JPH03150798A - Semiconductor memory device - Google Patents
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- JPH03150798A JPH03150798A JP1287442A JP28744289A JPH03150798A JP H03150798 A JPH03150798 A JP H03150798A JP 1287442 A JP1287442 A JP 1287442A JP 28744289 A JP28744289 A JP 28744289A JP H03150798 A JPH03150798 A JP H03150798A
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- Semiconductor Memories (AREA)
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
半導体メモリ装置、特に、多ビット入出力構成のメモリ
において冗長を行う技術に関し、不良セルの救済をより
効率良く行い、ひいては歩留りを向上させることを目的
とし、
複数のブロックに分割されたメモリセルアレイであって
、各ブロックがそれぞれ複数の正規セル列からなるもの
と、前記複数のブロックの各個に対応して設けられた複
数の冗長セル列と、前記複数のブロックの各個に対応し
て設けられ、不良ビットが属するワード線またはコラム
線のアドレス情報が予め書き込まれている情報記憶回路
をそれぞれ備えた複数のスイッチング回路とを具備し、
該複数のスイッチング回路における各情報記憶回路の内
容に基づきそれぞれ対応するブロック毎に正規セル列と
冗長セル列の切り換え接続を行うように構成する。[Detailed Description of the Invention] [Summary] The present invention relates to a technique for providing redundancy in semiconductor memory devices, particularly in memories with a multi-bit input/output configuration, and aims to more efficiently repair defective cells and improve yields. A memory cell array divided into a plurality of blocks, each block consisting of a plurality of regular cell columns, a plurality of redundant cell columns provided corresponding to each of the plurality of blocks, and a plurality of redundant cell columns provided corresponding to each of the plurality of blocks. a plurality of switching circuits each provided with an information storage circuit provided corresponding to each block and in which address information of a word line or column line to which a defective bit belongs is written in advance;
The switching circuit is configured to switch and connect the regular cell string and the redundant cell string for each corresponding block based on the contents of each information storage circuit in the plurality of switching circuits.
[産業上の利用分野]
本発明は、半導体メモリ装置に関し、特に、多ビット人
出力構成のメモリにおいて冗長を行う技術に関する。[Industrial Field of Application] The present invention relates to a semiconductor memory device, and particularly to a technique for providing redundancy in a memory having a multi-bit output configuration.
冗長用セルを備えたメモリは、特に大容量のメモリにお
いてその製造歩留りを向上させることができるという点
で有利である。ところが、不良ビットは使用予定の(正
規の)セルのどれに発生するかは予測の限りでないので
、冗長用セルの設は方および冗長用セルと不良セルとの
切り換え手段が課題となる。それ故、限られた数の冗長
用セルを有効に利用して効果的に冗長を行う技術が要求
されている。Memories with redundant cells are advantageous in that manufacturing yields can be improved, especially in large-capacity memories. However, since it is not possible to predict in which of the (regular) cells scheduled to be used a defective bit will occur, problems arise in how to set up redundant cells and how to switch between redundant cells and defective cells. Therefore, there is a need for a technology that effectively utilizes a limited number of redundant cells to effectively provide redundancy.
第6図には従来形における冗長方式の一構成例が概略的
に示される。FIG. 6 schematically shows a configuration example of a conventional redundancy system.
図示の例では、メモリセルアレイが4つのブロック61
〜B4に分割され、さらに各ブロックが4つのコラム(
CCro〜CC1x、 =・・・、CCao =CCa
z)に分割されている。つまり、4ビット入出力構成と
なっている。また、4つの冗長コラム(RCC+−RC
Ca)に分割された冗長用のセルブロック86が設けら
れている。In the illustrated example, the memory cell array includes four blocks 61.
It is divided into ~B4, and each block is further divided into four columns (
CCro~CC1x, =..., CCao =CCa
z). In other words, it has a 4-bit input/output configuration. Additionally, four redundant columns (RCC+-RC
A redundant cell block 86 divided into cells is provided.
この構成によれば、例えば2番目のセルブロックB2の
コラムCC□に不良セル(不良ビット)が含まれている
とすると、切り換え手段(図示せず)によって当該セル
ブロックB2と冗長用セルブロックB0との切り換え接
続が行われる。つまり、ブロック単位で4ビットが同時
に冗長されるようになっている。According to this configuration, for example, if a defective cell (defective bit) is included in the column CC□ of the second cell block B2, the switching means (not shown) switches between the cell block B2 and the redundant cell block B0. A switching connection is made with. In other words, 4 bits are made redundant at the same time in block units.
