JPH03129794A - Treating method for circuit board substrate - Google Patents

Treating method for circuit board substrate

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JPH03129794A
JPH03129794A JP26677889A JP26677889A JPH03129794A JP H03129794 A JPH03129794 A JP H03129794A JP 26677889 A JP26677889 A JP 26677889A JP 26677889 A JP26677889 A JP 26677889A JP H03129794 A JPH03129794 A JP H03129794A
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copper
zinc
oxide layer
layer
circuit board
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Tomio Tanno
淡野 富男
Tsutomu Ichiki
一木 勉
Hideo Funo
布野 秀雄
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Abstract

PURPOSE:To prevent a halo phenomenon for dissolving an oxide layer of copper in acid by oxidizing copper provided on the surface of a board, then reducing it and forming a zinc or zinc-copper alloy layer on the surface of the copper oxide layer in a specific amount of thickness. CONSTITUTION:Copper provided on the surface of a board is oxidized to form a copper oxide layer on the surface of copper, the copper oxide layer is then reduced, and a zinc or zinc-copper alloy layer is formed in the thickness of 0.001-1g/bm<2> on the surface of the reduced oxide layer. The oxide layer is coated with zinc, the zinc is so dissolved with acid or alkali. as to allow the layer of the zinc or the zinc-copper alloy to remain in the thickness of 0.001-1g/bm<2> to thereby reduce the copper oxide layer. An outer layer circuit board and other inner layer circuit board or a copper foil 3 are superposed on the board 1 through a prepreg 2, heated, pressurized and laminated.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention] 【産業上の利用分野】[Industrial application field]

本発明は、多層プリント配線板の製造に用いる内層用回
路板などとして使用される回路板用基板の表面の銅の処
理方法に関するものである。
The present invention relates to a method for treating copper on the surface of a circuit board substrate used as an inner layer circuit board used in the manufacture of multilayer printed wiring boards.

【従来の技術l 多層プリント配線板は、片面乃至両面に銅箔等で回路を
形成した内層用回路板にプリプレグを介して外層用回路
板もしくは銅箔を重ね、これを加熱加圧成形して内層用
回路板と外層用回路板もしくは@箔とを積層することに
よって製造されるのが一般的である。 そして、内層用回路板に形成した銅の回路と外層用回路
板もしくは銅箔を積層させるプリプレグの樹脂との接着
性を確保することが必要である。 特に内層用回路板の回路を電解銅箔によって形成する場
合、銅箔の片面は粗面に形成されるが他の片面は平滑面
に形成されており、内層用回路板の製造に際しては粗面
で銅箔を接着させているために、内層用回路板の銅の回
路の表面は銅箔の平滑面となり、銅回路とプリプレグの
樹脂との接着性は非常に低くなるものであって、接着性
を高める工夫が必要となるのである。 そこで、従来から種々の方法で銅の回路と樹脂との接着
性を高めることが検討されており、銅の回路の表面に酸
化物層を形成して接着性を高めることが一般になされて
いる。銅を酸化処理すると酸化物層には表面に微細な突
起が形成されることになり、この突起によって表面を粗
面化して接着性を高めることができるのである。そして
この銅の回路の表面に酸化物層を形成する方法としては
、過硫酸カリウムを含むアルカリ水溶液、あるいは亜塩
素酸ナトリウムを含むアルカリ水溶液を用いて処理する
ことによっておこなうことが一般的である。 このように銅の表面に酸化物層を形成させることによっ
て、銅と樹脂との接着性を十分に確保することができる
。しかし、銅酸化物、特に酸化第二銅(Cub)は酸に
溶解し易いために、スルーホールをドリル加工したあと
スルーホールメツキをする際に化学メツキ液に浸漬する
と、スルーホールの内周に露出する銅回路の断面部分の
酸化物層がメツキ液の酸(塩酸等)に溶解し、スルーホ
ールの内周から銅回路と樹脂との界面を酸が浸入する溶
解侵食が発生するいわゆるハロー現象が起こり易くなり
、多層プリント配線板の信頼性が低下するおそれがある
。 そこで、特開昭61−176192号公報等で提供され
ているように、銅の表面を酸化処理した後に、ジメチル
7ミ/ポラン等のアルカリ性還元処理液で還元処理する
ことによって、酸に溶解し易い酸化第二銅を酸に溶解し
にくい金属銅に還元し、ハローが太き(発生することを
防止するようにしている。 【発明が解決しようとする課題] しかしながら、このようにジメチルアミノボラン等を用
いて銅酸化物層を還元処理すると、表面は活性な金属銅
になるために、還元処理後に乾燥や脱気などのために高
温で処理(例えば130℃で30分)すると、この金属
銅は容易に再度酸化され、この酸化された銅が酸に溶解
してハローが大きく発生するに至るおそれがあるという
