JPH03165711A - Cosmetic depilator - Google Patents
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は美容脱毛装置に関し、特にむだ毛を永久脱毛す
る場合に適用して好適なものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application] The present invention relates to a cosmetic hair removal device, and is particularly suitable for use in permanently removing unwanted hair.
本発明は、美容脱毛装置において、脱毛出力のエンベロ
ープ波形についてのプログラム設定情報を発生するよう
にしたことにより、被施術者の体調、体質などや、施術
する部位、皮膚の種類、状態、脱毛すべき毛の質などの
脱毛施術の条件に適合するような美容脱毛施術をするこ
とができる。The present invention enables a cosmetic hair removal device to generate program setting information regarding the envelope waveform of the hair removal output, thereby making it possible to determine the physical condition, constitution, etc. of the patient, the area to be treated, the type and condition of the skin, and the hair removal process. It is possible to perform a cosmetic hair removal treatment that matches the hair removal treatment conditions such as the desired hair quality.
従来むだ毛を脱毛する方法として、シェービング、カッ
ティング、ツイージング、除毛剤、ワックス等の一時的
脱毛法と、高周波電流又は直流電流を用いて毛根組織を
破壊する永久脱毛法とがあり、永久脱毛法は美容効果を
長期に亘って維持できる利点がある。Conventional methods for removing unwanted hair include temporary hair removal methods such as shaving, cutting, tweezing, hair removal agents, and waxing, and permanent hair removal methods that destroy hair root tissue using high-frequency current or direct current. This method has the advantage of maintaining beauty effects over a long period of time.
ここで直流電流及び高周波電流を用いて永久脱毛をする
方法は、電気的エネルギーを用いて毛包内の毛根組織を
破壊しようとするもので、直流電流を用いる方法(電気
分解脱毛法と呼ばれている)においては毛包内に挿入し
た陰極を介して直流電流を流すことにより、毛包内のN
aC1を電気分解することによりNaOHを生成し、当
該N、aOHの強アルカリ作用により毛根組織を化学的
に破壊することを原理とする。The method of permanent hair removal using direct current and high-frequency current attempts to destroy the hair root tissue within the hair follicle using electrical energy. In this method, N in the hair follicle is reduced by passing a direct current through a cathode inserted into the hair follicle.
The principle is that NaOH is generated by electrolyzing aC1, and the hair root tissue is chemically destroyed by the strong alkaline action of the N and aOH.
これに対して高周波電流を流す方法(高周波脱毛法と呼
ばれている)は、毛包内に高周波電流を流して毛根組織
の内部において熱エネルギーに変換することにより、毛
根組織に蛋白質の凝固を生じさせることを原理とする。On the other hand, the method of applying high-frequency current (called high-frequency hair removal method) causes protein coagulation in the hair root tissue by passing a high-frequency current through the hair follicle and converting it into thermal energy inside the hair root tissue. The principle is to make it happen.
ところが当該電気分解脱毛法又は高周波脱毛法によって
比較的短い時間の間に脱毛施術をしようとすれば、毛包
内に流す電流をかなり大きくする必要があるため、美容
脱毛に適用した場合不適切になるおそれがある。However, when attempting to perform hair removal in a relatively short period of time using the electrolytic hair removal method or high-frequency hair removal method, it is necessary to increase the current flowing into the hair follicle, which may result in inappropriate use when applied to cosmetic hair removal. There is a risk that
因に毛包内に流す電流を大きくすると、脱毛施術を受け
ている被施術者に痛みなどの不快感を与えるおそれがあ
り、人の生活に不可欠な医療のための脱毛施術とは異な
り、美容脱毛においては被施術者に生理的ないし心理的
に悪影響を与えるような脱毛方法は回避することが望ま
しい。However, increasing the current flowing into the hair follicle may cause discomfort such as pain to the person receiving the hair removal treatment. When it comes to hair removal, it is desirable to avoid hair removal methods that have a negative physiological or psychological impact on the recipient.
そこで、毛包内に流す高周波電流値又は直流電流値を低
減させて美容脱毛に適用することも考えられるが、この
ようにすると美容脱毛施術時間が長大になる問題がある
。Therefore, it is conceivable to reduce the high-frequency current value or the direct current value flowing into the hair follicle and apply it to cosmetic hair removal, but if this is done, there is a problem that the cosmetic hair removal treatment time becomes long.
本発明は以上の点を考慮してなされたもので、施術する
部位、皮膚の種類、状態、脱毛すべき毛の質等の脱毛施
術条件に最適な施術条件パターンを選択できるようにす
ることにより、実用上被施術者に生理的ないし心理的な
悪影響を生じさせるおそれを有効に回避しながら効率良
く永久脱毛の施術をし得るようにした美容脱毛装置を提
案しようとするものである。The present invention has been made in consideration of the above points, and by making it possible to select the optimal treatment condition pattern for the hair removal treatment conditions such as the area to be treated, the type and condition of the skin, and the quality of the hair to be removed. The present invention aims to propose a cosmetic hair removal device that can efficiently perform permanent hair removal treatment while effectively avoiding the possibility of causing physiological or psychological adverse effects on the recipient.
かかる問題点を解決するため本発明においては、毛包に
差し込んだ針状導子4Aに脱毛出力S5を供給して電流
を流すことにより当該毛包について永久脱毛をする美容
脱毛装置において、 脱毛出力S5にエンベロープ波形
を付与するエンベロープ付与手段51〜54.61〜6
4と、エンベロープ波形が付与された脱毛出力S5に所
定の変化を生じさせるための条件を表すパターン設定情
報5PI11iを発生するパターン設定手段15とを設
けるようにする。In order to solve this problem, the present invention provides a cosmetic hair removal device that permanently removes hair from the hair follicle by supplying the hair removal output S5 to the needle-shaped conductor 4A inserted into the hair follicle and passing a current. Envelope applying means 51 to 54 and 61 to 6 for applying an envelope waveform to S5
4, and pattern setting means 15 for generating pattern setting information 5PI11i representing conditions for causing a predetermined change in the hair removal output S5 to which the envelope waveform has been added.
針状導子4Aに供給する脱毛出力S5にエンベロープ波
形を付与すると、実質上十分な脱毛出力レベルを供給す
るにつき、被施術者に不快感を与えることなく効率良く
美容脱毛施術をすることができる。When an envelope waveform is given to the hair removal output S5 supplied to the needle-shaped conductor 4A, a substantially sufficient hair removal output level is supplied, and the cosmetic hair removal treatment can be performed efficiently without causing discomfort to the treated person. .
かくするにつき、エンベロープ波形に変化を生じさせる
ための条件をパターン設定情報として用いるようにした
ことにより、多様な脱毛施術条件に対して容易に適応で
きる美容脱毛装置を実現し得る。In this way, by using the conditions for causing a change in the envelope waveform as pattern setting information, it is possible to realize a cosmetic hair removal device that can easily adapt to various hair removal treatment conditions.
以下図面について、本発明の一実施例を詳述する。 An embodiment of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.
(1)全体の構成
第1図において、1は全体として美容脱毛装置を示し、
脱毛器本体2からの脱毛出力をケーブル3を介してプロ
ーブ4に供給する。(1) Overall configuration In FIG. 1, 1 indicates the cosmetic hair removal device as a whole,
The hair removal output from the epilator main body 2 is supplied to the probe 4 via the cable 3.
脱毛器本体2は高周波脱毛出力S1を発生する高周波脱
毛出力形成部11と、直流脱毛出力S2を送出する直流
脱毛出力形成部12と、光脱毛出力S3を送出する光脱
毛出力形成部13と、冷却風出力S4を送出する冷却風
形成部14と、脱毛施術条件設定信号S□6を脱毛器本
体2に供給するパターン設定装置部15とを有する。The epilator main body 2 includes a high-frequency hair removal output forming section 11 that generates a high-frequency hair removal output S1, a DC hair removal output forming section 12 that sends out a DC hair removal output S2, and a photoremoval output forming section 13 that sends a photoremoval output S3. It has a cooling air forming section 14 that sends out a cooling air output S4, and a pattern setting device section 15 that supplies a hair removal treatment condition setting signal S□6 to the epilator main body 2.
直流脱毛出力形成部12は、直流発生回路21において
例えば商用電源から発生させた直流電流SOIを直流出
力回路22において例えば0〜−15(V)程度の直流
電流でなる直流脱毛出力S2に変換する。The DC hair removal output forming unit 12 converts the DC current SOI generated from, for example, a commercial power supply in the DC generation circuit 21 into a DC hair removal output S2 made of a DC current of about 0 to -15 (V), for example, in the DC output circuit 22. .
この実施例の場合直流出力回路22は脱毛施術者が直流
用フットスイッチ23をオンオフ操作したとき生ずるオ
ンオフ出力Sllを時間制御回路24に与え、この時間
制御回路24に予め設定された所定の遅延時間だけ遅延
して得られる遅延オンオフ信号S12を直流出力回路2
2に与えることによりそのタイミングで直流脱毛出力S
2を出力できるようになされている。In this embodiment, the DC output circuit 22 provides the on/off output Sll generated when the hair removal practitioner turns on/off the DC foot switch 23 to the time control circuit 24, and the time control circuit 24 receives a predetermined delay time set in advance. The delayed on/off signal S12 obtained by delaying the DC output circuit 2
2, the DC hair removal output S at that timing.
2 can be output.
また高周波脱毛出力形成部11は例えば27〔Mセ〕の
高周波信号SO2を高周波発生回路25において商用電
源から発生して高周波出力回路26に供給し、当該高周
波出力回路26において施術者が高周波用フットスイッ
チ27を操作したときそのタイミングで高周波脱毛出力
Slに変換するようになされている。In addition, the high-frequency hair removal output forming section 11 generates a high-frequency signal SO2 of, for example, 27 [M] from a commercial power supply in a high-frequency generation circuit 25 and supplies it to a high-frequency output circuit 26. When the switch 27 is operated, the output is converted to the high frequency hair removal output Sl at that timing.
ここで直流脱毛出力S2は、電気分解脱毛法に基づいて
毛包内に電気分解を生じさせるにつき、被施術者に不快
感を与えない程度に比較的小さい値に選定され、また高
周波脱毛出力Stは、直流脱毛出力S2によって毛包内
に生じたアルカリ液(すなわち電気分解によって生じた
NaOH液)を加熱することより反応速度を高めること
ができる程度の熱を、高周波加熱法によって発生させる
に適した周波数(例えば27 (MHz) )及び強さ
を選定するようになされている。Here, the DC hair removal output S2 is selected to be a relatively small value to the extent that it does not cause discomfort to the person being treated, since electrolysis is caused in the hair follicle based on the electrolysis hair removal method, and the high frequency hair removal output St is suitable for generating heat by a high-frequency heating method to the extent that the reaction rate can be increased by heating the alkaline solution (that is, the NaOH solution produced by electrolysis) produced in the hair follicle by the DC hair removal output S2. The frequency (for example, 27 (MHz)) and intensity are selected.