本来、不良セルは、結晶欠陥に起因するものが多いため
、仮に複数の不良ビットが生じた場合、該複数の不良ビ
ットが同じ1つのブロックに集中して発生する確率は、
各ブロックにそれぞれ不良ビットが分散して存在する確
率に比して極めて低いと考えられる。言い換えると、複
数の不良ビットが仮に生じたとするならば、それは各ブ
ロックに分散して発生する確率が高い。Originally, many defective cells are caused by crystal defects, so if multiple defective bits occur, the probability that the multiple defective bits will be concentrated in the same block is:
This is considered to be extremely low compared to the probability that defective bits are distributed and present in each block. In other words, if a plurality of defective bits were to occur, there is a high probability that they would be distributed in each block.
従って、第6図に示されるようなセルブロック単位で冗
長を行う方式では、発生する不良ビットが1ビットなら
ば問題はないが、仮に複数の不良ビットが各ブロックに
分散して生じた場合には、その不良ビット全てを救済す
ることは不可能となる。そのため、不良セルの救済率が
低くなり、ひいては良品の歩留りが低下するという問題
が生じる。Therefore, with the system that performs redundancy in cell block units as shown in Figure 6, there is no problem if only one defective bit occurs, but if multiple defective bits occur distributed in each block, It becomes impossible to repair all of the defective bits. Therefore, a problem arises in that the repair rate for defective cells is low, and the yield of good products is lowered.
それ故、今後更にメモリの大容量化が進むことを考慮す
ると、現在の冗長方式では歩留りの向上を期待できない
。Therefore, considering that the capacity of memory will continue to increase in the future, it is difficult to expect an improvement in yield with the current redundancy system.
本発明は、かかる従来技術における課題に鑑み創作され
たもので、不良セルの救済をより効率良く行い、ひいて
は歩留りを向上させることができる半導体メモリ装置を
提供することを目的としている。The present invention was created in view of the problems in the prior art, and aims to provide a semiconductor memory device that can repair defective cells more efficiently and improve yield.
上記課題を解決するため、本発明では、複数の不良ビッ
トが発生する場合には各セルアレイブロックに分散して
発生する確率が高いことに着目し、各セルアレイブロッ
ク毎に正規のセル列と冗長用セル列の切り換え接続が可
能なように構成している。In order to solve the above problem, the present invention focuses on the fact that when multiple defective bits occur, there is a high probability that they will occur distributed across each cell array block, and each cell array block has a normal cell column and a redundant bit. The structure is such that the cell rows can be switched and connected.
従って本発明によれば、第1図の原理ブロック図に示さ
れるように、多ビット人出力構成の半導体メモリ装置で
あって、複数のブロック】、〜1m+に分割されたメモ
リセルアレイであって、各ブロックがそれぞれ複数の正
規セル列2l〜2nからなるものと、前記複数のブロッ
クの各個に対応して設けられた複数の冗長セル列3.〜
3#lと、前記複数のブロックの各個に対応して設けら
れ、不良ビットが属するワード線またはコラム線のアド
レス情報が予め書き込まれている情報記憶回路41〜4
mをそれぞれ備えた複数のスイッチング回路5I〜5I
11とを具備し、該複数のスイッチング回路における各
情報記憶回路の内容に基づきそれぞれ対応するブロック
毎に正規セル列と冗長セル列の切り換え接続を行うよう
にしたことを特徴とする半導体メモリ装置が提供される
。Therefore, according to the present invention, as shown in the principle block diagram of FIG. 1, there is provided a semiconductor memory device having a multi-bit output configuration, which comprises a memory cell array divided into a plurality of blocks . Each block is composed of a plurality of regular cell columns 2l to 2n, and a plurality of redundant cell columns 3 are provided corresponding to each of the plurality of blocks. ~
3#l, and information storage circuits 41 to 4 provided corresponding to each of the plurality of blocks and in which address information of the word line or column line to which the defective bit belongs is written in advance.
A plurality of switching circuits 5I to 5I each having a
11, the semiconductor memory device is characterized in that the switching connection between the normal cell column and the redundant cell column is performed for each corresponding block based on the contents of each information storage circuit in the plurality of switching circuits. provided.
