JPH03167588A - Hologram and production thereof - Google Patents

Hologram and production thereof

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JPH03167588A
JPH03167588A JP30790489A JP30790489A JPH03167588A JP H03167588 A JPH03167588 A JP H03167588A JP 30790489 A JP30790489 A JP 30790489A JP 30790489 A JP30790489 A JP 30790489A JP H03167588 A JPH03167588 A JP H03167588A
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JP
Japan
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group
hologram
hydrogen atom
general formula
methacrylate
Prior art date
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Application number
JP30790489A
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Japanese (ja)
Inventor
Ichiro Matsuzaki
一朗 松崎
Shiro Osada
長田 司郎
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Kuraray Co Ltd
Original Assignee
Kuraray Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To obtain a hologram having satisfactory transparency to visible radiation and high diffraction efficiency by using a compsn. consisting of a polymer contg. specified amts. of specified two kinds of structural units and a compd. selected among arom. aldehydes and arom. ketones. CONSTITUTION:A compsn. consisting of a polymer contg. 2-100mol% structural units represented by formula I and 0-98mol% structural units represented by formula II and a compd. selected among arom. aldehydes and arom. ketones which may have substituents is used. In the formulae I, II, each of X<1> and X<2> is H or alkyl, Y<1> is cycloalkenyl, etc., and Y<2> is phenyl, alkoxycarbonyl, etc. A hologram having satisfactory transparency to visible radiation and high diffraction efficiency can be obtd.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はホログラムおよびその製造方法に関する。[Detailed description of the invention] [Industrial application field] The present invention relates to a hologram and a method for manufacturing the same.

[従来の技術] ホログラムは、レーザ光等の干渉性を有する光の干渉波
面を屈折率分布または光吸収(a淡)分布として記録し
たものであり、立体写真、バーコード読取り装置のビー
ムスキャナ等の光学素子、航空機および自動車等のヘッ
ドアップディスプレイなどに用いられている。
[Prior Art] A hologram is a recording of the interference wavefront of coherent light such as a laser beam as a refractive index distribution or a light absorption (a-light) distribution, and is used in stereoscopic photographs, beam scanners of bar code reading devices, etc. It is used in optical elements such as aircraft and head-up displays for automobiles, etc.

ホログラムを上記の用途に用いるためには、ホログラム
が下記の特性を有していることが必要である。
In order to use a hologram for the above purpose, it is necessary that the hologram has the following characteristics.

(1)回折効率が高いこと。(1) High diffraction efficiency.

(2)耐湿性、耐熱性、耐光性に優れていること。(2) Excellent moisture resistance, heat resistance, and light resistance.

(3)無色透明であること。(3) Be colorless and transparent.

(4)ヘイズが少ないこと。(4) Less haze.

ホログラム用の材料としては、漂白処理銀塩、フォトレ
ジスト、サーモプラスチック、重クロム酸ゼラチン、無
機ガラス系材料、強誘電体などが知られており、これら
のうち、漂白処理銀塩および重クロム酸ゼラチンは実用
化されている。
Known materials for holograms include bleached silver salts, photoresists, thermoplastics, dichromate gelatin, inorganic glass materials, and ferroelectric materials. Gelatin has been put into practical use.

[発明が解決しようとする課題] 上記の漂白処理銀塩を用いてホログラムを製造する場合
には、煩雑な処理が必要となること、得られたホログラ
ムの耐光性が劣ることなどの欠点がある。また、重クロ
ム酸ゼラチンが与えるホログラムは耐湿性および耐熱性
に劣ることなどの欠点を有する。
[Problems to be Solved by the Invention] When producing a hologram using the bleached silver salt described above, there are drawbacks such as the need for complicated processing and the resulting hologram having poor light resistance. . Further, the hologram provided by dichromate gelatin has drawbacks such as poor moisture resistance and heat resistance.

本発明の1つの目的は、可視光線に対する透明性が良好
であり、かつ高い回折効率を有するホログラムを提供す
ることにある。本発明の他の1つの目的は上記のホログ
ラムを製造する方法を提供することにある。
One object of the present invention is to provide a hologram that has good transparency to visible light and high diffraction efficiency. Another object of the present invention is to provide a method for manufacturing the above-mentioned hologram.

[課題を解決するための手段] 本発明によれば、上記の1つの目的は、下記一般式(I
)で示される構造単位(以下、これを構造単位(1)と
称する)を2〜100モル%および下記一般式(I[)
で示される構造単位(以下、これを構造単位(n)と称
する)をO〜98モル%有する重合体(A)と、置換基
を有していてもよい芳香族アルデヒドおよび芳香族ケト
ンからなる群より選ばれる化合物(B)とからなる組成
物からなるホログラムを提供することにより達成される
[Means for Solving the Problems] According to the present invention, one of the above objects is achieved by solving the following general formula (I
) (hereinafter referred to as structural unit (1)) and the following general formula (I[)
Consisting of a polymer (A) having 0 to 98 mol% of the structural unit represented by (hereinafter referred to as structural unit (n)), and an aromatic aldehyde and an aromatic ketone that may have substituents. This is achieved by providing a hologram consisting of a composition consisting of a compound (B) selected from the group consisting of:

構造単位(■): Y1 [式中、xlは水素原子またはアルキル基を表し、Y1
はシクロアルケニル基または下記一般式で示される基を
表す。ここで 21は2価の炭化水素基を表し、Rl,
 RtおよびR3はそれぞれ水素原子、アルキル基また
はアルケニル基を表す。コ構造単位(■): !雪 [式中、 x3は水素原子またはアルキル基を表し、Y2はフエニ
ル基、アルコキシカルボニル基またはカルバモイル基を
表し、一般式(II)における水素原子はフッ素原子に
よって置換されていてもよい。] 本発明に用いられる組成物を構戊する重合体(A)は構
造単位(1)を5〜98モル%含む場合が好ましく、2
0〜80モル%含む場合がより好ましい。
Structural unit (■): Y1 [In the formula, xl represents a hydrogen atom or an alkyl group, and Y1
represents a cycloalkenyl group or a group represented by the following general formula. Here, 21 represents a divalent hydrocarbon group, Rl,
Rt and R3 each represent a hydrogen atom, an alkyl group or an alkenyl group. Co-structural unit (■): ! snow [wherein x3 represents a hydrogen atom or an alkyl group, Y2 represents a phenyl group, an alkoxycarbonyl group or a carbamoyl group, and the hydrogen atom in general formula (II) may be substituted with a fluorine atom. ] The polymer (A) constituting the composition used in the present invention preferably contains 5 to 98 mol% of the structural unit (1), and 2
It is more preferable to contain 0 to 80 mol%.

