JPH03156832A - Color picture tube - Google Patents

Color picture tube

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Publication number
JPH03156832A
JPH03156832A JP29673189A JP29673189A JPH03156832A JP H03156832 A JPH03156832 A JP H03156832A JP 29673189 A JP29673189 A JP 29673189A JP 29673189 A JP29673189 A JP 29673189A JP H03156832 A JPH03156832 A JP H03156832A
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JP
Japan
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holes
shadow mask
moiré
mode
hole
Prior art date
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Pending
Application number
JP29673189A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hirotaka Murata
弘貴 村田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
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Abstract

PURPOSE:To suppress the occurrence of moire by specifying the alignment pitches of throughholes of a shadow mask and the displacement between a train of adjacent throughholes respectively. CONSTITUTION:The alignment pitches Pv1 and Pv2 of throughholes are set to satisfy the equation I, where Pv1<Pv2. The displacement y between a train of adjacent throughholes is constituted of two kinds of displacement y1 and y2 corresponding to Pv1 and Pv2, and y is set to the value + y1, + y2, - y1, and - y2 for y1 and y2 satisfying the equation II or y1 and y2 satisfying the equations III and IV.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) この発明は、シャドウマスク型カラー受像管に係り、特
にそのシャドウマスクの透孔配列をモアレの発生しにく
い配列にしたカラー受像管に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Object of the Invention] (Industrial Application Field) The present invention relates to a shadow mask type color picture tube, and in particular to a color picture tube in which the through holes of the shadow mask are arranged in such a way that moiré does not easily occur. Regarding picture tubes.

(従来の技術) 一般にシャドウマスク型カラー受像管は、青。(Conventional technology) Shadow mask type color picture tubes are generally blue.

緑、赤に発光する3色蛍光体層からなる蛍光面に接近か
つ対向して、電子ビーム通過孔としての多数の透孔の形
成されたシャドウマスクが配置され、電子銃から放出さ
れた3電子ビームをこのシャドウマスクの透孔で選別し
て、上記蛍光面上にカラ−画像を表示する構造に形成さ
れている。
A shadow mask with a large number of holes as electron beam passage holes is placed close to and opposite a phosphor screen made of three-color phosphor layers that emit green and red light, and the three electrons emitted from the electron gun are The structure is such that a color image is displayed on the phosphor screen by sorting the beams through the holes in the shadow mask.

このようなカラーブラウン管のうち、最近は、第7図に
示すように、特にシャドウマスクの透孔■を長径Ω、短
径Wを有するほぼ矩形状とし、この透孔■を垂直方向(
y軸方向)にブリッジ■を介して複数個直線状に配列し
、この垂直方向の透孔列■を水平方向(X軸方向)に複
数列配列したシャドウマスクを用い、このシャドウマス
クの透孔配列に対応して、蛍光面を垂直方向に切れ目の
ないストライプ状の3色蛍光体層で構成したものが一般
に使用されている。このようなカラー受像管においては
、電子銃として同一水平面上を通る一列配置の3f4子
ビームを放出するインライン型電子銃が用いられる。ま
た、特にシャドウマスクとしては、カラーブラウン管用
シャドウマスクとして必要な機械的強度を確保するため
に、隣接透孔列■、■間で透孔■の位置を規則的に1/
2ピツチ(PV/2)ずらしたものが一般的となってい
る。
Among such color cathode ray tubes, recently, as shown in FIG.
A shadow mask is used in which a plurality of holes are arranged in a straight line in the y-axis direction (in the y-axis direction) via bridges, and a plurality of vertical through-hole rows are arranged in multiple rows in the horizontal direction (in the x-axis direction). Corresponding to the arrangement, a phosphor screen composed of three-color phosphor layers in the form of vertically continuous stripes is generally used. In such a color picture tube, an in-line electron gun is used which emits 3f4 beams arranged in a line passing on the same horizontal plane. In addition, especially for shadow masks, in order to ensure the mechanical strength required as a shadow mask for color cathode ray tubes, the positions of the through holes (■) are regularly set to 1/2 between the adjacent through hole rows (■, ■).
It is common to have a shift of 2 pitches (PV/2).

しかし、上記のように透孔■の位置を規則的に1/2ピ
ツチずらしたシャドウマスクを用いると。
However, if a shadow mask is used in which the positions of the through holes (2) are regularly shifted by 1/2 pitch as described above.

画面にモアレが発生しやすいという問題がある。There is a problem in that moiré tends to occur on the screen.

すなわち、一般に明暗縞を有する2つのパターンを重ね
合わせると、両パターンが干渉してモアレ現象をおこす
ことが知られている。このモアレ現象をおこす明暗縞は
、シャドウマスク型カラーブラウン管の場合は、1つは
、電子ビームの走査により画面の水平方向に複数本の走
査輝線ができ。
That is, it is generally known that when two patterns having light and dark stripes are superimposed, the two patterns interfere and cause a moiré phenomenon. In the case of a shadow mask type color cathode ray tube, one of the light and dark stripes that cause this moiré phenomenon is the formation of a plurality of scanning bright lines in the horizontal direction of the screen due to the scanning of the electron beam.