〔作用)
上述した構成によれば、複数に分割された各セルアレイ
ブロック毎に、(不良ビットを含む)正規のセル列が冗
長用セル列と置き換えられるようになっている。従って
、複数の不良ビットが各ブロックに分散して発生した場
合には、該不良ビット全てを救済することが可能となり
、それによって歩留りの向上を図ることができる。[Operation] According to the above-described configuration, a normal cell column (including a defective bit) is replaced with a redundant cell column for each cell array block divided into a plurality of cells. Therefore, when a plurality of defective bits are distributed and generated in each block, it is possible to repair all the defective bits, thereby improving the yield.
なお、本発明の他の構成上の特徴および作用の詳細につ
いては、添付図面を参照しつつ以下に記述される実施例
を用いて説明する。Note that other structural features and details of the operation of the present invention will be explained using the embodiments described below with reference to the accompanying drawings.
〔実施例]
第2図には本発明の一実施例としての半導体メモリ装置
の回路構成が示される。[Embodiment] FIG. 2 shows a circuit configuration of a semiconductor memory device as an embodiment of the present invention.
本実施例のメモリは4ビット人出力構成(いわゆる、×
4ビット構成)で、メモリセルアレイは複数のブロック
に分割され、各ブロックは、4つの正規のコラムlO0
〜103 (CC,。〜CC+j、 CCto〜CCt
s、・・・・・・)と1つの冗長コラム11 (RCC
l、RCCz。The memory of this embodiment has a 4-bit human output configuration (so-called
4-bit configuration), the memory cell array is divided into multiple blocks, and each block has four regular columns lO0.
~103 (CC,.~CC+j, CCto~CCt
) and one redundant column 11 (RCC
l, RCCz.
・・・・・・)とから構成されている。各コラムの構成
については、後で詳述する。It consists of...). The structure of each column will be explained in detail later.
12はデータ人力バッファを示し、4ピントの人力デー
タD1.4に応答して該データのバッファリングを行い
、各ビットの相補信号と共に合計4対の相補入力データ
を出力するものである。13はライト・アンプを示し、
外部からのライト・イネーブル信号WEXに応答してデ
ータ人力バッファ12からの4ビットの相補入力データ
を増幅し、それぞれ対応する1対のデータ線り、、DX
、〜03.DX3に出力する。各データ線対り、、DX
、〜口IDXIは、それぞれ対応するコラムIO0〜l
Ozに接続されている。 14゜。Reference numeral 12 denotes a data manual buffer, which buffers the data in response to the 4-pinto manual data D1.4 and outputs a total of four pairs of complementary input data along with complementary signals of each bit. 13 indicates a light amplifier;
In response to an external write enable signal WEX, the 4-bit complementary input data from the data manual buffer 12 is amplified, and the corresponding pair of data lines, DX,
,~03. Output to DX3. For each data line pair, DX
, ~IDXI are the corresponding columns IO0~l, respectively.
Connected to Oz. 14°.
14X、〜14i、14hはそれぞれエミッタフォロワ
を構成するnpn型トランジスタであって、各封缶に、
それぞれ対応するコラムIO0〜10zとデータ線対D
0゜、OX、。〜口、。、DX3゜との間に設けられて
いる。また、15゜〜153はそれぞれデータ線対り、
。、DX6゜〜口、。9口X、。上に現れるデータを増
幅するためのセンスアンプ(S/A) 、16は該S/
Aからのデータのバッファリングを行い、出力データD
。。7として外部に出力するデータ出カバソファを示す
。14X, ~14i, and 14h are npn type transistors constituting emitter followers, respectively;
Corresponding columns IO0 to 10z and data line pair D
0°, OX,. ~mouth,. , DX3°. Also, 15° to 153 are respectively for the data line pair,
. ,DX6゜~mouth. 9 mouths X. a sense amplifier (S/A) for amplifying the data appearing on the S/A;
Buffer the data from A and output data D
. . 7 shows a data output cover sofa that is output to the outside.
20はロウ・アドレスバッファおよびデコーダであって
、ロウ・アドレス信号RAddのバッファリングを行い
、複数のワード線′HL、−WLnのいずれかを選択す
るための回路である。このワード線l1IL。Reference numeral 20 denotes a row address buffer and decoder, which buffers the row address signal RAdd and selects one of the plurality of word lines 'HL and -WLn. This word line l1IL.