上記の構造単位(1)におけるX′および構造単位(n
)におけるX′がそれぞれ表すアルキル基としては、メ
チル基、エチル基、プロビル基、イソプロビル基、ブチ
ル基などの炭素数が4以下の低級アルキル基か好ましい
。また構造単位(r)におけるRISRlおよびR3が
表すアルキル基は分岐鎖または任意の置換基を有してい
てもよく、メチル基、エチル基、プロビル基、イソプロ
ビル基、プチル基、アミル基、ヘキシル基、ヘブチル基
、オクチル基などの炭素数が8以下の低級アルキル基が
好ましい。上記のR’, R’およびR3がそれぞれ表
すアルケニル基は2−ブテニル基、3−メチル−2−ブ
テニル基、3−ペンテニル基、4−メチル−3−ベンテ
ニル基が好ましい。−構造単位(1)におけるZ1か表
す2価の炭化水素基としては分岐鎖を有していてもよい
炭素数2〜8のアルキレン基が好ましい。構造単位(1
)におけるYlの好適例として、アリル基;2−ブテニ
ル基、3−ブテニル基、2一メチル−2−プロベニル基
;2−へブテニル基、3−へプテニル基、4−へブテニ
ル基、2−メチル−2−ブテニル基、3−メチル−2−
ブテニル基、2−エチル−2−ブロペニル基、2−メチ
ル−3−ブテニル基、1.2−ジメチル−2−ブロペニ
ル基;2−へキセニル基、3−へキセニル基、4−へキ
セニル基、5−へキセニル基、x,t−ノメチル−2−
ブテニル基、1.2−ジメチル−2ブテニル基、1,3
−ジメチル−2−ブテニル基、2,3−ジメチル−2−
ブテニル基、3−メチル−2−ヘプテニル基、2−メチ
ル−2−ヘブテニル基;2−メチル−2−シクロヘキセ
ニル基、3ーメチル−2−シクロヘキセニル基、ゲラニ
ル基、イソゲラニル基、ネリル基、ラバンジュリル基、
6−メチルゲラニル基、l−メチルゲラニル基、!5 6−エチルゲラニル基、ベリリル基、ファルネ●ル基、
ゲラニルゲラニル基、β−シクロゲラニルゲラニル基な
どを挙げることができる。構造単位(II)におけるY
″が表すアルコキシカルボニル基の好a例としては、メ
トキシカルボニル基、エトキンカルポ●●ル基、プロボ
キシカルボニル基、プトキノカルボニル基、ペンタノキ
シカルボニル基、ヘキサノキンカルボニル基、ヘブタノ
キシカルボニル基、シクロヘキサノキシカルボニル基な
どを挙げることができる。
X' in the above structural unit (1) and the structural unit (n
The alkyl group represented by X' in ) is preferably a lower alkyl group having 4 or less carbon atoms, such as a methyl group, ethyl group, probyl group, isopropyl group, or butyl group. In addition, the alkyl groups represented by RISRl and R3 in the structural unit (r) may have a branched chain or any substituent, such as methyl group, ethyl group, probyl group, isopropyl group, butyl group, amyl group, hexyl group, etc. A lower alkyl group having 8 or less carbon atoms, such as a hebutyl group or an octyl group, is preferable. The alkenyl groups represented by R', R' and R3 are preferably 2-butenyl, 3-methyl-2-butenyl, 3-pentenyl or 4-methyl-3-bentenyl. - The divalent hydrocarbon group represented by Z1 in the structural unit (1) is preferably an alkylene group having 2 to 8 carbon atoms which may have a branched chain. Structural unit (1
Preferable examples of Yl in ) include allyl group; 2-butenyl group, 3-butenyl group, 2-methyl-2-probenyl group; Methyl-2-butenyl group, 3-methyl-2-
Butenyl group, 2-ethyl-2-bropenyl group, 2-methyl-3-butenyl group, 1,2-dimethyl-2-bropenyl group; 2-hexenyl group, 3-hexenyl group, 4-hexenyl group, 5-hexenyl group, x,t-nomethyl-2-
butenyl group, 1,2-dimethyl-2butenyl group, 1,3
-dimethyl-2-butenyl group, 2,3-dimethyl-2-
Butenyl group, 3-methyl-2-heptenyl group, 2-methyl-2-hebutenyl group; 2-methyl-2-cyclohexenyl group, 3-methyl-2-cyclohexenyl group, geranyl group, isogeranyl group, neryl group, lavanduril basis,
6-methylgeranyl group, l-methylgeranyl group,! 5 6-ethylgeranyl group, berylyl group, farnel group,
Examples include geranylgeranyl group and β-cyclogeranylgeranyl group. Y in structural unit (II)
Preferred examples of the alkoxycarbonyl group represented by ``a'' include a methoxycarbonyl group, an etquinocarbonyl group, a proboxycarbonyl group, a toquinocarbonyl group, a pentanoxycarbonyl group, a hexanoquinecarbonyl group, and a hebutanoxycarbonyl group. , cyclohexanoxycarbonyl group, etc.

