JPH03150382A - Preparation of organosilicone compound - Google Patents
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、オルガノシリコン化合一物、特にポリカルボ
シラン化合物を合成する電気化学的方法に関するもので
ある。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application] The present invention relates to an electrochemical method for synthesizing organosilicon compounds, particularly polycarbosilane compounds.
こ−で用いられるオルガノシリコン化合物という用語は
、少なくとも1個の有機基がSi−C結合を介して珪素
原子に付いている化合物を表わす。The term organosilicon compound as used herein refers to a compound in which at least one organic group is attached to a silicon atom via a Si--C bond.
これらの化合物は、1個の珪素原子と珪素−炭素結合を
介して珪素原子に結び付いている少なくとも1個の有機
基を持つシランおよびR基を介して結び付いている少な
くとも2個の珪素原子を持つカルボシラン化合物を含む
、但し、Rは二価の炭素または置換されているかSi−
C結合を介して各珪素原子に結び付いてもよい炭化水素
基を表わす、該カルボシランは−般式−Si−R−Si
−のシランおよび一般tR造−(R−Si−)−(但し
、Rは上記のように定義される)の少なくとも2単位を
持つポリカルボシランを含む。These compounds have a silane with one silicon atom and at least one organic group bonded to the silicon atom via a silicon-carbon bond and at least two silicon atoms bonded via an R group. including carbosilane compounds, provided that R is divalent carbon or substituted or Si-
The carbosilane, which represents a hydrocarbon group that may be attached to each silicon atom via a C bond, has the general formula -Si-R-Si
- and polycarbosilanes having at least two units of the general tR structure -(R-Si-)-, where R is defined as above.
Si−CおよびSi−CH2−Si結合は、マグネシウ
ム、ナトリウムおよびリチウムのような金属の使用を伴
うグリニヤ反応または、ウルツ反応を介して通常形成さ
れるにれらの方法は複雑でかつ高価で、その上存在する
かも知れない何らかの官能基を試薬から保護する必要が
ある。Si-C and Si-CH2-Si bonds are usually formed via Grignard or Wurtz reactions involving the use of metals such as magnesium, sodium and lithium. These methods are complex and expensive; Furthermore, it is necessary to protect any functional groups that may be present from the reagent.
電解合成(electrochesical synt
hesis)は知られており、そしてかなり長い間有機
化学で実施されている。最近、トリメチルクロロシラン
を用いる成る化合物のシリル化が電解合成を介して可能
であることが示されている。ショーツ(Shono)ら
(ケミカルレターズ1985.463−466頁)は、
トリメチルクロロシランの存在下でベンジルおよびアリ
ルハライドを還元すると対応するベンジルシランおよび
アリルシランを与えることを示した。彼等はまた1、4
ジクロロブテンを電気的に還元すると1.4ビス(トリ
メチルシリル)ブテンを与えることを示している。ビー
・ポンス(P、 Pons)ら(ジャーナル・オブ・オ
ルガノメタリックケミストリー、1988.31−37
頁)は、トリメチルクロロシランを用いる四塩化炭素、
クロロホルムおよび塩化メチレンの電気的還元により、
電気防食用電極(sacrificial elect
rode)の存在下で対応するトリメチルシリル置換化
合物を与えることを開示している。彼等はまたトリメチ
ルクロロシランを用いるトリメチルクロロメチルシラン
の電気的還元により、ヘキサメチルシリメチレンを与え
ることを例示している。electrochemical synthesis
hesis) is known and has been practiced in organic chemistry for quite some time. Recently, it has been shown that the silylation of compounds using trimethylchlorosilane is possible via electrosynthesis. Shono et al. (Chemical Letters 1985, pp. 463-466)
We have shown that reduction of benzyl and allyl halides in the presence of trimethylchlorosilane gives the corresponding benzylsilanes and allylsilanes. They are also 1, 4
It is shown that electrolytic reduction of dichlorobutene gives 1.4 bis(trimethylsilyl)butene. Pons et al. (Journal of Organometallic Chemistry, 1988.31-37)
page) is carbon tetrachloride using trimethylchlorosilane,
By electroreduction of chloroform and methylene chloride,
sacrificial electrode
rode) to give the corresponding trimethylsilyl-substituted compounds. They also illustrate the electroreduction of trimethylchloromethylsilane using trimethylchlorosilane to give hexamethylsilymethylene.
我々は今、ジハロシラン、トリ八ロシラン、テトラハロ
シラン、または八ロカルボハロシランを使用することに
より上に定義されるようなオルガノシリコン化合物の製
造に電解合成を用いることが可能であることを見出した
。We have now found that it is possible to use electrosynthesis for the production of organosilicon compounds as defined above by using dihalosilanes, trihalosilanes, tetrahalosilanes, or octalocarbohalosilanes. Ta.
本発明によれば、一般式−RX(式中、Rは二価の炭素
または置換されてもよい炭化水素化合物を表し、Xはハ
ロゲン原子である)の置換基を持つ化合物(I)を、
一般式
%式%)
(式中、R′は水素、炭化水素基、H,Cおよび0原子
、S原子および/またはP原子を含む基、ならびにC,
HおよびN原子さらに所望によりO原子(但し、Nはア
ミノ基の部分を生成しない)からなる基、XとRは上に
定義されるとおりであり、aは1.2.3または4の値
を持ち、bは0.1.2または3の値を持ち、かつa
+ bは2.3または4の値を持つ)のシラン(II)
の存在下において、
電気的還元に付すことにより、Si−C結合を介して珪
素原子に結び付いた少なくとも1個の珪素−結合した有
機基を持つオルガノシリコン化合物を製造する方法が提
供される。According to the present invention, a compound (I) having a substituent of the general formula -RX (wherein R represents a divalent carbon or an optionally substituted hydrocarbon compound, and X is a halogen atom), General formula % formula %) (wherein R' is hydrogen, a hydrocarbon group, a group containing H, C and 0 atoms, S atom and/or P atom, and C,
a group consisting of H and N atoms and optionally O atoms (provided that N does not form part of an amino group), X and R are as defined above, and a has a value of 1.2.3 or 4; , b has a value of 0.1.2 or 3, and a
+ b has a value of 2.3 or 4) silane(II)
A method is provided for producing organosilicon compounds having at least one silicon-bonded organic group attached to a silicon atom via a Si-C bond by subjecting the compound to electroreduction in the presence of .