直流脱毛出力S2はブレンド出力回路28において高周
波脱毛出力S1と合成されてブレンド脱毛出力S5とし
てケーブル3のブレンド脱毛出力ライン3Aに送出され
、かくしてプローブ4の針状導子4Aに供給される。The DC hair removal output S2 is combined with the high frequency hair removal output S1 in the blend output circuit 28, and sent as a blend hair removal output S5 to the blend hair removal output line 3A of the cable 3, and thus supplied to the needle-like conductor 4A of the probe 4.
ブレンド出力回路2Bのアース側出力端はアースケーブ
ル31を通じて握り導子32に接続され、被施術者が握
り導子32を手で握った状態で施術者が針状導子4Aを
脱毛しようとする毛の毛包内に挿入したとき、当該針状
導子4Aを陰極とし、かつ握り導子32を陽極として毛
包内に電気分解の反応を発生させるようになされている
。The ground side output end of the blend output circuit 2B is connected to the grip conductor 32 through the ground cable 31, and the practitioner attempts to remove hair using the needle conductor 4A while the treatment subject is holding the grip conductor 32 in his or her hand. When inserted into the hair follicle, the needle-like conductor 4A is used as a cathode and the grip conductor 32 is used as an anode to generate an electrolytic reaction within the hair follicle.
また光脱毛出力形成部13はレーザ、キセノンランプ等
の高輝度発光源を有する光源部35によって発生した施
術光束SO3を集光光学系36において光脱毛出力S3
として集光してケーブル3の光ファイバ3Bに射出する
。Further, the optical hair removal output forming unit 13 converts the treatment light flux SO3 generated by the light source unit 35 having a high-intensity light source such as a laser or a xenon lamp into a condensing optical system 36 to output a optical hair removal output S3.
The light is focused and emitted to the optical fiber 3B of the cable 3.
かくして光ファイバ3Bを通ってプローブ4に到達した
光脱毛出力S3は、プローブ本体4Cの先端部に突出す
るように取り付けられた光プローブ子4Bに供給される
。The optical hair removal output S3 that has thus reached the probe 4 through the optical fiber 3B is supplied to the optical probe element 4B that is attached to protrude from the tip of the probe body 4C.
この実施例の場合、光プローブ子4Bは針状導子4Aに
沿うように延長し、当該針状導子4Aが被施術者の毛包
内に挿入されたとき、当該毛包を光脱毛出力S3によっ
て照射することによりその内部を加熱できるようになさ
れている。In the case of this embodiment, the optical probe element 4B extends along the needle-like guide 4A, and when the needle-like guide 4A is inserted into the hair follicle of the person to be treated, the hair follicle is subjected to optical hair removal output. The interior thereof can be heated by irradiating it with S3.
冷却風形成部14は、コンプレッサ41を有し、殺菌器
42を介して外部から吸入した空気流SO4をコンプレ
ッサ41において圧縮して冷却風出力S4に変換し、当
該冷却風出力S4をケーブル3のパイプ3Cを通じてプ
ローブ4に供給するようになされている。The cooling air forming unit 14 includes a compressor 41 , which compresses the air flow SO4 taken in from the outside via the sterilizer 42 and converts it into a cooling air output S4. The probe 4 is supplied through a pipe 3C.
この実施例の場合プローブ4は先端面に設けられた吹き
出し口から冷却風出力S4でなる冷却風WNDを吹き出
させることにより、針状導子4Aが挿入された毛包の周
囲の皮膚を冷却風WNDによって冷却し、これにより施
術により生ずる腫れを鎮静させるようになされている。In this embodiment, the probe 4 blows out the cooling air WND having the cooling air output S4 from the air outlet provided on the tip surface, thereby blowing the cooling air around the skin around the hair follicle into which the needle guide 4A is inserted. The WND is used to cool the area, thereby calming swelling caused by the treatment.
またこの実施例の場合、陽極すなわちアースラインに円
柱状カーボンローラでなるアフタケア用ローラ45がケ
ーブル44を介して接続され、施術後節術部に対してア
フタケア用ローラ45を転接させることにより、興奮状
態にある施術部の皮膚を鎮静化させるようになされてい
る。In addition, in the case of this embodiment, an aftercare roller 45 made of a cylindrical carbon roller is connected to the anode, that is, the ground line, via a cable 44, and by rolling the aftercare roller 45 into contact with the joint surgery site after the treatment, It is designed to soothe the excited skin in the area to be treated.
第1図の構成において、脱毛施術をする際には、被施術
者に握り導子32を握らせた状態において施術者はプロ
ーブ4を把持して針状導子4Aを毛包内に挿入させた後
、高周波用フットスイッチ27及び直流用フットスイッ
チ23を操作することによりブレンド出力回路28から
ブレンド脱毛出力S5を送出させて針状導子4Aに供給
する。In the configuration shown in FIG. 1, when performing a hair removal treatment, the practitioner has the patient grasp the grip guide 32, grasps the probe 4, and inserts the needle guide 4A into the hair follicle. After that, by operating the high frequency foot switch 27 and the DC foot switch 23, the blend output circuit 28 outputs the blend hair removal output S5 and supplies it to the needle conductor 4A.
これにより針状導子4Aが挿入された毛包において、ブ
レンド脱毛出力S5のうち直流脱毛出力S2によって電
気分解を生じさせると共に、高周波脱毛出力S1によっ
て毛包内を加熱することにより当該電気分解の反応を活
発化させることができ、かくして直流脱毛出力S2とし
て、医療脱毛の場合と比較して格段的に弱い直流脱毛出
力S2によってかなり速い反応速度で電気分解による永
久脱毛効果を得ることができる。As a result, in the hair follicle into which the needle-like conductor 4A is inserted, electrolysis is caused by the DC hair removal output S2 of the blended hair removal output S5, and the inside of the hair follicle is heated by the high frequency hair removal output S1, thereby causing electrolysis. The reaction can be activated, and the permanent hair removal effect by electrolysis can be obtained at a fairly fast reaction speed with the direct current hair removal output S2, which is much weaker than in the case of medical hair removal.
このとき直流用フットスイッチ23から得られるオンオ
フ出力311は時間制御回路24の設定時間だけ遅延さ
れ、これにより高周波脱毛出力S1によって毛包を加熱
した後直流脱毛出力S2によって電気分解を開始させる
ことができ、かくして予め加熱した分反応速度を速める
ことができる。At this time, the on/off output 311 obtained from the DC foot switch 23 is delayed by the time set by the time control circuit 24, so that after the hair follicles are heated by the high-frequency hair removal output S1, electrolysis can be started by the DC hair removal output S2. Thus, the reaction rate can be increased by the amount of preheating.
これに加えて施術されている毛包に対して光脱毛出力形
成部13において発生される光脱毛出力S3が光プロー
ブ子4Bから照射されることより、当該毛包の内部を光
脱毛出力S3の光エネルギーによって加熱でき、これに
より毛包内部に生じている電気分解の反応速度を光脱毛
出力S3の光エネルギーを使ってさらに一段と速めるこ
とができる。かくするにつき加熱手段として光を用いる
ようにしたことにより、毛包内部の加熱を施術者に苦痛
を与えないように和らげることができる。In addition, the photoepigration output S3 generated in the photoremoval output forming unit 13 is irradiated from the optical probe element 4B to the hair follicle being treated, so that the inside of the hair follicle is exposed to the photoepilation output S3. It can be heated by light energy, and thereby the reaction rate of electrolysis occurring inside the hair follicle can be further accelerated using the light energy of the photoremoval output S3. By using light as the heating means, the heating inside the hair follicle can be alleviated without causing pain to the practitioner.
この実施例の場合、ブレンド脱毛出力S5及びアース出
力はそれぞれ出力端子T1及びT2に供給されて当該出
力端子T1及びT2にブレンド脱毛出力ライン3A及び
アースケーブル31のコネクタCI及びC2を着脱自在
に接続できるようになされ、これにより、第2のアース
端子T3にアフタケア用ローラ45の接続ケーブル44
のコネクタC3を接続した状態において握り導子32の
アースケーブル31のコネクタC2を出力端子T2から
離して出力端子TIに接続し直すことにより、アフタケ
ア用ローラ45を動作させることができるようになされ
ている。In this embodiment, the blend hair removal output S5 and the ground output are supplied to the output terminals T1 and T2, respectively, and the blend hair removal output line 3A and the connectors CI and C2 of the ground cable 31 are detachably connected to the output terminals T1 and T2. This allows the connection cable 44 of the aftercare roller 45 to be connected to the second ground terminal T3.
The aftercare roller 45 can be operated by separating the connector C2 of the ground cable 31 of the grip conductor 32 from the output terminal T2 and reconnecting it to the output terminal TI while the connector C3 of the grip conductor 32 is connected. There is.
以上の構成に加えて美容脱毛装置1はパターン設定装置
部15を有し、 脱毛施術条件設定信号5P11.を脱
毛器本体2に供給することにより、脱毛器本体2のブレ
ンド出力回路28から送出されるブレンド脱毛出力S5
を予め設定された脱毛施術条件に応じて制御できるよう
になされている。In addition to the above configuration, the beauty hair removal device 1 includes a pattern setting device section 15, which sends hair removal treatment condition setting signals 5P11. By supplying to the epilator main body 2, the blended hair removal output S5 is sent from the blend output circuit 28 of the epilator main body 2.
can be controlled according to preset hair removal treatment conditions.
〔2〕高周波脱毛出力形成部
高周波出力回路26は第2図に示すように、高周波用フ
ットスイッチ27のオンオフ操作出力S21によってク
ロック信号S22を発生するクロック発生回路51を有
し、その出力端に得られるクロック信号S22を16段
シフトレジスタ構成のスイッチ信号形成回路52に与え
る。[2] High-frequency hair removal output forming section As shown in FIG. 2, the high-frequency output circuit 26 has a clock generation circuit 51 that generates a clock signal S22 according to the on/off operation output S21 of the high-frequency foot switch 27, and has a clock signal S22 at its output end. The obtained clock signal S22 is applied to a switch signal forming circuit 52 having a 16-stage shift register configuration.
ここでクロック発生回路51には、パターン設定装置部
15(第1図)から供給される脱毛施術条件設定信号5
PIIGを構成する第1の信号としてクロック周波数設
定信号S□、が与えられ、これによりクロック信号S2
2のクロック周波数をパターン設定装置部15から設定
できるようになされている。Here, the clock generation circuit 51 receives a hair removal treatment condition setting signal 5 supplied from the pattern setting device section 15 (FIG. 1).
A clock frequency setting signal S□ is given as the first signal constituting the PIIG, and thereby the clock signal S2
The second clock frequency can be set from the pattern setting device section 15.
スイッチ信号形成回路52は、第3図(A I )〜(
A16)に示すように、 オン操作信号S21が与えら
れた時点toN(−t+)から順次クロック信号S22
の1周期分の時間が経過した時点Lx、ts、L4・・
・・・・toごとに順次スイッチ信号523(スイッチ
パルスSWI、SW2・・・・・・5W16でなる)を
発生し、これをエンベロープ波形メモリ53(第4図)
のアナログスイッチ回路PTI、PT2・・・・・・P
T16に与える。The switch signal forming circuit 52 is configured as shown in FIGS.
As shown in A16), from the time toN (-t+) when the ON operation signal S21 is applied, the clock signal S22 is
The point in time when one period of time has passed Lx, ts, L4...