重合体(A)はα位がアルキル基によって置換されてい
てもよいアクリル酸またはそのエステルの単独重合また
は構造単位(II)を形成するコモノマーとの共重合に
より重合体を得、ついで該重合体と基Ylを有するアル
コールとを反応させるか、または構造単位(1)を形成
するアクリル酸誘導体とふJ 上記コ●●マーとの共重合により製造することができる
The polymer (A) is obtained by homopolymerization of acrylic acid or its ester which may be substituted with an alkyl group at the α-position or copolymerization with a comonomer forming the structural unit (II), and then the polymer is obtained by copolymerization with a comonomer forming the structural unit (II). It can be produced by reacting the compound with an alcohol having a group Yl or by copolymerizing the acrylic acid derivative forming the structural unit (1) with the above comer.

構造単位(1)を形戊するアクリル酸誘導体としては、
アリルメタクリレート、アリルアクリレート、2(また
は3)一ブテニルメタクリレート、2(または3)一ブ
テニルアクリレート、2−メチル−2−プロペニルメタ
クリレート、2−メチル−2−ブσベニルアクリレート
、2(または3または4)一へブテニルメタクリレート
、2(または3または4)一へプテニルアクリレート、
2ーメチル−2(または3)一プテニルメタクリレート
、2−メチル−2(または3)一ブテニルアクリレート
、2−エチル−2−プロベニルメタクリレート、2−エ
チル−2〜プロベニルアクリレート、1.2−ジメチル
−2−プロペニルメタクリレート、1.2−ジメチル−
2−プロベニルアクリレート、2(または3または4ま
たは5)一へキセニルメタクリレート、2(または3ま
たは4または5)一へキセニルアクリレート、1.1(
または1.2または1.3または2,3)一ジメチル−
2−ブテニルメタクリレート、l,1(または1.2ま
たは1.3または2.3)一ジメチル−2−ブテニルア
クリレート、2(または3)一メチル−2−へブテニル
メタクリレート、2(または3)一メチルー2一ヘブテ
ニルアクリレートなどのアルコール残基が鎖状になって
いるアクリル酸誘導体;2(または3)一メチル−2−
シクロヘキセニルメタクリレート、2(または3)一メ
チル−2−シクロヘキセニルアクリレートなどのアルコ
ール残基が環状になっているアクリル酸誘導体・ゲラニ
ルメタクリレート、ゲラニルアクリレート、ネリルメタ
クリレート、ネリルアクリレート、イソゲラニルメタク
リレート、イソゲラニルアクリレート、ラバンジュリル
メタクリレート、ラバンジュリルアクリレート、6−メ
チルゲラニルメタクリレート、リレート、6−エチルゲ
ラニルメタクリレート、6−エチルゲラニルアクリレー
ト、ベリリルメタクリレート、ベリリルアクリレート等
の非共役二重結合を2個有する鎖状または環状のテルベ
ン系アルコールとアクリル酸またはメタクリル酸とのエ
ステル;ファルネシルメタクリレート、ファルネシルア
クリレート、ゲラニルゲラニルメタクリレート、ゲラニ
ルゲラニルアクリレート、β−シクロゲラニルゲラニル
メタクリレート、β−シクロゲラニルゲラニルアクリレ
ート等の非共役二重結合を3個以上有する鎖状または環
状のテルベン系アルコールとアクリル酸またはメタクリ
ル酸とのエステルが挙げられる。これらの中で、アリル
メタクリレート、2−メチル−2−プロペニルメタクリ
レート、2−ブテニルメタクリレート、2一メチル−2
−ブテニルメタクリレート、2−へキセニルメタクリレ
ート、3−へキセニルメタクリレート、ゲラニルメタク
リレートが、原料となるアルコールの入手のし易さ、エ
ステル合成のし易さの点から好ましい。
As the acrylic acid derivative forming the structural unit (1),
Allyl methacrylate, allyl acrylate, 2 (or 3) 1-butenyl methacrylate, 2 (or 3) 1-butenyl acrylate, 2-methyl-2-propenyl methacrylate, 2-methyl-2-but σ benylacrylate, 2 (or 3 or 4) 1-heptenyl methacrylate, 2 (or 3 or 4) 1-heptenyl acrylate,
2-methyl-2 (or 3)-1 butenyl methacrylate, 2-methyl-2 (or 3)-1 butenyl acrylate, 2-ethyl-2-probenyl methacrylate, 2-ethyl-2-probenyl acrylate, 1 .2-dimethyl-2-propenyl methacrylate, 1,2-dimethyl-
2-probenyl acrylate, 2 (or 3 or 4 or 5)-hexenyl methacrylate, 2 (or 3 or 4 or 5)-hexenyl acrylate, 1.1 (
or 1.2 or 1.3 or 2,3) monodimethyl-
2-butenyl methacrylate, l,1 (or 1.2 or 1.3 or 2.3) monodimethyl-2-butenyl acrylate, 2 (or 3) monomethyl-2-hebutenyl methacrylate, 2 (or 3) Acrylic acid derivatives in which alcohol residues are chained, such as monomethyl-2-hebutenyl acrylate; 2 (or 3) monomethyl-2-
Acrylic acid derivatives with cyclic alcohol residues such as cyclohexenyl methacrylate, 2 (or 3) monomethyl-2-cyclohexenyl acrylate, geranyl methacrylate, geranyl acrylate, neryl methacrylate, neryl acrylate, isogeranyl methacrylate, isogeranyl Acrylate, lavanduryl methacrylate, lavanduryl acrylate, 6-methylgeranyl methacrylate, rylate, 6-ethylgeranyl methacrylate, 6-ethylgeranyl acrylate, berylyl methacrylate, berylyl acrylate, etc. Contains two non-conjugated double bonds Ester of chain or cyclic terbenesic alcohol and acrylic acid or methacrylic acid; non-conjugated double bond such as farnesyl methacrylate, farnesyl acrylate, geranylgeranyl methacrylate, geranylgeranyl acrylate, β-cyclogeranylgeranyl methacrylate, β-cyclogeranylgeranyl acrylate, etc. Examples include esters of chain or cyclic terbene-based alcohols having 1 or more terbenes and acrylic acid or methacrylic acid. Among these, allyl methacrylate, 2-methyl-2-propenyl methacrylate, 2-butenyl methacrylate, 2-methyl-2-
-Butenyl methacrylate, 2-hexenyl methacrylate, 3-hexenyl methacrylate, and geranyl methacrylate are preferred from the viewpoint of ease of obtaining alcohol as a raw material and ease of ester synthesis.