〜−Lnは、前述した各コラムに共通に(図示の例では
紙面の縦方向に)配設されている。同様に、21はコラ
ム・アドレスバッファおよびデコーダであって、コラム
・アドレス信号CAddのバッファリングを行い、複数
のデコード線DEC(図示の例では4本)のいずれかを
選択するための回路である。. . . -Ln are arranged in common in each column described above (in the illustrated example, in the vertical direction of the paper surface). Similarly, 21 is a column address buffer and decoder, which is a circuit for buffering the column address signal CAdd and selecting one of a plurality of decode lines DEC (four in the illustrated example). .
22゜〜221は多結晶シリコン等から成るヒユーズ素
子を示し、それぞれコラムIO0〜10.とデコード線
DECの特定の一本との一間に設けられている。22° to 221 indicate fuse elements made of polycrystalline silicon or the like, and columns IO0 to IO10. and a specific one of the decode lines DEC.
また、23.23Xおよび24はそれぞれヒユーズ素子
を含むスイッチ(後述)を示す。スイッチ23は、冗長
コラムllに接続されている相補データ線り、DXの一
方りと前述の各データ線対の一方00〜0.との間に接
続され、スイッチ23Xは、該相補データ線の他方DX
と各データ線対の他方DX、〜DX、との間に接続され
ている。スイッチ24は、複数のデコード線DECと冗
長コラム11の間に接続されている。Further, 23, 23X and 24 each indicate a switch (described later) including a fuse element. The switch 23 connects one of the complementary data lines DX connected to the redundant column 11 and one of the data line pairs 00 to 0. The switch 23X is connected between the other complementary data line DX
and the other DX, DX, of each data line pair. The switch 24 is connected between the plurality of decode lines DEC and the redundancy column 11.
また、冗長コラムitの出力側にはスイッチ23.23
Xと同じ構成のスイッチ25.25Xが設けられている
。In addition, switches 23 and 23 are installed on the output side of the redundant column it.
A switch 25.25X having the same configuration as X is provided.
26および26Xはエミッタフォロワ(後述)を示す。26 and 26X indicate emitter followers (described later).
エミッタフォロワ26は、スイッチ25と前述の各デー
タ線対0.。、DX、。〜D、。、DX、。の−宵口。The emitter follower 26 is connected to the switch 25 and each data line pair 0. . ,DX,. ~D. ,DX,. - Yoiguchi.
。〜口、。との間に接続され、エミッタフォロワ26X
は、スイッチ25Xと各データ線対の他方DX、。〜D
X、。との間に接続されている。. ~mouth,. emitter follower 26X
are the switch 25X and the other DX of each data line pair. ~D
X. is connected between.
次に、第2図におけるコラム部の一構成例について第3
図を参照しながら説明する。なお、各コラムは構成が同
じであるので、図示の例ではコラム10a(CC+e)
が代表的に示されている。Next, regarding one configuration example of the column part in FIG.
This will be explained with reference to the figures. Note that each column has the same configuration, so in the illustrated example, column 10a (CC+e)
are shown representatively.
例示されるコラムは、相補ビット線BL、 BLXの間
に接続されそれぞれワード線孔、〜−Lnのレベルに応
答する複数のメモリセルMC,〜MCnと、選択された
デコード線上のデコード信号DSに応答してビット線B
L、 BLXを対応するデータ線OL、 DLXに接続
するpチャネルトランジスタ30.30Xと、デコード
信号口Sに応答するインバータ31と、デコード信号O
8およびデータ線対の一方り、の信号に応答するノアゲ
ート32と、デコード信号O8およびデータ線対の他方
DX、の信号に応答するノアゲート32Xと、ノアゲー
ト32.32Xの各出力端とデータ線口り、 DLXの
間に接続されたインバータ33.33Xと、高電位の電
源電圧VCCの供給を受け、データ線OL、 BLX上
の信号に応答して電流切り換え型スイッチを構成する4
個のnpn型トランジスタ34.34X、35.35X
と、インバータ31の出力に応答してそれぞれトランジ
スタ34.34Xおよび35.35Xの定電流源として
機能するnチャネルトランジスタ36.36X、37と
、低電位の電源電圧VERに応答してそれぞれトランジ
スタ35.35Xのコレクタ抵抗として機能するPチャ
ネルトランジスタ38.38Xとから構成されている。The illustrated column includes a plurality of memory cells MC, ~MCn connected between complementary bit lines BL, BLX and responsive to the levels of word line holes ~-Ln, respectively, and a decode signal DS on a selected decode line. Bit line B in response
P-channel transistors 30 and 30X connect L and BLX to corresponding data lines OL and DLX, an inverter 31 that responds to decode signal port S, and decode signal O
8 and one of the data line pair, a NOR gate 32X that responds to the decode signal O8 and the other data line pair DX, and each output terminal and data line port of the NOR gate 32.32X. The inverter 33.33X connected between DLX and 4 which receives the high potential power supply voltage VCC and constitutes a current switching type switch in response to the signals on the data lines OL and BLX.
