６Ａ、 １６Ｂ
はそれぞれ管路８．９に設けられた調整弁であり、管路
８の調整弁１６Ａの上流側には分岐部１３、管路９の調
整弁１６Ｂと煙突１１との間には分岐部１４が設けられ
、調整弁１５を介して迂回路１２が両分峡部１３．１４
を接続している。 ＩＯＡ。
。ｌはガスタービンで、ガスタービン１の排ガス管路７
に、上流側から順にアンモニア注入ノズル４、高低温脱
硝装置５及び図示しない蒸気タービン用の蒸気を発生す
る排ガスボイラ２を配置し、その後流側の煙突１１から
排ガスを排出するようになっている。同高低温脱硝装置
３の出口側は管路８に接続され、同管路８は排ガスボイ
ラ２に接続され、同排ガスボイラ２の出口は管路９によ
り煙突１１に接続されている。上記高低温脱硝装置３は
、排ガスの流れ方向に２分割され、分割された部分に低
温領域用層触媒３Ａ及び高温領域用触媒層３Ｂが排ガス
の流れ方向に並列に配置され、また、高低温脱硝装置３
内において両触媒ｒｆｊ３＾、３Ｂの上流側に排ガスの
切換え用ダンパ５が設けられている。１６Ａ、 １６Ｂ
はそれぞれ管路８．９に設けられた調整弁であり、管路
８の調整弁１６Ａの上流側には分岐部１３、管路９の調
整弁１６Ｂと煙突１１との間には分岐部１４が設けられ
、調整弁１５を介して迂回路１２が両分峡部１３．１４
を接続している。 ＩＯＡ。
１０Ｂはそれぞれ高低温脱硝装置３の入口及び出口付近
の管路７，８に設けられたＮＯ８計である。
の管路７，８に設けられたＮＯ８計である。
上記病・低１Ｉ５１領域用触媒層には、第２図に示すハ
ニカム格子状に押出し成形後乾燥焼成して得た触媒が用
いられる。低温領域用触媒Ｊｉ３Ａには、Ｔｉ１ｔ ７
５ＸＳＶｔＯｓ ５％、 ＷＯｓ ｌ０Ｘ−ｔｃ形助剤
１０χから成る触媒成分を、目ピッチｐ４ｗａ、長さ４
２５０ｍのハニカム格子状に押出し成形後乾燥焼成した
触媒３′（第２図参照）（以下触媒Ａという）が、また
高ｉ！！ ６Ｎ域用触媒３Ｂには、ゼオライト８０％、
Ｃｕ５Ｏ４（ｌ酸銅）１０％、成形助剤１０％から威る
触媒成分を、目ピッチＰ４Ｍ、長さ１２０ｍのハニカム
格子状に押出し成形後乾燥焼成した触媒３″（第２図参
照）（以下触媒Ｂという）が、それぞれ充填されている
。
ニカム格子状に押出し成形後乾燥焼成して得た触媒が用
いられる。低温領域用触媒Ｊｉ３Ａには、Ｔｉ１ｔ ７
５ＸＳＶｔＯｓ ５％、 ＷＯｓ ｌ０Ｘ−ｔｃ形助剤
１０χから成る触媒成分を、目ピッチｐ４ｗａ、長さ４
２５０ｍのハニカム格子状に押出し成形後乾燥焼成した
触媒３′（第２図参照）（以下触媒Ａという）が、また
高ｉ！！ ６Ｎ域用触媒３Ｂには、ゼオライト８０％、
Ｃｕ５Ｏ４（ｌ酸銅）１０％、成形助剤１０％から威る
触媒成分を、目ピッチＰ４Ｍ、長さ１２０ｍのハニカム
格子状に押出し成形後乾燥焼成した触媒３″（第２図参
照）（以下触媒Ｂという）が、それぞれ充填されている
。
本実施例では、排ガスを管路７中の排ガスにアンモニア
注入ノズル４から還元剤としてのアンモニアを注入した
上、高低温脱硝装置３で脱硝させ、その上で排ガスを管
路８、排ガスボイラ２、管路９を経て煙突１１から排出
する。
注入ノズル４から還元剤としてのアンモニアを注入した
上、高低温脱硝装置３で脱硝させ、その上で排ガスを管
路８、排ガスボイラ２、管路９を経て煙突１１から排出
する。
排ガスの温度が低いときには、ダンパ５を作動させて排
ガスを低温領域用触媒層３Ａを通過させ、また、排ガス
の温度が高いときには、ダンパ５を作動させて排ガスを
高温領域用触媒層３Ｂを通過させる。これによって、排
ガスの温度の高低に拘らず効率の良い脱硝が行なわれる
。
ガスを低温領域用触媒層３Ａを通過させ、また、排ガス
