JPH03133373A - Electric cell treatment unit - Google Patents
Electric cell treatment unitInfo
- Publication number
- JPH03133373A JPH03133373A JP1273556A JP27355689A JPH03133373A JP H03133373 A JPH03133373 A JP H03133373A JP 1273556 A JP1273556 A JP 1273556A JP 27355689 A JP27355689 A JP 27355689A JP H03133373 A JPH03133373 A JP H03133373A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cell
- chamber
- electroprocessing
- voltage
- chambers
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000011282 treatment Methods 0.000 title abstract description 7
- 239000004020 conductor Substances 0.000 abstract description 12
- 230000007910 cell fusion Effects 0.000 abstract description 6
- 239000006285 cell suspension Substances 0.000 abstract description 6
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 abstract description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 5
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 abstract 2
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 61
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 210000001938 protoplast Anatomy 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 108090000790 Enzymes Proteins 0.000 description 1
- 102000004190 Enzymes Human genes 0.000 description 1
- 238000009360 aquaculture Methods 0.000 description 1
- 244000144974 aquaculture Species 0.000 description 1
- 238000009395 breeding Methods 0.000 description 1
- 230000001488 breeding effect Effects 0.000 description 1
- 210000002421 cell wall Anatomy 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000010291 electrical method Methods 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 230000003716 rejuvenation Effects 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C12—BIOCHEMISTRY; BEER; SPIRITS; WINE; VINEGAR; MICROBIOLOGY; ENZYMOLOGY; MUTATION OR GENETIC ENGINEERING
- C12M—APPARATUS FOR ENZYMOLOGY OR MICROBIOLOGY; APPARATUS FOR CULTURING MICROORGANISMS FOR PRODUCING BIOMASS, FOR GROWING CELLS OR FOR OBTAINING FERMENTATION OR METABOLIC PRODUCTS, i.e. BIOREACTORS OR FERMENTERS
- C12M35/00—Means for application of stress for stimulating the growth of microorganisms or the generation of fermentation or metabolic products; Means for electroporation or cell fusion
- C12M35/02—Electrical or electromagnetic means, e.g. for electroporation or for cell fusion
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Biotechnology (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Genetics & Genomics (AREA)
- Bioinformatics & Cheminformatics (AREA)
- Zoology (AREA)
- Microbiology (AREA)
- Sustainable Development (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Biomedical Technology (AREA)
- Cell Biology (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Apparatus Associated With Microorganisms And Enzymes (AREA)
- Immobilizing And Processing Of Enzymes And Microorganisms (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野］
本発明は、細胞電気処理装置、特に、細胞電気処理チャ
ンバーに電圧を印加するための細胞電気処理装置に関す
る。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to a cell electroprocessing device, and particularly to a cell electroprocessing device for applying a voltage to a cell electroprocessing chamber.
水産増殖部門、農業・園芸分野の育種、及び医療、食品
分野等において細胞を電気的に融合する電気融合法が採
用されている。一方、細胞にＤＮＡを導入する遺伝子導
入においても、電気的手法が確立されている。Electrofusion methods, which electrically fuse cells, are used in the aquaculture sector, breeding in the agricultural and horticultural fields, and in the medical and food fields. On the other hand, electrical methods have also been established for gene transfer to introduce DNA into cells.
たとえば植物細胞を用いた電気融合法では、酵素液を含
む溶液内に植物細胞を入れ、植物細胞の細胞壁を除去し
てプロトプラストを得る。次に、プロトプラストを含む
溶液を細胞電気処理チャンバーに入れる。そして、細胞
融合を実行するために、細胞電気処理チャンバーに電圧
を印加する。For example, in the electrofusion method using plant cells, the plant cells are placed in a solution containing an enzyme solution, and the cell walls of the plant cells are removed to obtain protoplasts. Next, the solution containing the protoplasts is placed into the cell electroprocessing chamber. Then, apply voltage to the cell electroprocessing chamber to perform cell fusion.