本発明の方法に用いられる化合物(I)は、ハロゲン置
換された炭素原子を持ついかなる化合物であってもよい
、ハロゲン原子は好ましくは塩素、臭素または沃素であ
るが、後者が最も反応性である。しかしながら、工業的
入手およびコスト目的のためには塩素と臭素が好ましい
、ハロゲン原子は純粋に有機であってもよい化合物また
は有機と無機の両方の部分を持つ化合物であってもよい
化合物、例えばオルガノシリコン化合物もしくはオルガ
ノゲルマニウム化合物に結合している。ハロゲン原子が
結合されているR基は、二値の炭素または置換された炭
化水素基である。炭素基は例えばアセチレンおよび1.
3ブタジ仁レンを含む。The compound (I) used in the process of the invention may be any compound with a halogen-substituted carbon atom, the halogen atom being preferably chlorine, bromine or iodine, the latter being the most reactive. . However, for industrial availability and cost purposes chlorine and bromine are preferred; halogen atoms are used in compounds which may be purely organic or which may have both organic and inorganic parts, e.g. Bonded to silicon or organogermanium compounds. The R group to which the halogen atom is attached is a binary carbon or substituted hydrocarbon group. Carbon groups include, for example, acetylene and 1.
Contains 3 butadiene.
炭化水素R基はメチレン基から非常に大きな炭化水素基
まで変わり得る。これらは飽和アルキレン基、例えば、
エチレン、イソプロピレン、ヘキシレンおよびオクタデ
シレン、不飽和脂肪族基、例えば、アルケニレンまたは
アルキニレン、例えばビニレン、プロペニレン、ブタジ
エニレン、ヘキシニレンープ口ビニレンおよび1.4オ
クタデセニレン、芳香族基、例えば、フェニレン、ベン
ジレン、トリレンおよびフェニルエチレンであってもよ
い、置換炭化水素基は、炭素原子が反応条件下で化合物
(l[)のハロゲン基と反応しない何らかの基であって
もよい1個または2個以上の置換基を持つものである。Hydrocarbon R groups can vary from methylene groups to very large hydrocarbon groups. These are saturated alkylene groups, e.g.
Ethylene, isopropylene, hexylene and octadecylene, unsaturated aliphatic groups such as alkenylene or alkynylene such as vinylene, propenylene, butadienylene, hexynylene, vinylene and 1.4 octadecylene, aromatic groups such as phenylene, benzylene, tolylene and phenyl A substituted hydrocarbon group, which may be ethylene, has one or more substituents, which may be any group in which the carbon atom does not react with the halogen group of compound (l[) under the reaction conditions. It is.
これらの置換基は弗素、シアノ基、ニトロ基、オキシエ
チレン基、シリル基、シロキサン基、カルボシリル基を
含む、このような置換炭化水素基の例はへキサフルオロ
10ピレン、オキシエチレンオキシプロピレン置換基、
アセチル置換基、エーテル置換基およびエステル置換基
を含む、R基は、芳香族的に不飽和の、脂肪族的に不飽
和の、または脂肪族的に飽和の炭化水素、例えば、ベン
ジレン、プロペニレン、イソペンチレン、ブチレン、プ
ロピレン、エチレンまたはフェニレンであるのが好まし
い、メチレンおよびビニレンが最も好ましい、R基は何
かの原子または基に対して反対側に結合されてもよい、
これらは例えばハロゲン原子、炭化水素基、オルガノシ
リコン基、オルガノ官能基、例えば硫黄含有量、燐含有
基およびハロゲン原子さえも含む、R基は水素原子また
はハロゲン原子に対してX基から反対側に結合されるの
が好ましい、化合物(I)の例は、カルボハライド例え
ばメチルハライド、例えば塩化メチル、二塩化メタン、
ベンジルハライド、例えば塩化ベンジル、フェニルハラ
イド、ビニルハライド、1.4ジクロロ2−ブテン、ジ
ブロモエチレン、1.2.とスークロロメチルベンゼン
、シラン、例えばトリメチルクロロメチルシラン、ジメ
チルクロロメチルクロロシラン、シロキサン、例えば
一般式 04−−−F S iRx(CHzX )?(
式中、R′は上に定義されるとおりであるが、好ましく
は水素、炭化水素、例えばアルキル、アリール、アルケ
ニルもしくはアルカリールまたは(,Hおよび所望によ
りNまたは0原子を含む基であり、Xは0.1または2
の値を持ち、yはl、2または3の値を持ち、かつx十
yは3より小さい、)の少なくとも−単位と存在すれば
平均式(式中、R′は上に定義されたとおりであり、且
つ2はO、■、2または3の値を持つ、)を持つ他の単
位とを持つシロキサン、
または一般式
%式%)
(式中、R,R”およびyは上に定義されるとおりであ
る)の少なくとも−単位を持つシロキサンを含む、反応
生成物の性質を制御するのが難しいのでシロキサンは避
けるのが好ましい。These substituents include fluorine, cyano, nitro, oxyethylene, silyl, siloxane, carbosilyl; examples of such substituted hydrocarbon groups are hexafluoro-10pyrene, oxyethyleneoxypropylene substituents,
The R group, including acetyl substituents, ether substituents and ester substituents, can be aromatically unsaturated, aliphatically unsaturated or aliphatically saturated hydrocarbons such as benzylene, propenylene, Preferably isopentylene, butylene, propylene, ethylene or phenylene, most preferably methylene and vinylene, the R group may be attached oppositely to any atom or group,
These include, for example, halogen atoms, hydrocarbon groups, organosilicon groups, organofunctional groups such as sulfur-containing, phosphorus-containing groups and even halogen atoms, with the R group opposite from the X group relative to the hydrogen or halogen atom. Examples of compounds (I) which are preferably combined are carbohalides such as methyl halides, such as methyl chloride, methane dichloride,
Benzyl halides, such as benzyl chloride, phenyl halide, vinyl halide, 1.4 dichloro-2-butene, dibromoethylene, 1.2. and suchloromethylbenzene, silanes such as trimethylchloromethylsilane, dimethylchloromethylchlorosilane, siloxanes such as general formula 04--FSiRx(CHzX)? (
where R' is as defined above but is preferably hydrogen, a hydrocarbon such as an alkyl, aryl, alkenyl or alkaryl or a group containing (,H and optionally N or 0 atoms, is 0.1 or 2
, y has a value of l, 2, or 3, and x + y is less than 3) and, if present, the average formula and 2 has the value O, It is preferred to avoid siloxanes as it is difficult to control the properties of the reaction products, including siloxanes having at least - units of (as described above).
