JPH03116752A - Wafer housing - Google Patents

Wafer housing

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JPH03116752A
JPH03116752A JP1253276A JP25327689A JPH03116752A JP H03116752 A JPH03116752 A JP H03116752A JP 1253276 A JP1253276 A JP 1253276A JP 25327689 A JP25327689 A JP 25327689A JP H03116752 A JPH03116752 A JP H03116752A
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wafer
groove
holder
storage device
transfer
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Koichi Saisu
斎須 好一
Hideo Kano
鹿野 英男
Kiyotaka Kano
狩野 清隆
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Hitachi Setsubi Engineering Co Ltd
Hitachi Ltd
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Hitachi Setsubi Engineering Co Ltd
Hitachi Ltd
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Abstract

PURPOSE:To put wafers, which are transferred from a transfer means, without break by equipping a raising-moving means to raise a wafer setting means with a sensor to detect the lowermost groove and raising the wafer setting means on every wafer reception with the lowermost groove on the basis. CONSTITUTION:A shock absorber plate 2 goes forward by operating a switch for housing and at the same time gas is jetted through the gas spout 4-1 of a wafer slider 4. When a wafer 14 is set in the wafer slider 4 with hands, it reaches the elastic body 2' of the shock absorber plate 2. An optical sensor 6 detects the wafer 14 and an air cylinder 13 receives the detection signal, moves back slowly, and can put the wafer in the initial groove 3a of an SiC holder 3 without producing wafer chippings. The gas injection stops simultaneously with the detection of the optical sensor 6.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はウェーハ収納装置に係り、特に半導体装置製造
にあって各加工過程において加工されたウェーハを順次
収納させていくウェーハ収納装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a wafer storage apparatus, and more particularly to a wafer storage apparatus that sequentially stores processed wafers in each processing process in semiconductor device manufacturing.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

この種の装置にあっては従来、第8図に示すようなもの
が知られている。同図において、ベルトコンベア51に
よって移送されるウェーハ52はウェーハホルダー53
側に移動するようになっている。前記ウェーハホルダー
53はたとえば四弗化エチレン、ポリプロピレン樹脂、
アルミニウム等で形成されたものであり、その縦方向に
前記ウェーハ52の全部が収納できる溝3aが複数個形
成されて構成されている。そしてこのウェーハホルダー
53は載置台54に載置され、この載置台54は昇降用
モータ55によって駆動される昇降機構56によって前
記溝3aのピッチ毎に上昇するようになっている。
As a device of this type, the one shown in FIG. 8 has been known. In the figure, a wafer 52 transferred by a belt conveyor 51 is placed in a wafer holder 53.
It is supposed to move to the side. The wafer holder 53 is made of, for example, tetrafluoroethylene, polypropylene resin,
It is made of aluminum or the like, and has a plurality of grooves 3a formed in its longitudinal direction in which the entire wafer 52 can be accommodated. This wafer holder 53 is placed on a mounting table 54, and this mounting table 54 is raised at every pitch of the groove 3a by a lifting mechanism 56 driven by a lifting motor 55.

[発明が解決しようとする課題〕 しかし、上述したウェーハ収納装置は、そのウェーハホ
ルダー53を載置台54から外したり、あるいはセット
するようにしたりするようにするものである。このため
、前記昇降機構56の位置設定(特に高さ方向における
)が充分精度よいことを条件に、昇降機構原点位置すな
わち前記ウェハホルダー53の底面を基準にして置溝3
aを形成しなければならないものであるが、実際には充
分な精度ができないものであった。
[Problems to be Solved by the Invention] However, in the above-described wafer storage device, the wafer holder 53 can be removed from or set on the mounting table 54. Therefore, on the condition that the position setting of the lifting mechanism 56 (especially in the height direction) is sufficiently accurate, the positioning groove 3 is
a must be formed, but in reality it has not been possible to achieve sufficient accuracy.

このため、ベルトコンベア51から移送されてくるウェ
ハ52がウェーハホルダー53の置溝3aに円滑に収納
されず、前記ウェーハホルダー53の側面に衝突して欠
損が生じるということもあった。
For this reason, the wafer 52 transferred from the belt conveyor 51 is not smoothly accommodated in the groove 3a of the wafer holder 53, and may collide with the side surface of the wafer holder 53, resulting in damage.