その走査輝線を明部、隣接走査輝線間を暗部とする明暗
縞であり、他の一つは、シャドウマスクの透孔とブリッ
ジとにより構成される明暗縞である。
There are bright and dark stripes in which the scanning bright lines are bright parts and the areas between adjacent scanning bright lines are dark parts.The other type is bright and dark fringes that are formed by the through holes and bridges of the shadow mask.

いま、透孔列中の透孔の配列ピッチをPv、シャドウマ
スク上での走査輝線間隔をSとすると、透孔列の電子ビ
ーム透過率A(y)および走査線の輝度波形B (y)
は、それぞれ次式のように展開できる。
Now, if the arrangement pitch of the through holes in the through hole row is Pv, and the scanning bright line interval on the shadow mask is S, then the electron beam transmittance of the through hole row A(y) and the brightness waveform of the scanning line B(y)
can be expanded as shown below.

7en A (y) ” a、+ Σafi cos−y   
”’ ”’  ■n、i      Pv これより透孔列を通過した走査線の輝度I (y)は、
となる。この■式の最後の項がモアレを表している。
7en A (y) ” a, + Σafi cos-y
``'''' ■n, i Pv From this, the brightness I (y) of the scanning line that has passed through the through hole array is:
becomes. The last term in this equation (■) represents moiré.

したがって、このモアレのピッチをP:11 s変調度
をM□とすると、 Pn+m= 1 / lニーm + v   s ・・・・・・・・・ に) となる。蛍光面上でのモアレのピッチは、上記pLに拡
大率をかけたものなので、以下シャドウマスク上でのp
nmについて述べる。
Therefore, if the pitch of this moiré is P:11 and the degree of modulation is M□, then Pn+m=1/lnym+vs . . .). The moiré pitch on the phosphor screen is the magnification factor multiplied by the above pL, so the pitch on the shadow mask is as follows:
Let's talk about nm.

ところで、隣接透孔列間で透孔の位置がΔyずれた場合
のモアレ環を4(y)とすると、Inn(y) =−!
anbmcos 2 π((−’−’−) −’−A 
y )2          Pv  s    Pv
n/Pv−m/s>Oのときである。したがって、f=
Δ’j/Pv       ・・・・・・・・・・・・
 ■とすると、モアレの位相ずれの大きさ1Δn1は、
1Δn1=2πn1fl  ・・・・・・・旧・・ (
へ)となる。この1Δn1とIflとの関係を第8図に
示す。前記のように隣接透孔列間でPv/2ずれたシャ
ドウマスクでは、 I f + =1/2        ・・・・・・・
・・・・・ (9)であり、 1Δnl=πn      ・・・・・・・・・・・・
 (10)となる。
By the way, if the moiré ring when the positions of the through holes are shifted by Δy between adjacent through hole rows is 4(y), then Inn(y) =-!
anbmcos 2 π((-'-'-) -'-A
y)2 Pv s Pv
This is the case when n/Pv-m/s>O. Therefore, f=
Δ'j/Pv ・・・・・・・・・・・・
Assuming that ■, the magnitude of the phase shift of moiré, 1Δn1, is
1Δn1=2πn1fl ・・・・・・Old・(
). The relationship between this 1Δn1 and Ifl is shown in FIG. As mentioned above, in a shadow mask with a Pv/2 shift between adjacent through hole rows, I f + = 1/2 ...
・・・・・・ (9), 1Δnl=πn ・・・・・・・・・・・・
(10).

したがって、nが奇数のモアレは、隣接透孔列間で逆相
となって相打消し合い、目立たない。しかし、nが偶数
のモアレは、隣接透孔列間で同相となるため、水平方向
に連なったモアレとなって目立つようになる。
Therefore, moiré where n is an odd number has opposite phases between adjacent through hole rows and cancels out each other, making them less noticeable. However, moire when n is an even number has the same phase between adjacent through-hole rows, so it becomes conspicuous as moire continues in the horizontal direction.