構造単位(II)を形成するコモノマーとしてはメタク
リル酸;メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メ
タクリル酸プロビル、メタクリル酸ブチル、メタクリル
酸ペンチル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸アミ
ル、メタクリル酸シクロヘキシルなどのメタクリル酸ア
ルキルエステル;アクリル酸;アクリル酸メチル、アク
リル酸エチル、アクリル酸プロビル、アクリル酸ブチル
、アクリル酸ベンチル、アクリル酸ヘキシル、アクリル
酸アミル、アクリル酸シクロヘキシルなどのアクリル酸
アルキルエステル;メタクリル酸アミドアクリル酸アミ
ド;スチレン、α−メチルスチレンなどの置換スチレン
などが挙げられる。構造単位([)における水素原子は
フッ素原子によって置換されていてもよい。
Comonomers forming the structural unit (II) include methacrylic acid; alkyl methacrylates such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate, probyl methacrylate, butyl methacrylate, pentyl methacrylate, hexyl methacrylate, amyl methacrylate, and cyclohexyl methacrylate; Esters; Acrylic acid; Acrylic acid alkyl esters such as methyl acrylate, ethyl acrylate, probyl acrylate, butyl acrylate, bentyl acrylate, hexyl acrylate, amyl acrylate, cyclohexyl acrylate; Methacrylic acid amide Acrylic acid amide; Examples include substituted styrenes such as styrene and α-methylstyrene. The hydrogen atom in the structural unit ([) may be replaced by a fluorine atom.

重合体(A)はゲルパーミエーションク口マトグラフイ
により求めたボリスチレン換算の数平均分子量7!l4
1,000〜1,000.000の範囲にあるものが好
ましい。重合体(A)は数平均分子量が100,000
〜800.000の範囲にあるものがより好ましい。
Polymer (A) has a number average molecular weight of 7 in terms of boristyrene, determined by gel permeation xerography. l4
A value in the range of 1,000 to 1,000.000 is preferred. Polymer (A) has a number average molecular weight of 100,000
A range of 800.000 to 800.000 is more preferable.

化合物(B)としては例えば置換基を有してもよいヘン
ズアルデヒド、ペンゾフエノンまたはその誘導体が挙げ
られ、具体的には下記の一般式(IV)、一般式(V)
または一般式(W)で示される。
Examples of the compound (B) include henzaldehyde, penzophenone, or derivatives thereof, which may have a substituent, and specifically, the following general formula (IV), general formula (V)
Or represented by general formula (W).

Y崎 入”  x” X一 [式中、x4、x5、X@、x7、x11, X@、X
IO  XllおよびXl1はそれぞれ水素原子、炭素
数7以下のアルキル基もしくはアルコキシ基、またはハ
ロゲン原子を表し、xlff、X14、Xl5、XI8
、X′7オヨヒX′6ハそれぞれ水素原子またはハ0ゲ
ン原子を表し、nは0、!または2である。] 好ましい化合物(B)としてはペンゾフエノン;3(ま
たは4)一メチルベンゾフエノン、3(または4)一メ
トキシベンゾフエノン、3.3’ (または4,4゜)
一ジメチルベンゾフエノン、3,3゜(または4.4゜
)一ジメトキシベンゾフエノン、2.3(または2.4
)〜クロルベンゾフエノン、3.4.5− }リメトキ
シベンゾフエノンなどの置換ペンゾフエノン:3−ペン
ゾイルベンゾフエノン;3(または4)一メチルベンゾ
イルー3゛(または4゜)一メチルベンゾフエノン;3
(または4)一メトキシベンゾイル−3′(または4゜
)一メトキシベンゾフエノン、3.3’−シベンゾイル
ベンゾフエノン、1,3.5− トリベンゾイルベンゼ
ンなどのメタ置換型のヘンゾフエノン、ベンズアルデヒ
ド;3(または4)一メチルベンズアルデヒド、3(ま
たは4)一メトキシベンズアルデヒド、3,4−ジメチ
ルベンズアルデヒド、3.4−ジメトキシベンズアルデ
ヒドなどの置換ベンズアルデヒドを挙げることができる
。これらの中でもベンズアルデヒド、ペンゾフエノン、
3−ペンゾイルベンゾフエノン、33゛−ジベンゾイル
ベンゾフエノンおよび1,3.5−トリベンゾイルベン
ゼンが合成のし易さから好ましく、また3−ペンゾイル
ベンゾフエノンおよび1,3.5− トリベンゾイルベ
ンゼンが、光反応性が良好であり、露光部と非露光部と
の屈折率差を大きくすることが可能であり、製造される
ホログラムの耐溶剤性および耐熱性が高い点で、特に好
ましい。
Yakiiri "x" X1 [In formula, x4, x5, X@, x7, x11, X@, X
IO Xll and Xl1 each represent a hydrogen atom, an alkyl group or alkoxy group having 7 or less carbon atoms, or a halogen atom;
, X'7OyohiX'6C each represents a hydrogen atom or a halogen atom, and n is 0,! Or 2. ] Preferred compounds (B) include penzophenone; 3 (or 4)-1 methylbenzophenone, 3 (or 4)-1 methoxybenzophenone, 3.3' (or 4,4°)
-dimethylbenzophenone, 3,3° (or 4.4°) -dimethoxybenzophenone, 2.3 (or 2.4
) ~ Chlorobenzophenone, 3.4.5- Substituted penzophenones such as }rimethoxybenzophenone: 3-penzoylbenzophenone; 3 (or 4) monomethylbenzoyl-3゛ (or 4゜) monomethylbenzo Phenon; 3
(or 4) Meta-substituted henzophenone such as monomethoxybenzoyl-3' (or 4°) monomethoxybenzophenone, 3.3'-sibenzoylbenzophenone, 1,3.5-tribenzoylbenzene, benzaldehyde ; Substituted benzaldehydes such as 3 (or 4)-monomethylbenzaldehyde, 3 (or 4)-monomethoxybenzaldehyde, 3,4-dimethylbenzaldehyde, and 3,4-dimethoxybenzaldehyde can be mentioned. Among these, benzaldehyde, penzophenone,
3-penzoylbenzophenone, 33'-dibenzoylbenzophenone and 1,3.5-tribenzoylbenzene are preferred from the viewpoint of ease of synthesis, and 3-penzoylbenzophenone and 1,3.5-tribenzoyl Benzene is particularly preferred because it has good photoreactivity, can increase the difference in refractive index between exposed and non-exposed areas, and provides high solvent resistance and heat resistance of the produced hologram.