問題があった。 本発明は上記の点に鑑みて為されたものであり、銅と樹
脂との接着性を高める効果を保持しつつハロー現象′の
発生を防止することができる回路板用基板の処理方法を
提供することを目的とするものである。 【課題を解決するための手段】 本発明に係る回路板用基板の処理方法は、基板の表面に
設けた銅を酸化処理して銅の表面に銅酸化物層を形成し
、次いで銅酸化物層を還元処理すると共に、還元した銅
酸化物層の表面に亜鉛または亜鉛−銅合金の層をo、o
oi〜1g/bI12の量の厚みで形成させることを特
徴とするものである。 また本発明においては、銅酸化物層の表面に亜鉛をコー
ティングして、亜鉛または亜鉛と銅との合金の層が0.
001〜18/bI02の量の厚みで残るように、亜鉛
を酸またはアルカリで溶解させることによって銅酸化物
層を還元させるようにするのがよい。 以下本発明の詳細な説明する。 基板としては、銅箔を張った銅張がラスエポキシQ(脂
積層板、銅張〃ラスポリイミド樹脂積層板などの銅箔を
エツチング処理等することによって、片面もしくは両面
に銅の回路を設けて形成したものを使用することができ
るが、その他、積層板に化学メツキや電気メツキで銅の
回路を片面もしくは両面に形成したものを使用すること
もできる。 そしてまずこの基板の表面を粗面化処理するのが好まし
い。粗面化処理は、バフ研摩、ソフトエツチング等によ
る化学薬品処理、電解処理、液体ホーニング等によって
おこなうことができる。銅箔として両面が粗面に予め形
成されたものを用いる場合には、このような粗面化処理
は省略することができる。 次に、この基板の銅の表面を酸化処理する。酸化処理は
、過硫酸カリウムを含むアルカリ水溶液や、亜塩素酸ナ
トリウムを含むアルカリ水溶液など、酸化剤を含むアル
カリ水溶液を用いて処理することによっておこなうこと
ができる。このように酸化処理することによりて銅の表
面に銅酸化物層を形成することができるものであり、銅
酸化物層は主として酸化第二銅(Cub)によって形成
される。そしてこの酸化処理によって銅の表面を粗面化
することができるのである。 このようにして基板の銅の表面に酸化物層を形成させた
後に、銅酸化物(主としてCub)よりもイオン化し易
い金属亜鉛(Zn)を銅の酸化物層の表面にコーティン
グする。この亜鉛は例えば粉末の状態で用いることがで
きるものであり、銅の表面を水や溶剤で濡らしておいて
亜鉛粉末を吹き付けたり、亜鉛の粉末を水や溶剤に分散
した液をロール等で銅の表面に塗布したり、あるいは亜
鉛粉末を分散したこの液中に基板を浸漬したりして、亜
鉛粉末で銅の酸化物層の表面をコーティングすることが
できる。この溶剤としてはエチレングリコールやポリエ
チレングリコールなどを用いることができる。勿論これ
らの方法に限定されるものではなく、銅の酸化物層の表
面を亜鉛で均一にコーティングできればどのような方法
でもよい。 上記のようにして銅の酸化物層の表面に金属亜鉛をコー
ティングした後に、この亜鉛を酸もしくはアルカリで酸
化物層の表面から溶解させる。亜鉛を溶解させる酸もし
くはアルカリとしては、銅は溶解させないものであれば
特に限定されることなく使用することができる。このよ
うに酸もしくはアルカリで亜鉛を溶解させると、亜鉛は
陽イオンの状態で溶解されるためにこの際に銅の酸化物
層には還元作用が働き、銅酸化物中のCuOをCu20
(酸化第一銅)や金属Cuに還元させることができる。 このように銅酸化物中のCuOを還元させることによっ
て、表面の粗度を保ったまま銅酸化物層を酸に溶解しに
くいものにすることができるものであり、酸に溶解する
ことによって発生するハロー現象を防ぐことが可能にな
るのである。また、このように銅の酸化物層の表面にコ
ーティングした亜鉛を溶解させるにあたって、亜鉛の全
量を溶解させるのではな(、亜鉛の一部をその*ま亜鉛
の層として、あるいはこの亜鉛が溶解される際に銅の中
へ移行することによって形成される亜鉛−銅合金の層と
して、還元された銅の酸化物層の表面に残すことによっ
て、還元された銅の酸化物層の表面を亜鉛または亜鉛−
銅合金の層で被覆するようにしである。このように亜鉛
又は亜鉛−銅合金の層で被覆することによって、還元処
理で銅の酸化物層の表面に形成されている金属銅が、基
板を乾燥や脱湿するために高温で処理しても酸化される
ことを防ぐことができるものであり、高温処理によって
耐ハロー性が低下することを防止することができるもの
である。この亜鉛または亜鉛−銅合金の層は、0.00
1〜ig/bm’の量の厚み(厚みでいえは数十人〜数
千人)で形成するのがよい。0.001g/1oo2未
満であると、亜鉛または亜鉛−銅合金の層の厚みが不十
分で、高温処理時の上記の金属銅の酸化を防止する効果
が不十分になり、また1g/bLI+2を超えると、銅
酸化物層の表面の粗面が埋められる結果になるために、
銅とり(脂との接着性が不十分になるおそれがある。 尚、上記「g/b1112」の「blf12」は、「ボ
ード輸2」を意味するものであり、基板の表裏両面を含
む単位である。例えば、基板の表面と裏面にそれぞれ銅
がl1112づつ形成されていて、銅の表面に基板の表
裏合わせで亜鉛または亜鉛−銅合金の層が1gの量で形
成されていれば、1g/bm2と表示する。従って1g
/bm2は1 g/ 2 m2= 0.5 g/l11
2とも表示することができる。 上記のようにして銅の表面の酸化物層を還元する処理を
おこなったのちに、直ちに水洗や湯洗等して加熱乾燥し
、あとはこの基板を内層用回路板として用いて、通常の
工程で多層プリント配線板を製造することができる。す
なわち、この基板にプリプレグを介して外層用回路板(
あるいは池の内層用回路板)やもしくは銅箔を重ね、こ
れを加熱加圧して積層成形することによってプリプレグ
をボンディング層として多層に積層し、さらにスルーホ
ールをYリル加工して設けると共に化学メツキ等によっ
てスルーホールメツキを施し、さらにエツチング等の処
理をして外層回路を形成することによって、多層プリン
ト配線板を製造することができる。
[Conventional technology l] A multilayer printed wiring board is produced by overlapping an outer layer circuit board or copper foil via a prepreg on an inner layer circuit board with a circuit formed on one or both sides using copper foil, etc., and then forming this under heat and pressure. It is generally manufactured by laminating an inner layer circuit board and an outer layer circuit board or @foil. It is also necessary to ensure adhesion between the copper circuit formed on the inner layer circuit board and the resin of the prepreg on which the outer layer circuit board or copper