それ故、本発明は、このような事情に基づいたものであ
り、移送手段から移送されてくるウェハを欠損させるこ
となく収納し得るウェハ収納装置提供することにある。
Therefore, the present invention is based on such circumstances, and an object of the present invention is to provide a wafer storage device that can store wafers transferred from a transfer means without damaging them.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

このような目的を達成するために、本発明は、ウェーハ
を一枚ごとに移送する移送手段と、この移送手段から移
送されるウェーハを収納する収納手段と、この収納手段
を上昇させる上昇移動手段と、からなり、前記収納手段
は、前記移送手段側に開口を有した断面半円状の部材か
らなりその内壁に前記ウェーハの周囲を支える溝を前記
移送手段上のウェーハ移送方向と直交する方向へ並設さ
せたホルダから構成され、かつ前記上昇移動手段は、前
記並設された溝のうち最下端の溝を検出するセンサを備
えるとともに、該センサによって検出された前記最下端
溝を基準として前記ウェーハの収納毎に前記溝のピッチ
分だけ順次上昇させるように構成されているようにした
ものである。
In order to achieve such an object, the present invention provides a transfer means for transferring wafers one by one, a storage means for storing the wafers transferred from the transfer means, and a lifting means for raising the storage means. The storage means is a member having a semicircular cross section with an opening on the side of the transfer means, and has a groove in its inner wall supporting the periphery of the wafer in a direction perpendicular to the wafer transfer direction on the transfer means. The upward moving means includes a sensor that detects the lowest groove among the grooves arranged in parallel, and the upward moving means includes a sensor that detects the lowest groove among the grooves arranged in parallel, and uses the lowest groove detected by the sensor as a reference. The groove is configured to be raised sequentially by the pitch of the groove each time the wafer is stored.

また、このような構成において、前記ホルダは石英ガラ
スあるいは炭火珪素から構成されているものである。
Further, in such a configuration, the holder is made of quartz glass or charcoal-fired silicon.

さらに、本発明は、ウェーハを一枚ごとに移送する移送
手段と、この移送手段から移送されるウェーハを収納す
る収納手段と、この収納手段にウェーハが収納される際
前記ウェーハの前記収納手段に対する当接を緩和する手
段と、この収納手段を上昇させる上昇移動手段と、から
なり、前記収納手段は前記移送手段側に開口を有した断
面半円状の部材からなりその内壁に前記ウェーハの周囲
を支える溝を前記移送手段上のウェーハ移送方向と直交
する方向へ並設させたホルダから構成され、前記緩和手
段は、前記移送手段から移送されるウェーハを含む平面
内でかつ前記収納手段を間において前記移送手段の設置
個所と反対側に設置され、かつ前記ホルダに形成された
溝と直交して設けられた長孔を適して前記移送手段側へ
移動可能なショックアブソーバプレートによって構成さ
れ、前記上昇移動手段は前記並設された溝のうち最下端
の溝を検出するセンサを備えるとともに、このセンサに
よって検出された前記最下端溝を基準として前記ウェー
ハの収納毎に前記溝のピッチ分だけ順次上昇させるよう
に構成されたものである。
Further, the present invention provides a transfer means for transferring wafers one by one, a storage means for storing the wafers transferred from the transfer means, and a storage means for storing the wafers when the wafers are stored in the storage means. The storage means is composed of a member having a semicircular cross section with an opening on the side of the transfer means, and has an inner wall formed around the wafer. The relaxation means is comprised of a holder in which grooves supporting the wafers are arranged in parallel in a direction perpendicular to the wafer transfer direction on the transfer means, and the relaxation means is arranged within a plane containing the wafers transferred from the transfer means and between the storage means. The shock absorber plate is installed on the opposite side to the installation location of the transfer means, and is movable toward the transfer means side through a long hole provided perpendicularly to the groove formed in the holder; The upward moving means includes a sensor that detects the lowest groove among the grooves arranged in parallel, and sequentially moves the wafer by the pitch of the grooves each time the wafer is stored, with the lowest groove detected by the sensor as a reference. It is configured to rise.