このような電気融合法や遺伝子導入では、１対の対向電
極を有する細胞電気処理チャンバーが用いられる。従来
、この種の処理チャンバーは、各々個別に扱われ、電圧
印加装置に接続されて細胞電気処理に供される。In such electrofusion methods and gene transfer, a cell electroprocessing chamber having a pair of opposing electrodes is used. Conventionally, processing chambers of this type are each treated individually and connected to a voltage application device for cell electroprocessing.
ところが、このように個別に処理チャンバーを吸ったの
では作業効率が悪い。そこで、細胞電気処理チャンバー
を支持するための部材を直線状に複数個配置する細胞電
気処理装置を利用することを本発明者は考えた。この細
胞電気処理装置では、種類の異なる細胞懸濁液を収納し
た複数個の細胞電気処理チャンバーを支持することがで
き、またこれらに同一条件下で電圧を印加することがで
きる。However, if the processing chambers are individually vacuumed in this way, the work efficiency is poor. Therefore, the present inventor considered using a cell electroprocessing device in which a plurality of members for supporting a cell electroprocessing chamber are arranged in a linear manner. This cell electroprocessing device can support a plurality of cell electroprocessing chambers containing different types of cell suspensions, and can apply voltage to these chambers under the same conditions.
ところが、この細胞電気処理装置は、直線状に構成され
ているため、多数個の細胞電気処理チャンバーを処理す
るためには、大型にならざるを得ない。また、直線状の
細胞電気処理装置は、製作が容易でないため、高価とな
ってしまう。However, since this cell electroprocessing device has a linear configuration, it has to be large in size in order to process a large number of cell electroprocessing chambers. Furthermore, a linear cell electroprocessing device is not easy to manufacture and is therefore expensive.
本発明の目的は、複数個の細胞電気処理チャンバーに対
しく同一条件下で電圧を印加することができる、コンパ
クトに構成されかつ安価な細胞電気処理装置を提供する
ことにある。An object of the present invention is to provide a compact and inexpensive cell electroprocessing device that can apply voltage to a plurality of cell electroprocessing chambers under the same conditions.
本発明の細胞電気処理装置は、細胞電気処理チャンバー
に電圧を印加するためのものである。この細胞電気処理
装置は、複数個の細胞電気処理チャンバーを環状に配置
して支持し得るチャンバー支持部材と、細胞電気処理チ
ャンバーに電圧を印加するための電圧印加部材とを備え
ている。そして、電圧印加部材は、チャンバー支持部材
に設けられている。The cell electroprocessing device of the present invention is for applying voltage to a cell electroprocessing chamber. This cell electroprocessing device includes a chamber support member capable of supporting a plurality of cell electroprocessing chambers arranged in an annular shape, and a voltage application member for applying voltage to the cell electroprocessing chambers. The voltage application member is provided on the chamber support member.
本発明では、チャンバー支持部材は、複数個の細胞電気
処理チャンバーを環状に配置して支持することができる
。このため、本発明の細胞電気処理装置は、コンパクト
に形成することができ、またこれにより安価に提供する
ことができる。In the present invention, the chamber support member can support a plurality of cell electroprocessing chambers arranged in a ring shape. Therefore, the cell electroprocessing device of the present invention can be formed compactly and can therefore be provided at low cost.
また、本発明では、電圧印加部材により、チャンバー支
持部材に支持された複数個の細胞電気処理チャンバーに
対して、同一条件で電圧を印加することが可能である。Further, in the present invention, it is possible to apply voltage under the same conditions to a plurality of cell electroprocessing chambers supported by the chamber support member using the voltage application member.
本発明の一実施例を第１図から第３図に示す。 An embodiment of the present invention is shown in FIGS. 1 to 3.
第１図は本発明の一実施例の縦断面図、第２図はその一
部省略平面図、第３図は第１図の一部分の詳細を示す部
分概略図である。FIG. 1 is a longitudinal sectional view of one embodiment of the present invention, FIG. 2 is a partially omitted plan view thereof, and FIG. 3 is a partial schematic diagram showing details of a portion of FIG. 1.
細胞電気処理装置１は、主に、チャンバー支持部材２と
蓋３とを備えている。The cell electroprocessing device 1 mainly includes a chamber support member 2 and a lid 3.