本発明の方法に用いられる化合物(II)は少なくとも
2個のハロゲンを含み、少なくともその1個が珪素結合
したハロゲン原子である置換基を持つシランである。沃
素は最も反応性のハロゲンであるが、工業的入手および
コスト的理由のために塩素および臭素原子が好ましい、
珪素結合しているハロゲン原子は何れも、化合物(I)
に関して上に定義されるようなR基を介して珪素には結
合していない、これらのハロゲン含有置換基の例はハロ
アルキル、例えばクロロメチル、夕ロロイソプ口ピル、
ブロモヘプチル、八ロアルケニル、例えばクロロビニル
、ブロモプロペニル、八ロアリール基、例えばクロロフ
ェニルおよびブロモベンジルである。ハロゲンを含まな
い置換基R′は存在する場合、水素、炭化水素基、例え
ばアルキル、アリール、アルカリール、アルアルキル、
アルケニ。Compound (II) used in the method of the present invention is a silane having a substituent containing at least two halogens, at least one of which is a silicon-bonded halogen atom. Iodine is the most reactive halogen, but chlorine and bromine atoms are preferred for industrial availability and cost reasons.
Any silicon-bonded halogen atom is compound (I)
Examples of these halogen-containing substituents which are not bonded to the silicon via an R group as defined above for are haloalkyl, such as chloromethyl,
Bromoheptyl, octoalkenyl such as chlorovinyl, bromopropenyl, octoaryl groups such as chlorophenyl and bromobenzyl. The halogen-free substituents R′, if present, include hydrogen, hydrocarbon groups such as alkyl, aryl, alkaryl, aralkyl,
Arkeni.
ル、アルキニル、C,HおよびO原子含有基例えばカル
ボキシル基含有基、C=0含有基、アルデヒド含有基お
よびエポキシ含有基、エーテル含有基、硫黄含有基また
はC,HおよびN原子含有基(但し、Nはアミノ基の部
分を形成しない)、例えばシアノ基含有置換基およびN
O基含有置換基を含む、このような基の例はメチル、
エチル、プロピル、フェニル、フェニルエチル、トリル
、ビニル、アリル、ヘキセニル、エチニル、ブタジ仁ル
、ステアリル、ラウリル、エトキシ、メトキシ、ポリオ
キシエチルおよびベンジルである。好ましくは、R′は
水素、アルキルまたはアリール、最も好ましくは、メチ
ルまたはフェニルである。alkynyl, C, H and O atom-containing groups such as carboxyl group-containing groups, C=0-containing groups, aldehyde-containing groups and epoxy-containing groups, ether-containing groups, sulfur-containing groups or C, H and N atom-containing groups (but , N does not form part of an amino group), e.g. cyano group-containing substituents and N
Examples of such groups containing O group-containing substituents are methyl,
Ethyl, propyl, phenyl, phenylethyl, tolyl, vinyl, allyl, hexenyl, ethynyl, butadienyl, stearyl, lauryl, ethoxy, methoxy, polyoxyethyl and benzyl. Preferably R' is hydrogen, alkyl or aryl, most preferably methyl or phenyl.
a+bの値は2に等しいことが好ましい、但し、2個の
R′基は上に述べたような置換基を独立に表わす、aお
よびbに対する値は1と1であるか別々にiと0である
のが好ましい、化合物(II)の例としては、ジメチル
ジクロロシラン、ジメチルクロロメチルクロロシラン、
メチルトリクロロシラン、カルボキシメチルトリクロロ
シラン、フェニルメチルジクロロシラン、ジフェニルジ
クロロシラン、メチルシアノプロピルジクロロシラン、
メチルジクロロシラン、ジクロロシラン、メチルビス(
クロロメチル)クロロシランおよびメチルグリシドキシ
プロビルクロロメチルクロロシランを含む。Preferably, the value of a+b is equal to 2, provided that the two R' groups independently represent substituents as mentioned above, and the values for a and b are 1 and 1 or separately i and 0. Examples of compound (II) which is preferably dimethyldichlorosilane, dimethylchloromethylchlorosilane,
Methyltrichlorosilane, carboxymethyltrichlorosilane, phenylmethyldichlorosilane, diphenyldichlorosilane, methylcyanopropyldichlorosilane,
Methyldichlorosilane, dichlorosilane, methylbis(
chloromethyl)chlorosilane and methylglycidoxyprobylchloromethylchlorosilane.
合成したいと思うオルガノシリコン化合物により、ある
定まったタイプの化合物(I)および(II)が選択さ
れるべきである。追加の化合物も加えてよい、本発明の
方法により作られるオルガノシリコン化合物はシランを
含む、もしく【)が構造中に珪素原子を持たない純粋に
有機の化合物であれば、そしてもし1個のーRX基だけ
が(I)に存在するならば、或いはもし2個以上のRX
基が(I)に存在し、(n)の過剰量だけが(I)の1
個の−RX基と反応するように供給されるならば、シラ
ンが製造されるであろう、生じたシランは、例えばメチ
ルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、トリメ
チルクロロシラン、テトラメチルシラン、クロロメチル
トリメチルシラン、クロロメチルジメチルブチルシラン
、ジブロモビニルジメチルシラン等を含む、上に定義さ
れたカルボシランは、2個以上のーRX基を持つ化合1
11(I)または式XRXの化合物(I)と、これらの
−RX基の少なくとも2個またはRに結合されたX原子
と反応するのに十分な量の化合物(II)との電解反応
により、或いは−RX基1個だけをもつ化合物(I)を
2個以上の珪素結合したハロゲン原子をもつ化合物(I
I)と一緒に供給することにより、或いはこれと同しで
あってもよい化合物(ff)との反応のために、例えば
1個の−RX基と1個のSiX基をもつ珪素を含有する
化合物(I)を供給することにより製造される。一般に
、化合物(II)におけるa+bの値が大抵の場合には
生じたカルボシランの一般的性質を決めるであろう、a
+bが2の場合には、このような化合物(II)を用い
ると生じたオルガノシリコン化合物の鎖長を延ばすであ
ろう、一方、もしa十すが3または4の値を持つならば
、ある場合にはオルガノシリコン化合物に三次元#I造
に−至る多少の分岐を生ずるであろう、a+bが2の化
合物(II)とa+bが3または4の化合物(II)と
の混合物は、基本的には多少の分岐を持つ線状のカルボ
シランになる。これに対して3または4の値を持つ化合
物(II)の量が増加すると、分岐の量が増えて、結局
は樹脂型のカルボシラン反応生成物になるであろう。Depending on the organosilicon compound one wishes to synthesize, certain types of compounds (I) and (II) should be selected. Additional compounds may also be added, if the organosilicon compounds made by the method of the invention contain silanes, or if [) is a purely organic compound without silicon atoms in its structure, and if one -If only RX groups are present in (I), or if more than one RX group
group is present in (I) and only the excess of (n) is 1 of (I)
If fed to react with -RX groups, silanes will be produced; the resulting silanes are e.g. Carbosilanes as defined above, including chloromethyldimethylbutylsilane, dibromovinyldimethylsilane, etc.