A switch signal 523 (consisting of switch pulses SWI, SW2, . . . 5W16) is generated sequentially for each to, and is stored in the envelope waveform memory 53 (Fig. 4).
Analog switch circuit PTI, PT2...P
Give to T16.
アナログスイッチ回路PTI、PT2・・・・・・PT
16はオン動作したとき電源VCCをサンプリング波形
値記憶用抵抗分圧回路R1、R2・・・・・・R16に
与えることにより、その分圧電圧V、 、V、・・・・
・・voでなる波形出力信号S24を波形整形回路54
に送出する。Analog switch circuit PTI, PT2...PT
16, when turned on, supplies the power supply VCC to the sampling waveform value storage resistor voltage divider circuits R1, R2...R16, thereby generating the divided voltages V, , V,...
...The waveform output signal S24 consisting of vo is sent to the waveform shaping circuit 54.
Send to.
かくして波形出力信号S24は、第3図(B)に示すよ
うに、スイッチ信号323のスイッチパルスSWI・、
SW2・・・・・・5W16が発生するごとに分圧電圧
V、、V、・・・・” V l 6によって表されるサ
ンプリング波形値をもつような階段状波形を呈する。Thus, the waveform output signal S24 is the switch pulse SWI of the switch signal 323, as shown in FIG. 3(B).
Each time SW2...5W16 is generated, a stepped waveform having a sampling waveform value represented by the divided voltage V,, V,...''Vl6 is exhibited.
この実施例の場合、サンプリング波形値記憶用抵抗分圧
回路R1、R2・・・・・・R16は例えばFET(電
界効果型トランジスタ)を可変抵抗素子として含む抵抗
分圧回路で構成され、当該各FETのゲートにパターン
設定装置部15(第1図)から供給される脱毛施術条件
設定信号S□。を構成する第2の信号としてサンプリン
グ波形値設定信号5PIG!の各設定信号SMI、SM
2・・・・・・5Ml6が与えられ、これによりエンベ
ロープ波形の各サンプリング点のサンプリング値を表す
分圧電圧V+、Vt・・・・・・Vllkをパターン設
定装置部15から設定できるようになされている。In the case of this embodiment, the sampling waveform value storage resistor voltage divider circuits R1, R2, . A hair removal treatment condition setting signal S□ is supplied from the pattern setting device section 15 (FIG. 1) to the gate of the FET. The sampling waveform value setting signal 5PIG! Each setting signal SMI, SM
2...5Ml6 are given, thereby allowing the pattern setting device section 15 to set the divided voltages V+, Vt...Vllk representing the sampling values at each sampling point of the envelope waveform. ing.
この実施例の場合スイッチ信号形成回路52は高周波用
フットスイッチ27が第3図の時点t。Nにおいてオン
操作された後、シフトレジスタが最終段のサンプリング
波形値VI&を出力する状態になった後オフ操作時点り
。F、まで引き続きオン操作を続けたとき、最終段のス
イッチ信号5W16を論理rl(Jレベルのまま維持す
るようになされ、かくしてこの時間の開披形出力信号3
24の信号レベルとして最終段のサンプリング波形値■
1−を保持するようになされている。In this embodiment, the switch signal forming circuit 52 is connected to the high frequency foot switch 27 at time t in FIG. After being turned on at N, the shift register is in a state where it outputs the final stage sampling waveform value VI&, and then it is turned off. When the ON operation is continued until F, the final stage switch signal 5W16 is maintained at the logic rl (J level), and thus the open-circuit output signal 3 at this time
The final stage sampling waveform value as the signal level of 24■
1- is maintained.
ここでオフ操作時点t OFFにおいて高周波用フット
スイッチ27がオフ操作されると、スイッチ信号形成回
路52はリセット動作をして第3図の時点t。N以前の
初期状態、すなわち第1段スイッチパルスSWIを論理
r HJレベルに立ち上げた状態に戻るようになされ、
これにより高周波用フットスイッチ27がオン操作され
るごとに1波形分の波形出力信号S24を送出するよう
になされている。Here, when the high-frequency foot switch 27 is turned off at the OFF operation time t OFF, the switch signal forming circuit 52 performs a reset operation and returns to the time t in FIG. 3. Returning to the initial state before N, that is, the state in which the first stage switch pulse SWI was raised to the logic rHJ level,
Thereby, each time the high frequency foot switch 27 is turned on, the waveform output signal S24 for one waveform is sent out.
この階段波形形状の波形出力信号S24はフィルタ回路
構成の波形整形回路54において波形整形され、階段状
波形形状を滑らかな波形に整形してなるエンベロープ制
御信号525(第3図(C))が高周波脱毛出力形成回
路55に供給される。The waveform output signal S24 having a staircase waveform shape is shaped by a waveform shaping circuit 54 having a filter circuit configuration, and an envelope control signal 525 (FIG. 3(C)) formed by shaping the staircase waveform shape into a smooth waveform is a high frequency signal. The signal is supplied to the hair removal output forming circuit 55.
ここで波形整形回路54において用いられるフィルタ回
路は電位の段差をなくすもので、クロック発生回路51
のクロック周波数を高くすると強くかかり、これに対し
て低くすると緩くかかるようになされている。Here, the filter circuit used in the waveform shaping circuit 54 is to eliminate the level difference in potential, and is used in the clock generation circuit 51.
When the clock frequency is increased, the clock frequency is applied more strongly, whereas when it is lowered, the clock frequency is applied more slowly.
高周波脱毛出力形成回路55は、高周波発生回路25か
ら供給される高周波出力SO2の振幅をエンベロープ制
御信号525によって振幅変調することにより、高周波
出力SO2に対してエンベロープ制御信号S25のエン
ベロープ波形を付与して高周波脱毛出力Slを高周波出
力回路26の出力として送出する。The high-frequency hair removal output forming circuit 55 modulates the amplitude of the high-frequency output SO2 supplied from the high-frequency generation circuit 25 using the envelope control signal 525, thereby imparting the envelope waveform of the envelope control signal S25 to the high-frequency output SO2. The high frequency hair removal output Sl is sent out as the output of the high frequency output circuit 26.
第2図の構成の高周波出力回路26において、施術者が
高周波用フットスイッチ27を操作したとき高周波脱毛
出力S1はエンベロープ波形メモリ53に予め記憶され
ているエンベロープ波形に応じて振幅をエンベロープ制
御されることにより、被施術者に対して不快感を与えな
いように高周波脱毛施術を行うことができる。In the high-frequency output circuit 26 configured as shown in FIG. 2, when the practitioner operates the high-frequency foot switch 27, the high-frequency hair removal output S1 is envelope-controlled in amplitude according to the envelope waveform stored in advance in the envelope waveform memory 53. As a result, high-frequency hair removal treatment can be performed without causing discomfort to the person to be treated.
因に高周波用フットスイッチ27をオン操作したとき高
周波脱毛出力31の電流値を瞬時に立ち上げた場合には
被施術者に対して不快感を与えるおそれがあるが、高周
波脱毛出力S1の振幅をエンベロープ制御することによ
り高周波脱毛出力S1の立ち上がり傾斜を必要に応じて
設定することができることにより、被施術者に不快感を
与えるような刺激を生じさせないようにできる。Incidentally, if the current value of the high-frequency hair removal output 31 is instantaneously raised when the high-frequency foot switch 27 is turned on, there is a risk of causing discomfort to the patient. By controlling the envelope, the rising slope of the high-frequency hair removal output S1 can be set as necessary, thereby preventing stimulation that may cause discomfort to the person to be treated.
特にエンベロープ波形として第3図(C)に示すように
複数のピーク波形の間に谷間波形部を挿入するようにす
れば、高周波脱毛出力S1の振幅を高い信号レベルに維
持し続けることを回避できることにより、被施術者に不
快感を与えることな(しかも実効的に施術時間を短縮さ
せることができる。In particular, if a valley waveform portion is inserted between a plurality of peak waveforms as an envelope waveform as shown in FIG. 3(C), it is possible to avoid continuously maintaining the amplitude of the high-frequency hair removal output S1 at a high signal level. This does not cause discomfort to the patient (and can effectively shorten the treatment time).
因に高周波脱毛出力S1の振幅を高い信号レベルに維持
し続ければその加熱効果を速めることができることによ
り施術時間を全体として短縮することができると考えら
れるが、実際上高周波脱毛出力S1の信号レベルを高い
信号レベルに維持し続けると、被施術者に不快感を与え
るおそれがある。この点について高周波脱毛出力S1の
振幅値を第3図(C)に示すようにピーク波形部の間に
谷間波形部を形成するようにすれば、被施術者に与える
不快感を確実に和らげることができる。Incidentally, if the amplitude of the high-frequency hair removal output S1 is maintained at a high signal level, the heating effect can be accelerated and the treatment time can be shortened overall, but in reality, the signal level of the high-frequency hair removal output S1 is Continuing to maintain a high signal level may cause discomfort to the patient. Regarding this point, if the amplitude value of the high-frequency hair removal output S1 is made to form a valley waveform part between the peak waveform parts as shown in FIG. Can be done.
かくするにつき階段状波形形状を有する波形出力信号S
24を波形整形回路54において滑らかなエンベロープ
波形に整形するようにしたことにより、不快感の軽減効
果をさらに一段と高めることができる。Therefore, the waveform output signal S having a stepped waveform shape
24 into a smooth envelope waveform in the waveform shaping circuit 54, the effect of reducing discomfort can be further enhanced.
〔3〕直流脱毛出力形成部
直流出力回路22は第5図に示すように、直流用フット
スイッチ23のオンオフ出力311を時間制御回路24
において遅延時間電だけ遅延させてなる遅延オンオフ信
号S12をエンベロープ形成回路60のクロック発生回
路61に受ける。[3] As shown in FIG.
The clock generating circuit 61 of the envelope forming circuit 60 receives a delayed on/off signal S12 delayed by a delay time.
この実施例の場合、時間制御回路24は、パターン設定
装置部15(第1図)から供給される脱毛施術条件設定
信号5l−1゜を構成する第3の信号として遅延時間設
定信号S pH1を受け、遅延オンオフ信号S12の遅
延時間τ。を遅延時間設定信号S□。に対応する値に設
定し、これによりエンベロープ形成回路60のエンベロ
ープ波形の発生開始時点をパターン設定装置部15から
設定できるようになされている。In this embodiment, the time control circuit 24 uses the delay time setting signal S pH1 as the third signal constituting the hair removal treatment condition setting signal 5l-1° supplied from the pattern setting device section 15 (FIG. 1). and the delay time τ of the delayed on/off signal S12. The delay time setting signal S□. This allows the pattern setting device section 15 to set the time point at which the envelope forming circuit 60 starts generating the envelope waveform.
エンベロープ形成回路60は、高周波出力回路26(第
2図)ついて上述したと同様にして、時間制御回路24
から得られる遅延オンオフ信号S12に基づいてクロッ
ク発生回路61においてクロック信号343を発生して
これをスイッチ信号形成回路62に供給し、これにより
第3図(Al)〜(A16)について上述したと同様の
スイッチパルスでなるスイッチ信号S44をエンベロー
プ波形メモリ63にエンベロープ波形続出信号として与
える。The envelope forming circuit 60 is connected to the time control circuit 24 in the same manner as described above for the high frequency output circuit 26 (FIG. 2).