チャンバー支持部材２は、樹脂製の部材であり、その下
部が円板状に形成されている。チャンバ支持部材２は、
その円板状の部分において、同心の円環状に形成された
溝４を有している。この溝４には、対向する支持電極５
４６が配置されている。一方の支持電極５は、溝４の外
側の立壁部の全周に連続的に取り付けられている。他方
の支持電極６は、溝４の内側の立壁部の全周に連続的に
取り付けられている。支持電極５．６は、第３図に示す
ように、その上部がそれぞれ互いに対面する側に湾曲し
た形状に折り曲げられている。そして、その折曲げ部に
は、等間隔を隔ててスリット５ａ、６ａが設けられてい
る。これにより、支持電極５，６は、当該折曲げ部がそ
れぞれ相手側の支持電極方向の付勢力を有するばね状に
構成されている。なお、支持電極５の一部は、チャンバ
ー支持部材の底面まで延びている（第１図）。The chamber support member 2 is a member made of resin, and its lower part is formed into a disk shape. The chamber support member 2 is
The disk-shaped portion has a groove 4 formed in a concentric ring shape. This groove 4 has an opposing supporting electrode 5.
46 are arranged. One of the supporting electrodes 5 is continuously attached to the entire circumference of the standing wall outside the groove 4 . The other supporting electrode 6 is continuously attached to the entire circumference of the vertical wall inside the groove 4 . As shown in FIG. 3, the supporting electrodes 5.6 are bent in such a manner that their upper portions are curved toward sides facing each other. Slits 5a and 6a are provided at equal intervals in the bent portion. Thereby, the support electrodes 5 and 6 are configured in a spring shape, each of which has a biasing force in the direction of the other support electrode. Note that a part of the support electrode 5 extends to the bottom surface of the chamber support member (FIG. 1).
チャンバー支持部材２は、溝４の内側において上方に起
立する円柱状の起立部７を有している。The chamber support member 2 has a cylindrical upright portion 7 that stands up upward inside the groove 4 .
起立部７は、その内部に１組の空洞８ａ、１３ｂを有し
ている。空洞８ａ、８ｂは、縦方向に平行に形成されて
いる。第１図左側の）洞８ａは、チャンバー支持部材２
の底面で開口している。一方、第１図右側の空洞８ｂの
底面には、支持電極６に連続する端子１２が起立して設
けられている。起立部７の上面には、１組の孔９，９が
設けられている。孔９．９は、それぞれ空洞８ａ、８ｂ
と連通している。孔９，９の内面には、その全体に導体
１０が形成されている。そして、導体１０の下端には、
リード線１１の一端が接続されている。The upright portion 7 has a pair of cavities 8a and 13b therein. The cavities 8a and 8b are formed in parallel to the vertical direction. The cavity 8a (on the left side in FIG. 1) is the chamber support member 2.
It is open at the bottom. On the other hand, a terminal 12 continuous to the support electrode 6 is provided upright on the bottom surface of the cavity 8b on the right side of FIG. A pair of holes 9, 9 are provided on the upper surface of the upright portion 7. Holes 9.9 are cavities 8a and 8b, respectively.
It communicates with A conductor 10 is formed on the entire inner surface of the holes 9, 9. And, at the lower end of the conductor 10,
One end of the lead wire 11 is connected.
空洞８ｂ内のリード線１１の他端は、端子１２に接続さ
れている。The other end of the lead wire 11 inside the cavity 8b is connected to the terminal 12.
チャンバー支持部材２の底面には、チャンバー支持部材
の底面形状に適合する底板１３がねし止めにより固定さ
れている。底板１３の上面には、その第２図左側におい
て導体１４が形成されている。この導体１４の一端（回
春側）には、空洞８ａ内において端子１５が起立して設
けられている。A bottom plate 13 that conforms to the bottom shape of the chamber support member 2 is fixed to the bottom surface of the chamber support member 2 with screws. A conductor 14 is formed on the upper surface of the bottom plate 13 on the left side in FIG. A terminal 15 is provided at one end (rejuvenation side) of the conductor 14 so as to stand up within the cavity 8a.