11(I) or a compound (I) of formula XRX with an amount of compound (II) sufficient to react with at least two of these -RX groups or with the Alternatively, the compound (I) having only one -RX group is converted into a compound (I) having two or more silicon-bonded halogen atoms.
I) containing, for example, one -RX group and one SiX group for reaction with a compound (ff) which may be supplied together with or identical to It is produced by supplying compound (I). In general, the value of a+b in compound (II) will determine in most cases the general properties of the resulting carbosilane, a
If +b is 2, the use of such a compound (II) will increase the chain length of the resulting organosilicon compound, while if a + has a value of 3 or 4, then A mixture of a compound (II) with a + b of 2 and a compound (II) with a + b of 3 or 4, which in some cases will give rise to some branching in the organosilicon compound leading to a three-dimensional #I structure, is basically becomes a linear carbosilane with some branching. On the other hand, increasing the amount of compound (II) with a value of 3 or 4 will increase the amount of branching and ultimately result in a resin-type carbosilane reaction product.
望ましいカルボシラン化合物の性質により、化合物(I
)および(II)のそれぞれの同一タイプを一緒に反応
させてもよいし、あるいは化合物(I)および/または
化合物(II)の異なるタイプの混合物を一緒に反応さ
せてもよい、化合物(I)および化合物(n)に対して
、同じ試薬、例えば1個または2111以上の珪素結合
したハロゲン原子および1個または2個以上のーRX基
を持つシランを用いることも出来る。例えば、化合物(
I)と(II)の両方の定義に入るクロロメチルクロロ
シランはお互いに反応し得る。このような反応は、一般
式[S i (R)z CHt ]−なる繰返し単位を
持つポリカルボシランを生成する。これらの化合物は線
状もしくは環状または線状および環状のオルガノシリコ
ン化合物の混合物であってもよい、線状のポリカルボシ
ランが望ましい時には、他の化合物、例えば式R3Si
X(式中、R′とXとは上に定義されたとおりである)
のシランであってもよい、末端封止剤を加えることが好
ましい、例えば、一般式R[S i(R”>2−R]、
S ;R”3を持つ線状のポリマーを得るためには、試
薬は化合物(I)および(ff)だけでなく、望ましい
饋長のポリマーの末端封止剤として働くのに十分な量の
一般式R”、SiX なるシランを含むべきである。Depending on the properties of the desired carbosilane compound, the compound (I
) and (II) may be reacted together, or mixtures of different types of compound (I) and/or compound (II) may be reacted together. It is also possible to use the same reagents for and compound (n), for example silanes with one or more silicon-bonded halogen atoms and one or more -RX groups. For example, the compound (
Chloromethylchlorosilanes falling under both definitions I) and (II) can react with each other. Such a reaction produces a polycarbosilane having repeating units of the general formula [S i (R)z CHt ]-. These compounds may be linear or cyclic or mixtures of linear and cyclic organosilicon compounds; when linear polycarbosilanes are desired, other compounds, such as formula R3Si
X (where R' and X are as defined above)
It is preferred to add an end-capping agent, which may be a silane of, for example, the general formula R[Si(R''>2-R],
To obtain a linear polymer with S ; It should include a silane of the formula R'', SiX.
しかしながら、比較的低分子量のものを、例えば通常の
重合技術を用いてより高分子量物質のための前駆体とし
て用いられてもよい2個または3個の珪素原子を持つポ
リカルボシランを作るのが好ましい。However, it is possible to make relatively low molecular weight ones, such as polycarbosilanes with two or three silicon atoms, which may be used as precursors for higher molecular weight materials using conventional polymerization techniques. preferable.
反応はどんな方法でも陰極と陽極とを持つ電解槽を用い
て行ってよい、電解槽は単室電解槽でもよいが、膜例え
ば焼結ディスクで分離されている2室を持つのが好まし
い、電解槽には電流の電位または強度を調節するために
ポテンシオスタットおよび/またはカルバッスタットが
付いている。The reaction may be carried out in any manner using an electrolytic cell having a cathode and an anode; the electrolytic cell may be a single-chamber cell, but preferably has two chambers separated by a membrane, e.g. The bath is equipped with a potentiostat and/or a calvastat to adjust the potential or intensity of the current.
陰極として用いてもよい電極即ち実用的な電極は好まし
くは金、銀または白金のような不活性金属で作られ、最
も好ましくは銀または相当に不活性な他の金属もしくは
合金、例えばステンレススチールで作られる、一方、対
電極(陽極)も不活性であるかある程度は電気防食的で
あってもよい。The electrodes which may be used as cathodes or practical electrodes are preferably made of inert metals such as gold, silver or platinum, most preferably of silver or other fairly inert metals or alloys, such as stainless steel. However, the counter electrode (anode) may also be inert or sacrificial to some extent.
対電極の選択は時には所望の反応次第である。ある場合
には比教的不活性な対電極が好ましいが、一方、他の場
合には電気防食用電極がよく機能する。対電極の製造に
用いられる金属は例えばC、A1.pt−Ni−Znお
よびM、を含み、Cは不活性電極として特に好ましく、
かつAlは電気防食用電極として特に好ましい。The choice of counter electrode sometimes depends on the desired reaction. In some cases a sacrificial inert counter electrode is preferred, while in other cases a sacrificial electrode works well. The metals used for manufacturing the counter electrode are, for example, C, A1. pt-Ni-Zn and M, with C being particularly preferred as an inert electrode;
And Al is particularly preferable as an electrode for cathodic protection.
錯化剤を電気防食用電極と一緒に用いるのが好ましい、
錯化剤の使用は生じたルイス酸の触媒活性を打ち消す、
ルイス酸、例えばAICI、は例えばテトラメチルシラ
シクロブタンおよび本発明による方法に溶媒として適当
なテトラヒドロフランすらの開環用に知られた触媒であ
る。適当な錯化剤は当業者に知られており、トリス(ジ
オキサ−3,6へブチル)アミンおよびヘキサメチルホ
スホルアミドを含む。Preferably, the complexing agent is used together with the sacrificial electrode,
The use of a complexing agent counteracts the catalytic activity of the resulting Lewis acid,
Lewis acids, such as AICI, are known catalysts for the ring opening of eg tetramethylsilacyclobutane and even tetrahydrofuran, which are suitable as solvents for the process according to the invention. Suitable complexing agents are known to those skilled in the art and include tris(dioxa-3,6 hebutyl)amine and hexamethylphosphoramide.