重合体(A)と化合物(B)との組成割合は1o:1〜
l:lO(重量比)の範囲が好ましく、3:1〜1.2
(重量比)の範囲がより好ましい。重合体(A)が有す
る構造単位(1)と化合物(B)との割合は10:1〜
1:20(モル比)の範囲であり、好ましくは5:1−
1:10(モル比)の範囲である。
The composition ratio of polymer (A) and compound (B) is 1:1 to
The range of l:lO (weight ratio) is preferably 3:1 to 1.2.
(weight ratio) is more preferable. The ratio of the structural unit (1) of the polymer (A) to the compound (B) is 10:1 to
The range is 1:20 (molar ratio), preferably 5:1-
The range is 1:10 (molar ratio).

本発明によれば、上記の他の1つの目的は、下記の(イ
)、(0および(ハ)の工程を設けてなることを特徴と
する上記の組威物からなるホログラムの製造方法を提供
することにより達成される。
According to the present invention, another object of the above is to provide a method for manufacturing a hologram made of the above-mentioned composite material, which is characterized by providing the following steps (a), (0 and (c)). This is achieved by providing

(イ)上記の組成物の薄膜を形成する工程。(a) A step of forming a thin film of the above composition.

0)薄膜に所望のパターンに応じて部分的に紫外線を照
射する工程。
0) A step of partially irradiating the thin film with ultraviolet rays according to a desired pattern.

(ハ)薄膜から未反応の化合物(B)を除去.する工程
(c) Remove unreacted compound (B) from the thin film. The process of doing.

上記(イ)工程では、重合体(A)と化合物(B)とを
これらを溶解する溶媒に溶解し、得られた溶液を用いて
キャスティング法、バーコート法、スピンコート沃など
によって薄膜を形戊する。必要に応じて、薄膜を減圧処
理または熱処理することにより該薄膜から溶剤を除去す
る6WI膜の形成法は所望の74膜の厚さの程度または
形態によって選択される。薄膜の膜厚は0.5〜50μ
mの範囲であることスビンコート法が採用される。
In the above step (a), the polymer (A) and the compound (B) are dissolved in a solvent that dissolves them, and the resulting solution is used to form a thin film by a casting method, bar coating method, spin coating method, etc. To run away. The method for forming the 6WI film, in which the solvent is removed from the thin film by subjecting the thin film to vacuum treatment or heat treatment, as required, is selected depending on the desired thickness or form of the 74 film. Thin film thickness is 0.5-50μ
m range, the Subin coat method is adopted.

(イ)工程に続く(0工程では、薄膜にホログラムのパ
ターンに応じて部分的に波長が200〜450rvの紫
外線を照射する。光源には高圧水銀ランプ、N,ガスレ
ーザ、He−Cdレーザ、Arレーザなどが用いられる
。ホログラムのパターンを形成する方法としてフォトマ
スクを用いるマスク露光法、干渉露光法、レーザビーム
直接描画法などが採用される。
Following the (A) process (in the 0 process, the thin film is partially irradiated with ultraviolet light with a wavelength of 200 to 450 rv according to the hologram pattern. The light source is a high-pressure mercury lamp, N, gas laser, He-Cd laser, Ar A laser or the like is used.As a method for forming a hologram pattern, a mask exposure method using a photomask, an interference exposure method, a laser beam direct writing method, etc. are employed.

(口)工程に続く(ハ)工程における未反応の化合物(
B)の除去は、通常減圧下まは常圧下で熱処理すること
により行う。熱処理の温度としては50〜lOO℃の範
囲であるのが好ましい。これによって露光部が非露光部
よりも高い屈折率を有し、かつ厚みが大きいホログラム
を得る。
Unreacted compounds (
Removal of B) is usually carried out by heat treatment under reduced pressure or normal pressure. The temperature of the heat treatment is preferably in the range of 50 to 100°C. As a result, a hologram is obtained in which the exposed portion has a higher refractive index than the unexposed portion and is thicker.