foil is laminated. In particular, when forming circuits on inner layer circuit boards using electrolytic copper foil, one side of the copper foil is formed with a rough surface, while the other side is formed with a smooth surface. Because the copper foil is bonded to the inner layer circuit board, the surface of the copper circuit on the inner layer circuit board becomes a smooth surface of the copper foil, and the adhesion between the copper circuit and the prepreg resin is extremely low. Therefore, it is necessary to devise ways to increase the quality. Therefore, various methods have been studied to improve the adhesion between copper circuits and resins, and it is common practice to form an oxide layer on the surface of copper circuits to improve adhesion. When copper is oxidized, fine protrusions are formed on the surface of the oxide layer, and these protrusions can roughen the surface and improve adhesion. The oxide layer is generally formed on the surface of the copper circuit by treatment with an alkaline aqueous solution containing potassium persulfate or an alkaline aqueous solution containing sodium chlorite. By forming an oxide layer on the surface of copper in this way, sufficient adhesion between copper and resin can be ensured. However, copper oxide, especially cupric oxide (Cub), is easily dissolved in acids, so if it is immersed in a chemical plating solution when plating the through hole after drilling, it will cause the inner periphery of the through hole to The oxide layer on the exposed cross-section of the copper circuit dissolves in the acid (hydrochloric acid, etc.) of the plating solution, and the so-called halo phenomenon occurs in which the acid infiltrates the interface between the copper circuit and the resin from the inner periphery of the through-hole. This may easily occur, and the reliability of the multilayer printed wiring board may deteriorate. Therefore, as provided in Japanese Patent Application Laid-open No. 176192/1983, the surface of copper is oxidized and then reduced with an alkaline reducing solution such as dimethyl 7/poran, so that it dissolves in acid. Cupric oxide, which is easy to dissolve, is reduced to metallic copper, which is difficult to dissolve in acids, and the formation of a thick halo is prevented. [Problem to be solved by the invention] However, dimethylaminoborane When a copper oxide layer is reduced using, for example, a copper oxide layer, the surface becomes active metallic copper. There has been a problem in that copper is easily oxidized again, and this oxidized copper may dissolve in acid, leading to the formation of a large halo.The present invention has been made in view of the above points. The object of the present invention is to provide a method for processing circuit board substrates that can prevent the occurrence of the halo phenomenon while maintaining the effect of increasing the adhesion between copper and resin. Means for Processing] The method for processing a circuit board substrate according to the present invention includes oxidizing copper provided on the surface of the substrate to form a copper oxide layer on the copper surface, and then reducing the copper oxide layer. At the same time, a layer of zinc or zinc-copper alloy is added on the surface of the reduced copper oxide layer.