電解槽は、商業的に入手可能でありかつ試薬に使われた
溶媒に可溶なもののどれでもよいところの電解質の溶液
で満たされている。これらの電解質は、一般式MY−(
式中、Mは例えばLi、Na、NBu、、N M e
4、NEtnを表し、かつYは例えばCIO,、CI−
Br、I 、NO3、BF、、AsF、、BPh、、P
F、、AIC1,、CF、So3、およびSCN (但
し、Bu、Me、Et、およびphはそれぞれブチル、
メチル、エチル、およびフェニル基を表わす)を表わす
1の塩である。適当な電解質の例はテトラブチルアンモ
ニウム−P−)ルエンスルホン酸、テトラブチルアンモ
ニウムへキサフルオロホスフェート、テトラブチルアン
モニウムブロミド、テトラエチルアンモニウムテトラフ
ルオロボレート、塩化リチウムおよび塩化マグネシウム
を含む。The electrolytic cell is filled with a solution of any electrolyte that is commercially available and soluble in the solvent used for the reagents. These electrolytes have the general formula MY-(
In the formula, M is, for example, Li, Na, NBu, NM e
4, represents NEtn, and Y is, for example, CIO,, CI-
Br, I, NO3, BF,, AsF,, BPh,, P
F,, AIC1,, CF, So3, and SCN (where Bu, Me, Et, and ph are butyl,
1 representing methyl, ethyl, and phenyl groups. Examples of suitable electrolytes include tetrabutylammonium-P-)luenesulfonic acid, tetrabutylammonium hexafluorophosphate, tetrabutylammonium bromide, tetraethylammonium tetrafluoroborate, lithium chloride and magnesium chloride.
試薬および電解質の両方を溶解する溶媒が通常用いられ
る。適当な溶媒は試薬が濃度および温度の運転条件下で
少なくとも部分的に可溶であるものである。これらはテ
トラヒドロフラン、アセトニトリル、γ−ブチロラクト
ン、ニトロメタンと一緒のジメトキシエタン、1.3ジ
オキソラン、液体S02、トリメチル尿素およびジメチ
ルホルムアミドを含む。Solvents that dissolve both reagents and electrolytes are typically used. Suitable solvents are those in which the reagents are at least partially soluble under the operating conditions of concentration and temperature. These include tetrahydrofuran, acetonitrile, gamma-butyrolactone, dimethoxyethane with nitromethane, 1.3 dioxolane, liquid S02, trimethylurea and dimethylformamide.
電解反応は強度を予め測定したレベルに一定に保持する
ことにより、またはサイクリックボルタメトリーにより
定められた一定の電位を維持することにより行ってもよ
い、標準的電解手法が本発明の方法に適用し得る。The electrolytic reaction may be carried out by keeping the intensity constant at a predetermined level or by maintaining a constant potential determined by cyclic voltammetry; standard electrolytic techniques are applicable to the method of the invention. It is possible.
次に本発明を例証する多数の実施例を掲げる。 A number of examples are presented below to illustrate the invention.
ここでは特に断りのない限り、全べての部およびパーセ
ントは重量で表わされる。All parts and percentages herein are by weight, unless otherwise specified.
え1」ユ
窒素の供給口、撹拌および空気冷却系を備えた一区画電
解槽に、テトラブチルアンモニウムへキサフルオロホス
フェート0.2 モルのテヒドロフラン溶液50iZお
よびクロロメチルジメチルクロロシラン8,5gを仕込
んだ、125mAの一定の電流密度が、陽極としてアル
ミニウムのフォイルおよび陰極として銀線を用いるガル
バノスタット/ポテンシオスタットを介して施された。1) A one-compartment electrolytic cell equipped with a nitrogen supply port, stirring and air cooling system was charged with 50 iZ of a solution of 0.2 mol of tetrabutylammonium hexafluorophosphate in tetrahydrofuran and 8.5 g of chloromethyldimethylchlorosilane. A constant current density of 125 mA was applied via a galvanostat/potentiostat using an aluminum foil as the anode and a silver wire as the cathode.
この電流はCZC821モル当たり1.9 ファラデー
を施すために22時間の間施された。反応生成物の混合
物が得られて、これはガスクロマトグラフィ/質量分析
により分析されて、約65%が、式[(CH3)2 S
i CHz]zを持ち、約35%が式[(CH,)
、Si−CI、]、を持つ、約50%の環状化合物と、
式
%式%]
(式中、84%はnが3に等しい値を待っていて、約5
ないし8%はnが2.4および5の値を持っていた各々
の化合物であり、かつnが1の値を持っていた微量の化
合物であった)の約50%の線状化合物から成ることが
見出された。This current was applied for 22 hours to provide 1.9 Faradays per mole of CZC82. A mixture of reaction products was obtained which was analyzed by gas chromatography/mass spectrometry and showed that about 65% had the formula [(CH3)2S
i CHz]z, and about 35% have the formula [(CH,)
, Si-CI,], about 50% cyclic compound,
Formula % Formula %] (where 84% is waiting for a value where n is equal to 3, and about 5
~8% were the respective compounds where n had values of 2.4 and 5, and a trace amount of the compound where n had a value of 1) consisted of approximately 50% linear compounds. It was discovered that
支1」ユ
250z&のフラスコに窒素パージ、磁気撹拌棒、凝縮
器および空気冷却装置が備え付けられた。テトラブチル
アンモニウムへキサフルオロホスフェート0.2モルの
テトラヒドロフラン溶液100zlおよび3−クロロプ
ロピルジメチルクロロシラン1511Fが加えられた。A 250 x flask was equipped with a nitrogen purge, magnetic stirring bar, condenser and air cooling system. 100 zl of a 0.2 molar solution of tetrabutylammonium hexafluorophosphate in tetrahydrofuran and 1511 F of 3-chloropropyldimethylchlorosilane were added.
電解反応は、362型ポテンシオスタット・ガルバノス
タットを用いて行われた。陰極は銀線(長さ5cmおよ
び直径0.25mid)であって、陽極は4枚のアルミ
ニウム片(3,5xO,01cm)であった。一定の電
流が温度23℃で25時間の間(ジラフ1モル当たり2
.5 ファラデーを与える)施された。生じた反応混合
物はガスクロマトグラフィー/質量分析により分析され
た。83.7%は1.1−ジメチル−1−シラシクロブ
タン、8.1%は未反応の3−クロロプロピルジメチル
クロロシランおよび7.9%はプロピルジメチルクロロ
シランであった。Electrolytic reactions were carried out using a 362 potentiostat-galvanostat. The cathode was a silver wire (5 cm length and 0.25 mid diameter) and the anode was 4 pieces of aluminum (3.5 x O, 01 cm). A constant current is applied for 25 hours at a temperature of 23°C (2 per mole of Giraffe).