A clock signal 343 is generated in the clock generation circuit 61 based on the delayed on/off signal S12 obtained from the above, and is supplied to the switch signal formation circuit 62, thereby producing the same signal as described above with respect to FIGS. 3 (Al) to (A16). A switch signal S44 consisting of switch pulses is given to the envelope waveform memory 63 as an envelope waveform successive signal.
ここで、クロック発生回路61はパターン設定装置部1
5(第1図)から供給される′脱毛施術条件設定信号S
FIGを構成する第4の信号としてクロック周波数設
定信号5FIG4を受け、これによりクロック信号S4
3のクロック周波数をパターン設定装置部15から設定
できるようになされている。Here, the clock generation circuit 61 is connected to the pattern setting device section 1.
'Depilation treatment condition setting signal S' supplied from 5 (Fig. 1)
A clock frequency setting signal 5FIG4 is received as a fourth signal constituting FIG, and thereby the clock signal S4 is
3 clock frequencies can be set from the pattern setting device section 15.
エンベロープ波形メモリ63は第4図について上述した
と同様にしてスイッチ信号S44を構成する16個のス
イッチパルスが与えられるごとに、第3図(B)につい
て上述したと同様にして階段波形形状の波形出力信号S
45を送出し、これを波形整形回路64において第3図
(C)について上述したと同様にして滑らかな波形に整
形した後、エンベロープ制御信号S46として減衰波形
付与回路65にエンベロープ形成回路60の出力として
供給する。The envelope waveform memory 63 stores a staircase waveform waveform in the same manner as described above with respect to FIG. Output signal S
45, which is shaped into a smooth waveform in the waveform shaping circuit 64 in the same manner as described above with respect to FIG. Supply as.
ここで、エンベロープ形成メモリ63は、パターン設定
装置部15(第1図)から供給される脱毛施術条件設定
信号S□。を構成する第5の信号としてサンプリング波
形値設定信号5PIIGSを受け、当該サンプリング波
形値設定信号5PIGSの各設定信号(第4図の各設定
信号SMI、3M2・・・・・・5M16に相当する)
によってサンプリング波形値記憶用抵抗分圧回路(第4
図のサンプリング波形値記憶用抵抗分圧回路R1、R2
・・・・・・R16に相当する)のFETを制御するこ
とにより、エンベロープ波形の各サンプリング点のサン
プリング値を表す分圧電圧(第4図の分圧電圧V、 、
V、・・・・・・VI&に相当する)をパターン設定装
置部15から設定できるようになされている。Here, the envelope forming memory 63 receives the hair removal treatment condition setting signal S□ supplied from the pattern setting device section 15 (FIG. 1). Each setting signal of the sampling waveform value setting signal 5PIGS (corresponding to each setting signal SMI, 3M2...5M16 in FIG. 4) is received as a fifth signal constituting the sampling waveform value setting signal 5PIGS.
The sampling waveform value storage resistor voltage divider circuit (fourth
Resistor voltage divider circuits R1 and R2 for storing sampling waveform values in the figure
By controlling the FET of the envelope waveform (corresponding to R16), the divided voltage (divided voltage V in Fig. 4,
V, . . . corresponding to VI&) can be set from the pattern setting device section 15.
減衰波形付与回路65は第6図に示すように、エンベロ
ープ制御信号S46をホールド選択スイッチ回路71の
切換入力端aを介して利得制御増幅回路72に受け、当
該エンベロープ制御信号S46の振幅を減衰波形形成回
路73において発生される利得制御信号551によって
制御してなる波形制御信号S52を、減衰波形付与回路
65の出力として直流脱毛出力形成回路66(第5図)
に送出する。As shown in FIG. 6, the attenuated waveform applying circuit 65 receives the envelope control signal S46 through the switching input terminal a of the hold selection switch circuit 71 to the gain control amplifier circuit 72, and converts the amplitude of the envelope control signal S46 into an attenuated waveform. The waveform control signal S52 controlled by the gain control signal 551 generated in the forming circuit 73 is outputted from the attenuation waveform applying circuit 65 to the DC hair removal output forming circuit 66 (FIG. 5).
Send to.
減衰波形形成回路73は充放電用コンデンサ73Aを有
し、スイッチングトランジスタ73Bがリセットパルス
発生回路74から与えられるリセットパルスS53によ
ってオン制御されたとき、電源■。によって所定のリセ
ット電圧値にまで充電され、 その後当該充電電荷が並
列に接続された放電用抵抗回路73C(可制御抵抗素子
例えばFETを含んで構成されている)を通じて放電さ
れることにより第7図(Bl)及び(B2)において減
衰曲線に1で示すように、 リセット電圧v astか
ら、主として充放電用コンデンサ73A及び放電用抵抗
回路73Cの時定数によって決まる減衰率を有する減衰
波形を描くように充電電圧が低下して行き、当該減衰波
形を有する充電電圧が利得制御信号351として利得制
御増幅回路72に供給される。The attenuation waveform forming circuit 73 has a charging/discharging capacitor 73A, and when the switching transistor 73B is turned on by the reset pulse S53 given from the reset pulse generating circuit 74, the power supply (2) is turned on. is charged to a predetermined reset voltage value, and then the charged charge is discharged through a parallel-connected discharging resistor circuit 73C (comprised of a controllable resistive element, such as an FET), as shown in FIG. As shown by 1 in the attenuation curves in (Bl) and (B2), from the reset voltage v ast, an attenuation waveform having an attenuation rate mainly determined by the time constants of the charging/discharging capacitor 73A and the discharging resistor circuit 73C is drawn. The charging voltage decreases, and the charging voltage having the attenuated waveform is supplied to the gain control amplifier circuit 72 as the gain control signal 351.
ここで充放電用コンデンサ73Aの放電電圧は、電源V
CC及びアース間に接続された放電電圧設定用抵抗分圧
回路73D(可制御抵抗素子例えばFETを含む分圧回
路で構成されている)から逆流阻止用ダイオード73E
を通じて充放電用コンデンサ73A及び放電用抵抗回路
73Cに供給され、かくして充放電用コンデンサ73A
の放iit圧がダイオード73Eから供給される設定電
圧以下にはならないように設定されている。Here, the discharge voltage of the charging/discharging capacitor 73A is the power supply V
From the discharge voltage setting resistor voltage divider circuit 73D (consisting of a voltage divider circuit including a controllable resistance element such as a FET) connected between CC and ground, to the reverse current blocking diode 73E.
is supplied to the charging/discharging capacitor 73A and the discharging resistor circuit 73C through the charging/discharging capacitor 73A.
It is set so that the released IIT pressure of the diode 73E does not become lower than the set voltage supplied from the diode 73E.
この実施例の場合、放電用抵抗回路73Cは、パターン
設定装置部15(第1図)から供給される脱毛施術条件
設定信号S□。を構成する第6の信号として減衰率設定
信号5PII。、を受け、抵抗値を当該減衰率設定信号
S□。に応じて調整することによって充放電用コンデン
サ73Aの放電時定数を変更できるようになされ、その
結果利得制御信号S51の減衰曲線に1の減衰率を変更
することにより減衰エンベロープ波形Kl(第7図(B
1)、(B2))が同一の減衰目標値に到達するまでの
減衰波形形状を、例えば第8図において減衰曲線Kll
〜に14によって示すように変形できるようになされて
いる。In this embodiment, the discharge resistance circuit 73C receives the hair removal treatment condition setting signal S□ supplied from the pattern setting device section 15 (FIG. 1). The attenuation rate setting signal 5PII is the sixth signal configuring the attenuation rate setting signal 5PII. , and the resistance value is determined by the corresponding attenuation rate setting signal S□. The discharging time constant of the charging/discharging capacitor 73A can be changed by adjusting it according to the attenuation curve of the gain control signal S51. (B
1) and (B2)) until they reach the same attenuation target value, for example, the attenuation curve Kll in FIG.
It is designed to be deformable as shown by 14 in ~.
またこの実施例の場合、放電電圧設定用抵抗分圧回路7
3Dは、パターン設定装置部15(第1図)から供給さ
れる脱毛施術条件設定信号S Pa1Gを構成する第7
の信号として減衰目標値設定信号S、□7を受け、抵抗
値を当該減衰目標値設定信号5PIG?に応じて調整す
ることにより充放電用コンデンサ73Aの放電目標電圧
を変更できるようになされ、その結果利得制御信号S5
1の減衰曲線に1の減衰目標値を変更することにより減
衰曲線Klの各減衰目標値に到達するまでの減衰波形形
状を、例えば第9図において減衰曲線K11l〜に11
4によって示すように変形できるようになされている。In addition, in the case of this embodiment, the resistor voltage divider circuit 7 for setting the discharge voltage
3D is the seventh signal forming the hair removal treatment condition setting signal SPa1G supplied from the pattern setting device section 15 (FIG. 1).
The attenuation target value setting signal S, □7 is received as a signal of the attenuation target value setting signal 5PIG? The discharge target voltage of the charging/discharging capacitor 73A can be changed by adjusting the voltage according to the gain control signal S5.
By changing the attenuation target value of 1 to the attenuation curve 1, the attenuation waveform shape until each attenuation target value of the attenuation curve Kl is reached is changed to the attenuation curve K11l~11 in FIG. 9, for example.
It is designed to be deformable as shown by 4.
リセットパルス発生回路74は、オンオフ出力511(
第5図)に基づいて、第7図(A)に示すように、直流
用フットスイッチ23(第5図)が時点L 081 ’
s L 0FFI% L ONm・L 0FFRs L
ONm・・・・・・において順次交互にオン操作又は
オフ操作されたとき、オフ操作された後オン操作される
までの操作インターバル時間τA (=tor□〜to
工8、t OFj!” t ON3 )がインターバル
タイム設定回路75から供給されるインターバルタイム
信号S54が表す基準インターバルタイムτ1と比較し
て短いか否かを判断し、当該判断結果に基づいてリセッ
トパルス353を減衰波形形成回路73に与えるか否か
を決めるようになされている。The reset pulse generation circuit 74 has an on/off output 511 (
5), as shown in FIG. 7(A), the direct current foot switch 23 (FIG. 5) is activated at time L081'.
s L 0FFI% L ONm・L 0FFRs L
When ONm... is sequentially and alternately turned on or turned off, the operation interval time τA (=tor□~to
Technique 8, t OFj! "tON3)" is shorter than the reference interval time τ1 represented by the interval time signal S54 supplied from the interval time setting circuit 75, and based on the determination result, the reset pulse 353 is sent to the attenuation waveform forming circuit. It is decided whether or not to give it to 73.
すなわち操作インターバル時間τ、が基準インターバル
時間τ1より短いとき(このことは施術者が同じ毛包に
ついて脱毛施術をしていることを表す)、リセットパル
ス発生回路74は第7図(Bl)及び(B2)において
時点toyr+〜L oat間の期間で示すように、リ
セットパルスS53を減衰波形形成回路73に供給しな
いようになされ、かくして利得制御信号351は操作イ
ンターバル時間τ、が経過し終わった後も引続き減衰曲
線Klに沿って減衰して行くようになされている。That is, when the operation interval time τ is shorter than the reference interval time τ1 (this indicates that the practitioner is performing hair removal treatment on the same hair follicle), the reset pulse generation circuit 74 operates as shown in FIG. 7 (Bl) and ( In B2), as shown by the period between time points toyr+ and Loat, the reset pulse S53 is not supplied to the attenuated waveform forming circuit 73, so that the gain control signal 351 remains unchanged even after the operation interval time τ has elapsed. It continues to attenuate along the attenuation curve Kl.