ここで、モアレのnとmとの組合わせモードを(n 、
 m)で表すと、通常問題となるモードは、nが偶数で
ある(2.1)、 (2,2) 、 (2,3)である
ことが実験的に判明している。しかし、この場合、電子
ビーとなる。ただし、十はn/Pv−m/ s <O、
−はムの垂直方向の径が小さくなると、さらにモード(
4,3)のモアレも問題になる可能性がある。このよう
なモアレについて、透孔の配列ピッチPvとモアレのピ
ッチPとの関係を第9図に示す。この第9図では、Pv
およびP□を走査輝線間隔Sで規格化して、横軸にPv
/s、縦軸をPn、、/s  で示しである1図におい
て、■はモード(2,1)、  (6)はモード(2,
2)、■はモード(2,3)、(へ)はモード(4,3
)の曲線である。通常、Pv/sが415.4/3付近
にあるようなPvを選び、モード(2,3)と(2,2
)あるいはモード(2,2)と(2,1)のモアレのピ
ッチの谷間になるように設定している。この場合、 pnm= 2 g        ・・・・・・・・・
・・・(11)の2種類のモアレが存在するが、ピッチ
が小さいため、通常は問題にならない。
Here, the combination mode of moire n and m is (n,
m), it has been experimentally found that the modes that are usually problematic are (2.1), (2,2), and (2,3), where n is an even number. However, in this case, it will be an electronic beer. However, ten is n/Pv-m/s <O,
− As the vertical diameter of the beam becomes smaller, the mode (
4, 3) moiré may also become a problem. Regarding such moire, the relationship between the arrangement pitch Pv of the through holes and the moire pitch P is shown in FIG. In this Figure 9, Pv
and P□ are normalized by the scanning bright line spacing S, and the horizontal axis shows Pv
/s, and the vertical axis is Pn, , /s. In Figure 1, ■ indicates mode (2, 1), (6) indicates mode (2,
2), ■ is mode (2, 3), (to) is mode (4, 3)
) is the curve. Normally, choose Pv where Pv/s is around 415.4/3, and select modes (2, 3) and (2, 2).
) or between the moiré pitches of modes (2, 2) and (2, 1). In this case, pnm=2 g...
There are two types of moiré (11), but since the pitch is small, it usually does not pose a problem.

しかし、走査輝線の本数が異なる放送方式への共用に対
しては妥協設計としなければならず、モアレピッチが大
きくなる。また、単一の放送方式の場合でも、電子ビー
ム径が小さくなり、変調度が大きくなると、 (11)
式のモアレが目立ちやすくなる。さらに、電子ビーム径
が非常に小さくなると、モード(4,3)のモアレも問
題となる。これは、モード(2,2)、(2,1)のモ
アレのピッチが最小のところでピッチが大きくなるので
、具合が悪い。
However, for shared use in broadcasting systems with different numbers of scanning bright lines, a compromise design must be adopted, resulting in a large moiré pitch. Furthermore, even in the case of a single broadcasting system, as the electron beam diameter becomes smaller and the modulation degree becomes larger, (11)
Moiré in the expression becomes more noticeable. Furthermore, when the electron beam diameter becomes extremely small, moiré in mode (4, 3) also becomes a problem. This is inconvenient because the pitch of moiré in modes (2, 2) and (2, 1) becomes large at the minimum pitch.

ところで、このようなモアレを抑制するために、特公昭
57−50338号公報および特公昭58−4425号
公報には、第10図および第11図に示すように、2種
類以上の透孔の位置ずれΔyを用いたシャドウマスクが
示されている。すなわち、特公昭57−50338号公
報のシャドウマスクでは、第10図に示すように、Δy
が3 Pv/ 8 、 Pv/ 4 、 Pv/ 2と
なっており、また特公昭58−4425号公報シャドウ
マスクでは、第11図に示すように、ΔyがPv/ 2
 、 Pv/ 3となっている。
By the way, in order to suppress such moiré, Japanese Patent Publication No. 57-50338 and Japanese Patent Publication No. 58-4425 disclose two or more types of hole positions, as shown in FIGS. 10 and 11. A shadow mask using a shift Δy is shown. That is, in the shadow mask disclosed in Japanese Patent Publication No. 57-50338, as shown in FIG.
are 3 Pv/8, Pv/4, and Pv/2, and in the shadow mask of Japanese Patent Publication No. 58-4425, as shown in FIG. 11, Δy is Pv/2.
, Pv/3.

しかし、このようなシャドウマスクは、1つのΔyが特
定のnに対して、モアレが逆相となって相打消し合う値
であっても、他のΔyに対しては逆相から外れ、モアレ
抑制作用が不完全となる。
However, in such a shadow mask, even if one Δy has a value that causes the moiré to be out of phase and cancel each other out for a specific n, for other Δy, the moiré will be out of phase and the moiré will be cancelled. The inhibitory effect becomes incomplete.

たとえば第11図に示した透孔配列に対しピッチ。For example, the pitch for the through hole arrangement shown in FIG.

変調度が比較的大きいモード(n、=)についてのモア
レのパターンは、第12図に示すようになる。この図は
、モアレのピッチPと位相ずれΔnとをもとに、予想さ
れるモアレを白黒で示したものであり、(a)ないしく
C)はそれぞれモード(1,1)、(2,1)。
The moiré pattern for a mode (n,=) with a relatively large modulation degree is shown in FIG. This figure shows the expected moire in black and white based on the pitch P of the moire and the phase shift Δn, and (a) to C) indicate the mode (1, 1), (2, 1).

(3,1)のモアレパターンであり、いずれも複雑なパ
ターンとなっている。
These are (3, 1) moiré patterns, and both are complex patterns.

また、特開昭51−90560号公報には、第13図お
よび第14図に示すように、透孔■と2種類以上のピッ
チで配列したシャドウマスクが示されている。
Furthermore, Japanese Patent Application Laid-Open No. 51-90560 discloses a shadow mask in which through holes (3) are arranged at two or more pitches, as shown in FIGS. 13 and 14.