.. 5 Faraday) applied. The resulting reaction mixture was analyzed by gas chromatography/mass spectrometry. 83.7% was 1.1-dimethyl-1-silacyclobutane, 8.1% was unreacted 3-chloropropyldimethylchlorosilane, and 7.9% was propyldimethylchlorosilane.
え1」ユ
250mlのフラスコに窒素パージ、磁気撹拌棒、凝縮
器および空気冷却装置が備え付けられた。テトラブチル
アルミニウムヘキサフルオロホスフェ−)0.2 モル
のテトラヒドロフラン溶液150mlおよびクロロメチ
ルジメチルクロロシラン25.52が加えられた。電解
反応は、2.8ファラデーが温度30℃でシラン1モル
当たりに施された点を除き、前の実施例のように行われ
た。生じた反応混合物は上記のように分析された。62
.6 %は1.1.3.3−テトラメチル−1,3−ジ
シランシクロブタンおよび31.4 %が1.1.3.
3.5゜5−へキサメチル−1,3,5−)リシラシク
ロヘキサンであった。A 250 ml flask was equipped with a nitrogen purge, magnetic stirring bar, condenser, and air cooling system. 150 ml of a 0.2 molar solution of tetrabutylaluminum hexafluorophosphate in tetrahydrofuran and 25.52 ml of chloromethyldimethylchlorosilane were added. The electrolytic reaction was carried out as in the previous example, except that 2.8 Faradays were applied per mole of silane at a temperature of 30°C. The resulting reaction mixture was analyzed as above. 62
.. 6% is 1.1.3.3-tetramethyl-1,3-disilanecyclobutane and 31.4% is 1.1.3.
It was 3.5°5-hexamethyl-1,3,5-)lysilacyclohexane.
夾Uヨ
250i+fのフラスコに窒素パージ、磁気撹拌棒、凝
縮器および空気冷却装置が備え付けられた。テトラブチ
ルアンモニウムへキサフルオロホスフェ−)0.2 モ
ルのテトラしドロフラン溶液10011および2,2.
0−ジクロロキシレン5.24srおよびジクロロジメ
チルシラン43が加えられた。A 250i+f flask was equipped with a nitrogen purge, magnetic stirring bar, condenser, and air cooling system. Tetrabutylammonium hexafluorophosphate) 0.2 molar tetrahydrofuran solution 10011 and 2,2.
5.24 sr of 0-dichloroxylene and 43 sr of dichlorodimethylsilane were added.
電解反応は4.87 ファラデーが0−ジクロロキシレ
ン1モル当たりに施された点を除き、前の実施例のよう
に行われた。生した反応生成物は水洗されて、ジエチル
エーテルで抽出されて、乾燥されて次いで上記のように
分析された。65%は式%式%
250iNのフラスコに窒素パージ、磁気撹拌棒、凝縮
器および空気冷却装置が備え付けられた。テトラブチル
アンモニウムへキサフルオロホスフェート0.2モルの
テトラヒドロフラン溶液100xl、シス−ジクロロブ
タン3.70gおよびジクロロジメチルシラン4gが加
えられた。電解反応は、2113 ファラデーがシス−
ジクロロブタン1モル当たりに施された点を除き、前の
実施例のように行われた。生じた反応混合物が分析され
て15%のジメチルシラシクロペンテンが示された。The electrolytic reaction was carried out as in the previous example, except that 4.87 Faradays were applied per mole of 0-dichloroxylene. The resulting reaction product was washed with water, extracted with diethyl ether, dried and analyzed as above. 65% Formula % Formula % A 250 iN flask was equipped with a nitrogen purge, magnetic stirring bar, condenser, and air cooling system. 100xl of a 0.2 molar solution of tetrabutylammonium hexafluorophosphate in tetrahydrofuran, 3.70 g of cis-dichlorobutane and 4 g of dichlorodimethylsilane were added. In the electrolytic reaction, 2113 Faraday is cis-
It was carried out as in the previous example, except that it was applied per mole of dichlorobutane. Analysis of the resulting reaction mixture showed 15% dimethylsilacyclopentene.
え11玉
250mlのフラスコに窒素パージ、磁気撹拌棒、凝縮
器および空気冷却装置が備え付けられた。テトラブチル
アンモニウムへキサフルオロホスフェ−)0−2 モル
のテトラしドロフラン溶液100wl、クロロメチルト
リメチルシラン12.5gおよびジクロロメチルシラン
6.5gが加えられた。電解反応は、2.3 ファラデ
ーがクロロメチルトリメチルシラン1モル当たりに施さ
れた点を除き前の実施例のように行われた。生じた反応
混合物が分析されて、25%のビス(トリメチルシラン
)メチルシランが示された。A 250 ml flask was equipped with a nitrogen purge, magnetic stirring bar, condenser, and air cooling system. 100 wl of a 0-2 molar solution of tetrabutylammonium hexafluorophosphate, 12.5 g of chloromethyltrimethylsilane and 6.5 g of dichloromethylsilane were added. The electrolytic reaction was carried out as in the previous example except that 2.3 Faradays were applied per mole of chloromethyltrimethylsilane. The resulting reaction mixture was analyzed to show 25% bis(trimethylsilane)methylsilane.
え11d
シュレンク管に陽極としてアルミニウムの棒(純度99
.5%、直径6.3511)および陰極としてーステン
レススチールのカーゼ(20メツシュー30cm)が備
え付けられた。テトラヒドロフラン14−3ml、テト
ラエチルアンモニウムテトラフルオロホスフェートO−
08y、ヘキサメチルホスホルアミド3.6mlおよび
トリメチルクロロシラン0.1wlの溶液がLoom^
で2時間前電解された。クロロメチルジメチルクロロシ
ラン2.28yが加えられた。電解反応は温度23℃で
10時間の間−定の電流(シラン1モル当たり2.3
ファラデーを与える)を施すことにより行われた。生じ
た反応混合物は濾過されて減圧下でストリップされて1
1.68gの留出物を与えた。E11d An aluminum rod (99 purity) as an anode for the Schlenk tube.