〔作用〕[Effect]

このように、ウェーハを収納する収納手段を上昇させる
上昇移動手段において、ホルダの最下端の溝を検出する
センサを備え、このセンサによって検出された該最下端
溝を基準として前記ホルダを上昇させる構成をとってい
る。このため、前記ホルダにおいては前記溝が等しいピ
ッチで形成されていれば移送手段から移送されてくるウ
ェハがウェーハホルダーの置溝に円滑に収納されるよう
になり、前記ウェーハホルダーの側面に衝突して欠損が
生じるということはなくなる。
In this way, the elevating moving means for elevating the storage means for storing wafers includes a sensor that detects the lowest groove of the holder, and the holder is raised based on the lowest groove detected by the sensor. is taking. Therefore, in the holder, if the grooves are formed at equal pitches, the wafer transferred from the transfer means will be smoothly accommodated in the placement groove of the wafer holder, and will not collide with the side surface of the wafer holder. This eliminates the possibility of defects occurring.

また、前記ホルダを石英ガラスあるいは炭火珪素によっ
て形成することにより、該材料は硬質のものであること
から前記溝は極めて狭いピッチで形成することもできる
。このことは一つのホルダにそれだけウェーハを収納す
ることができ、作業の能率化を図ることができる。
Furthermore, by forming the holder from quartz glass or charcoal silicon, the grooves can be formed at an extremely narrow pitch since the material is hard. This means that a single holder can accommodate as many wafers as possible, making work more efficient.

しかも、前記ホルダは、断面半円状からなっているため
、ウェーハとの接触部分を極力少なくした構成からなり
、ウェーハの汚染等を防ぐこともできる。
Moreover, since the holder has a semicircular cross-section, the holder has a configuration in which the contact area with the wafer is minimized, and contamination of the wafer can be prevented.

また、上述したウェーハ収納装置は、その全体が移送手
段側を上にして若干傾斜された構成となっていることか
ら、−度ウェーハホルダーに収納されたウェーハは該ホ
ルダから外れて落とすというようなことを極力なくすこ
とができる。
In addition, since the above-mentioned wafer storage device has a structure in which the entire device is slightly inclined with the transfer means side facing upward, the wafers stored in the wafer holder may come off and drop from the holder. You can eliminate this as much as possible.

なお、ウェーハが収納手段に収納される際、収納手段へ
の直接の当接は上記緩和手段によって押えることができ
るので、たとえホルダが硬質性のもので構成されていて
もウェーハの欠損をなくすことができる。
In addition, when the wafer is stored in the storage means, direct contact with the storage means can be suppressed by the above-mentioned relaxation means, so even if the holder is made of a hard material, damage to the wafer can be eliminated. I can do it.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明によるウェーハ収納装置の一実施例を第1
図ないし第8図に基づいて説明する。ここで、第1図は
前記ウェハ収納装置の全体構成図、第2図は前記ウェハ
収納装置に用いられる炭化珪素材質のウェハホルダー(
以下SiCホルダーと称す)を示す図、第3図は前記ウ
ェハ収納装置と用いられるウェハ移送手段とショック緩
和手段を示す平面図、第4図は第3図のA−A線におけ
る断面図、第5図および第6図は前記ウェーハ装置のウ
ェハピックアップ手段の説明図、第7図は第6図のB−
B矢視図である。
Hereinafter, a first embodiment of the wafer storage device according to the present invention will be described.
This will be explained based on FIGS. 8 through 8. Here, FIG. 1 is an overall configuration diagram of the wafer storage device, and FIG. 2 is a wafer holder (made of silicon carbide) used in the wafer storage device.
3 is a plan view showing the wafer transport means and shock mitigation means used with the wafer storage device; FIG. 4 is a sectional view taken along line A-A in FIG. 3; 5 and 6 are explanatory diagrams of the wafer pickup means of the wafer apparatus, and FIG.
It is a view from arrow B.

まず、第1図において、気体噴出穴4−1を有するウェ
ハースライダー4によりウェハ14を浮上させながら一
定方向aへ移送させるウェハ移送部がある。
First, in FIG. 1, there is a wafer transfer section in which a wafer 14 is transferred in a certain direction a while being floated by a wafer slider 4 having gas ejection holes 4-1.