すなわち、第13図の例では、2種類の配列ピッチPV
IIPV□となっており、第14図の例では、5種類の
配列ピッチPVL−PVSとなっている。しかし、この
シャドウマスクでは、透孔■のピッチPvとブリッジ■
の位置ずれΔyとの組合わせを考慮しておらず、複雑な
パターンのモアレが発生する。
That is, in the example of FIG. 13, two types of arrangement pitches PV
IIPV□, and in the example of FIG. 14, there are five types of arrangement pitches PVL-PVS. However, in this shadow mask, the pitch Pv of the through hole ■ and the bridge ■
The combination with the positional deviation Δy is not considered, and a complicated pattern of moiré occurs.

(発明が解決しようとする課題) 前述したように、カラーブラウン管は、電子ビームの水
平走査により得られる水平輝線を明部とし、その隣接輝
線間を暗部とする複数本の明暗縞が画面上にでき、この
明暗縞とシャドウマスクの透孔配列から生ずる明暗縞と
の干渉により、画面上にモアレが発生することがある。
(Problems to be Solved by the Invention) As mentioned above, in a color cathode ray tube, a plurality of bright and dark stripes are formed on the screen, with horizontal bright lines obtained by horizontal scanning of an electron beam as bright areas, and dark areas between adjacent bright lines. Moiré may occur on the screen due to interference between these bright and dark fringes and the bright and dark fringes generated from the through-hole arrangement of the shadow mask.

このモアレを抑制するために、通常は透孔列が交互にP
v/2づつずれたシャドウマスクにおいて、Pvを適切
な値にとることにより、モアレピッチを極小にして目立
たなくする方法がとられている。しかしこの方法では、
水平走査線の本数が異なる放送方式への共用の場合、妥
協設計としなければならず、モアレピッチが大きくなっ
てしまう、また単一の放送方式の場合でも電子ビームの
径が小さくなるとモアレが目立ちやすくなるなどの問題
がある。具体的には、モアレを抑制するために、透孔の
配列を工夫したり、透孔を2種類以上のピッチで配列し
たシャドウマスクがあるが、いずれもモアレ抑制作用は
不完全である。
In order to suppress this moiré, normally the rows of through holes are
In shadow masks shifted by v/2, a method is used to minimize the moiré pitch and make it less noticeable by setting Pv to an appropriate value. But with this method,
When sharing a broadcasting system with a different number of horizontal scanning lines, a compromise design is required, resulting in a large moire pitch, and even in the case of a single broadcasting system, moire becomes more noticeable as the electron beam diameter becomes smaller. There are problems such as: Specifically, in order to suppress moire, there are shadow masks in which the arrangement of through holes is devised or in which the through holes are arranged at two or more different pitches, but in either case, the moire suppressing effect is incomplete.

この発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、
シャドウマスクの透孔を有効にモアレを抑制するように
配列して、十分にモアレを抑制しうるカラーブラウン管
を構成することを目的とする。
This invention was made in view of the above problems, and
It is an object of the present invention to configure a color cathode ray tube that can sufficiently suppress moire by arranging the through holes of a shadow mask so as to effectively suppress moire.

〔発明の構成〕[Structure of the invention]

(課題を解決するための手段) 長径および短径を有する透孔がブリッジを介して上記長
径方向に複数個配列された透孔列を上記短径方向に複数
列配列されてなるシャドウマスクを備えるカラー受像管
において、上記各透孔列は長径の異なる2種類の透孔の
配列により透孔の配列ピッチが交互にPv□、Pv□と
なり、上記PVt+PV2 をPV□<P、2とすると
き、この透孔の配列ピッチを。
(Means for Solving the Problem) A shadow mask is provided in which a plurality of through holes having a major axis and a minor axis are arranged in the major axis direction via a bridge, and a plurality of through hole rows are arranged in the minor axis direction. In the color picture tube, each of the through-hole rows has two types of through-holes with different major diameters, so that the pitch of the through-holes is alternately Pv□ and Pv□, and when the above-mentioned PVt+PV2 is PV□<P, 2, The arrangement pitch of this hole.

0.42≦pvi/ (pvx + Pvz)≦0.4
4とするとともに、隣接透孔列間の透孔の位置ずれΔy
が上記PV□、Pv□に対応する2種類の位置ずれΔy
1.Δy2により構成され、 0.49≦Δy1/ (Pvz + Pva )≦0.
50.35≦Δyz / (P VL + P V2 
)≦0.37であるΔy1、Δy2、または 0.38≦P v□/ (P v□+ P vz )≦
0.42とするとともに、 0.49≦Δ!l’l/ (Pvx + Pvz)≦0
.50.29≦Δyz / (pvt + Pv2 )
≦0.31であるΔy1.Δy2に対してΔyが+Δy
よ、+ΔYz+−Δy1、−Δy2の値をとるように構
成した。
0.42≦pvi/ (pvx + Pvz)≦0.4
4, and the positional deviation Δy of the through holes between adjacent through hole rows
are the two types of positional deviation Δy corresponding to the above PV□ and Pv□
1. It is composed of Δy2, and 0.49≦Δy1/ (Pvz + Pva)≦0.
50.35≦Δyz/(P VL + P V2
)≦0.37, or 0.38≦P v□/ (P v□+ P vz )≦
0.42 and 0.49≦Δ! l'l/ (Pvx + Pvz)≦0
.. 50.29≦Δyz/(pvt+Pv2)
Δy1.≦0.31. Δy is +Δy with respect to Δy2
It is configured to take the values of +ΔYz+−Δy1 and −Δy2.