npn type transistors 34.34X, 35.35X
and n-channel transistors 36.36X and 37, which function as constant current sources for transistors 34.34X and 35.35X, respectively, in response to the output of inverter 31, and transistors 35. It is composed of a P-channel transistor 38, which functions as a collector resistor of 35X, and a 38X collector resistor.
第3図の構成において、デコード信号口Sが“L″レベ
ル時に当該コラムは選択状態となる。この場合、トラン
ジスタ30,30Xはオン状態となるので、選択された
ワード線に対応するメモリセルのデータのレベルがビッ
ト線BL、BLXおよびトランジスタ30.30Xを介
してデータ線DL、DI、Xに伝達される。また、イン
バータ31の出力は“11”レベルとなるので、トラン
ジスタ36.36X、37はそれぞれ本来の定電流源と
して機能し、それによって電流切り換え型スイッチ(3
4,34L 35.35X)は所定の動作を行う。その
結果、トランジスタ35.35Xのコレクタ電位は、一
方が“H”レベルで、他方が“L″レベルなり、それを
受けてエミッタフォロワ14゜、14X6の一方がオン
し、他方がオフする。従って、1対のデータ線D0゜、
DX*。には1対の相補データが出力され、該相補デー
タは、対応するS/Aに入力されて増幅された後、外部
に読み出される。In the configuration shown in FIG. 3, when the decode signal port S is at "L" level, the column is in the selected state. In this case, the transistors 30 and 30X are turned on, so the data level of the memory cell corresponding to the selected word line is transferred to the data lines DL, DI, and X via the bit lines BL and BLX and the transistors 30 and 30X. communicated. In addition, since the output of the inverter 31 is at the "11" level, the transistors 36, 36X and 37 each function as an original constant current source, thereby causing the current switching type switch (3
4,34L 35.35X) performs a predetermined operation. As a result, one of the collector potentials of the transistors 35.35X becomes "H" level and the other becomes "L" level, and in response, one of the emitter followers 14° and 14X6 is turned on and the other is turned off. Therefore, a pair of data lines D0°,
DX*. A pair of complementary data is outputted to, and the complementary data is input to the corresponding S/A and amplified, and then read out to the outside.
一方、デコード信号DSが“II”レベルの場合には当
該コラムは非選択状態となる。この場合の動作について
は、上記の動作から類推されるのでその説明は省略する
。On the other hand, when the decode signal DS is at the "II" level, the column is in a non-selected state. The operation in this case can be inferred from the above operation, so the explanation thereof will be omitted.
なお、第3図に図示のコラムを冗長コラムとして適用す
る場合、デコード信号としてはスイッチ24で切り換え
接続されたデコード線の信号が入力され、データとして
はスイッチ23.23Xでそれぞれ切り換え接続された
データ線り、DX上の信号が入力される。また、冗長コ
ラムから取り出される相補信号線は、それぞれスイッチ
25.25Xで切り換え接続された後、エミッタフォロ
ワ26.26Xを介して相補データ線D0゜、DX6゜
〜O1゜、DXi。のいずれか一対に接続される。Note that when the column shown in FIG. 3 is applied as a redundant column, the signal of the decode line switched and connected by the switch 24 is input as the decode signal, and the data switched and connected by the switches 23 and 23X is input as the data. The signal on the line and DX is input. Further, the complementary signal lines taken out from the redundant columns are switched and connected by switches 25.25X, respectively, and then connected to complementary data lines D0°, DX6° to O1°, and DXi via emitter followers 26.26X. Connected to either pair.
次に、第2図におけるスイッチおよびエミッタフォロワ
の各構成例について第4図および第5図を参照しながら
説明する。Next, configuration examples of the switch and emitter follower in FIG. 2 will be described with reference to FIGS. 4 and 5.