また、このウェーハ移送部のウェハ移送終端部には、S
iCホルダー3を載置する載置台15゜この載置台15
に取付けられ前記SiCホルダー3を保持するためのホ
ルダー押付部材11と、ホルダー押付部材11を移動さ
せるエアーシリンダー12と、前記載置台15と結合し
前記載置台15及びSiCホルダー3を図中C方向へ昇
降動作させるためのボールスクリュー8′、パルスモー
タ8及びSiCホルダー3の溝を検出する光センサ−7
とで構成されるホルダー昇降機構がある。
Also, at the wafer transfer terminal end of this wafer transfer section, S
Mounting table 15 on which iC holder 3 is placed This mounting table 15
A holder pressing member 11 that is attached to and holds the SiC holder 3; an air cylinder 12 that moves the holder pressing member 11; A ball screw 8' for raising and lowering the holder, a pulse motor 8, and an optical sensor 7 for detecting the groove of the SiC holder 3.
There is a holder elevating mechanism consisting of.

さらに、前記ウェハスライダー4より移送されたウェハ
14を、SiCホルダー3の溝穴部3′(第2図参照)
内を通過して図中す方向へ動作する。エアーシリンダー
13と直結したシ馬ツクアブソーバプレート2より構成
されるウェハショック緩和機構が備えられている。
Furthermore, the wafer 14 transferred from the wafer slider 4 is placed in the slot 3' of the SiC holder 3 (see FIG. 2).
It moves in the direction shown in the figure. A wafer shock mitigation mechanism is provided which includes a shock absorber plate 2 directly connected to an air cylinder 13.

さらに、上下動作するエアーシリンダー10、このエア
ーシリンダー10に結合され水平左右動作するエアーシ
リンダー9a、エアーシリンダー9bに取付けられウェ
ハ14を持ち上げる持上げ板1a、lb→とで構成され
るウェハピックアップ機構とが備えられている。
Further, there is a wafer pickup mechanism consisting of an air cylinder 10 that moves up and down, an air cylinder 9a coupled to the air cylinder 10 that moves horizontally and left and right, and lifting plates 1a and 1b that are attached to the air cylinder 9b and lift up the wafer 14. It is equipped.

以上の4つのユニットで構成され全体が傾斜角度θ(約
15°〜30”位)をもって装置全体が構成されている
The entire device is composed of the above four units and has an inclination angle θ (approximately 15° to 30”).

次に第2図を用いて前記SiCホルダー3の構成につい
て説明する。前記SiCホルダー3は半円の断面を有し
、内面において溝ピッチPは3/64インチ(1,19
mm)で溝@W0.6mm、溝数100溝で構成され、
詳細なピッチで約0.2mm厚のウェハ14を収納でき
るようになっている。
Next, the structure of the SiC holder 3 will be explained using FIG. 2. The SiC holder 3 has a semicircular cross section, and the groove pitch P on the inner surface is 3/64 inch (1,19
Consists of 100 grooves with a width of 0.6 mm (mm) and a width of 0.6 mm.
Wafers 14 having a thickness of about 0.2 mm can be stored at a precise pitch.

この溝は、特殊な研削加工により形成されるようになっ
ており、溝ピッチPの精度±P及び全溝長D(117,
81mm)の精度±dは±0.05++m以下と高精度
に仕上げられるが、外形は焼結にて製作されるようにな
っている。従って端面Eから末端溝3bまでの寸法Fの
精度が確保されに<<。
This groove is formed by a special grinding process, and the accuracy of the groove pitch P is ±P and the total groove length D (117,
81mm) is finished with high accuracy, with an accuracy of ±0.05++m or less, and the outer shape is manufactured by sintering. Therefore, the accuracy of the dimension F from the end surface E to the end groove 3b is ensured.

最初にウェハ14を収納する初期溝3aまでの寸法(F
+D)の寸法精度が確保されにくい、このため従来技術
の例として第8図のように容易に端面Eを載置台上ヘセ
ットしただけではH= (F+D)の寸法精度が確保で
きず最初にウェハを収納する溝3aとベルトコンベア上
のウェハとの高さ位置が合わず収納が不可能となってし
まうものとなっていたのである。
The dimension (F
It is difficult to ensure the dimensional accuracy of H=(F+D) by simply setting the end face E on the mounting table as shown in Figure 8 as an example of the conventional technology, and the dimensional accuracy of H = (F+D) cannot be ensured. The groove 3a in which the wafers are stored does not match the height of the wafers on the belt conveyor, making it impossible to store the wafers.