端子１５には、リード線１１の他端が接続されている。The other end of the lead wire 11 is connected to the terminal 15 .
一方、導体Ｉ４の他端は、チャンバー支持部材２の底面
まで延びる支持電極５に接続されている。On the other hand, the other end of the conductor I4 is connected to a support electrode 5 extending to the bottom surface of the chamber support member 2.
Ｍ３は、チャンバー支持部材２の満４と起立部７とを被
覆できるカップ状に形成された部材である。Ｍ３は、た
とえばポリカーボネート等の透明の樹脂から構成されて
いる。蓋３の上面には、起立部７の孔９，９にそれぞれ
対応する位置にり一ドピン１６．１６が取り付けられて
いる。リードビン１６．１６は、Ｍ３の上面を貫通して
取り付けられており、Ｍ３の上面及び下面から突出して
いる。そして、リードビン１６．１６は、蓋３がチャン
バー支持部材２に装着された状態で孔９９に嵌太し、導
体１０．１０に接続されるようになっている。M3 is a member formed in a cup shape that can cover the chamber support member 2 and the upright portion 7. M3 is made of transparent resin such as polycarbonate. Dowel pins 16 and 16 are attached to the upper surface of the lid 3 at positions corresponding to the holes 9, 9 of the upright portion 7, respectively. The lead bin 16.16 is attached through the top surface of M3 and protrudes from the top and bottom surfaces of M3. The lead bin 16.16 is fitted into the hole 99 with the lid 3 attached to the chamber support member 2, and is connected to the conductor 10.10.
次に、前記細胞電気処理装置１の使用方向について説明
する。Next, the direction of use of the cell electroprocessing device 1 will be explained.
まず、チャンバー支持部材２からＭ３を取り外し、チャ
ンバー支持部材２に細胞電気処理チャンバー２０を装着
する。細胞電気処理チャンバー２０としては、たとえば
第４図に示すようなものが用いられる。この細胞電気処
理チャンバー２０は、細胞！Ｑ濁液を収容するための開
口を有する角柱状のチャンバー２１と、チャンバー２１
の開口を封止するためのキャップ２２とから主として構
成されている。チャンバー２１は、１対の電極２３゜２
３を有している。電極２３は、チャンバー２１の開口部
分で折り返されており、チャンバー２１の外周面から内
周面にかけて連続的に形成されている。このような細胞
電気処理チャンバー２０は、チャンバー支持部材２の溝
４内に環状に多数個配置することができる（第２図）。First, M3 is removed from the chamber support member 2, and the cell electroprocessing chamber 20 is attached to the chamber support member 2. As the cell electroprocessing chamber 20, for example, one shown in FIG. 4 is used. This cell electroprocessing chamber 20 is a cell! Q A prismatic chamber 21 having an opening for accommodating a suspension, and a chamber 21
It is mainly composed of a cap 22 for sealing the opening of. The chamber 21 has a pair of electrodes 23°2
It has 3. The electrode 23 is folded back at the opening of the chamber 21 and is formed continuously from the outer peripheral surface to the inner peripheral surface of the chamber 21 . A large number of such cell electroprocessing chambers 20 can be arranged in a ring shape within the groove 4 of the chamber support member 2 (FIG. 2).
このとき、細胞電気処理チャンバー２０は、電極２３．
２３がそれぞれ支持電極５．６と対面するように装着さ
れる。そして、溝４に装着された細胞電気処理チャンバ
ー２０は、電極２３．２３がそれぞれ支持電極５．６と
圧接した状態で、支持電極５，６の付勢力により安定に
支持される。At this time, the cell electroprocessing chamber 20 has electrodes 23.
23 are mounted so as to face the support electrodes 5.6, respectively. The cell electroprocessing chamber 20 mounted in the groove 4 is stably supported by the urging force of the support electrodes 5 and 6, with the electrodes 23 and 23 being in pressure contact with the support electrodes 5 and 6, respectively.
細胞電気処理チャンバー２０が多数個装着されたチャン
バー支持部材２には、蓋３が装着される。A lid 3 is attached to the chamber support member 2 to which a large number of cell electroprocessing chambers 20 are attached.