まず第4図を参照すると、本実施例に用いられる各スイ
ッチは、高電位の電源ラインvCCと低電位の電源ライ
ンVl!f!の間に直列に接続されたヒユーズ素子F、
〜F1および高抵抗の抵抗器P、〜6から成る4[の情
報記憶回路と、該情報記憶回路の各ノードNO〜N3
(ヒユーズ素子と抵抗器の接続点)の電位にそれぞれ応
答するインバータIVo ””IV3と、トランスファ
ゲートを構成し、ノードNo−N3の電位およびインバ
ータIV6〜IV、の出カニツレぞれ応答するpチャネ
ルトランジスタQP、〜QP。First, referring to FIG. 4, each switch used in this embodiment has a high potential power line vCC and a low potential power line Vl! f! A fuse element F connected in series between
~F1 and high-resistance resistors P, ~6, and each node NO~N3 of the information storage circuit.
The inverter IVo "" IV3, which responds to the potential of the fuse element and the resistor (connection point of the fuse element and the resistor), constitutes a transfer gate, and the p-channel responds to the potential of the node No-N3 and the output of the inverters IV6 to IV, respectively. Transistors QP, ~QP.
およびnチャネルトランジスタロN0〜QN、とから構
成されている。and n-channel transistors N0 to QN.
情報記憶回路は、不良ビットが属するコラム線、すなわ
ちデータ線またはビット線のアドレス情報を半永久的に
記憶しておくための回路である0例えばデバイス出荷前
の検査において、コラムio。The information storage circuit is a circuit for semi-permanently storing address information of a column line to which a defective bit belongs, that is, a data line or a bit line.
に不良セル(不良ビット)が含まれていることが判明し
たとすると、スイッチ23の場合、当該コラムのデータ
線り、に対応するヒユーズ素子F0をレーザ等で切断す
る。これによってノードNOのレベルは“L”レベル(
VEPs)となり、トランスファゲート((IPo、Q
Ne)がオープン状態となるごとにより、冗長コラム側
のデータlsDと当該データ線り、は接続される、一方
、他のヒユーズ素子は接続されたままであるので、各ノ
ードN1〜N3のレベルは相対的に“Hルベル(VCC
)となり、それぞれ対応するトランスファゲートは導通
しない、結局、データ線りと00のみが接続される。If it is found that a defective cell (defective bit) is included in the column, in the case of the switch 23, the fuse element F0 corresponding to the data line of the column is cut by a laser or the like. As a result, the level of node NO is “L” level (
VEPs) and transfer gates ((IPo, Q
Each time Ne) becomes open, the data lsD on the redundant column side and the data line are connected. On the other hand, the other fuse elements remain connected, so the levels of each node N1 to N3 are relative to each other. “H Lebel (VCC)”
), the corresponding transfer gates are not conductive, and in the end, only the data line and 00 are connected.
次に第5図を参照すると、冗長コラム用に用いられるエ
ミッタフォロワ26.26Xは、npn型トランジスタ
10〜↑3と非冗長時に該トランジスタのベース電位を
“L#レベル(VF!B)にクランプするための抵抗器
OR,〜DR2からなる4組の回路から構成されている
。Next, referring to FIG. 5, the emitter follower 26.26X used for the redundant column clamps the base potential of the npn transistors 10 to ↑3 to the "L# level (VF!B)" when non-redundant. It is composed of four sets of circuits consisting of resistors OR, to DR2.
以下、本実施例のメモリにおける冗長方法の一例につい
て説明する。An example of a redundancy method in the memory of this embodiment will be described below.
今仮に、説明の簡単化のため、メモリセルアレイが2つ
のブロックに分割されているものとし、さらに第1のブ
ロック(第2のブロック)内のコラム10. (10り
に不良ビットが含まれているものとする。For the sake of simplicity, let's assume that the memory cell array is divided into two blocks, and that columns 10 and 10 in the first block (second block). (Assume that 10 bits include a defective bit.
この場合、第1(第2)のブロックに関して、当該コラ
ムに対応するヒユーズ素子22.(22□)、データ線
D1(0□)に対応するスイッチ23のヒユーズ素子F
、(F、)、データ線DX+ (DXz) ニ対応すル
スイッチ23Xのヒユーズ素子P+(Ft)、当該デコ
ード線に対応するスイッチ24のヒユーズ素子Fl(P
K)、データ線口、。(010)に対応するスイッチ2
5のヒユーズ素子p+(pg)、および、データ線DX
++(DXz。)に対応するスイッチ25Xのヒユーズ
素子p+(pz)をそれぞれレーザ等で切断する。In this case, regarding the first (second) block, the fuse element 22 .corresponding to the column concerned. (22□), fuse element F of switch 23 corresponding to data line D1 (0□)
, (F,), data line DX+ (DXz) D, fuse element P+ (Ft) of the corresponding switch 23X, fuse element Fl (P) of the switch 24 corresponding to the decode line
K), data line entrance. Switch 2 corresponding to (010)
No. 5 fuse element p+ (pg) and data line DX
The fuse elements p+ (pz) of the switch 25X corresponding to ++ (DXz.) are each cut with a laser or the like.