これに対して時点り。、□〜t 083の期間で示すよ
うに、操作インターバル時間τ、が基準インク−パル時
間τ1より長くなったとき(このことは施術者が1つの
毛包の施術を終了して次の毛包に移ったことを意味する
)、このときリセットパルス発生回路74は時点t。N
3においてオン操作された後遅延タイミング時間τ。だ
け経過した時点で得られる遅延オンオフ信号S12に基
づいてリセットパルスS53を送出してスイッチングト
ランジスタ73Bをオン動作させることより、充放電用
コンデンサ73Aをリセット電圧V□iに充電し、これ
により新たな直流脱毛施術を開始できるようにする。At this point. , □~t083, when the operation interval time τ becomes longer than the reference ink-pulse time τ1 (this means that the operator finishes the treatment on one hair follicle and starts the treatment on the next hair follicle. At this time, the reset pulse generating circuit 74 is activated at time t. N
3, the delay timing time τ after the on operation is performed. The charging/discharging capacitor 73A is charged to the reset voltage V□i by sending out a reset pulse S53 based on the delayed on/off signal S12 obtained after the lapse of time to turn on the switching transistor 73B. To enable direct current hair removal treatment to start.
この実施例の場合、インターバルタイム設定回路75は
、パターン設定装置部15(第1図)から供給される脱
毛施術条件設定信号S□。を構成する第8の信号として
インターバルタイム設定信号S□、を受け、当該インタ
ーバルタイム設定信号5PIIGIによって基準インタ
ーバル期間τ、を変更できるようにすることにより、施
術操作タイミングの条件をパターン設定装置部15から
設定できるようになされている。In this embodiment, the interval time setting circuit 75 receives the hair removal treatment condition setting signal S□ supplied from the pattern setting device section 15 (FIG. 1). By receiving the interval time setting signal S□ as the eighth signal constituting the interval time setting signal 5PIIGI and changing the reference interval period τ, the pattern setting device section 15 can adjust the conditions of the treatment operation timing. It is possible to set it from
二のようにしてホールド選択スイッチ回路71がエンベ
ロープ制御信号S46の入力端a側に切り換わっている
とき、利得制御増幅回路72は第7図(B2)の期間t
。FFI〜t outに示すように、操作インターバル
時間τ、が基準インターバル時間τ、より短いときには
エンベロープ制御信号S46を利得制御増幅回路72に
おいて減衰曲線に1を有する利得制御信号S51によっ
て利得制御することにより、波形整形回路64から得ら
れるエンベロープ制御信号S46に基づいてその波高値
を減衰曲線に1に沿わせるように減衰制御する。When the hold selection switch circuit 71 is switched to the input terminal a side of the envelope control signal S46 as shown in FIG.
. As shown in FFI~tout, when the operation interval time τ is shorter than the reference interval time τ, the envelope control signal S46 is gain-controlled by the gain control signal S51 having an attenuation curve of 1 in the gain control amplifier circuit 72. , based on the envelope control signal S46 obtained from the waveform shaping circuit 64, performs attenuation control so that the peak value follows the attenuation curve at 1.
これに対してホールド選択スイッチ回路71が入力端す
側に切り換えられると、利得制御増幅回路72に対する
エンベロープ制御信号として基準電圧源76の一定基準
電圧■、が供給され、かくして利得制御増幅回路72は
波形IIJ御信分信号2として第7図(B1)において
減衰曲線(これをホールドオン減衰曲線と呼ぶ)KIX
で示すように、当該一定電圧vlIに基づいてその値を
減衰曲線に1と同様の減衰率で減衰させたような波形制
御信号S52を送出する。On the other hand, when the hold selection switch circuit 71 is switched to the input terminal side, the constant reference voltage (2) of the reference voltage source 76 is supplied as an envelope control signal to the gain control amplifier circuit 72, and thus the gain control amplifier circuit 72 Attenuation curve (this is called hold-on attenuation curve) KIX in FIG. 7 (B1) as waveform IIJ signal 2
As shown in , a waveform control signal S52 whose value is attenuated by the same attenuation rate as 1 on the attenuation curve based on the constant voltage vlI is sent out.
この実施例の場合、ホールド選択スイッチ回路71は、
パターン設定装置部15(第1図)から供給される脱毛
施術条件設定信号S□。を構成する第9の信号としてホ
ールド選択信号S□G雫を受け、当該ホールド選択信号
5PRG9によって施術条件をパターン設定装置部15
から設定することにより、第7図(B1)に示すように
ホールドオン減衰曲線KIXを含む波形制御信号S52
、又は第7図(B2)に示すようにホールドオン減衰曲
線KIXを含まない波形制御信号S52を選択して送出
し得るようになされている。In this embodiment, the hold selection switch circuit 71 is
Hair removal treatment condition setting signal S□ supplied from the pattern setting device section 15 (FIG. 1). The pattern setting device section 15 receives the hold selection signal S□G drop as the ninth signal constituting the
By setting the waveform control signal S52 including the hold-on attenuation curve KIX as shown in FIG.
, or a waveform control signal S52 that does not include the hold-on attenuation curve KIX, as shown in FIG. 7 (B2), can be selected and sent.
第6図の構成によれば、1つの毛包について直流脱毛施
術をしているときには、施術者は直流用フットスイッチ
23を基準インターバル時間τ8より短い操作インター
バル時間τ、のタイミングで直流用フットスイッチ23
をオンオフ操作することにより、1つの毛包に流れる直
流電流を時間の経過に従って減衰させて行くことができ
、かくして被施術者の体調、体質などや、施術する部位
、皮膚の種類、状態、脱毛すべき毛の質等の条件に適応
できるような脱毛施術条件を選択しながら直流脱毛施術
をなし得る。According to the configuration shown in FIG. 6, when performing DC hair removal treatment on one hair follicle, the practitioner operates the DC foot switch 23 at the timing of the operation interval τ, which is shorter than the reference interval time τ8. 23
By turning it on and off, the direct current flowing through one hair follicle can be attenuated over time, and in this way, it is possible to attenuate the direct current flowing through one hair follicle, depending on the physical condition and constitution of the patient, the area to be treated, the type and condition of the skin, and hair removal. To perform direct current hair removal treatment while selecting hair removal treatment conditions that can be adapted to conditions such as the quality of hair to be treated.
因に一般に直流脱毛施術をする場合、大きな直流電流を
、長時間の間流し続けると不快感が増す傾向にあるが、
上述のように構成すれば直流電流を流す時間、及びその
電流値のエンベロープを被施術者の体調、体質等に適合
するように必要に応じて制御して施術条件を設定できる
ことにより、この分波施術者に不快感を与えるおそれを
有効に軽減し得る。In general, when performing direct current hair removal treatment, discomfort tends to increase if a large direct current is continued to flow for a long period of time.
With the configuration described above, the treatment conditions can be set by controlling the time during which the DC current is applied and the envelope of the current value as necessary to suit the physical condition and constitution of the patient. The possibility of causing discomfort to the practitioner can be effectively reduced.
このようにするにつき、以下に述べるように、パターン
設定装置部15によって多種類の施術条件を予めマニュ
アル設定し、又はプログラム設定することにより、多様
な施術条件の施術者に対して最適な脱毛施術をなし得る
。In order to do this, as described below, by manually or programmatically setting various treatment conditions using the pattern setting device section 15, the optimum hair removal treatment can be performed for practitioners with various treatment conditions. can be done.
〔4〕パタ一ン設定装置部
パターン設定装置部15は第10図に示すように、操作
パネル80から入力されたデータをバス81を介して中
央処理ユニツ) (CPU)82に取り込むと共に、当
13cPU82がプログラムメモリ部83に格納されて
いるプログラムによってディジタルデータ処理し、その
処理結果をデータメモリ部84にパターン設定データと
して蓄積し、当該蓄積されたプログラム設定データを入
出力装置85を介してディジタル/アナログ変換回路8
6に出力し、かくしてアナログ制御信号でなる脱毛施術
条件設定信号5PIGを脱毛器本体2に送出するように
なされている。[4] Pattern setting device section The pattern setting device section 15, as shown in FIG. The 13cPU 82 processes digital data using the program stored in the program memory section 83, stores the processing results in the data memory section 84 as pattern setting data, and outputs the stored program setting data digitally via the input/output device 85. /Analog conversion circuit 8
6, and thus sends a hair removal treatment condition setting signal 5PIG, which is an analog control signal, to the epilator main body 2.
操作パネル80は第11図に示すように、マニュアル設
定操作子群80Aを有し、脱毛施術条件設定信号5PI
IGの設定条件を施術者がそれぞれ数値設定し得る設定
操作子を含んでなる。この実施例の場合マニュアル設定
操作子群80Aは高周波出力回路26(第2図)のクロ
ック周波数設定信号S□。、のクロック周波数データを
入力し得る第1の設定操作子と、高周波出力回路26の
エンベロープ波形メモリ53に対するサンプリング波形
値設定信号5PRGIの各サンプリング波形値データを
設定する第2の設定操作子と、直流出力回路22(第5
図)に関連して遅延時間制御回路24に対する遅延時間
設定信号S□0の遅延時間データを入力する第3の設定
操作子と、クロック発生回路61のクロック周波数設定
信号5Plfi4のクロック周波数データを入力し得る
第4の設定操作子と、エンベロープ形成メモリ63に対
するサンプリング波形値設定信号5PIG%の各サンプ
リング波形値データを入力し得る第5の設定操作子と、
減衰波形付与回路65に対する減衰率設定信号SpHG
&、減衰目標値設定信号S pHG’l、インターバル
タイム設定信号SP*。及びホールド選択信号S□。、
の減衰率データ、減衰目標値データ、インターバルタイ
ムτ1の数値データ及びホールドモード選択用のモード
指定データをそれぞれ入力し得る第6、第7、第8及び
第9の設定操作子とを含んでなる。As shown in FIG. 11, the operation panel 80 has a manual setting operator group 80A, and a hair removal treatment condition setting signal 5PI.
It includes setting operators that allow the practitioner to numerically set the IG setting conditions. In this embodiment, the manual setting operator group 80A is the clock frequency setting signal S□ of the high frequency output circuit 26 (FIG. 2). a first setting operator that can input clock frequency data of , and a second setting operator that sets each sampling waveform value data of the sampling waveform value setting signal 5PRGI for the envelope waveform memory 53 of the high frequency output circuit 26; DC output circuit 22 (fifth
A third setting operator inputs the delay time data of the delay time setting signal S□0 to the delay time control circuit 24, and inputs the clock frequency data of the clock frequency setting signal 5Plfi4 of the clock generation circuit 61 in relation to FIG. a fourth setting operator capable of inputting each sampling waveform value data of the sampling waveform value setting signal 5PIG% to the envelope forming memory 63;
Attenuation rate setting signal SpHG for attenuation waveform imparting circuit 65
&, attenuation target value setting signal S pHG'l, and interval time setting signal SP*. and hold selection signal S□. ,
and sixth, seventh, eighth, and ninth setting operators into which attenuation rate data, attenuation target value data, numerical data of interval time τ1, and mode designation data for hold mode selection can be input, respectively. .