の温度が高いときには、ダンパ５を作動させて排ガスを
高温領域用触媒層３Ｂを通過させる。これによって、排
ガスの温度の高低に拘らず効率の良い脱硝が行なわれる
。
以上の通り、本実施例では、排ガスの温度の高低に拘ら
ず効率の良い脱硝が行なわれる。また、調整弁１６Ａ、
１６Ｂ、１５により排ガスボイラ２を通る徘ガスの量を
調整することによって、排出されるＮＯつ量を所定値以
下に仰えたままで、排ガスボイラ２で必要な量の蒸気を
得ることができ、これに加えて排ガスの全温度域にわた
って高低温脱硝装置３で脱硝することができるので、排
ガスボイラ２の運転が不要、又は不可の時は、調整弁１
６Ａ、 １６Ｂを閉め切り、調整弁１５を開として排ガ
スの全量を迂回管路１２を通過させてガスタービン１の
単独運転を行なうこともできる。
ず効率の良い脱硝が行なわれる。また、調整弁１６Ａ、
１６Ｂ、１５により排ガスボイラ２を通る徘ガスの量を
調整することによって、排出されるＮＯつ量を所定値以
下に仰えたままで、排ガスボイラ２で必要な量の蒸気を
得ることができ、これに加えて排ガスの全温度域にわた
って高低温脱硝装置３で脱硝することができるので、排
ガスボイラ２の運転が不要、又は不可の時は、調整弁１
６Ａ、 １６Ｂを閉め切り、調整弁１５を開として排ガ
スの全量を迂回管路１２を通過させてガスタービン１の
単独運転を行なうこともできる。
また更に、排ガスボイラ２は脱硝装置、アンモニア注入
ノズル等を備える必要がない為、その構造が簡略化され
る。
ノズル等を備える必要がない為、その構造が簡略化され
る。
上記触媒Ａ、Ｂと参考例としてのＴｉ（ｈ７５％、ＭＯ
３１５％、成形助剤１０％から成る触媒成形を目ピッチ
７閣のハニカム格子状に押出し成形後乾燥焼成した触媒
（以下触媒Ｃという）との温度特性を下記の条件で試験
した結果を第３図に示す。
３１５％、成形助剤１０％から成る触媒成形を目ピッチ
７閣のハニカム格子状に押出し成形後乾燥焼成した触媒
（以下触媒Ｃという）との温度特性を下記の条件で試験
した結果を第３図に示す。
低温で活性のある触媒Ａは高温では活性が低下すること
、触媒Ｃは、触媒Ａ、Ｂの中間の性能を示すこと、及び
触媒Ｂは４５０℃程度以上にて高活性を示すことがわか
った。
、触媒Ｃは、触媒Ａ、Ｂの中間の性能を示すこと、及び
触媒Ｂは４５０℃程度以上にて高活性を示すことがわか
った。
試験条件 Ｓ Ｖ （Ｓｐａｃｅ Ｖｅｌｏｃｉｔｙ）
値：約５０００ ＨＮＨ３／ＮＯ，： １．０ ガス温度：２００〜６００℃ ガス性状 Ｎ０ＩＩ ： ３００ｐｐｍ Ｏ８： ４％ Ｃｏｔ Ｆ ｉｏ％ Ｎ！＝残 本実施例に係るパイロットプラントによる実験例を以下
に説明する。ガスタービン１の出口の排ガス２０００８
ｍ３／Ｈを配管６Ａへ分岐し、ガスタービンの起動に合
せ、それぞれ触媒層３Ａ（触媒Ａ）単独、触媒層３Ｂ
（触媒Ｂ）単独、並びに触媒層３Ａを４００℃に到達す
るまで使用しその後触媒ｊ１５３Ｂに切換える複合運転
下での脱硝性能を比較した。その結果は、第４図に示す
ように、触媒Ａ単独では高温域、触媒Ｂ単独では低温域
で所要性能（Ｎｏ除去率８０％）を達成できなかったが
、低温域にて触媒Ａを使用し、４００℃以降触媒Ｂへ切
換えることによって、巾広い範囲で所定性能が安定して
達成できることが確認された。なお、本実験例における
高低温脱硝装置におけるＳｖ値、ＮＨ３／ＮＯ，及び排
ガス性状は同第４図に記載した通りである。
値：約５０００ ＨＮＨ３／ＮＯ，： １．０ ガス温度：２００〜６００℃ ガス性状 Ｎ０ＩＩ ： ３００ｐｐｍ Ｏ８： ４％ Ｃｏｔ Ｆ ｉｏ％ Ｎ！＝残 本実施例に係るパイロットプラントによる実験例を以下