It is characterized in that it is formed with a thickness of oi to 1 g/bI12. Further, in the present invention, the surface of the copper oxide layer is coated with zinc so that the layer of zinc or an alloy of zinc and copper has a 0.
The copper oxide layer is preferably reduced by dissolving the zinc with acid or alkali so that it remains at a thickness of 001 to 18/bI02. The present invention will be explained in detail below. As a board, copper clad with copper foil can be used to create copper circuits on one or both sides by etching the copper foil such as lath epoxy Q (fat laminate, copper clad lath polyimide resin laminate, etc.). In addition, it is also possible to use a laminated board with copper circuits formed on one or both sides by chemical plating or electroplating.Then, first, the surface of this board is roughened. The surface roughening treatment can be carried out by buff polishing, chemical treatment such as soft etching, electrolytic treatment, liquid honing, etc. A copper foil with rough surfaces on both sides is used as the copper foil. In some cases, such surface roughening treatment can be omitted.Next, the copper surface of this substrate is oxidized.The oxidation treatment is performed using an alkaline aqueous solution containing potassium persulfate or sodium chlorite. This can be carried out by treatment using an alkaline aqueous solution containing an oxidizing agent, such as an aqueous alkaline solution containing an oxidizing agent.By performing the oxidation treatment in this way, a copper oxide layer can be formed on the surface of the copper. The copper oxide layer is mainly formed by cupric oxide (Cub).This oxidation treatment can roughen the surface of the copper.In this way, the oxide layer is formed on the copper surface of the substrate. After forming the copper oxide layer, the surface of the copper oxide layer is coated with metal zinc (Zn), which is more easily ionized than copper oxide (mainly Cub).This zinc can be used, for example, in the form of a powder. , wet the copper surface with water or solvent and then spray zinc powder on it, or apply a solution of zinc powder dispersed in water or solvent to the copper surface with a roll, or use this solution with zinc powder dispersed. The surface of the copper oxide layer can be coated with zinc powder by immersing the substrate in it.Ethylene glycol, polyethylene glycol, etc. can be used as the solvent.Of course, the method is not limited to these methods. Any method may be used as long as the surface of the copper oxide layer can be uniformly coated with zinc. After coating the surface of the copper oxide layer with metallic zinc as described above, the zinc is Alternatively, dissolve the oxide layer from the surface with an alkali.The acid or alkali that dissolves zinc can be used without particular limitation as long as it does not dissolve copper.In this way, zinc can be dissolved with an acid or an alkali. When dissolved, zinc is dissolved in the state of cations, and at this time, a reducing action acts on the copper oxide layer, converting CuO in the copper oxide to Cu20.