(作用) 上記のように、各透孔列中の透孔の配列ピッチとして2
種類のPv (Pv1、 Pv□)を用い、その比を所
定の範囲に定めると、特定モードのモアレの振幅を小さ
くすることができる。そして、振幅を小さくならないモ
アレについては、隣接透孔列間の透孔の位置ずれΔyを
所定範囲の値とすることにより、少なくとも2列おきに
モアレが逆相になるように抑制することができる。
(Function) As mentioned above, the arrangement pitch of the holes in each hole row is 2.
By using different types of Pv (Pv1, Pv□) and setting the ratio within a predetermined range, it is possible to reduce the amplitude of moiré in a specific mode. As for moire whose amplitude does not decrease, by setting the positional deviation Δy of the through holes between adjacent through hole rows to a value within a predetermined range, it is possible to suppress the moire so that at least every two rows have an opposite phase. .

(実施例) 以下、図面を参照してこの発明を実施例に基づいて説明
する。
(Example) Hereinafter, the present invention will be described based on an example with reference to the drawings.

第3図にその一実施例であるカラーブラウン管を示す。FIG. 3 shows a color cathode ray tube, which is one embodiment of the present invention.

このカラーブラウン管は、パネル(10)とこのパネル
(10)に一体に接合されたファンネル(11)とから
なる外囲器を有し、そのパネル(10)内面に、紙面に
垂直な垂直軸方向に延在する青、緑、赤に発光するスト
ライプ状の3色蛍光体層からなる蛍光面(12)が形成
されている。そして、この蛍光面(12)に対向かつ近
接して、その内側に電子ビーム通過孔としての多数の透
孔が形成されたシャドウマスク(13)が装着されてい
る。また、ファンネル(11)のネック(14)内に管
軸(Z軸)を含む同一水平面上を通るセンタービーム(
15G)および−対のサイドビーム(15B) 、 (
15R)からなる3電子ビームを放出する電子銃(16
)が配設されている。そして、この電子銃(16)から
放出される3電子ビーム(15G) 、 (15B) 
、 (15R)により、シャドウマスク(13)の透孔
を介して蛍光面(12)を水平、垂直走査することによ
りカラー画像を表示する構造となっている。
This color cathode ray tube has an envelope consisting of a panel (10) and a funnel (11) integrally joined to this panel (10). A phosphor screen (12) consisting of a striped three-color phosphor layer that emits blue, green, and red light is formed. A shadow mask (13) having a large number of through holes as electron beam passage holes formed inside the shadow mask (13) is mounted opposite to and close to the phosphor screen (12). In addition, a center beam (
15G) and -pair of side beams (15B), (
An electron gun (16R) that emits three electron beams consisting of 15R)
) are provided. Three electron beams (15G) and (15B) are emitted from this electron gun (16).
, (15R), the structure is such that a color image is displayed by scanning the phosphor screen (12) horizontally and vertically through the through hole of the shadow mask (13).

ところで、この例のカラーブラウン管のシャドウマスク
(13)の透孔は、第1図に示すように、短径Wが同一
でρ4.Q2で示すように長径のみが異なる2種類のほ
ぼ矩形状の透孔(18a)、 (18b)が垂直軸(Y
軸)方向にブリッジ(19)を介して交互に複数個配列
され、この垂直軸方向の各透孔列(20)が2種類の透
孔配列ピッチPV□+ PVzによって構成されている
。そして、この透孔列(20)が水平軸(X軸)方向に
複数列配列されている。しかも、各隣接透孔列(20)
間で透孔(18a)、 (18b)が位置ずれし、上記
透孔配列ピッチPv工r Pv2に対応して、その位置
ずれΔyが2種類の位置ずれΔy1、Δy2となってい
る。
By the way, as shown in FIG. 1, the through holes of the shadow mask (13) of the color cathode ray tube in this example have the same short diameter W and ρ4. As shown by Q2, two types of almost rectangular through holes (18a) and (18b) that differ only in their major diameters are aligned with the vertical axis (Y
A plurality of through hole rows (20) in the vertical axis direction are arranged alternately via bridges (19), and each through hole row (20) in the vertical axis direction is constituted by two types of through hole arrangement pitches PV□+PVz. A plurality of through-hole rows (20) are arranged in the horizontal axis (X-axis) direction. Moreover, each adjacent through hole row (20)
The through holes (18a) and (18b) are misaligned between them, and the positional deviations Δy are two types of positional deviations Δy1 and Δy2 corresponding to the above-mentioned through-hole arrangement pitch Pvr Pv2.