に説明する。ガスタービン１の出口の排ガス２０００８
ｍ３／Ｈを配管６Ａへ分岐し、ガスタービンの起動に合
せ、それぞれ触媒層３Ａ（触媒Ａ）単独、触媒層３Ｂ
（触媒Ｂ）単独、並びに触媒層３Ａを４００℃に到達す
るまで使用しその後触媒ｊ１５３Ｂに切換える複合運転
下での脱硝性能を比較した。その結果は、第４図に示す
ように、触媒Ａ単独では高温域、触媒Ｂ単独では低温域
で所要性能（Ｎｏ除去率８０％）を達成できなかったが
、低温域にて触媒Ａを使用し、４００℃以降触媒Ｂへ切
換えることによって、巾広い範囲で所定性能が安定して
達成できることが確認された。なお、本実験例における
高低温脱硝装置におけるＳｖ値、ＮＨ３／ＮＯ，及び排
ガス性状は同第４図に記載した通りである。
以上の通り、本実施例では、ガスタービン排ガスの温度
が変動しても、所要の脱硝率を確保することができるこ
とが確認された。
が変動しても、所要の脱硝率を確保することができるこ
とが確認された。
（発明の効果）
以上説明したように、本発明は、上記の高低温脱硝装置
において排ガスの温度に変動があっても、安定して効率
のよい脱硝作用を行なうことができると共に、機器を簡
略化することができる。
において排ガスの温度に変動があっても、安定して効率
のよい脱硝作用を行なうことができると共に、機器を簡
略化することができる。
また、本発明は、排ガスボイラを迂回して排ガスを選択
的に直接煙突に送る排ガスボイラの迂回路を設けたので
、所要の脱硝作用を行わせた上で所要の蒸気の発生を行
なうことができ、またガスタービンと蒸気タービンを組
合せたプラントではガスタービンの単独運転を行なうこ
とができる。
的に直接煙突に送る排ガスボイラの迂回路を設けたので
、所要の脱硝作用を行わせた上で所要の蒸気の発生を行
なうことができ、またガスタービンと蒸気タービンを組
合せたプラントではガスタービンの単独運転を行なうこ
とができる。
第１図は本発明の一実施例の系統図、第２図は上記実施
例に用いられる触媒の傾視図、第３図は本発明の上記実
施例に用いられる触媒と参考例としての触媒の性能を示
す試験結果のグラフ、第４図は上記実施例のパイロット
プラントによる実験結果の脱硝性能を示すグラフ、第５
図は従来の脱硝装置を示す系統図である。 １・・・ガスタービン２ ２・・・排ガスボイラ。 ３・・・高低温脱硝装置、 ３Ａ・・・低温度領域用
触媒３Ｂ・・・高温度領域用触媒。 ４・・・アンモニア注入ノズル。 ５・・・ダンパ、 １１・・・煙突。
例に用いられる触媒の傾視図、第３図は本発明の上記実
施例に用いられる触媒と参考例としての触媒の性能を示
す試験結果のグラフ、第４図は上記実施例のパイロット
プラントによる実験結果の脱硝性能を示すグラフ、第５
図は従来の脱硝装置を示す系統図である。 １・・・ガスタービン２ ２・・・排ガスボイラ。 ３・・・高低温脱硝装置、 ３Ａ・・・低温度領域用
触媒３Ｂ・・・高温度領域用触媒。 ４・・・アンモニア注入ノズル。 ５・・・ダンパ、 １１・・・煙突。
Claims (4)
- （１）ガス流れ方向に並列に配置された高温度領域用脱
硝触媒層と低温度領域用脱硝触媒層を備えた高低温脱硝
装置、及び上記高・低温領域用脱硝触媒層の上流側に設
けられたダンパとアンモニア注入ノズルを備えたことを
特徴とする温度が変動する排ガスの脱硝装置。 - （２）上記高低温脱硝装置が排ガス発生源の直後に設け
られていることを特徴とする請求項（１）に記載の排ガ
スの脱硝装置。 - （３）上記高低温脱硝装置が、排ガス発生源と選択的に
排ガスを迂回させる迂回路を有する排ガスボイラとの間