このとき、上述ｔ７たように、リードビン１６とチャン
バー支持部材２の起立部７に設けられた導体１０とが接
続されるごとになる。これにより、リードビン１６，１
６は、それぞれ支持電極５，６に電圧を印加するための
端子となる。At this time, as described above at t7, each time the lead bin 16 and the conductor 10 provided on the upright portion 7 of the chamber support member 2 are connected. As a result, the lead bins 16,1
6 is a terminal for applying a voltage to the supporting electrodes 5 and 6, respectively.
次に、細胞電気処理チャンバー２０内で細胞融合や遺伝
子導入を行うために、細胞電気処理チャンバー２０に電
圧を印加する。このとき、図示しないパルス電圧発生装
置からの電極をリードビン１６．１６に装着する。そし
て、リードビン１６゜１６にパルス電圧を印加する。第
１図左側のり一ドビン１６からの電流は、導体１０、リ
ード線１１、端子１５、導体１４、及び支持電極５を介
して細胞電気処理チャンバー２０の電極２３へと流れる
。一方、第１図右側のリードビン１６からの電が１は、
導体ＩＯ、リード線１１、端子１２、及び支持電極６を
介して細胞電気処理チャンバー２０の他方の電極２３へ
と流れる。これにより、細胞電気処理チャンバー２０内
で°は、細胞懸濁液に電圧が印加され、細胞融合や遺伝
子導入が実行される。なお、本実施例では、チャンバー
支持部材に装着された多数個の細胞電気処理チャンバー
２０に対して、同一の条件で電圧を印加することができ
る。このため、それぞれの細胞電気処理チャンバー２０
内に収納された種類の異なる細胞懸濁液に対して同一条
件下で電気処理を施すことが可能である。Next, a voltage is applied to the cell electroprocessing chamber 20 in order to perform cell fusion and gene transfer within the cell electroprocessing chamber 20 . At this time, an electrode from a pulse voltage generator (not shown) is attached to the lead bin 16.16. Then, a pulse voltage is applied to the lead bin 16°16. Current from the glue dobbin 16 on the left side of FIG. 1 flows through the conductor 10, the lead wire 11, the terminal 15, the conductor 14, and the support electrode 5 to the electrode 23 of the cell electroprocessing chamber 20. On the other hand, the voltage 1 from the lead bin 16 on the right side of Figure 1 is
It flows via the conductor IO, the lead wire 11, the terminal 12, and the support electrode 6 to the other electrode 23 of the cell electroprocessing chamber 20. As a result, a voltage is applied to the cell suspension within the cell electroprocessing chamber 20, and cell fusion and gene transfer are performed. In this example, voltage can be applied under the same conditions to a large number of cell electroprocessing chambers 20 attached to the chamber support member. For this reason, each cell electroprocessing chamber 20
It is possible to perform electrical treatment on different types of cell suspensions housed within the same conditions.
このような本実施例は、チャンバー支持部材２が旋盤加
工の容易な円形状に形成されているため、安価に提供す
ることができる。また、細胞電気処理チャンバー２０を
環状に配置することができるため、多数個の細胞電気処
理チャンバー２０を装着できる細胞電気処理装置であっ
てもコンパクトに構成することができる。This embodiment can be provided at low cost because the chamber support member 2 is formed into a circular shape that can be easily lathed. Moreover, since the cell electroprocessing chambers 20 can be arranged in a ring shape, even a cell electroprocessing apparatus that can accommodate a large number of cell electroprocessing chambers 20 can be configured compactly.
上述の実施例では、チャンバー支持部材２の溝４に多数
の細胞処理チャンバー２０を装着したが、）筒４には、
溝４に適合する１個の円環状の細胞電気処理チャンバー
が装着されてもよい。In the above-mentioned embodiment, a large number of cell processing chambers 20 were installed in the groove 4 of the chamber support member 2;
One circular cell electroprocessing chamber that fits into the groove 4 may be installed.
