KR20020012867A - Shadow mask - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 샤도우 마스크(Shadow mask)에 관한 것으로, 특히 슬롯(Slot)의 수직방향의 길이(Sl)가 유효부의 중앙부위보다 외곽부위에 크게 형성되어 브라운관의 품질을 향상시키는 샤도우 마스크에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a shadow mask, and more particularly, to a shadow mask in which a vertical length Sl of a slot is formed larger in the outer portion than the center portion of the effective portion to improve the quality of the CRT.
브라운관에 사용되는 음극선관용 샤도우 마스크는 전자총에서 주사되는 전자비임이 적(R), 녹(G), 청(B) 형광체상에 정확하게 랜딩(Landing)될 수 있게 제어하여 주는 주요부품이다.The shadow mask for cathode ray tube used in the CRT is a main part that controls the electron beam scanned from the electron gun to be accurately landed on the red (R), green (G) and blue (B) phosphors.
도 1은 일반적인 샤도우 마스크를 나타낸 평면도이고, 도 2는 종래의 샤도우 마스크를 나타낸 평면도이다.1 is a plan view showing a typical shadow mask, Figure 2 is a plan view showing a conventional shadow mask.
일반적인 샤도우 마스크는 도 1에서와 같이, 표시장치 영역인 유효부(1), 상기 유효부(1)의 둘레에 위치한 주변부(2) 및 상기 주변부(2)의 최외곽에 상기 주변부(2)와 수직 방향으로 절곡되어 위치한 마스크 스커트(Mask Skirt)(도시하지 않음)로 구성된다.As shown in FIG. 1, a typical shadow mask includes an effective portion 1 as a display device region, a peripheral portion 2 positioned around the effective portion 1, and an outer portion of the peripheral portion 2 at the outermost portion of the peripheral portion 2. It consists of a mask skirt (not shown) which is bent in the vertical direction.
여기서, 상기 마스크 스커트에 인장된 샤도우 마스크를 유지시켜 주는 프레임(Frame)이 용접된다.Here, a frame for holding the shadow mask tensioned to the mask skirt is welded.
종래의 샤도우 마스크는 도 2에서와 같이, 다수개의 슬롯(12)들이 형성된 유효부(11), 상기 유효부(11)의 둘레에 위치한 주변부(13) 및 상기 주변부(13)의 최외곽에 상기 주변부(13)와 수직 방향으로 절곡되어 위치한 마스크 스커트(도시하지 않음)로 구성된다.As shown in FIG. 2, the conventional shadow mask includes an effective part 11 having a plurality of slots 12 formed therein, a peripheral part 13 positioned around the effective part 11, and an outermost part of the peripheral part 13. It consists of a mask skirt (not shown) which is bent in a direction perpendicular to the peripheral portion 13.
여기서, 도 2를 확대한 도면과 같이, 상기 슬롯(12)의 형상은 수평방향의 폭(Sw)과 수직방향의 길이(Sl)로 이루어져 있다.Here, as shown in an enlarged view of FIG. 2, the slot 12 has a width Sw in a horizontal direction and a length Sl in a vertical direction.
그리고, 상기 슬롯(12) 사이의 수직적 공간을 브리지(Bridge)(21)라 하고, 상기 하나의 슬롯(12)의 중심과 수직적으로 인접한 하나의 슬롯(12)의 중심간의 간격을 수직 피치(Pitch)(Pv)라 한다.The vertical space between the slots 12 is referred to as a bridge 21, and the interval between the centers of the one slot 12 and the center of one slot 12 that is vertically adjacent to each other is a vertical pitch. (Pv).
또한, 상기 슬롯(12)이 수평적으로 인접한 슬롯(12)과 수직 방향으로 1/2 수직 피치(Pv)의 차이를 가지도록 수평방향으로 상기 슬롯(32)이 병렬로 배열된다.In addition, the slots 32 are arranged in parallel in the horizontal direction such that the slots 12 have a difference of 1/2 vertical pitch Pv in the vertical direction from the horizontally adjacent slot 12.
상기와 같이 종래의 샤도우 마스크는 슬롯(12)의 수직방향의 길이(Sl)가 상기 유효부(11)의 중앙부와 외곽부에서 동일하거나 변화해도 130%를 넘지 않는다.As described above, the conventional shadow mask does not exceed 130% even if the length Sl of the slot 12 in the vertical direction is the same or changes in the center portion and the outer portion of the effective portion 11.