(cuprous oxide) or metal Cu. By reducing CuO in copper oxide in this way, it is possible to make the copper oxide layer difficult to dissolve in acid while maintaining the surface roughness. This makes it possible to prevent the halo phenomenon. In addition, when dissolving the zinc coated on the surface of the copper oxide layer, it is important to note that rather than dissolving the entire amount of zinc (or dissolving some of the zinc as a layer of zinc, or dissolving this zinc), By leaving the surface of the reduced copper oxide layer as a layer of zinc-copper alloy formed by migrating into the copper when or zinc-
It is coated with a layer of copper alloy. By coating with a layer of zinc or zinc-copper alloy in this way, the metallic copper that has been formed on the surface of the copper oxide layer during the reduction treatment is removed by treatment at high temperatures to dry and dehumidify the substrate. It is also possible to prevent oxidation, and it is possible to prevent the halo resistance from decreasing due to high-temperature treatment. This layer of zinc or zinc-copper alloy is 0.00
It is preferable to form the film with a thickness of 1 to ig/bm' (the thickness ranges from several tens to several thousand). If it is less than 0.001 g/1oo2, the thickness of the zinc or zinc-copper alloy layer will be insufficient, and the effect of preventing the oxidation of the metal copper during high-temperature treatment will be insufficient. If the
Copper remover (adhesion with fat may become insufficient. In addition, "blf12" in "g/b1112" above means "board export 2", and is a unit that includes both the front and back sides of the board. For example, if 1112 copper is formed on each of the front and back sides of the substrate, and a layer of zinc or zinc-copper alloy is formed in an amount of 1 g on the surface of the copper with the front and back sides of the substrate together, 1 g /bm2. Therefore, 1g
/bm2 is 1 g/2 m2= 0.5 g/l11
2 can be displayed. After performing the treatment to reduce the oxide layer on the surface of the copper as described above, it is immediately washed with water or hot water, heated and dried, and then used as an inner layer circuit board and carried out the normal process. Multilayer printed wiring boards can be manufactured using this method. In other words, the outer layer circuit board (
Alternatively, layers of copper foil (or circuit board for the inner layer of the pond) or copper foil are laminated by heating and pressurizing to form a multilayer prepreg as a bonding layer, and through-holes are formed by Y-rill processing and chemical plating, etc. A multilayer printed wiring board can be manufactured by performing through-hole plating using the method described above, and further processing such as etching to form an outer layer circuit.