ところで、上記のように2種類の透孔配列ピッチPV1
+ Pv2により長径の異なる2種類の透孔(18a)
(18b)を交互に配列して透孔列(20)を構成する
と、この透孔列(20)中での透孔(18a) 、 (
18b)の配列周期は、Pvよ+PV2となり、透孔列
(20)の電子ビーム透過率A (y)は となる。ここで、ブリッジ(19)の幅をBとし、かつ
簡単のため、透孔(18a)、 (18b)の形状を正
確な矩形とすると、 となる。
By the way, as mentioned above, there are two types of through hole arrangement pitch PV1.
+ Two types of through holes (18a) with different major diameters depending on Pv2
(18b) are arranged alternately to form a through hole row (20), the through holes (18a), (
The arrangement period of 18b) is Pv +PV2, and the electron beam transmittance A (y) of the through hole array (20) is as follows. Here, if the width of the bridge (19) is B, and for simplicity, the shapes of the through holes (18a) and (18b) are assumed to be accurate rectangles, then the following equation is obtained.

したがって、(13)式中のcoi nπμ を小さく
するようにμを選べば、モード(n、−)のモアレを抑
制することができる。
Therefore, if μ is selected so as to make coi nπμ in equation (13) small, moiré in mode (n, −) can be suppressed.

第6図にcos nπμについてn=1〜10とした場
合を示す。曲a (221) 〜(2210)は、それ
ぞれn=1〜10に対応する。これにより、 0.38≦μ≦0.42では、n=4.60.42≦μ
≦0.44では、n=6.8のcos nπμが同時に
小さくなることがわかる。
FIG. 6 shows the case where n=1 to 10 for cos nπμ. Songs a (221) to (2210) correspond to n=1 to 10, respectively. As a result, when 0.38≦μ≦0.42, n=4.60.42≦μ
It can be seen that when ≦0.44, cos nπμ of n=6.8 becomes small at the same time.

実際には、n=4.6および6,8に対して、μ:0.
40.0.43 に設定するのが好ましい。
Actually, for n=4.6 and 6,8, μ:0.
It is preferable to set it to 40.0.43.

そこで、0式に対応する f1=1Δy I /(PV+PV) −−−−−−(
14)・の値を工夫して、cos nπμが小さくなら
ないnに対して、隣接透孔列(20)間のモアレが逆相
になるようにする。その1つとして、 0.49≦ f ≦0.50 とすれば、nが奇数のモアレは逆相になり、モアレを抑
制することができる。もう1つのIf+として。
Therefore, f1=1Δy I / (PV+PV) corresponding to formula 0 −−−−−−(
14) The value of * is devised so that the moiré between adjacent through-hole rows (20) has an opposite phase for n where cos nπμ does not become small. As one of them, if 0.49≦f≦0.50, moire when n is an odd number will have a reverse phase, and moire can be suppressed. As another If+.

μ0.40については、0.29≦If+≦0.31μ
0.43については、0.35≦ f ≦0.37とす
ることにより、モアレを抑制することができる。
For μ0.40, 0.29≦If+≦0.31μ
Regarding 0.43, moire can be suppressed by setting 0.35≦f≦0.37.

上記第1図に示したシャドウマスクの具体的な透孔配列
としては、 Pvt +Pvz = 2.8mm μ=pvx/ (pvx +Pva)=0.43mmΔ
V / (Pvt +Pv2)= +0.5. +0.
36,0.5. 0.36であり、Δyが上記順序で繰
返される。
The specific through hole arrangement of the shadow mask shown in FIG.
V/(Pvt+Pv2)=+0.5. +0.
36,0.5. 0.36, and Δy is repeated in the above order.

このような透孔配列のシャドウマスクに対してシャドウ
マスク上の走査輝線のピッチSが0.75amである場
合に問題となる可能性のあるモード(n、m)のモアレ
パターンを第2図に示す(a)図はモード(2,1)、
 (b)図はモード(3,l)、 (C)図はモード(
4,1)、(d)図はモード(5,1)、(6)図はモ
ード(6,2)、 (f)図はモード(7,2)、(g
)図はモード(11,2)、(h)図はモード(9,2
)のパターンである。
Figure 2 shows the moiré pattern of mode (n, m) that may cause a problem when the pitch S of the scanning bright lines on the shadow mask is 0.75 am for a shadow mask with such a transparent hole arrangement. The diagram (a) shown is mode (2,1),
(b) Figure shows mode (3,l), (C) Figure shows mode (
4,1), (d) figure is mode (5,1), (6) figure is mode (6,2), (f) figure is mode (7,2), (g
) figure shows mode (11,2), (h) figure shows mode (9,2)
) pattern.