このようにしてマニュアル設定操作子群80Aの各設定
操作子は、被施術者の体調、体質や、施術する部位、皮
膚の種類、状態、脱毛すべき毛の質などの脱毛施術条件
に最適な数値データを必要に応じて施術者が入力し、こ
れにより1回の施術に用いられる施術条件を組み合わせ
ることによりパターン化し得る。In this way, each setting operator in the manual setting operator group 80A is set to the optimum hair removal treatment conditions such as the physical condition and constitution of the patient, the area to be treated, the type and condition of the skin, and the quality of the hair to be removed. The practitioner inputs numerical data as necessary, and by combining the treatment conditions used in one treatment, it is possible to create a pattern.
この実施例の場合当該設定条件パターンは、マニュアル
指定動作モード及びライト指定動作モードのいずれか一
方の動作モードで処理される。In this embodiment, the setting condition pattern is processed in either the manual specification operation mode or the write specification operation mode.
マニュアル指定動作モードは、マニュアル設定操作子群
80Aによって入力された設定データをそのまま用いて
脱毛施術をする動作モードで、施術者はマニュアル指定
ボタン80Bを選択操作することによって当該動作モー
ドを選択し得る。The manual specification operation mode is an operation mode in which hair removal treatment is performed using the setting data inputted by the manual setting operator group 80A as it is, and the practitioner can select the operation mode by selectively operating the manual specification button 80B. .
これに対してライト指定動作モードは、マニュアル設定
操作子群80Aによって入力された施術条件パターンを
予めデータメモリ部84に蓄積しておき、必要に応じて
当該蓄積させた施術条件パターンを指定することによっ
て脱毛施術をするもので、施術者はライト指定ボタン8
0Gを指定操作すると同時に施術条件パターン番号を表
す操作子ボタンでなるパターン選択操作ボタン80Dを
指定操作することによりパターン番号を付してパターン
データをデータメモリ部84に格納すると共に、ライト
指定ボタン80Cを操作せずにパターン選択操作ボタン
80Dを指定操作することによって対応する施術条件パ
ターン番号のパターンデータを読み出すことができるよ
うになされている。On the other hand, in the light specification operation mode, the treatment condition pattern inputted by the manual setting operator group 80A is stored in the data memory section 84 in advance, and the stored treatment condition pattern is specified as necessary. This is a hair removal treatment performed by
By specifying 0G and at the same time specifying the pattern selection operation button 80D, which is an operator button representing a treatment condition pattern number, the pattern data with a pattern number is stored in the data memory section 84, and the write specification button 80C is also specified. By operating the pattern selection operation button 80D without operating the pattern selection operation button 80D, pattern data of the corresponding treatment condition pattern number can be read out.
この実施例の場合、データメモリ部84は第12図に示
すように、操作パネル80のマニュアル設定操作子群8
0Aが操作されたとき当該入力データを取り込むマニュ
アル設定データメモリM1と、前回のデータ入力処理に
よってマニュアル設定データメモリM1に取り込まれて
いた入力データを記録する前回入力データメモリM2と
、マニュアル設定データメモリM1及び前回入力データ
メモリM2が一敗しない状態になったとき、当該一致し
ない部分のデータのアドレス及び数値データを表す変化
分データを記憶する変化分データメモリM3と、脱毛器
本体2に対する脱毛施術条件設定信号S□。となる出力
データを記憶する出力データメモリM4と、初期設定時
に脱毛器本体2に供給すべき第0番目のパターンデータ
でなる開始パターンデータと、施術者によって設定入力
されたパターンデータでなる第1〜第16番目のパター
ンデータとを記憶するパターン設定データメモリM5と
を有する。In this embodiment, as shown in FIG.
A manual setting data memory M1 that takes in the input data when 0A is operated, a previous input data memory M2 that records the input data that was taken into the manual setting data memory M1 by the previous data input process, and a manual setting data memory. When M1 and the previous input data memory M2 are in a state where they do not fail, the change data memory M3 stores the change data representing the address and numerical data of the data of the non-matching part, and the hair removal treatment for the epilator main body 2 is performed. Condition setting signal S□. an output data memory M4 that stores output data, starting pattern data consisting of the 0th pattern data to be supplied to the epilator main body 2 at the time of initial setting, and first pattern data consisting of the pattern data set and input by the practitioner. to the 16th pattern data M5.
パターン設定装置部15のCP、UO3は第13図に示
すパターン設定データ処理手順に従って施術者が操作パ
ネル80を用いて入力したデータに基づいて脱毛器本体
2の動作条件をパターン設定データに基づいて設定する
。The CP and UO3 of the pattern setting device section 15 adjust the operating conditions of the epilator main body 2 based on the pattern setting data based on the data input by the practitioner using the operation panel 80 according to the pattern setting data processing procedure shown in FIG. Set.
すなわちCPU82はパターン設定装置部15が電源を
投入して動作状態になったとき、ステップSPIから当
該パターン設定データ処理手順に入り、ステップSP2
においてデータメモリ部84のすべてのメモリMl〜M
5をオールクリアした後、 ステップSP3においてパ
ターン設定データメモリM5に第0番目のプログラムデ
ータとして記憶されている開始パターンデータを出力デ
ータメモリM4に転送することにより、脱毛器本体2に
対する脱毛施術設定信号S□6として実用玉輿型的な脱
毛施術をなし得る脱毛施術設定信号S pH++を送出
できるような状態に設定する。That is, when the pattern setting device section 15 is powered on and becomes operational, the CPU 82 enters the pattern setting data processing procedure from step SPI, and proceeds to step SP2.
All the memories Ml to M of the data memory section 84
5 is all cleared, in step SP3, the start pattern data stored as the 0th program data in the pattern setting data memory M5 is transferred to the output data memory M4, thereby generating a hair removal treatment setting signal to the epilator main body 2. As S□6, a state is set in which a hair removal treatment setting signal S pH++ that can perform a practical hair removal treatment can be sent.
続いてCPU82はステップSP4において操作パネル
80に設けられたスタートボタン80Eが操作されるの
を待ち受ける状態になる。Subsequently, the CPU 82 enters a state in which it waits for the start button 80E provided on the operation panel 80 to be operated in step SP4.
このスタートボタン80Eは、施術者が操作パネル80
において所望のデータを設定操作し終わった後、当該設
定したデータについてのデータ処理動作を開始させる命
令を施術者の入力操作に基づいて発生させるものである
。This start button 80E can be pressed by the practitioner using the operation panel 80.
After setting the desired data, a command to start a data processing operation for the set data is generated based on an input operation by the practitioner.
実際上施術者は、CPU82がステップSP4において
スタートボタン80Eがオン動作するのを待ち受けてい
るタイミングにおいて、操作パネル80のマニュアル設
定操作子群80A、マニュアル指定ボタン80B1ライ
ト指定ボタン80C及びパターン選択操作ボタン80D
を操作することによって施術条件を設定する。In practice, the practitioner selects the manual setting operator group 80A, the manual designation button 80B1, the light designation button 80C, and the pattern selection operation button on the operation panel 80 at the timing when the CPU 82 is waiting for the start button 80E to turn on in step SP4. 80D
The treatment conditions are set by operating the .
かくして施術者が施術条件を設定した後スタートボタン
80Eを操作すると、CPU82はこれをステップSP
4において肯定結果を得ることにより判別してステップ
SP5に移り、操作パネル80のマニュアル設定操作子
群80Aによって設定された設定データをスキャンして
マニュアル設定データメモリM1に書き込み、かつそれ
以前にマニュアル設定データメモリM1に保持していた
データ(すなわち前回の設定操作によって設定されたデ
ータ)を前回入力データメモリM2に転送する。In this way, when the practitioner operates the start button 80E after setting the treatment conditions, the CPU 82 selects this as step SP.
4, the determination is made by obtaining a positive result, and the process moves to step SP5, in which the setting data set by the manual setting operator group 80A of the operation panel 80 is scanned and written into the manual setting data memory M1, and the manual setting is performed before that. The data held in the data memory M1 (that is, the data set by the previous setting operation) is transferred to the previously input data memory M2.
続いてCPU82はステップSP6に移ってマニュアル
指定ボタン80Bがオン操作されたか否かを判断する。Subsequently, the CPU 82 moves to step SP6 and determines whether the manual designation button 80B has been turned on.
ここで肯定結果が得られると、このことは現在のデー
タ処理サイクルにおいてマニュアル設定操作子群80A
を脱毛施術設定信号S□Gとして送出することにより脱
毛器本体2を現在入力した設定条件を用いて脱毛施術を
すべきことが指定入力されたことを意味する。If a positive result is obtained here, this means that the manual setting control group 80A is used in the current data processing cycle.
By sending this as the hair removal treatment setting signal S□G, it means that a designation has been input to perform the hair removal treatment using the currently input setting conditions of the epilator main body 2.
そこでCPU82はステップSP7においてマニュアル
設定データメモリM1のデータを出力データメモリM4
に転送した後、ステップSP8に移って出力データメモ
リM4のデータを入出力装置85、ディジタル/アナロ
グ変換回路86を通じて脱毛施術設定信号S□。とじて
脱毛器本体2に出力させる。Therefore, in step SP7, the CPU 82 outputs the data of the manual setting data memory M1 to the data memory M4.
After transferring the data to step SP8, the data in the output data memory M4 is sent to the input/output device 85 and the digital/analog conversion circuit 86 to generate a hair removal treatment setting signal S□. It is output to the epilator main body 2.
このとき脱毛器本体2は脱毛施術設定信号S□6として
第1〜第9の設定信号、すなわちクロック周波数設定信
号SP1□〜ホールド選択信号S□、を高周波出力回路
26(第2図)及び直流出力回路22(第5図)に送出
して上述のステップSP4の待受状態に戻る。At this time, the epilator main body 2 outputs the first to ninth setting signals as the hair removal treatment setting signal S□6, that is, the clock frequency setting signal SP1□ to the hold selection signal S□, to the high frequency output circuit 26 (FIG. 2) and the DC The signal is sent to the output circuit 22 (FIG. 5) and the process returns to the standby state of step SP4 described above.
かくしてCPU84は施術者によってマニュアル指定ボ
タン80Bが操作されたときこれを優先的なデータ処理
条件としてステップSP6において検出してマニュアル
設定操作子群80Aにマニュアル設定された脱毛施術設
定条件の下に脱毛器本体2を動作させる。Thus, when the manual designation button 80B is operated by the practitioner, the CPU 84 detects this as a preferential data processing condition in step SP6, and selects the epilator under the hair removal treatment setting conditions manually set in the manual setting operator group 80A. Operate main body 2.