【実施例】【Example】

次に本発明を実施例によって説明する。 LLLL ■ 両面に70μ厚の銅箔を張って形成した厚み1.0
mmの〃ラス布基材エポキシ樹脂積層板(松下電工株式
会社製品番176G)を基板として用い、銅箔に内層用
回路を作成し、銅の回路の表面をバフ研摩して粗面化処
理した。 ■ 次に、 K 2S 、08      ・・・13g/lNaO
H・・−55g/I! の組成の過硫酸カリウム浴を60℃に調整し、この酸化
処理浴に基板を3分間浸漬して銅の回路の表面を酸化処
理した。 ■ 次に、エチレングリコールに平均粒径が3μの金属
亜鉛粉末を11当たI)200Fiの配合量で分散し、
この亜鉛粉末分散液に基板を没漬することによって、銅
回路の表面に亜鉛粉末をコーティングした。 ■ このように亜鉛粉末でコーティングをおこなった後
に、水:HCNが1:1の容積比の塩酸水溶液中に基板
を30秒間浸漬して、亜鉛を溶解させると共にこの亜鉛
の溶解に伴って銅の回路の表面の銅酸化物層を還元させ
た。 ■ このように塩酸水溶液で亜鉛の溶解処理をした後、
直ちに基板を流水で水洗して130℃で60分間加熱乾
燥した。この基板において、銅の回路の表面に亜鉛は0
.O1g/m2の量の厚みの層として残った。 そして上記のように処理した基板1を内層用回路板とし
て用い、その両面に第1図に示すように〃ラス布基材に
エポキシ樹脂を含浸乾燥して調製した厚み0 、1 m
+aのプリプレグ(松下電工株式会社製1661JM)
2を三枚ずつ重ねると共に、さらにその外側に厚み18
μの銅箔3を重ねてビルドアップし、50Torrに減
圧した雰囲気下で、170℃、20kgf/cm2.1
20分間の条件で二次積層成形することによって多層板
を得た。 に11」一 実施例1において、■における金属亜鉛粉末の配合1を
エチレングリフール11当たり1000gに設定する他
は、実施例1と同様にして多層板を得た。このものでは
、基板においで、銅の回路の表面に亜鉛は0.1g/v
r2の量の厚みの層として残った。 11L 実施例1において■と■の処理をおこなった後に、水に
ツメチルアミンボランを20./Nの量で溶解したアル
カリ性還元溶液に基板を3分間浸漬し、この後に直ちに
基板を水洗して80°Cで60分間加熱して乾燥した。 あとはこの基板を用いて実施例1と同様にして多層板を
得た。 比較例2 比較例1において乾燥の条件を130℃で60分に変更
した他は、同様にして多層板を得た。 上記実施例1,2及び比較例1,2で得た多層板に、0
 、4 mmφのドリルピッFを用いて8万rpmの回
転速度及び1.6tn/winの送り速度の条件でスル
ーホール加工をおこなった。これを水:HC1!が1:
1の容積比の酸溶液に30分間浸漬して、ハローの大き
さを顕微鏡で観察してその最大値を測定した。また多層
板における銅とプリプレグの樹脂との接着性を層間接着
力として測定すると共に多層板を288℃の半田浴に1
0秒間浸漬して半田耐熱性を測定した。半田耐熱性は異
常のないものを「○」、7クレ等が発生して異常がある
ものを「×1で表示した。これらの結果を大麦に示す。 前表にみられるように、銅回路を酸化処理したのちに亜
鉛をコーティングして溶解除去する処理をおこなうこと
よって銅回路の銅酸化物層を還元すると共に亜鉛や亜鉛
−銅合金の層を還元した銅酸化物層の表面にするように
した各実施例のものは、乾燥のために130°Cの高温
で処理してもハローが大きく発生しないのに討して、還
元処理をノアチルアミンボランを用いておこなうと、8
0℃程度の低温の処理では比較例1のようにハa −は
大きくならないが、130℃の高温で処理すると比較例
2のようにハローが大きく発生することが確認される。
Next, the present invention will be explained by examples. LLLL ■ Thickness 1.0 formed by pasting 70μ thick copper foil on both sides.