このような細胞電気処理チャンバーの一例を第５図に示
す。この細胞電気処理チャンバー３０は、円環状のガラ
ス底３１と、このガラス底３１上面の外周部と内周部と
にそれぞれ取り付けられた１対の円環状の電極３２ａ、
３２ｂとを有し−ζいる。An example of such a cell electroprocessing chamber is shown in FIG. This cell electroprocessing chamber 30 includes an annular glass bottom 31, a pair of annular electrodes 32a attached to the outer and inner peripheries of the upper surface of the glass bottom 31, respectively.
32b and −ζ.
電極３２ａ、３２ｂは、それぞれ対向する面の上部に互
いに離れていくような傾斜面３２ａ、３３ａを有してい
る。１対の電極３２．３３の間には、溝３４が形成され
ている。溝３４には、所定の細胞懸濁液を注入すること
ができる。The electrodes 32a and 32b each have sloped surfaces 32a and 33a that move away from each other at the top of opposing surfaces. A groove 34 is formed between the pair of electrodes 32,33. A predetermined cell suspension can be injected into the groove 34 .
このような細胞電気処理チャンバー３０は、第５図に示
すように、チャンバー支持部材２の溝４に装着される。Such a cell electroprocessing chamber 30 is installed in the groove 4 of the chamber support member 2, as shown in FIG.
このとき、支持電極５，６は、それぞれ電極３２．３３
に圧接し、またこれにより細胞電気処理ナヤンバー３０
は溝４に安定に支持される。At this time, the supporting electrodes 5 and 6 are electrodes 32 and 33, respectively.
, and this also allows the cell electrolysis treatment Nayanbar 30
is stably supported in the groove 4.
なお、チャンバー支持部材２の底面において溝４と対応
する位置に観察孔４０が設けられてい°ζもよい（第２
図１第５図参照）。この場合には、観察孔４０の下方と
上方とにそれぞれ顕微鏡の対物レンズと光源とを配置す
るこ゛とにより、細胞融合等の状態を顕微鏡観察するこ
とが可能となる。Note that an observation hole 40 may be provided at a position corresponding to the groove 4 on the bottom surface of the chamber support member 2 (°ζ).
(See Figure 1 and Figure 5). In this case, by arranging a microscope objective lens and a light source below and above the observation hole 40, respectively, it becomes possible to observe the state of cell fusion, etc. with a microscope.
この細胞電気処理装置１は、コンパクトに構成されてい
るため、顕微鏡のステージ上に載置するのが容易である
。Since this cell electroprocessing device 1 has a compact structure, it is easy to place it on the stage of a microscope.
本発明による細胞電気処理装置では、上述のようなチャ
ンバー支持部材と電圧印加部材とを備えている。このた
め、本発明の細胞電気処理装置は、コンパクトに構成で
き、また安価に提供することができる。また、チャンバ
ー支持部材に装着された複数個の細胞電気処理チャンバ
ーに対して同一条件下で電圧を印加することができる。The cell electroprocessing device according to the present invention includes a chamber support member and a voltage application member as described above. Therefore, the cell electroprocessing device of the present invention can be configured compactly and can be provided at low cost. Further, voltage can be applied under the same conditions to a plurality of cell electroprocessing chambers attached to the chamber support member.
第１図及び第２図はそれぞれ本発明の一実施例の縦断面
図及び一部省略平面図、第３図はその支持電極の縦断面
斜視部分図、第４図は細胞電気処理チャンバーの一例の
正面図、第５図は本発明の一実施例に他の細胞電気処理
チャンバーを取り付けた状態を示す縦断面部分図である
。1 and 2 are a vertical cross-sectional view and a partially omitted plan view of an embodiment of the present invention, respectively, FIG. 3 is a vertical cross-sectional perspective partial view of the supporting electrode, and FIG. 4 is an example of a cell electroprocessing chamber. FIG. 5 is a vertical cross-sectional partial view showing a state in which another cell electroprocessing chamber is attached to an embodiment of the present invention.