これに対してステップSP6において否定結果が得られ
ると、このことは施術者がマニュアル設定による脱毛施
術を指定しなかったことを意味し、このときCPU82
はステップSP9に移ってマニュアル設定データメモリ
M1及び前回入力データメモリM2のデータが相違する
かどうかの判断をする。On the other hand, if a negative result is obtained in step SP6, this means that the practitioner did not specify the hair removal treatment using manual settings, and at this time, the CPU 82
The process moves to step SP9, and it is determined whether the data in the manual setting data memory M1 and the previous input data memory M2 are different.
ここで肯定結果が得られると、このことは現在マニュア
ル設定操作子群80Aによって設定されたデータが前回
設定されたデータとは異なることを意味し、このときC
PU82はステップ5PIOにおいてマニュアル設定デ
ータメモリM1及び前回入力データメモリM2の変化部
分を検出して当該変化した部分のデータだけを変化分デ
ータメモリM3に書き込んだ後、ステップ5PIIにお
いて出力データメモリM4のうち変化分データメモリM
3に記憶された変化分データの部分だけを書き換える。If a positive result is obtained here, this means that the data currently set by the manual setting operator group 80A is different from the data set last time.
The PU82 detects the changed portions of the manual setting data memory M1 and the previous input data memory M2 in step 5PIO, writes only the data of the changed portions to the changed data memory M3, and then writes the changed portions of the output data memory M4 in step 5PII. Change data memory M
Only the change data part stored in 3 is rewritten.
かくして出力データメモリM4のデータのうち、変化し
なかった部分のデータは改めて書き直すことなくそのま
ま利用して出力データを形成できることにより、この分
層時間の間に出力データを書き換えることができる。In this way, among the data in the output data memory M4, the data in the portion that has not changed can be used as is to form the output data without being rewritten, so that the output data can be rewritten during this layer separation time.
その後CPU82はステップ5P12においてマニュア
ル設定データメモリM1のデータを前回入力データメモ
リM2に転送した後、ステップ5P13において変化分
データメモリM3をクリアして上述のステップSP8に
移り、これにより新たに書き換えられた出力データを出
力データメモIJ M 4から脱毛器本体2へ出力した
後、上述のステップSP4に戻る。After that, the CPU 82 transfers the data in the manual setting data memory M1 to the previous input data memory M2 in step 5P12, clears the change data memory M3 in step 5P13, and moves to the above-mentioned step SP8, thereby rewriting the newly rewritten data. After outputting the output data from the output data memo IJM 4 to the epilator main body 2, the process returns to step SP4 described above.
またステップSP9において否定結果が得られると、こ
のことは現在の入力データの処理においてマニュアル設
定操作子群80Aから入力されたマニュアル設定データ
が前回設定されたデータと同じであるのでデータを書き
換える必要がないことを意味する。このときCPU82
はステップ5P14に移ってパターン選択操作ボタン8
0Dがオン操作さたか否かの判断をする。Further, if a negative result is obtained in step SP9, this means that the manual setting data input from the manual setting operator group 80A in the current input data processing is the same as the data set last time, so it is necessary to rewrite the data. It means no. At this time, CPU82
then move to step 5P14 and press pattern selection operation button 8.
It is determined whether or not 0D has been turned on.
ここで否定結果が得られると、このことは施術者が施術
条件を設定せずに誤ってスタートボタン80Eを操作し
たことを意味し、このときCPU82は直ちに上述のス
テップSP4に戻る。If a negative result is obtained here, this means that the practitioner erroneously operated the start button 80E without setting the treatment conditions, and in this case, the CPU 82 immediately returns to step SP4 described above.
これに対してステップ5P14において肯定結果が得ら
れると、このことは施術者が現在マニュアル設定操作子
群80Aによって設定入力したデータをパターン設定デ
ータとして登録しようとしているか、又はデータメモリ
部84に予め格納されているパターン設定データを用い
て脱毛施術しようとしていることを意味している。この
ときCPU82はステップ5P15に移ってライト指定
ボタンがオン操作されたか否かを判断し、肯定結果が得
られたとき出力データメモリM4のデータをパターン設
定データメモリM5のうちパターン選択操作ボタン80
0によって指定されたパターン番号のメモリエリアに格
納した後、上述のステップSP4に戻る。On the other hand, if a positive result is obtained in step 5P14, this means that the practitioner is currently trying to register the data set and input using the manual setting operator group 80A as pattern setting data, or that the data has been stored in the data memory section 84 in advance. This means that you are about to perform a hair removal treatment using the pattern setting data that has been set. At this time, the CPU 82 moves to step 5P15 and determines whether or not the write designation button has been turned on, and when a positive result is obtained, the data in the output data memory M4 is transferred to the pattern selection operation button 80 in the pattern setting data memory M5.
After storing in the memory area of the pattern number specified by 0, the process returns to step SP4 described above.
これに対してステップ5P15において否定結果が得ら
れると、CP−U82はステップ5P17に移ってパタ
ーン設定データメモリM5のうちパターン選択操作ボタ
ン80Dによって選択指定されたパターン番号のパター
ン設定データを読み出して出力データメモリM4に転送
した後、ステップSP8において、当該転送されたデー
タに基づいて動作条件を脱毛器本体2に設定した後、上
述のステップSP4に戻る。On the other hand, if a negative result is obtained in step 5P15, the CPU-U 82 moves to step 5P17, reads out and outputs the pattern setting data of the pattern number selected and designated by the pattern selection operation button 80D from the pattern setting data memory M5. After transferring to the data memory M4, in step SP8, operating conditions are set in the epilator main body 2 based on the transferred data, and then the process returns to step SP4 described above.
かくしてCPU82はデータメモリ部84に予めパター
ン設定データとして格納されたパターンデータのうち、
パターン選択操作ボタン80Dによって選択指定された
パターンデータをパターン設定データメモリM5から引
き出して脱毛器本体2を制御する。In this way, the CPU 82 selects among the pattern data stored in the data memory section 84 as pattern setting data in advance.
The epilator main body 2 is controlled by drawing out the pattern data selected and designated by the pattern selection operation button 80D from the pattern setting data memory M5.
第1O図〜第13回の構成によれば、予めパターン設定
データメモリM5にパターンデータとして設定したパタ
ーン設定データをパターン選択操作ボタン80Dのうち
の1つを選択操作するだけで脱毛施術に必要な施術条件
を一挙に設定することができ、かくして脱毛施術の操作
を一段と簡易化し得ると共に、パターンデータとして、
被施術者の体調、体質などや、施術する部位、皮膚の種
類、状態、脱毛すべき毛の質などの脱毛施術条件に適応
するパターンデータを必要に応じて用意することができ
ることにより、多様な脱毛施術条件に適応して常に最適
な施術条件の下に脱毛施術をなし得る美容脱毛装置を容
易に実現し得る。According to the configuration shown in Figures 1O to 13, the pattern setting data set in advance as pattern data in the pattern setting data memory M5 can be changed to the pattern setting data necessary for the hair removal treatment by simply selecting one of the pattern selection operation buttons 80D. The treatment conditions can be set all at once, thus further simplifying the operation of hair removal treatment, and as pattern data,
By being able to prepare pattern data as needed that adapts to hair removal treatment conditions such as the physical condition and constitution of the patient, the area to be treated, skin type, condition, and quality of hair to be removed, it is possible to perform a variety of treatments. To easily realize a cosmetic hair removal device that adapts to hair removal treatment conditions and can always perform hair removal treatment under optimal treatment conditions.
かくするにつき、第13図のステップSP6について上
述したように、マニュアル指定ボタン80Bがオン操作
されたか否かを判断することにより、マニュアル操作が
選択されたときには優先的に当該マニュアル設定条件を
採用するようにしたことにより、−段と好適な脱毛施術
を実現し得る。In this way, as described above with respect to step SP6 in FIG. 13, by determining whether or not the manual designation button 80B is turned on, when manual operation is selected, the manual setting conditions are preferentially adopted. By doing so, it is possible to realize a much more suitable hair removal treatment.
さらにステップ5P9−3P10−3P11−3P 1
2−3P 13−3P8のループを設けるようにしたこ
とにより、順次続く設定操作において、変更されなかっ
たデータが有るときにはこれをそのまま利用できるよう
にしたことにより、効率良く設定データの書き換え処理
をなし得るパターン設定装置を容易に実現し得る。Further steps 5P9-3P10-3P11-3P 1
By providing a loop of 2-3P and 13-3P8, if there is data that has not been changed in successive setting operations, it can be used as is, making it possible to efficiently rewrite setting data. A pattern setting device can be easily realized.
〔5〕美容脱毛施術
以上の構成において美容脱毛施術をする際、施術者はプ
ローブ4の針状導子4Aを脱毛しようとする毛包に1つ
づつ順次挿入した後、高周波用フットスイッチ27及び
直流用フットスイッチ23を操作する。[5] Cosmetic Hair Removal Treatment When performing a cosmetic hair removal treatment with the above configuration, the practitioner inserts the needle-shaped guide 4A of the probe 4 into the hair follicles to be removed one by one, and then switches the high-frequency foot switch 27 and Operate the DC foot switch 23.
このとき直流脱毛出力形成部12には時間制御回路24
において遅延タイミング時間τ。たけ遅延した時点で遅
延オンオフ信号S12が与えられることにより、高周波
脱毛出力形成部11から送出される高周波脱毛出力S1
により毛包が加熱した状態を得た後、直流脱毛出力形成
部12から送出される直流脱毛出力S2によって電気分
解法に基づく脱毛施術がなされる。At this time, the DC hair removal output forming section 12 includes a time control circuit 24.
In the delay timing time τ. By giving the delayed on/off signal S12 at the time of delay, the high-frequency hair removal output S1 is sent out from the high-frequency hair removal output forming section 11.
After the hair follicles are heated, a hair removal treatment based on electrolysis is performed using the DC hair removal output S2 sent from the DC hair removal output forming section 12.
かくするにつき、高周波脱毛出力31及び直流脱毛出力
S2のエンベロープ波形についてのパラメータをパター
ン化してパターン設定情報として予め用意し、当該パタ
ーン設定情報を必要に応じて選択して脱毛器本体2に対
して脱毛施術条件設定信号S PIIGとして供給でき
るようにしたことにより、被施術者の体調や体質、並び
に施術する部位、皮膚の種類、状態、脱毛すべき毛の質
等の多様な脱毛施術条件に最適な施術条件を通用するこ
とができ、かくして−段と快適な脱毛施術をなし得る美
容脱毛装置を容易に実現し得る。To do this, the parameters for the envelope waveforms of the high-frequency hair removal output 31 and the DC hair removal output S2 are patterned and prepared in advance as pattern setting information, and the pattern setting information is selected as necessary and applied to the epilator main body 2. By making it possible to supply the hair removal treatment condition setting signal S PIIG, it is ideal for various hair removal treatment conditions such as the physical condition and constitution of the patient, the area to be treated, skin type and condition, and quality of hair to be removed. It is possible to easily realize a cosmetic hair removal device that can be used under various treatment conditions and thus can perform a more comfortable hair removal treatment.
因に、設定信号S□□及びSFIGgによって高周波脱
毛出力S1に対してエンベロープを付与するようにした
ことにより、高周波脱毛出力S1に基づいて被施術者に
無用な不快感を与えるおそれを有効に回避し得る。Incidentally, by applying an envelope to the high-frequency hair removal output S1 using the setting signals S It is possible.