Using a lath cloth-based epoxy resin laminate (Matsushita Electric Works Co., Ltd. product number 176G) of mm as a substrate, an inner layer circuit was created on copper foil, and the surface of the copper circuit was roughened by buffing. . ■ Next, K 2S , 08...13g/lNaO
H...-55g/I! A potassium persulfate bath having the composition was adjusted to 60° C., and the substrate was immersed in this oxidation treatment bath for 3 minutes to oxidize the surface of the copper circuit. ■ Next, metallic zinc powder with an average particle size of 3μ is dispersed in ethylene glycol in a blending amount of 11 parts I) 200 Fi,
By immersing the substrate in this zinc powder dispersion, the surface of the copper circuit was coated with zinc powder. ■ After coating with zinc powder in this way, the substrate is immersed for 30 seconds in an aqueous hydrochloric acid solution with a volume ratio of water:HCN of 1:1 to dissolve the zinc and to dissolve the copper. The copper oxide layer on the surface of the circuit was reduced. ■ After dissolving zinc with an aqueous hydrochloric acid solution in this way,
Immediately, the substrate was washed with running water and dried by heating at 130° C. for 60 minutes. In this board, there is no zinc on the surface of the copper circuit.
.. It remained as a layer of thickness in the amount of O1 g/m2. Then, the substrate 1 treated as described above was used as an inner layer circuit board, and as shown in FIG.
+a prepreg (1661JM manufactured by Matsushita Electric Works Co., Ltd.)
Layer 2 three sheets at a time, and add a layer of thickness 18 to the outside.
Copper foil 3 of μ is stacked and built up at 170℃ and 20kgf/cm2.1 in a reduced pressure atmosphere of 50Torr.
A multilayer board was obtained by secondary lamination molding for 20 minutes. A multilayer board was obtained in the same manner as in Example 1, except that the metal zinc powder formulation 1 in (2) was set to 1000 g per ethylene glycol 11. In this case, zinc was added to the surface of the copper circuit at 0.1 g/v on the board.
It remained as a layer of thickness r2. 11L After carrying out the treatments ① and ② in Example 1, 20% of trimethylamine borane was added to water. The substrate was immersed for 3 minutes in an alkaline reducing solution dissolved in an amount of /N, and then immediately washed with water and dried by heating at 80° C. for 60 minutes. A multilayer board was then obtained in the same manner as in Example 1 using this substrate. Comparative Example 2 A multilayer board was obtained in the same manner as in Comparative Example 1, except that the drying conditions were changed to 130° C. for 60 minutes. The multilayer plates obtained in Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2 were coated with 0
Through-hole processing was performed using a drill pit F of 4 mmφ under the conditions of a rotational speed of 80,000 rpm and a feed rate of 1.6 tn/win. Water this: HC1! is 1:
The sample was immersed in an acid solution having a volume ratio of 1 for 30 minutes, and the size of the halo was observed using a microscope and its maximum value was measured. In addition, the adhesion between the copper and prepreg resin in the multilayer board was measured as interlayer adhesion strength, and the multilayer board was placed in a solder bath at 288°C for 1 hour.
Soldering heat resistance was measured by immersion for 0 seconds. For solder heat resistance, those with no abnormality are marked with "○", and those with abnormalities such as 7 cracks are marked with "x1".These results are shown in barley.As seen in the previous table, copper circuit After oxidizing, zinc is coated and dissolved away to reduce the copper oxide layer of the copper circuit and to make the zinc or zinc-copper alloy layer the surface of the reduced copper oxide layer. In each example, no large halo was generated even when treated at a high temperature of 130°C for drying, but when reduction treatment was performed using noacylamine borane, 8
It is confirmed that when processed at a low temperature of about 0°C, ha-a does not increase as in Comparative Example 1, but when processed at a high temperature of 130°C, a large halo occurs as in Comparative Example 2.