以下本発明の動作について説明する。The operation of the present invention will be explained below.

(1)第1図において、SiCホルダー3を載置台15
上へ人手によりセットする。そして図示しない制御回路
のスタートスイッチ操作により、エアーシリンダー12
が前進、SiCホルダー3をホルダー押付部材11によ
り押付け、保持する。
(1) In Fig. 1, the SiC holder 3 is placed on the mounting table 15.
Set it upward manually. Then, by operating a start switch of a control circuit (not shown), the air cylinder 12
moves forward, and the SiC holder 3 is pressed and held by the holder pressing member 11.

以下述べる各動作は、シーケンスプログラマ−又はマイ
コン制御等によって各部の動作が連続自動作動されるよ
うになっている。
Each operation described below is continuously and automatically operated by a sequence programmer or microcomputer control.

(2)上述の動作終了後(すなわち、エアーシリンダー
12の前進動作後)自動的にパルスモータ8が回転しボ
ールスクリュー8′と結合した載置台15が下降動作さ
れ(載置台15上には前述のエアーシリンダー12、ホ
ルダー押付部材11、SiCホルダー3が一体化してお
り両者とも下降動作する。)SiCホルダー3の末端溝
3bが光センサ7によって検出され、これと同時にパル
スモータ8の回転が停止される。この結果、ウェハ14
が最初に収納されるSiCホルダー3の初期溝3aとウ
ェハスライダー4面との位置出しが可能となり、前述し
た外形端面Eから初期13a位置までの寸法がたとえ精
度よく形成されていない本SiCホルダー3の場合であ
っても、収納されるウェハ14との精度よいレベル出し
が可能となるようになる。
(2) After the above operation is completed (that is, after the air cylinder 12 moves forward), the pulse motor 8 automatically rotates, and the mounting table 15 connected to the ball screw 8' is moved downward (the above-mentioned The air cylinder 12, the holder pressing member 11, and the SiC holder 3 are integrated, and they all move downward.) The end groove 3b of the SiC holder 3 is detected by the optical sensor 7, and at the same time, the rotation of the pulse motor 8 is stopped. be done. As a result, wafer 14
This makes it possible to align the initial groove 3a of the SiC holder 3 in which the wafer slider 3 is initially stored and the 4 surface of the wafer slider. Even in this case, it becomes possible to accurately level the wafers 14 to be stored.

(3)次にこのような動作終了後人手により制御回路の
収納スイッチをONすると、エアーシリンダー13によ
りショックアブソーバプレート2がSiCホルダー3の
開穴部3′を通過して前進動作する。このショックアブ
ソーバプレート2は、第3図および第4図に示すように
前進位置はこれから収納されるウェハ14がSiCホル
ダー3と衝突して生じるチッピングを防止するためSi
Cホルダ内面3′位置よりも若干前進したところで停止
するよう予め調整されるようになっている。
(3) Next, when the storage switch of the control circuit is turned on manually after such an operation is completed, the shock absorber plate 2 passes through the opening 3' of the SiC holder 3 and moves forward by the air cylinder 13. As shown in FIGS. 3 and 4, this shock absorber plate 2 is designed to prevent chipping caused by the wafer 14 to be stored in the forward position colliding with the SiC holder 3.
It is adjusted in advance to stop at a position slightly advanced from the C holder inner surface 3' position.