.. 5%, diameter 6.3511) and a stainless steel case (20 meshes 30 cm) as cathode. Tetrahydrofuran 14-3 ml, tetraethylammonium tetrafluorophosphate O-
08y, a solution of 3.6 ml hexamethylphosphoramide and 0.1 wl trimethylchlorosilane is Loom^
Electrolyzed 2 hours ago. 2.28y of chloromethyldimethylchlorosilane was added. The electrolytic reaction was carried out at a temperature of 23 °C for 10 hours at a constant current (2.3 molar per mole of silane).
Faraday). The resulting reaction mixture was filtered and stripped under reduced pressure.
It gave 1.68g of distillate.
ガスクロマトグラフィ/質量分析による分析は69%の
1.1.3.3−テトラメチル−1,3−ジシラシク口
ブタンをもたらした。Analysis by gas chromatography/mass spectrometry yielded 69% of 1.1.3.3-tetramethyl-1,3-disilacyclobutane.
及1」1
実施例7の装置を用いて、クロロプロピルトリクロロシ
ラン4.24gが前の実施例の反応生成物に加えられた
。次いで電気分解は2001^ではゾロ時間続けられた
。3,5時間後、45%のジクロロシラシクロブタンへ
の最大転化率が観測された。and 1''1 Using the apparatus of Example 7, 4.24 g of chloropropyltrichlorosilane was added to the reaction product of the previous example. Electrolysis was then continued for 0 hours in 2001^. After 3.5 hours, a maximum conversion of 45% to dichlorosilacyclobutane was observed.
大111」−
試薬の損失を最小にするために固体の二酸化炭素で冷却
された凝縮器が加えられた点を除き、実施例7の装置が
用いられた。テトラヒドロフラン8−45wlテトラエ
チルアンモニウムテトラフルオロボーレート0.08#
、ヘキサメチルホスホルアミド2.1i+J!、ジクロ
ロメタン6.4mlおよびトリメチルクロロシラン0.
1mlの溶液が50x^、2時間で前電解された¥クロ
ロメチルジメチルクロロシラン3−03yzlが加えら
れた。電解反応は、温度23℃で53時間の間−定の電
流(シラン1モル当たり4ファラデーを与える)を施す
ことにより行われた。生じた反応混合物はガスクロマト
グラフィー/質量分析により分析されて、74%のジメ
チルジクロロメチルシランを与えた。Large 111'' - The apparatus of Example 7 was used, except that a solid carbon dioxide cooled condenser was added to minimize reagent loss. Tetrahydrofuran 8-45wl Tetraethylammonium Tetrafluoroborate 0.08#
, hexamethylphosphoramide 2.1i+J! , 6.4 ml of dichloromethane and 0.0 ml of trimethylchlorosilane.
1 ml of solution was added at 50 x^, 3-03 yzl of pre-electrolyzed \chloromethyldimethylchlorosilane for 2 hours. The electrolytic reaction was carried out by applying a constant current (giving 4 Faradays per mole of silane) for 53 hours at a temperature of 23°C. The resulting reaction mixture was analyzed by gas chromatography/mass spectrometry to give 74% dimethyldichloromethylsilane.
支1」」J
実施例9の装置が用いられた。テトラしドロフラン9.
16zZ、テトラエチルアンモニウムテトラフルオロボ
ーレート0.08g、ヘキサメチルホスホルアミド2.
29d、ジクロロメタン1.28mlおよびトリメチル
クロロシランO,1mlの溶液が50mAで2時間前電
解された。ジメチルジクロロシラン7.27mlが加え
られて、電気分解は501^で24時間(シラン1モル
当たり2.2 ファラデーを与える)続けられた。生じ
た反応混合物はガスクロマトグラフィー/it量分析に
より分析されて、81%(反応したシラン基準)のクロ
ロジメチルクロロメチルシランを与えた。Support 1''J The apparatus of Example 9 was used. Tetora Dorofuran 9.
16zZ, tetraethylammonium tetrafluoroborate 0.08g, hexamethylphosphoramide2.
29d, a solution of 1.28 ml dichloromethane and 1 ml trimethylchlorosilane O was preelectrolyzed at 50 mA for 2 hours. 7.27 ml of dimethyldichlorosilane were added and the electrolysis was continued at 501^ for 24 hours (giving 2.2 Faradays per mole of silane). The resulting reaction mixture was analyzed by gas chromatography/it quantitative analysis to give 81% (based on reacted silane) chlorodimethylchloromethylsilane.
犬11[」」2
実施例9の装置が用いられた¥テトラヒドロフラン12
.67zN、テトラエチルアンモニウムテトラフルオロ
ボーレー) 0.08g、ヘキサメチルホスホルアミド
3.12d、ジクロロメタン0.85Illおよびトリ
メチルクロロシランOAxlの溶液が50z^で2時間
前電解された。メチルトリクロロシラン4.48mlが
加えられて、電気分解は501^で12.5時間(シラ
ン1モル当たり2.2 ファラデーを与える)続けられ
た。生じた反応混合物はガスクロマトグラフィー/質量
分析により分析されて、メチルジクロロクロロメチルシ
ラン62%およびメチルクロロジクロロメチルシラン1
3%を与えた。Dog 11[''''2 Tetrahydrofuran 12 in which the device of Example 9 was used
.. A solution of 0.08 g of 67zN, tetraethylammonium tetrafluorobole), 3.12d of hexamethylphosphoramide, 0.85Ill of dichloromethane and OAxl of trimethylchlorosilane was pre-electrolyzed at 50Z for 2 hours. 4.48 ml of methyltrichlorosilane were added and the electrolysis was continued at 501^ for 12.5 hours (giving 2.2 faradays per mole of silane). The resulting reaction mixture was analyzed by gas chromatography/mass spectrometry to reveal 62% methyldichlorochloromethylsilane and 1% methylchlorodichloromethylsilane.
I gave 3%.
夫11」ユ
実施例9の装置が用いられた。テトラヒドロフラン11
.8ml、テトラエチルアンモニウムテトラフルオロボ
ーレート0.08g、ヘキサメチルホ。The apparatus of Example 9 was used. Tetrahydrofuran 11
.. 8 ml, tetraethylammonium tetrafluoroborate 0.08 g, hexamethylpho.