本発明のホログラムの製造方法では、上記(ハ)工程の
次に、ホログラムのパターンが形或された薄膜の全面に
紫外線を照射する(二)工程を設けてもよい。この(二
)工程を経ることにより、製造されるホログラムの耐有
機溶剤性および耐熱性がより向上する。照射する紫外線
としては強度が10〜40mW/cm”であり、かつ波
長が200 〜450nmであるものが好ましい。紫外
線照射の時間としては30秒間〜5分間の範囲が好まし
い。また、(ハ)工程の次または必要に応じて(二)工
程の次に、(ハ)工程の熱処理温度よりも高温の熱処理
を施す(ネ)工程を設けてもよい。この(ネ)工程を経
ることにより、製造されるホログラムの耐有機溶剤性お
よび耐熱性がさらに向上する。(ネ)工程の熱処理は1
05〜230℃の範囲の温度で15分間〜40時間施す
ことが好適な結果を与える。150〜200℃の範囲の
温度で工〜5時間熱処理するか、110〜140℃の範
囲の温度で10〜25時間熱処理することがより好まし
い結果を与える。
In the hologram manufacturing method of the present invention, a step (2) of irradiating the entire surface of the thin film with a hologram pattern with ultraviolet rays may be provided after the step (c). By passing through this (2) step, the organic solvent resistance and heat resistance of the manufactured hologram are further improved. The ultraviolet rays to be irradiated preferably have an intensity of 10 to 40 mW/cm" and a wavelength of 200 to 450 nm. The duration of ultraviolet irradiation is preferably in the range of 30 seconds to 5 minutes. After (2) or if necessary, a (4) step may be provided in which heat treatment is performed at a higher temperature than the heat treatment temperature in (3). The organic solvent resistance and heat resistance of the hologram are further improved.
Temperatures in the range 05-230°C for 15 minutes to 40 hours give suitable results. More preferable results are obtained by heat treating at a temperature in the range of 150 to 200°C for 5 hours or at a temperature in the range of 110 to 140°C for 10 to 25 hours.

(イ)工程の次に、化合物(B)の一部のみが反応する
条件下で上記の組成物からなる薄膜の全面に紫外線を照
射する(へ)工程を設けてもよい。
After the step (a), a step (f) may be provided in which the entire surface of the thin film made of the above composition is irradiated with ultraviolet rays under conditions in which only a portion of the compound (B) reacts.

なお、上記の組成物からなる薄膜にホログラムのパター
ンに応じて部分的に紫外線を照射したのち、冶剤に浸漬
することによっても所望の屈折率差と凹凸差とを有する
ホログラムを得ることができる。
Note that a hologram having a desired refractive index difference and unevenness difference can also be obtained by partially irradiating a thin film made of the above composition with ultraviolet rays according to the pattern of the hologram, and then immersing it in a jig. .

本発明のホログラムとしてはピッチが0.2〜5μ由の
範囲であり、かつ露光部と非露光部との屈折率差が0.
001〜0.1の範囲であるものが好ましい。
The hologram of the present invention has a pitch in the range of 0.2 to 5μ, and a refractive index difference of 0.2 to 5 μm between exposed and non-exposed areas.
The range of 0.001 to 0.1 is preferred.

本発明のホログラムは高い回折効率を有し、そのばらつ
きが小さく、かつ透明性が良好で、ヘイズが少ない。従
って、本発明のホログラムは自動車用のヘッドアップデ
ィスプレイに好ましく用いられる。
The hologram of the present invention has high diffraction efficiency, small variation, good transparency, and little haze. Therefore, the hologram of the present invention is preferably used in head-up displays for automobiles.

[実施例] 以下、実施例により本発明を具体的に説明する。[Example] Hereinafter, the present invention will be specifically explained with reference to Examples.

実施例! 反応容器にN,置換後に2−ブテニルメタクリレート2
6g1 メチルメタクリレート56g1 アゾビスイソ
ブチロニトリル90mgおよびジオキサン300gを仕
込み、封管して55〜60℃のウォーターバス中で24
時間加熱し重合反応を行った。得られた反応肢をメタノ
ールIff中にあけ、生成物を沈澱させ、乾燥させるこ
とにより、重合体(A)を50g得た。この重合体(^
)はNMRによる測定結果から、2−ブテニルメタクリ
レート対メチルメタクリレートのモル比が1対3の共重
合体であることが確認された。
Example! N in the reaction vessel, 2-butenyl methacrylate 2 after substitution
6g1 Methyl methacrylate 56g1 90mg of azobisisobutyronitrile and 300g of dioxane were charged, sealed, and heated in a water bath at 55 to 60°C for 24 hours.
A polymerization reaction was carried out by heating for a period of time. The obtained reaction limb was poured into methanol Iff to precipitate the product, and the product was dried to obtain 50 g of polymer (A). This polymer (^
) was confirmed by NMR measurement to be a copolymer with a molar ratio of 2-butenyl methacrylate to methyl methacrylate of 1:3.

また、この重合体(^)の分子量はゲルパーミエーショ
ンクロマトグラフイー法により求めたポリスチレン換算
の数平均分子量は220,000であった。
The molecular weight of this polymer (^) was determined by gel permeation chromatography, and the number average molecular weight in terms of polystyrene was 220,000.

重合体(A)10部と、3−ペンゾイルベンゾフエノン
8部とからなる組成物をトルエンに溶解したのち、得ら
れた溶液を用いてガラス基板上にスビンコート法によっ
て薄膜(厚さ12μg+)を形成した。
After dissolving a composition consisting of 10 parts of polymer (A) and 8 parts of 3-penzoylbenzophenone in toluene, a thin film (thickness 12 μg+) was formed on a glass substrate using the Svin coating method using the obtained solution. Formed.

この薄膜に第1図に示す干渉露光装置を用いてホログラ
ムの格子状パターンを露光した。干渉露光装置において
は、波長が363.8nmであるArレーザ1を出射し
、干渉光学系2へ入射された光はミラー3で反射された
のち、ビームスブリツタ4で2分割される。2分割され
た光はミラー5(6)により反射され、レンズ系7(8
)により平行先になり、露光面9に干渉稿を形成する。
This thin film was exposed to a hologram grid pattern using an interference exposure apparatus shown in FIG. In the interference exposure apparatus, an Ar laser 1 having a wavelength of 363.8 nm is emitted, and light incident on an interference optical system 2 is reflected by a mirror 3 and then split into two by a beam splitter 4. The two-split light is reflected by the mirror 5 (6) and then passes through the lens system 7 (8).
) to form a parallel tip and form an interference pattern on the exposure surface 9.