Claims (1)
細胞電気処理装置であって、 複数個の前記細胞電気処理チャンバーを環状に配置して
支持し得るチャンバー支持部材と、前記チャンバー支持
部材に設けられた、前記細胞電気処理チャンバーに電圧
を印加するための電圧印加部材と、 を備えた細胞電気処理装置。(1) A cell electroprocessing device for applying voltage to a cell electroprocessing chamber, comprising: a chamber support member capable of supporting a plurality of cell electroprocessing chambers arranged in a ring; and a chamber support member provided on the chamber support member. A voltage application member for applying a voltage to the cell electroprocessing chamber, wherein the cell electroprocessing device is provided with:
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1273556A JPH03133373A (en) | 1989-10-19 | 1989-10-19 | Electric cell treatment unit |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1273556A JPH03133373A (en) | 1989-10-19 | 1989-10-19 | Electric cell treatment unit |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03133373A true JPH03133373A (en) | 1991-06-06 |
Family
ID=17529454
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1273556A Pending JPH03133373A (en) | 1989-10-19 | 1989-10-19 | Electric cell treatment unit |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03133373A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003080790A1 (en) * | 2002-03-20 | 2003-10-02 | Bio-Rad Laboratories, Inc. | Electroporation chamber |
| JP2005511079A (en) * | 2001-12-06 | 2005-04-28 | バイオ−ラッド ラボラトリーズ，インコーポレイティド | Automatic electroporation optimization system |
| JP2019118291A (en) * | 2017-12-28 | 2019-07-22 | 株式会社ベックス | Electroporation chamber and chamber holder |
-
1989
- 1989-10-19 JP JP1273556A patent/JPH03133373A/en active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005511079A (en) * | 2001-12-06 | 2005-04-28 | バイオ−ラッド ラボラトリーズ，インコーポレイティド | Automatic electroporation optimization system |
| WO2003080790A1 (en) * | 2002-03-20 | 2003-10-02 | Bio-Rad Laboratories, Inc. | Electroporation chamber |
| US6699712B2 (en) * | 2002-03-20 | 2004-03-02 | Bio-Rad Laboratories, Inc. | Electroporation chamber |
| JP2005520542A (en) * | 2002-03-20 | 2005-07-14 | バイオ−ラッド ラボラトリーズ，インコーポレイティド | Electroporation chamber |
| AU2003218228B2 (en) * | 2002-03-20 | 2006-05-04 | Bio-Rad Laboratories, Inc. | Electroporation chamber |
| JP2019118291A (en) * | 2017-12-28 | 2019-07-22 | 株式会社ベックス | Electroporation chamber and chamber holder |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0225636B1 (en) | Apparatus for fusing cells | |
| US20210324367A1 (en) | Method and device for uniformly treating adherent cells | |
| US6352853B1 (en) | Multi-channel electrode arrays | |
| US4699881A (en) | Chamber for the treatment of cells in an electric field | |
| US20190144844A1 (en) | Device and method for large volume transfection | |
| KR20050084133A (en) | Large-scale electroporation plates, systems, and methods of use | |
| CN1239691C (en) | Device and method for cultivation | |
| CN108795753B (en) | Device and method for packaging planar electrode chip | |
| JPH03133373A (en) | Electric cell treatment unit | |
| KR20220143008A (en) | Cover for applying an electric field and an electric field applying device including the same | |
| JPS60501764A (en) | Equipment for processing chip-shaped substrates using plasma | |
| JPH03280874A (en) | Electrode for electrical treatment of cell | |
| JP2621394B2 (en) | Cell electroprocessing chamber | |
| JPS63141575A (en) | Electrode of cell electric stimulating apparatus | |
| JPS63276478A (en) | Chamber for giving electric stimulation to cells | |
| JPH03244384A (en) | Chamber for electrical treatment of cell | |
| JPH04112787A (en) | Electric treatment unit for cell | |
| JPS62265976A (en) | Cell fusion chamber of multi-bath type | |
| JPH03272685A (en) | Electric treatment system for cell | |
| JPH03117485A (en) | Chamber for electrical treatment of cell | |
| JPH0239880A (en) | Cell-treatment chamber | |
| JPH01240180A (en) | Centrifugal type apparatus for cell fusion | |
| CN117025396A (en) | Electrical stimulation box | |
| JPS6387969A (en) | Chamber for cell fusion | |
| KR102348640B1 (en) | An electroporation apparatus |