これによって不良ビットを含むコラム10. (10,
)は非活性状態となり、一方、相補データ線り、、OX
。This results in column 10 containing the defective bit. (10,
) are inactive, while the complementary data lines, , OX
.
(D21口xりはスイッチ23.23Xを介して冗長コ
ラム側の相補データ線り1OXに接続され、さらにスイ
ッチ25.25Xとエミッタフォロワ26.26Xを介
して相補データ線D+o、DX+o(Dye、DXto
)ニ接続すレル(7) テ、冗長コラム11が活性状態
となる。つまり、第1および第2のブロックにおいてそ
れぞれ不良コラム101.10□が冗長コラム11と置
き換えられ、不良セル全て(この場合には2ビット)が
救済される。(The D21 port is connected to the complementary data line 1OX on the redundant column side via the switch 23.23X, and is further connected to the complementary data line D+o, DX+o (Dye, DXto
) 2 connection rail (7) TE, the redundant column 11 becomes active. That is, in the first and second blocks, the defective columns 101, 10□ are respectively replaced with redundant columns 11, and all defective cells (2 bits in this case) are relieved.
このように本実施例の構成によれば、セルアレイブロッ
ク毎にそれぞれ正規のコラムと冗長コラムの切り換え接
続を行うようにしている。従って、セルアレイブロック
単位で冗長を行う従来の方式では前述したように冗長が
不可能となる場合があったものが、メモリに設けられる
冗長セルの数が同じ場合には、従来形に比して不良セル
の救済をより効率良く行うことができる。その結果、歩
留りを大幅に向上させることが可能となる。As described above, according to the configuration of this embodiment, switching connections between regular columns and redundant columns are performed for each cell array block. Therefore, although the conventional method of providing redundancy in units of cell array blocks sometimes made redundancy impossible as described above, when the number of redundant cells provided in the memory is the same, compared to the conventional method, Defective cells can be repaired more efficiently. As a result, it becomes possible to significantly improve the yield.
なお、上述した実施例では複数のブロックに分割された
メモリセルアレイにおいて各ブロック毎に、それぞれ冗
長コラム(セル列)と正規のコラム(セル列)の切り換
え接続を行うように構成したが、本発明の要旨からも明
らかなように冗長の方式はそれに限定されない。In the above-described embodiment, the memory cell array is divided into a plurality of blocks, and each block is configured to switch between redundant columns (cell rows) and regular columns (cell rows). As is clear from the summary, the redundancy method is not limited to this.
例えば、冗長セル列を各ブロック毎に設ける際、各ブロ
ックにおいて分割された正規のコラムに対して設けるの
ではなく、各ブロックにおいてワード線方向のセル列に
対して設け、それによって各ブロック毎にそれぞれ冗長
ロウ(セル列)と正規のロウ(セル列)の切り換えを行
うように構成してもよい、但しこの場合には、ヒユーズ
素子と抵抗器からなる情報記憶回路(第4図参照)には
、不良ビットが属するワード線のアドレス情報が書き込
まれる。For example, when providing redundant cell rows for each block, instead of providing them for the regular columns divided in each block, they are provided for the cell rows in the word line direction in each block. It may be configured to switch between redundant rows (cell rows) and regular rows (cell rows), but in this case, the information storage circuit (see Figure 4) consisting of fuse elements and resistors is written with the address information of the word line to which the defective bit belongs.
以上説明したように本発明によれば、複数に分割された
セルアレイブロック毎に正規セル列と冗長セル列の切り
換え接続を行うことにより、不良セルの救済を従来に比
してより効率良く行うことができる。これは歩留りの向
上に寄与するものであり、この効果は、メモリ容量が増
大すればする程より一層顕著に現れる。As explained above, according to the present invention, defective cells can be repaired more efficiently than before by switching and connecting normal cell columns and redundant cell columns for each cell array block divided into a plurality of parts. Can be done. This contributes to improving yield, and this effect becomes more pronounced as the memory capacity increases.