この実施例では、得られるホログラムの周期が0.43
μmになるようにレンズ系およびミラーを調整して干渉
露光を行った。
In this example, the period of the obtained hologram is 0.43
Interference exposure was performed by adjusting the lens system and mirror so that the distance was .mu.m.

干渉露光後、パターンが形成されたWI膜を真空乾燥機
中で98℃、0.2nmHgの条件で17時間熱処理し
、該薄膜より未反応の化合物(B)を除去した。このの
ち、薄膜の全面に20ml/cm”の紫外線を6分間照
射することによってホログラムを得た。
After interference exposure, the patterned WI film was heat treated in a vacuum dryer at 98° C. and 0.2 nmHg for 17 hours to remove unreacted compound (B) from the thin film. Thereafter, a hologram was obtained by irradiating the entire surface of the thin film with 20 ml/cm'' ultraviolet light for 6 minutes.

得られたホログラムが有する波長632.8nmの光に
対する回折効率は、ホログラムの格子状パターンと同じ
方向の偏光に対しては40%、垂直方向の偏光に対して
は16%であった。次に、このホログラムか有する可視
光線に対する分光透過特性図を第2図に示す。ここで、
第2図では波長632.8na+の光に対する回折効率
が最大になるようにホログラムを配置し、測定して得ら
れた結果を示している。第2図より明らかなように、上
記のホログラムは回折光が生じる波長以外の波長の光に
対して90%以上の透過率を有しており、可視光線に対
する透明性が極めて良好である。
The diffraction efficiency of the obtained hologram for light having a wavelength of 632.8 nm was 40% for light polarized in the same direction as the lattice pattern of the hologram, and 16% for light polarized in the perpendicular direction. Next, FIG. 2 shows a spectral transmission characteristic diagram of this hologram for visible light. here,
FIG. 2 shows the results obtained by arranging the hologram so that the diffraction efficiency for light with a wavelength of 632.8 na+ is maximized and measuring it. As is clear from FIG. 2, the above hologram has a transmittance of 90% or more for light of wavelengths other than the wavelength at which diffracted light is generated, and has extremely good transparency for visible light.

実施例2〜l9 実施例lにおけると同様の方法で、第1表に示す重合体
(A)と、化合物(B)とからなる組成物を調製した。
Examples 2 to 19 Compositions consisting of the polymer (A) shown in Table 1 and the compound (B) were prepared in the same manner as in Example 1.

第1表に示す組成物を用いて、実施例lにおけると同様
にしてホログラムを製造した。
Holograms were prepared as in Example 1 using the compositions shown in Table 1.

各実施例において製造したホログラムは実施例lのホロ
グラムと同様に高い回折効率を有し、かつ透明性は良好
であった。
The holograms produced in each example had high diffraction efficiency and good transparency, similar to the hologram of Example I.

以下余白 実施例20 反応容器にN,置換後にゲラニルメタクリレート4g、
メチルメタクリレート5g1アゾビスイソプチロニトリ
ル8IIIgおよびジオキサン25gを仕込み、封管し
て55〜60℃のウォーターバス中で24時間加熱し重
合反応を行った。得られた反応液をメタノール4500
m(!中にあけ、生成物を沈澱させ、乾燥させることに
より、重合体(A)を45g得た。この重合体(A)は
NMRによる測定結果からゲラニルメタクリレート対メ
チルメタクリレートのモル比が1対3の共重合体である
ことが確認された。また、この重合体(A)のゲルパー
ミエーションク口マトグラフイー法により求めたボリス
チレン換算の数平均分子量は250,000であった。
Below is the margin Example 20 N in the reaction vessel, 4 g of geranyl methacrylate after substitution,
5 g of methyl methacrylate, 8 III g of azobisisobutyronitrile and 25 g of dioxane were charged, the tube was sealed and heated in a water bath at 55 to 60° C. for 24 hours to carry out a polymerization reaction. The resulting reaction solution was diluted with methanol 4500 ml.
45 g of polymer (A) was obtained by precipitating the product and drying it. This polymer (A) was found to have a molar ratio of geranyl methacrylate to methyl methacrylate of 1 as determined by NMR measurement. The number average molecular weight of this polymer (A) in terms of polystyrene was 250,000, as determined by gel permeation chromatography.

上記重合体(A)10部と、3−ヘンゾイルヘンゾフエ
ノン10部とからなる組成物をトルエンに溶解し、得ら
れた溶肢を用いてガラス基板上にスビンコート法によっ
て薄膜(厚さ12μm)を形成し、実施例lにおけると
同じ条件で干渉露光を行った。干渉露光の後、真空乾燥
機中で98℃、0 . 2mmHgの条件で17時間熱
処理し、未反応の化合物(B)を除去することによって
ホログラムを製造した。
A composition consisting of 10 parts of the above polymer (A) and 10 parts of 3-henzoylhenzophenone was dissolved in toluene, and a thin film (thickness 12 μm ) was formed and interference exposure was performed under the same conditions as in Example 1. After interference exposure, it was dried in a vacuum dryer at 98°C and 0.5°C. A hologram was produced by heat-treating at 2 mmHg for 17 hours and removing unreacted compound (B).

このホログラムは実施例1のホログラムと同様に高い回
折効率を有し、かつ透明性は良好であった。
This hologram had high diffraction efficiency like the hologram of Example 1, and good transparency.

実施例21〜34 実施例20におけると同様の方法で、第2表に示す重合
体(A)と、化合物(B)とからなる組戊物を調製した
。第2表に示す組威物を用いて、実施例lにおけると同
様にしてホログラムを製造した。
Examples 21 to 34 In the same manner as in Example 20, composites consisting of the polymer (A) shown in Table 2 and the compound (B) were prepared. A hologram was manufactured in the same manner as in Example 1 using the composite shown in Table 2.