그러나 종래의 샤도우 마스크는 슬롯의 수직방향의 길이(Sl)가 유효부의 중앙부위와 외곽부위에서 동일하므로 브라운관의 색순도를 일정하게 유지하기 위해 샤도우 마스크의 중앙부와 주변부에서 전자빔의 투과율차를 두게 되어 있기 때문에 그 차이에 의해 중앙부에서 주변부로 갈수록 투과율이 낮아 브라운관의 중앙부와 주변부사이에 브라이트니스(Brightness) 차이가 발생하게 되므로 화상 이미지의 균일성이 떨어져 브라운관의 품질이 저하되는 문제점이 있었다.However, in the conventional shadow mask, since the vertical length Sl of the slot is the same at the center and the outer part of the effective part, the transmittance difference of the electron beam is set at the center and the peripheral part of the shadow mask to maintain the color purity of the CRT. Because of this difference, the transmittance is lower from the center to the periphery, resulting in a difference in brightness between the center and the periphery of the CRT, resulting in a problem of deteriorating the quality of the CRT due to the uniformity of the image image.
본 발명은 상기의 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로 슬롯의 수직방향의 길이(Sl)가 유효부의 중앙부위보다 외곽부위에 크게 형성되므로 화상 이미지의 균일성의 저하를 방지하는 샤도우 마스크를 제공하는데 그 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and thus provides a shadow mask which prevents the uniformity of the image image from being reduced since the vertical length Sl of the slot is formed at the outer portion rather than the center portion of the effective portion. There is this.
도 1은 일반적인 샤도우 마스크를 나타낸 평면도1 is a plan view showing a typical shadow mask
도 2는 종래의 샤도우 마스크를 나타낸 평면도2 is a plan view showing a conventional shadow mask
도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 샤도우 마스크를 나타낸 평면도3 is a plan view showing a shadow mask according to an embodiment of the present invention
도 4는 본 발명의 실시 예에 따른 샤도우 마스크의 유효부의 중심부위부터 유효부의 외곽부위로 슬롯의 길이(Sl)가 포물선적으로 증가함을 나타낸 그래프FIG. 4 is a graph illustrating a parabolic increase in the length Sl of the slot from the center of the effective portion of the shadow mask to the outer portion of the effective portion according to an exemplary embodiment of the present invention.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>
31 : 유효부 32 : 슬롯31: effective part 32: slot
33 : 주변부33: periphery
본 발명의 샤도우 마스크는 표시장치 영역인 유효부, 상기 유효부에 상기 유효부의 중심부위부터 외곽부위로 수직피치가 증가되도록 배열되어 형성되는 다수개의 슬롯들 및 상기 유효부(31)의 둘레에 형성되는 주변부를 포함하여 구성됨을 특징으로 한다.The shadow mask of the present invention is formed around the effective portion, which is a display device region, a plurality of slots which are arranged so that the vertical pitch increases from the center of the effective portion to the outer portion of the effective portion, and the effective portion 31. Characterized in that it comprises a peripheral portion.
상기와 같은 본 발명에 따른 샤도우 마스크의 바람직한 실시 예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.When described in detail with reference to the accompanying drawings a preferred embodiment of the shadow mask according to the present invention as follows.
도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 샤도우 마스크를 나타낸 평면도이고, 도 4는 본 발명의 실시 예에 따른 샤도우 마스크의 유효부의 중심부위부터 유효부의 외곽부위로 슬롯의 길이(Sl)가 포물선적으로 증가함을 나타낸 도면이다.3 is a plan view illustrating a shadow mask according to an exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a length Sl of a slot parabolically from the center of the effective portion of the shadow mask to the outer portion of the effective portion. It is a figure which shows the increase.
본 발명의 실시 예에 따른 샤도우 마스크는 도 3에서와 같이, 다수개의 슬롯(32)들이 형성된 유효부(31), 상기 유효부(31)의 둘레에 위치한 주변부(33) 및 상기 주변부(33)의 최외곽에 상기 주변부(33)와 수직 방향으로 절곡되어 위치한 마스크 스커트(도시하지 않음)로 구성된다.As shown in FIG. 3, a shadow mask according to an exemplary embodiment of the present invention includes an effective part 31 having a plurality of slots 32 formed therein, a peripheral part 33 positioned around the effective part 31, and the peripheral part 33. It consists of a mask skirt (not shown) which is bent in the vertical direction with the periphery 33 at the outermost of the.