これらパターンのうち、(C)図のモード(4,1)お
よび(e)図のモード(6,2)では、モアレが横に連
なっているが、これらは、cos nπμが小さいため
にコントラストが低く目立たない。それ以外のモードに
ついても、モアレは、ピッチが小さいかあるいは2列ご
とに逆相となっているため目立たず、十分にモアレを抑
制するシャドウマスクとすることができる。
Among these patterns, in mode (4, 1) in figure (C) and mode (6, 2) in figure (e), moiré lines are horizontally connected, but these have low contrast because cos nπμ is small. Low and inconspicuous. In other modes as well, moire is not noticeable because the pitch is small or the phase is reversed every two rows, and a shadow mask that sufficiently suppresses moire can be obtained.

第4図に異なるシャドウマスクの具体的な透孔配列を示
す、この例では、 Pvt +pv、= 2.8ai μ=pvt/ (PV1+Pvz)=0−40mmΔ3
’ / (Pvx +Pvz)= +0.5. +0.
3.−0.5.−0.3であり、Δyが上記順序で繰返
されている。
FIG. 4 shows specific through-hole arrangements of different shadow masks. In this example, Pvt + pv, = 2.8 ai μ = pvt/ (PV1 + Pvz) = 0-40 mm Δ3
'/(Pvx +Pvz)=+0.5. +0.
3. -0.5. -0.3, and Δy is repeated in the above order.

このシャドウマスク上の走査輝線のピッチSが0.75
mmであるときに問題となる可能性のあるモード(n 
、 m)のモアレパターンを第5図に示す。(a)図は
モード(2,1)、(b)図はモード(3,1)、 (
c)図はモード(4,1)、 (d)図はモード(5,
1)、(e)図はモード(6,2)、(f)図はモード
(7,2)、(g)図はモード(8゜2)、(h)図は
モード(9,2)のパターンである。これらパターンの
うち、(c)図のモード(4,1)および(e)図のモ
ード(6,2)では、モアレが横に連なっているが、こ
れらは、前記具体例の場合と同様にcosnπμが小さ
いためにコントラストが低く目立たない。それ以外のモ
ードについても、モアレは、ピッチが小さいかあるいは
2列ごとに逆相となっているため目立たず、十分にモア
レを抑制したシャドウマスクとすることができる。
The pitch S of the scanning bright lines on this shadow mask is 0.75
The mode (n
, m) are shown in FIG. 5. (a) Figure shows mode (2,1), (b) Figure shows mode (3,1), (
c) Figure shows mode (4, 1), (d) Figure shows mode (5,
1), (e) figure is mode (6,2), (f) figure is mode (7,2), (g) figure is mode (8°2), (h) figure is mode (9,2). This is the pattern. Among these patterns, in mode (4, 1) in figure (c) and mode (6, 2) in figure (e), moiré is horizontally continuous, but these are the same as in the above specific example. Since cosnπμ is small, the contrast is low and unnoticeable. In other modes as well, moire is not noticeable because the pitch is small or the phase is reversed every two rows, and a shadow mask that sufficiently suppresses moire can be obtained.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