各実施例において製造したホログラムは実施例lのホロ
グラムと同様に高い回折効率を有し、かつ透明性は良好
であった。
The holograms produced in each example had high diffraction efficiency and good transparency, similar to the hologram of Example I.

なお、第1表および第2表においては部は重量部を示す
In addition, in Tables 1 and 2, parts indicate parts by weight.

以下余白 [発明の効果] 本発明によれば、可視光線に対する透明性が良好で、か
つ高い回折効率を有するホログラムが提供される。この
ホログラムは露光部が非露光部よりも高い屈折率を有し
、かつ厚みが大きい。また本発明によれば、上記のホロ
グラムを製造する方法が提供される。
Margin below [Effects of the Invention] According to the present invention, a hologram having good transparency to visible light and high diffraction efficiency is provided. In this hologram, the exposed portion has a higher refractive index than the non-exposed portion and is thicker. Further, according to the present invention, a method of manufacturing the above-mentioned hologram is provided.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明のホログラムの製造に用いられる干渉露
光装置の概略構成図、第2図は実施例1のホログラムの
可視光線に対する分光透過特性図である。 1  ・・・ Arレーザ、 4 ・・・ビームスプリツタ、 7.8・・・レンズ系、 9 ・・・露光面。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an interference exposure apparatus used for manufacturing the hologram of the present invention, and FIG. 2 is a diagram of the spectral transmission characteristics of the hologram of Example 1 for visible light. 1... Ar laser, 4... Beam splitter, 7.8... Lens system, 9... Exposure surface.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、下記一般式( I ) ( I )▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、X^1は水素原子またはアルキル基を表し、Y
^1はシクロアルケニル基または下記一般式▲数式、化
学式、表等があります▼ で示される基を表す。ここで、Z^1は2価の炭化水素
基を表し、R^1、R^2およびR^3はそれぞれ水素
原子、アルキル基またはアルケニル基を表す。] で示される構造単位を2〜100モル%、下記一般式(
II) (II)▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、X^2は水素原子またはアルキル基を表し、Y
^2はフェニル基、アルコキシカルボニル基またはカル
バモイル基を表し、一般式(II)における水素原子はフ
ッ素原子によつて置換されていてもよい。] で示される構造単位を0〜98モル%有する重合体(A
)と、置換基を有していてもよい芳香族アルデヒドおよ
び芳香族ケトンからなる群より選ばれる化合物(B)と
からなる組成物からなるホログラム。 2、(イ)下記一般式( I ) ( I )▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、X^1は水素原子またはアルキル基を表し、Y
^1はシクロアルケニル基または下記一般式▲数式、化
学式、表等があります▼ で示される基を表す。ここで、Z^1は2価の炭化水素
基を表し、R^1、R^2およびR^3はそれぞれ水素
原子、アルキル基またはアルケニル基を表す。] で示される構造単位を2〜100モル%、下記一般式(
II) (II)▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、X^2は水素原子またはアルキル基を表し、Y
^2はフェニル基、アルコキシカルボニル基またはカル
バモイル基を表し、一般式(II)における水素原子はフ
ッ素原子によつて置換されていてもよい。] で示される構造単位を0〜98モル%有する重合体(A
)と、置換基を有していてもよい芳香族アルデヒドおよ
び芳香族ケトンからなる群より選ばれる化合物(B)と
からなる組成物の薄膜を形成する工程、 (ロ)薄膜に所望のパターンに応じて部分的に紫外線を
照射する工程、および (ハ)薄膜から未反応の化合物(B)を除去する工程、 を設けてなることを特徴とするホログラムの製造方法。
[Claims] 1. The following general formula (I) (I)▲ Numerical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ [In the formula, X^1 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and Y
^1 represents a cycloalkenyl group or a group represented by the following general formula ▲ Numerical formulas, chemical formulas, tables, etc. are available▼. Here, Z^1 represents a divalent hydrocarbon group, and R^1, R^2 and R^3 each represent a hydrogen atom, an alkyl group or an alkenyl group. ] 2 to 100 mol% of the structural unit represented by the following general formula (
II) (II)▲Mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ [In the formula, X^2 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and Y
^2 represents a phenyl group, an alkoxycarbonyl group or a carbamoyl group, and the hydrogen atom in general formula (II) may be substituted with a fluorine atom. ] A polymer having 0 to 98 mol% of structural units represented by (A
) and a compound (B) selected from the group consisting of aromatic aldehydes and aromatic ketones that may have substituents. 2. (a) The following general formula (I) (I) ▲ Numerical formulas, chemical formulas, tables, etc. are available▼ [In the formula, X^1 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and Y
^1 represents a cycloalkenyl group or a group represented by the following general formula ▲ Numerical formulas, chemical formulas, tables, etc. are available▼. Here, Z^1 represents a divalent hydrocarbon group, and R^1, R^2 and R^3 each represent a hydrogen atom, an alkyl group or an alkenyl group. ] 2 to 100 mol% of the structural unit represented by the following general formula (
II) (II)▲Mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ [In the formula, X^2 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and Y
^2 represents a phenyl group, an alkoxycarbonyl group or a carbamoyl group, and the hydrogen atom in general formula (II) may be substituted with a fluorine atom. ] A polymer having 0 to 98 mol% of structural units represented by (A
) and a compound (B) selected from the group consisting of aromatic aldehydes and aromatic ketones which may have substituents; (b) forming a desired pattern on the thin film; A method for manufacturing a hologram, comprising the following steps: partially irradiating ultraviolet rays according to the conditions; and (c) removing unreacted compound (B) from the thin film.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007033601A (en) * 2005-07-25 2007-02-08 Konica Minolta Photo Imaging Inc Optical device, video display device, and head mounted display
US7835050B2 (en) 2005-07-25 2010-11-16 Konica Minolta Photo Imaging, Inc. Optical holographic device with a hologram optical element on an area smaller than an irradiation area, holographic image display device and head mounted display with a hologram optical element on an area smaller than an irradiation area

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