【発明の効果】【Effect of the invention】

上述のように本発明にあっては、基板の表面に設けた銅
を酸化処理して銅の表面に銅酸化物層を形成させるよう
にしたので、銅回路の表面を酸化処理して酸化物層を形
成することで銅回路の表面に微細な突起を形成させ、粗
面化によって銅回路と樹脂との接着性を高めることがで
きるものであり、またこの銅酸化物層を還元処理すると
共に、還元した銅酸化物層の表面に亜鉛または亜鉛−銅
合金の層を0.001〜1g/bL112の量の厚みで
形成させるようにしたので、還元によって#!酸化物層
を酸に溶解しにくい状態にすることができると共に、還
元された銅の酸化物層が高温の処理によって再度酸化さ
れることを亜鉛または亜鉛−銅合金の層で防ぐことがで
き、銅の酸化物層がメツキ処理の際などに酸に溶解して
ハロー現象が生じることを防止でさるものである。 また、@酸化物層の表面に亜鉛をコーティングして、亜
鉛または亜鉛と銅との合金の層が0.001〜1g/b
m2の量の厚みで残るように、亜鉛を酸またはアルカリ
で溶解させることによって銅酸化物層を還元させるよう
にすれば、銅酸化物層の還元処理と、還元された銅酸化
物層への亜鉛または亜鉛−銅合金の層の形成とを一つの
工程で同時におこなうことができ、作業を合理化するこ
とができる。
As described above, in the present invention, the copper provided on the surface of the substrate is oxidized to form a copper oxide layer on the surface of the copper. By forming a layer, fine protrusions are formed on the surface of the copper circuit, and by roughening the surface, it is possible to improve the adhesion between the copper circuit and the resin.Also, by reducing this copper oxide layer, Since a layer of zinc or zinc-copper alloy was formed on the surface of the reduced copper oxide layer with a thickness of 0.001 to 1 g/bL112, #! The oxide layer can be made difficult to dissolve in acids, and the zinc or zinc-copper alloy layer can prevent the reduced copper oxide layer from being oxidized again by high-temperature treatment. This prevents the copper oxide layer from dissolving in acid during plating and causing a halo phenomenon. Also, by coating the surface of the oxide layer with zinc, the layer of zinc or an alloy of zinc and copper can be coated with 0.001 to 1 g/b.
If the copper oxide layer is reduced by dissolving zinc with acid or alkali so that it remains with a thickness of m2, the reduction treatment of the copper oxide layer and the reduction of the copper oxide layer Formation of the zinc or zinc-copper alloy layer can be performed simultaneously in one step, streamlining the work.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は多層板を成形する際の積層構成を示す概略分解
図であり、1は基板、2はプリプレグ、3は銅箔である
FIG. 1 is a schematic exploded view showing the laminated structure when forming a multilayer board, in which 1 is a substrate, 2 is a prepreg, and 3 is a copper foil.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)基板の表面に設けた銅を酸化処理して銅の表面に
銅酸化物層を形成し、次いで銅酸化物層を還元処理する
と共に、還元した銅酸化物層の表面に亜鉛または亜鉛−
銅合金の層を0.001〜1g/bm^2の量の厚みで
形成させることを特徴とする回路板用基板の処理方法。
(1) Copper provided on the surface of the substrate is oxidized to form a copper oxide layer on the surface of the copper, and then the copper oxide layer is subjected to reduction treatment, and zinc or zinc is added to the surface of the reduced copper oxide layer. −
A method for processing a circuit board substrate, comprising forming a copper alloy layer with a thickness of 0.001 to 1 g/bm^2.
(2)銅酸化物層の表面に亜鉛をコーティングして、亜
鉛または亜鉛と銅との合金の層が0.001〜1g/b
m^2の量の厚みで残るように、亜鉛を酸またはアルカ
リで溶解させることによって銅酸化物層を還元させるよ
うにしたことを特徴とする請求項1に記載の回路板用基
板の処理方法。
(2) Coating zinc on the surface of the copper oxide layer so that the layer of zinc or an alloy of zinc and copper is 0.001 to 1 g/b
2. The method of treating a circuit board substrate according to claim 1, wherein the copper oxide layer is reduced by dissolving zinc with acid or alkali so that the copper oxide layer remains with a thickness of m^2. .
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS572200A (en) * 1980-06-05 1982-01-07 Sony Corp Sound image control circuit
JPS62270780A (en) * 1986-05-16 1987-11-25 Hitachi Ltd Method for adhering resin to copper

Patent Citations (2)

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