여기서, 상기 유효부(31)의 중심부위(A)는 수직방향으로 상기 슬롯(32)이 규칙적으로 배열, 즉 제 1 수직피치(Pv1)로 배열되어 있고, 상기 슬롯(32)이 수평적으로 인접한 상기 슬롯(32)과 수직 방향으로 1/2 피치의 차이(Phi)를 가지도록 수평방향으로 상기 슬롯(32)이 병렬로 배열되어 있다.Here, in the center portion A of the effective portion 31, the slots 32 are regularly arranged in the vertical direction, that is, the first vertical pitch Pv1 is arranged, and the slots 32 are horizontally arranged. The slots 32 are arranged in parallel in the horizontal direction so as to have a difference Phi of 1/2 pitch in the vertical direction with the adjacent slots 32.
한편 상기 유효부(31)의 외곽부위(B)는 그 기본적인 구성과 배열이 상기 유효부(31)의 중심부위(A)과 동일하나, 제 2 수직피치(Pv2)가 상기 제 1 수직피치(Pv1)보다 크게 형성되어 있다.The outer portion B of the effective portion 31 has the same basic configuration and arrangement as that of the central portion A of the effective portion 31, but the second vertical pitch Pv2 is the first vertical pitch ( It is formed larger than Pv1).
즉, 상기 제 2 수직피치(Pv2)가 도 4에서와 같이, Pv2 = Pv0 + C×(??Phi)2로 구성되기 때문에 상기 유효부(31)의 중심부위(A)부터 상기 유효부(31)의 외곽부위(B)로 갈수록 상기 슬롯(32)의 길이(Sl)가 포물선적으로 증가하므로 상기 유효부(31)의 외곽부위(B)를 통한 전자빔의 통과량이 상기 유효부(31)의 중심부위(A)를 통한 전자빔의 통과량보다 많게 된다.That is, since the second vertical pitch Pv2 is configured as Pv2 = Pv0 + C × (?? Phi) 2 as shown in FIG. Since the length Sl of the slot 32 increases parabolically toward the outer portion B of the 31, the amount of passage of the electron beam through the outer portion B of the effective portion 31 is increased. Is greater than the amount of electron beam passing through the center (A).
여기서, 상기 Pv0는 샤도우 마스크의 중앙의 수직 피치이고, 상기 C는 수직피치(Pv)의 증가 계수이다.Here, Pv0 is the vertical pitch of the center of the shadow mask, and C is the increase coefficient of the vertical pitch Pv.
본 발명의 샤도우 마스크는 슬롯의 수직방향의 길이(Sl)가 유효부의 중앙부위보다 외곽부위가 크므로, 즉 유효부의 중앙부위보다 외곽부위의 수직피치를 증가시키므로, 샤도우 마스크의 중앙부와 주변부에서 전자빔의 투과율차에 의해 브라운관의 중앙부와 주변부 사이에 발생되는 브라이트니스 차이에 의한 화상 이미지의 균일성 저하를 방지하여 브라운관의 품질을 향상시키는 효과가 있다.In the shadow mask of the present invention, since the length Sl of the vertical direction of the slot is larger in the outer part than the center part of the effective part, that is, the vertical pitch of the outer part is increased than the center part of the effective part, the electron beam at the center part and the peripheral part of the shadow mask. Due to the difference in transmittance of, the uniformity of the image image due to the difference in brightness generated between the center portion and the peripheral portion of the CRT can be prevented, thereby improving the quality of the CRT.
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Cited By (2)
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|---|---|---|---|---|
| KR100396625B1 (en) * | 2001-11-05 | 2003-09-02 | 엘지.필립스디스플레이(주) | The Color Cathode-ray Tube |
| KR100443612B1 (en) * | 2002-06-25 | 2004-08-09 | 엘지.필립스디스플레이(주) | Shadow mask for crt |
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- 2000-08-09 KR KR1020000046108A patent/KR20020012867A/en not_active Application Discontinuation
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| KR100443612B1 (en) * | 2002-06-25 | 2004-08-09 | 엘지.필립스디스플레이(주) | Shadow mask for crt |
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