に配置されていることを特徴とする請求項（１）に記載
の排ガスの脱硝装置。 - （４）上記高低温脱硝装置の高温度領域用脱硝触媒層は
ＣｕＳＯ＿４−ゼオライト系触媒、低温度領域用脱硝触
媒層はＶ−Ｗ／ＴｉＯ＿２系触媒で構成されていること
を特徴とする請求項（１）に記載の排ガスの脱硝装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE1990609125 DE69009125T2 (de) | 1989-09-14 | 1990-09-07 | Vorrichtung zur Entstickung von Abgasen bei verschiedenen Temperaturen. |
| EP19900117305 EP0417667B1 (en) | 1989-09-14 | 1990-09-07 | Denitration device for exhaust gas with varying temperature |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23698789 | 1989-09-14 | ||
| JP1-236987 | 1989-09-14 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03174223A true JPH03174223A (ja) | 1991-07-29 |
Family
ID=17008713
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2221044A Pending JPH03174223A (ja) | 1989-09-14 | 1990-08-24 | 温度が変動する排ガスの脱硝装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03174223A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007036347A1 (de) * | 2005-09-26 | 2007-04-05 | Faurecia Abgastechnik Gmbh | Abgasanlage mit einspritzdüse |
| JP2020025908A (ja) * | 2018-08-09 | 2020-02-20 | 三菱日立パワーシステムズ株式会社 | 燃焼排ガスの脱硝装置 |
-
1990
- 1990-08-24 JP JP2221044A patent/JPH03174223A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007036347A1 (de) * | 2005-09-26 | 2007-04-05 | Faurecia Abgastechnik Gmbh | Abgasanlage mit einspritzdüse |
| US8033101B2 (en) | 2005-09-26 | 2011-10-11 | Faurecia Abgastechnik Gmbh | Exhaust-gas system having an injection nozzle |
| JP2020025908A (ja) * | 2018-08-09 | 2020-02-20 | 三菱日立パワーシステムズ株式会社 | 燃焼排ガスの脱硝装置 |
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