長径および短径を有する透孔がブリッジを介して上記長
径方向に複数個配列された透孔列を上記短径方向に複数
列配列されたシャドウマスクについて、各透孔列中の透
孔の配列ピッチとして2種類のPv (PI/L + 
Pv□)を用い、その比を所定の範囲に定めると、nが
特定のモード(n 、 m)のモアレの振幅を小さくす
ることができる。そして、振幅を小さくならないモアレ
については、隣接透孔列間の透孔の位置ずれΔyを所定
範囲の値とすることにより、少なくとも2列おきにモア
レが逆相になるように抑制することができる。しかも、
上記のように構成すると、モアレ抑制可能な範囲を広く
することができ、走査線の本数が異なる放送方式に対す
る共用が可能であり、また、走査線の本数が現行の約2
倍であるハイビジョンと現行方式との共用に対しても有
効である。
For a shadow mask in which a plurality of through holes having a major axis and a minor axis are arranged in the major axis direction via a bridge, and a plurality of through hole rows are arranged in the minor axis direction, the arrangement of the through holes in each through hole column. Two types of Pv (PI/L +
By using Pv□) and setting the ratio within a predetermined range, it is possible to reduce the amplitude of moiré in a mode (n, m) where n is specific. As for moire whose amplitude does not decrease, by setting the positional deviation Δy of the through holes between adjacent through hole rows to a value within a predetermined range, it is possible to suppress the moire so that at least every two rows have an opposite phase. . Moreover,
With the above configuration, the range in which moire can be suppressed can be widened, it can be shared with broadcasting systems with different numbers of scanning lines, and the number of scanning lines can be reduced to about 2 from the current number.
It is also effective for sharing high-definition vision, which is twice as large, with the current system.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図ないし第6図はこの発明の詳細な説明図で、第1
図はその一実施例におけるシャドウマスクの透孔配列を
示す図、第2図(a)ないしくh)はそれぞれそのシャ
ドウマスクの各モードのモアレパターンの図、第3図は
一実施例カラーブラウン管の構成を示す図、第4図は他
の実施例におけるシャドウマスクの透孔配列を示す図、
第5図(a)ないしくh)はそれぞれそのシャドウマス
クの各モードのモアレパターンの図、第6図はμとCo
Snπμとの関係を示す図、第7図は隣接透孔列間で透
孔が1/2ずれたシャドウマスクの透孔配列を示す図、
第8図はlf+とモアレの位相ずれの大きさ1Δn1と
の関係を示す図、第9図は透孔の配列ピッチとモアレピ
ッチとの関係を示す図、第10図および第11図はそれ
ぞれ異なる従来のモアレを抑制したシャドウマスクの透
孔配列を示す図、第12図(a)ないしくC)はそれぞ
れ第11図示シャドウマスクの各モードのモアレパター
ンの図、第13図および第14図はそれぞれさらに異な
る従来のモアレを抑制したシャドウマスクの透孔配列を
示す図である。
Figures 1 to 6 are detailed explanatory diagrams of this invention.
The figure shows the through-hole arrangement of the shadow mask in one embodiment, FIGS. 2(a) to h) show the moiré patterns of each mode of the shadow mask, and FIG. 3 shows the color cathode ray tube of one embodiment. FIG. 4 is a diagram showing the through hole arrangement of a shadow mask in another embodiment,
Figures 5(a) to h) are diagrams of moiré patterns in each mode of the shadow mask, and Figure 6 is a diagram of μ and Co.
A diagram showing the relationship with Snπμ, FIG. 7 is a diagram showing the through-hole arrangement of a shadow mask in which the through-holes are shifted by 1/2 between adjacent through-hole rows,
FIG. 8 is a diagram showing the relationship between lf+ and the magnitude of the moiré phase shift 1Δn1, FIG. 9 is a diagram showing the relationship between the arrangement pitch of through holes and the moire pitch, and FIGS. 10 and 11 are diagrams showing different conventional methods. Figures 12(a) to 12(c) are diagrams showing the through-hole arrangement of a shadow mask that suppresses moiré, respectively, and Figures 13 and 14 are diagrams of moire patterns in each mode of the shadow mask shown in Figure 11. FIG. 7 is a diagram illustrating a through-hole arrangement of a shadow mask that suppresses moiré in a different conventional manner.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 長径および短径を有する透孔がブリッジを介して上記長
径方向に複数個配列された透孔列を上記短径方向に複数
列配列されてなるシャドウマスクを備えるカラー受像管
において、 上記各透孔列は長径の異なる2種類の透孔の配列により
透孔の配列ピッチが交互にP_V_1、P_V_2とな
り、上記P_V_1、P_V_2をP_V_1<P_V
_2とするとき、この透孔の配列ピッチを、 0.42≦P_V_1/(P_V_1+P_V_2)≦
0.44とするとともに、隣接透孔列間の透孔の位置ず
れΔyが上記P_V_1、P_V_2に対応する2種類
の位置ずれΔy_1、Δy_2により構成され、 0.49≦Δy_1/(P_V_1+P_V_2)≦0
.50.35≦Δy_2/(P_V_1+P_V_2)
≦0.37であるΔy_1、Δy_2、または 0.38≦P_V_1/(P_V_1+P_V_2)≦
0.42とするとともに、 0.49≦Δy_1/(P_V_1+P_V_2)≦0
.50.29≦Δy_2/(P_V_1+P_V_2)
≦0.31であるΔy_1、Δy_2に対してΔyが+
Δy_1、+Δy_2、−Δy_1、−Δy_2の値を
とることを特徴とするカラー受像管。
[Scope of Claims] A color picture tube comprising a shadow mask in which a plurality of through holes each having a major axis and a minor axis are arranged in the major axis direction via a bridge, and a plurality of through hole rows are arranged in the minor axis direction. In each of the above-mentioned through-hole rows, the arrangement pitch of the through-holes becomes P_V_1 and P_V_2 alternately due to the arrangement of two types of through-holes with different major diameters, and the above-mentioned P_V_1 and P_V_2 are set as P_V_1<P_V.
_2, the arrangement pitch of the through holes is 0.42≦P_V_1/(P_V_1+P_V_2)≦
0.44, and the positional deviation Δy of the through-holes between adjacent through-hole rows is composed of two types of positional deviations Δy_1 and Δy_2 corresponding to the above P_V_1 and P_V_2, and 0.49≦Δy_1/(P_V_1+P_V_2)≦0
.. 50.35≦Δy_2/(P_V_1+P_V_2)
≦0.37, Δy_1, Δy_2, or 0.38≦P_V_1/(P_V_1+P_V_2)≦
0.42, and 0.49≦Δy_1/(P_V_1+P_V_2)≦0
.. 50.29≦Δy_2/(P_V_1+P_V_2)
Δy is + for Δy_1 and Δy_2 which are ≦0.31.
A color picture tube characterized by taking values of Δy_1, +Δy_2, -Δy_1, and -Δy_2.
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