さらに設定信号S□64及び5PIGSによって直流脱
毛出力2に対してエンベロープを付与できるようにし、
また設定信号S□。、S□1及びS□。Furthermore, an envelope can be applied to the DC hair removal output 2 by setting signals S□64 and 5PIGS,
Also, the setting signal S□. , S□1 and S□.
によってエンベロープを付与し又は付与しない直流脱毛
出力の信号レベルを施術時間の経過に従って減衰させる
ことができるようにしたことにより、被施術者の体調、
体質等の施術条件に適合した直流脱毛出力を用いて効率
的な脱毛施術をなし得る。By making it possible to attenuate the signal level of the DC hair removal output with or without an envelope as the treatment time progresses, the physical condition of the patient,
Efficient hair removal treatment can be performed using direct current hair removal output that matches treatment conditions such as constitution.
すなわち、施術者は必要に応じてホールド選択スイッチ
回路71を切り換えることにより、波形制御信号352
にエンベロープ波形を付与させるようにしたり、又は付
与させないようにするような条件を必要に応じて選択で
きる。That is, the practitioner can change the waveform control signal 352 by switching the hold selection switch circuit 71 as necessary.
Conditions can be selected as necessary to cause or not to add an envelope waveform to the envelope waveform.
また、放電用抵抗73Gの抵抗値を調整することにより
、減衰量&1K11、K12・・・・・・(第8図)で
示すように、減衰率を施術条件に応じて変更することが
できる。Further, by adjusting the resistance value of the discharge resistor 73G, the attenuation rate can be changed according to the treatment conditions, as shown by the attenuation amount &1K11, K12, . . . (FIG. 8).
また施術者が放t′r!X圧設定用抵抗73Dの抵抗値
を必要に応じて調整することにより、減衰曲線に111
、K112・・・・・・(第9図)で示すように、波形
制御信号S52の減衰目標値を必要に応じて調整できる
ことにより、時間の経過に従って生ずる減衰量を施術条
件に応じて選択することができる。The practitioner releases t'r again! By adjusting the resistance value of the X-pressure setting resistor 73D as necessary, the attenuation curve can be set to 111.
, K112... (FIG. 9), by being able to adjust the attenuation target value of the waveform control signal S52 as necessary, the amount of attenuation that occurs over time can be selected in accordance with the treatment conditions. be able to.
さらに直流用フットスイッチ23をオンオフ操作するに
つき、設定信号5PIIG3及び5PIGIによって、
時間τ。を制御することにより直流脱毛のタイミングを
最適値に設定し、また操作インターバル時間τ、が基準
インターバル時間τ、と比較して時間τ、がτ、より長
くなったとき減衰波形を自動的にリセットさせることが
できるようにしたことにより、被施術者に対して無用に
不快感を与えることなく効率良く脱毛施術を続けること
ができる。Furthermore, when the DC foot switch 23 is turned on and off, the setting signals 5PIIG3 and 5PIGI are used to
Time τ. By controlling the timing of DC hair removal, the timing of DC hair removal is set to the optimum value, and the attenuation waveform is automatically reset when the operation interval time τ becomes longer than the reference interval time τ. By making it possible to perform the hair removal treatment, the hair removal treatment can be continued efficiently without causing unnecessary discomfort to the person being treated.
〔6〕他の実施例
(1)上述の実施例においては、エンベロープ波形メモ
リ53としてアナログ電圧値でなるサンプリング波形値
を記憶するようにした場合について述べたが、これに代
え、ディジタル電圧値でなるサンプリング波形値を記憶
するようにしても、上述の場合と同様の効果を得ること
ができる。[6] Other Embodiments (1) In the above embodiment, a case was described in which the envelope waveform memory 53 stores sampling waveform values consisting of analog voltage values. Even if the sampling waveform values are stored, the same effect as in the above case can be obtained.
(2)上述の実施例においては、高周波脱毛出力S1及
び直流脱毛出力S2の両方についてそのエンベロープ波
形を制御するようにしたが、そのいずれか一方について
は制御しないようにしても良い。(2) In the above embodiment, the envelope waveforms of both the high-frequency hair removal output S1 and the DC hair removal output S2 are controlled, but either one of them may not be controlled.
(3)上述の実施例においては、パターン設定データを
構成する脱毛施術条件として、 高周波出力回路26に
ついてクロック周波数設定信号5PRGI及びサンプリ
ング波形値設定信号5PIGtを用い、また直流出力回
路22について遅延時間設定信号Spi@s、クロック
周波数設定信号5FIIG4、サンプリング波形値設定
信号S□。、減衰率設定信号S□二4、減衰目標値設定
信号S PIO’l、インターバルタイム設定信号S□
。及びホールド選択信号S□。、を用いるようにしたが
、脱毛施術条件はこれに限らず、その一部を省略し、又
は他の条件を追加するようにしても良い。(3) In the above embodiment, the clock frequency setting signal 5PRGI and the sampling waveform value setting signal 5PIGt are used for the high frequency output circuit 26 as the hair removal treatment conditions constituting the pattern setting data, and the delay time setting is used for the DC output circuit 22. Signal Spi@s, clock frequency setting signal 5FIIG4, sampling waveform value setting signal S□. , attenuation rate setting signal S□24, attenuation target value setting signal S PIO'l, interval time setting signal S□
. and hold selection signal S□. However, the hair removal treatment conditions are not limited to these, and some of them may be omitted or other conditions may be added.
上述のように本発明によれば、脱毛出力にエンベロープ
波形、減衰波形を付与するにつき、予めパターン化した
パターンデータを用意し得るようにしたことにより、被
施術者に不快感を与えずにしかも効率良く脱毛施術がで
きる美容脱毛装置を容易に実現し得る。As described above, according to the present invention, when applying the envelope waveform and the attenuation waveform to the hair removal output, it is possible to prepare pattern data that has been patterned in advance. To easily realize a cosmetic hair removal device capable of efficiently performing hair removal treatment.
第1図は本発明による美容脱毛装置の全体構成を示すブ
ロック図、第2図は第1図の高周波出力回路の詳細構成
を示すブロック図、第3図は第2図の各部の信号を示す
信号波形図、第4図は第2図のエンベロープ波形メモリ
53の詳細構成を示す接続図、第5図は第1図の直流出
力回路22の詳細構成を示すブロック図、第6図は第5
図の減衰波形付与回路65の構成を示す系統的接続図、
第7図は第6図の減衰機能の説明に供する信号波形図、
第8図及び第9図は減衰特性の説明に供する特性曲線図
、第10図はパターン設定装置部15の詳細構成を示す
ブロック図、第11図及び第12図は第10図の操作パ
ネル80及びデータメモリ部84の詳細構成を示す路線
図、第13図は第1θ図のCPU82のパターン設定デ
ータ処理手順を示すフローチャートである。
l・・・・・・美容脱毛装置、2・・・・・・脱毛器本
体、4・・・・・・プローブ、11・・・・・・高周波
脱毛出力形成部、12・・・・・・直流脱毛出力形成部
、13・・・・・・光脱毛出力形成部、14・・・・・
・冷却風形成部、15・・・・・・パターン設定装置部
、32・・・・・・握り導子、45・・・・・・アフタ
ケア用ローラ、51,61・・・・・・クロック発生回
路、52.62・・・・・・スイッチ信号形成回路、5
3.63・・・・・・エンベロープ波形メモリ、54.
64・・・・・・波形整形回路、65・・・・・・減衰
波形付与回路、80・・・・・・操作パネル、82・・
・・・・CPU、84・・・・・・データメモリ部。
高側液獣力回1各の眸る田
第
図
6威嚢ミ皮形イ寸与回路の詳に田
第
図
第
図
沫衰ミ皮形の調i
第 8 図
ミ政衰浪形の謁P堅
第 デ 図
パター>校定に置部の11戊
870 図
棟イ乍パ冬ルの構成
第 11 図
デ°−タメモリ部の構成
@ 12 図FIG. 1 is a block diagram showing the overall configuration of the cosmetic hair removal device according to the present invention, FIG. 2 is a block diagram showing the detailed configuration of the high frequency output circuit of FIG. 1, and FIG. 3 shows signals of each part of FIG. 2. 4 is a connection diagram showing the detailed configuration of the envelope waveform memory 53 in FIG. 2, FIG. 5 is a block diagram showing the detailed configuration of the DC output circuit 22 in FIG. 1, and FIG.
A systematic connection diagram showing the configuration of the attenuated waveform imparting circuit 65 shown in the figure;
Figure 7 is a signal waveform diagram for explaining the attenuation function in Figure 6;
8 and 9 are characteristic curve diagrams for explaining the attenuation characteristics, FIG. 10 is a block diagram showing the detailed configuration of the pattern setting device section 15, and FIGS. 11 and 12 are the operation panel 80 of FIG. 10. FIG. 13 is a flowchart showing the pattern setting data processing procedure of the CPU 82 in FIG. 1θ. 1...Beauty hair removal device, 2...Epilator body, 4...Probe, 11...High frequency hair removal output forming section, 12...・DC hair removal output forming section, 13... Photo hair removal output forming section, 14...
・Cooling air forming section, 15...Pattern setting device section, 32...Grip guide, 45...Aftercare roller, 51, 61...Clock Generation circuit, 52.62...Switch signal forming circuit, 5
3.63... Envelope waveform memory, 54.
64...Waveform shaping circuit, 65...Attenuation waveform imparting circuit, 80...Operation panel, 82...
...CPU, 84...Data memory section. High side liquid animal power cycle 1 Each interlocking field Diagram 6 Power sack Mi skin shape A Dimensions of the circuit Details Field diagram Diagram Flowing down Mi Skin shape key I Figure 8 Mi Seimei Decaying Wave shape Audience Figure 11 Configuration of the data memory section @ Figure 12
Claims (1)
流すことにより当該毛包について永久脱毛をする美容脱
毛装置において、 上記脱毛出力にエンベロープ波形を付与するエンベロー
プ付与手段と、 上記エンベロープ波形が付与された上記脱毛出力に所定
の変化を生じさせるための条件を表すパターン設定情報
を発生するパターン設定手段とを具えることを特徴とす
る美容脱毛装置。[Scope of Claims] A cosmetic hair removal device that permanently removes hair from the hair follicle by supplying a hair removal output to a needle-shaped conductor inserted into a hair follicle and passing an electric current, an envelope that imparts an envelope waveform to the hair removal output. A cosmetic hair removal device comprising: a applying means; and a pattern setting means for generating pattern setting information representing a condition for causing a predetermined change in the hair removal output to which the envelope waveform is applied.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30587989A JPH03165711A (en) | 1989-11-25 | 1989-11-25 | Cosmetic depilator |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30587989A JPH03165711A (en) | 1989-11-25 | 1989-11-25 | Cosmetic depilator |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03165711A true JPH03165711A (en) | 1991-07-17 |
Family
ID=17950426
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30587989A Pending JPH03165711A (en) | 1989-11-25 | 1989-11-25 | Cosmetic depilator |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03165711A (en) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6314822U (en) * | 1986-07-15 | 1988-01-30 |
-
1989
- 1989-11-25 JP JP30587989A patent/JPH03165711A/en active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6314822U (en) * | 1986-07-15 | 1988-01-30 |
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