第1図は本発明による半導体メモリ装置の原理ブロック
図、
第2図は本発明の一実施例としての半導体メモリ装置の
構成を示す回路図、
第3図は第2図におけるコラム部の構成を示す回路図、
第4図は第2図におけるスイッチの構成を示す回路図、
第5図は第2図におけるエミッタフォロワの構成を示す
回路図、
第6図は従来形における冗長方式の一例を説明するため
の構成図、
である。
(符号の説明)
1、〜1m・・・(セルアレイ)ブロック、2、〜2n
・・・正規セル列、
31〜3m・・・冗長セル列、
4、〜4−・・・情報記憶回路、
51〜5−・・・スイッチング回路。
第2図にお1フるスイッチの構成を示す回路図第4図
第2図におけるエミッタフォロワの構成を示す回路図案
図FIG. 1 is a principle block diagram of a semiconductor memory device according to the present invention, FIG. 2 is a circuit diagram showing the configuration of a semiconductor memory device as an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a diagram showing the configuration of a column section in FIG. 4 is a circuit diagram showing the configuration of the switch in FIG. 2, FIG. 5 is a circuit diagram showing the configuration of the emitter follower in FIG. 2, and FIG. 6 explains an example of the conventional redundancy system. This is the configuration diagram for doing this. (Explanation of symbols) 1, ~1m... (cell array) block, 2, ~2n
... Regular cell row, 31-3m... Redundant cell row, 4, -4-... Information storage circuit, 51-5-... Switching circuit. Figure 2 is a circuit diagram showing the configuration of the switch shown in Figure 4. A circuit diagram showing the configuration of the emitter follower in Figure 2.
Claims (1)
セルアレイであって、各ブロックがそれぞれ複数の正規
セル列(2_l〜2_n)からなるものと、前記複数の
ブロックの各個に対応して設けられた複数の冗長セル列
(3_l〜3_m)と、前記複数のブロックの各個に対
応して設けられ、不良ビットが属するワード線またはコ
ラム線のアドレス情報が予め書き込まれている情報記憶
回路(4_l〜4_m)をそれぞれ備えた複数のスイッ
チング回路(5_l〜5_m)とを具備し、 該複数のスイッチング回路における各情報記憶回路の内
容に基づきそれぞれ対応するブロック毎に正規セル列と
冗長セル列の切り換え接続を行うようにしたことを特徴
とする半導体メモリ装置。 2、前記情報記憶回路は前記複数の正規セル列と同じ数
だけヒューズ素子を含み、前記不良ビットを指示するア
ドレス情報はいずれか1つのヒューズ素子を切断するこ
とにより規定されることを特徴とする請求項1に記載の
半導体メモリ装置。[Claims] 1. A semiconductor memory device with a multi-bit input/output configuration, comprising a memory cell array divided into a plurality of blocks (1_l to 1_m), each block having a plurality of regular cell rows (2_l to 1_m). ~2_n), a plurality of redundant cell columns (3_l to 3_m) provided corresponding to each of the plurality of blocks, and a plurality of redundant cell columns (3_l to 3_m) provided corresponding to each of the plurality of blocks to which the defective bit belongs. A plurality of switching circuits (5_l to 5_m) each including an information storage circuit (4_l to 4_m) in which address information of a word line or a column line is written in advance, each information storage circuit in the plurality of switching circuits. 1. A semiconductor memory device characterized in that a normal cell column and a redundant cell column are switched and connected for each corresponding block based on the contents of the cell column. 2. The information storage circuit includes the same number of fuse elements as the plurality of regular cell columns, and the address information indicating the defective bit is defined by cutting any one fuse element. The semiconductor memory device according to claim 1.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1287442A JPH03150798A (en) | 1989-11-06 | 1989-11-06 | Semiconductor memory device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1287442A JPH03150798A (en) | 1989-11-06 | 1989-11-06 | Semiconductor memory device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03150798A true JPH03150798A (en) | 1991-06-27 |
Family
ID=17717377
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1287442A Pending JPH03150798A (en) | 1989-11-06 | 1989-11-06 | Semiconductor memory device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03150798A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4758229B2 (en) * | 2003-07-15 | 2011-08-24 | エルピーダメモリ株式会社 | Semiconductor memory device |
-
1989
- 1989-11-06 JP JP1287442A patent/JPH03150798A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4758229B2 (en) * | 2003-07-15 | 2011-08-24 | エルピーダメモリ株式会社 | Semiconductor memory device |
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