スホルアミド2.95ml、ジクロロメタン0.64m
lおよびトリメチルクロロシランO,Lmlの溶液が5
0g^で2時間前電解された¥テトラクロロシランロー
フ9fが加えられて、電気分解は50m^で12.5時
間(シラン1モル当たり2.2 ファラデーを与える)
続けられた。生じた反応混合物はクロマトグラフィー/
質量分析により分析されて、トリクロロクロロメチルシ
ラン58%、ジクロロジクロロメチルシラン15%およ
びクロロトリクロロメチルシラン3%を与えた。Sphoramide 2.95ml, dichloromethane 0.64ml
A solution of 1 ml and trimethylchlorosilane O, L ml is 5
9 f of a loaf of tetrachlorosilane, previously electrolyzed for 2 hours at 0 g^, is added and the electrolysis is carried out for 12.5 hours at 50 m^ (giving 2.2 Faradays per mole of silane).
I could continue. The resulting reaction mixture was subjected to chromatography/
Analyzed by mass spectrometry to give 58% trichlorochloromethylsilane, 15% dichlorodichloromethylsilane and 3% chlorotrichloromethylsilane.
支11」ユ
実施例9の装置が用いられた。テトラしドロフラン12
−37mZ、テトラエチルアンモニウムテトラフルオロ
ボーレート0.08y、ヘキサメチルホスホルアミド3
.09xl、塩化フェニル1−12zjlおよびトリメ
チルクロロシランOAxlが5011^で2時間前電解
された。メチルトリクロロシラン4.48gが加えられ
て、電気分解は501^で12時間(シラン1モル当た
り2.2 ファラデーを与える)続けられた。生した反
応混合物はガスクロマトグラフィー/質量分析により分
析されて、ジクロロフェニルメチルシラン65%、メチ
ルクロロジフェニルシラン10%およびジクロロメチル
シルフェニレン6%を与えた。The apparatus of Example 9 was used. Tetora Dorofuran 12
-37mZ, tetraethylammonium tetrafluoroborate 0.08y, hexamethylphosphoramide 3
.. 09xl, phenyl chloride 1-12zjl and trimethylchlorosilane OAxl were preelectrolyzed for 2 hours at 5011^. 4.48 g of methyltrichlorosilane were added and electrolysis was continued at 501^ for 12 hours (giving 2.2 faradays per mole of silane). The resulting reaction mixture was analyzed by gas chromatography/mass spectrometry to give 65% dichlorophenylmethylsilane, 10% methylchlorodiphenylsilane and 6% dichloromethylsilphenylene.
塞lul二りま
実施例9の装置が用いられた。テトラしドロフラン11
.52mN、テトラエチルアンモニウムテトラフルオロ
ボーレート0.08f、ヘキザメチルホスホルアミド2
.88mN、塩化フェニル1−12zfおよびトリメチ
ルクロロシランQ4dの溶液が50i+^で2時間前電
解された。メチルトリクロロシラン6.79gが加えら
れて、電気分解は501^で12.5時間(シラン1モ
ル当たり2.2 ファラデーを与える)続けられた。生
じた反応混合物はガスクロマトグラフィー/質量分析で
分析されたトリクロロフェニルシラン68%、ジクロロ
ジフェニルシラン10%およびトリクロロシルフェニレ
ン8%を与えた。The apparatus of Example 9 was used. Tetora Dorofuran 11
.. 52 mN, tetraethylammonium tetrafluoroborate 0.08f, hexamethylphosphoramide 2
.. A solution of 88 mN, phenyl chloride 1-12zf and trimethylchlorosilane Q4d was preelectrolyzed at 50i+^ for 2 hours. 6.79 g of methyltrichlorosilane was added and the electrolysis was continued at 501^ for 12.5 hours (giving 2.2 Faradays per mole of silane). The resulting reaction mixture gave 68% trichlorophenylsilane, 10% dichlorodiphenylsilane and 8% trichlorosilphenylene analyzed by gas chromatography/mass spectrometry.
Claims (1)
とも1個の珪素結合した有機基を持つオルガノシリコン
化合物を製造する方法において、一般式−RX(式中、
Rは二価の炭素または置換されてもよい炭化水素化合物
を表わし、かつXはハロゲン原子である)なる置換基を
持つ化合物( I )が、 一般式 R’_4_−_a_−_bSiX_a(RX)_b(式
中、Rは水素、炭化水素基、H、CおよびO原子、S原
子および/またはP原子を含む基、ならびにC、Hおよ
びN原子さらに所望によりO原子(但し、Nはアミノ基
の部分は形成しない)からなる基、XおよびRは上に定
義されるとおりであり、aは1、2、3または4の値を
持ち、bは0、1、2または3、かつa+bは2、3ま
たは4の値を持つ)なるシラン(II)の存在下に、電気
的還元に付されることを特徴とする、オルガノシリコン
化合物の製造方法 2、化合物( I )のR基が芳香族的に不飽和であるか
脂肪族的に不飽和であるか、または脂肪族的に飽和の炭
化水素であり、かつ化合物(II)ではR’が水素、アル
キルまたはアリールであることを特徴とする、請求項第
1項による方法。 3、化合物(II)においてa+bの値が2に等しいこと
を特徴とする、請求項第1項または第2項による方法。 4、陰極が銀またはステンレススチールで作られており
、かつ陽極が炭素またはアルミニウムから作られており
、膜により分けられた2つの隔室を持つ電解槽中で行わ
れることを特徴とする、請求項第1項から第3項までの
いずれかによる方法。 5、錯化剤が用いられることを特徴とする、請求項第1
項から第4項までのいずれかによる方法。[Claims] 1. A method for producing an organosilicon compound having at least one silicon-bonded organic group bonded to a silicon atom via a Si-C bond, wherein
A compound (I) having a substituent (R represents a divalent carbon or an optionally substituted hydrocarbon compound, and X is a halogen atom) has the general formula R'_4_-_a_-_bSiX_a(RX)_b (wherein, R is hydrogen, a hydrocarbon group, a group containing H, C and O atoms, S atom and/or P atom, and C, H and N atoms, and optionally O atom (however, N is an amino group). X and R are as defined above, a has a value of 1, 2, 3 or 4, b is 0, 1, 2 or 3, and a+b is 2 , having a value of 3 or 4) A method for producing an organosilicon compound 2, characterized in that the R group of the compound (I) is an aromatic is an aliphatically unsaturated, aliphatically unsaturated, or aliphatically saturated hydrocarbon, and in compound (II), R' is hydrogen, alkyl or aryl. , a method according to claim 1. 3. Process according to claim 1 or 2, characterized in that in compound (II) the value of a+b is equal to 2. 4.Claim, characterized in that the cathode is made of silver or stainless steel and the anode is made of carbon or aluminum, and that the electrolysis is carried out in an electrolytic cell with two compartments separated by a membrane. Method according to any one of paragraphs 1 to 3. 5. Claim 1, characterized in that a complexing agent is used.
Method according to any of paragraphs from paragraphs to paragraphs 4.
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