また、ショックアブソーバプレート2の先端には弾性体
2′ (例えばウレタンゴム材質)が結合されており衝
突時のall!力を緩和する作用を有している。この収
納スイッチ操作でショックアブソーバプレート2が前進
すると同時にウェハスライダー4の気体噴出穴4−1か
らも気体(たとえば、フィルターを経由した異約のない
窒素ガス)が噴出され、人手によりウェハ14をウェハ
スライダー4にセットすると第1図に示すa方向に移送
されショックアブソーバプレート2の弾性体2′に到達
する。このように到達すると第3図における光センサ−
6がウェハ14を検知し、この検知信号を受けてエアー
シリンダー13がゆっくり後退動作し、ウェハチッピン
グを発生させることなくSiCホルダー3の初期溝3a
に収納することができる。そして、前記光センサ−6の
検知と同時に気体噴出も停止するようになる。ここで、
第3図に於ける光センサ−5はウェハ14がSiCホル
ダー3内に収納されなかった場合、ウェハ14を感知し
収納エラー信号を発生させるようになっており、このた
め第3図の如き正常収納されたウェハ14の外周よりは
ずれた位置に取付けである。
In addition, an elastic body 2' (for example, made of urethane rubber material) is connected to the tip of the shock absorber plate 2, so that when a collision occurs, all! It has the effect of alleviating force. When the storage switch is operated, the shock absorber plate 2 moves forward, and at the same time, gas (for example, nitrogen gas that has been passed through a filter) is ejected from the gas ejection hole 4-1 of the wafer slider 4, and the wafer 14 is manually removed from the wafer 14. When set on the slider 4, it is transferred in the direction a shown in FIG. 1 and reaches the elastic body 2' of the shock absorber plate 2. When reached in this way, the optical sensor in Figure 3 -
6 detects the wafer 14, and in response to this detection signal, the air cylinder 13 moves slowly backward, and the initial groove 3a of the SiC holder 3 is closed without causing wafer chipping.
can be stored in. Then, the gas jetting also stops at the same time as the optical sensor 6 detects the detection. here,
The optical sensor 5 in FIG. 3 detects the wafer 14 and generates a storage error signal when the wafer 14 is not stored in the SiC holder 3. Therefore, the normal state as shown in FIG. It is attached at a position away from the outer periphery of the stored wafer 14.

(4)  さらに、第1図に示すように、エアーシリン
ダー13の後退動作終了信号を受けて、制御回路より自
動的にパルスモータ8へSiCホルダー3の溝ピッチP
(1,19+am)に匹敵するパルス数を数え載置台1
5、すなわちSiCホルダー3は溝ピッチP寸法に合わ
せてピッチ上昇され、再び次の溝と、ウェハスライダー
4面とのレベル合せが完了する。
(4) Furthermore, as shown in FIG. 1, upon receiving the signal for the end of the backward movement of the air cylinder 13, the control circuit automatically transfers the groove pitch P of the SiC holder 3 to the pulse motor 8.
Count the number of pulses comparable to (1,19+am)
5, that is, the pitch of the SiC holder 3 is raised in accordance with the groove pitch P dimension, and the level alignment between the next groove and the surface of the wafer slider 4 is completed again.

(5)次に再び制御回路の収納スイッチをONにすると
ウェハピックアップ機構200が動作する。
(5) Next, when the storage switch of the control circuit is turned ON again, the wafer pickup mechanism 200 operates.

この過程を第5図ないし第7図を用いて説明する。This process will be explained using FIGS. 5 to 7.

初期溝3aに収納されたウェハ14aは、溝幅W(約0
.6mm)ウェハ厚t’  (約0.2mm)との差に
よりウェハ先端が前下がり状態となり、次に収納される
ウェハ14bの移送を阻止することになってしまう。こ
れを防止するための機構がウェハピックアップ機構20
0である。これは図中e方向へ上下動するエアーシリン
ダー10上へf′f′方向に左右水平動作するエアーシ
リンダ9a。
The wafer 14a accommodated in the initial groove 3a has a groove width W (approximately 0
.. 6 mm) and the wafer thickness t' (approximately 0.2 mm), the leading edge of the wafer is tilted forward, which prevents the transfer of the next wafer 14b to be stored. A mechanism for preventing this is the wafer pickup mechanism 20.
It is 0. This is an air cylinder 9a that moves horizontally horizontally in the direction f'f' above the air cylinder 10 that moves up and down in the direction e in the figure.

9bを取付けたブロック9を結合させ、エアシリンダー
9a、9bにはウェハ14aの持上げ板la、lbが組
立てられた構成となっている。まず前述の収納スイッチ
をON操作するとエアーシリンダー10が上昇動作し、
第6図に示すように、持上げ板1b(及びla)により
、既に溝3aに収納されたウェハ14aを持ちあげる。
The block 9 to which the wafer 14a is attached is connected to the air cylinders 9a and 9b, and the lifting plates la and lb for the wafer 14a are assembled to the air cylinders 9a and 9b. First, when the above-mentioned storage switch is turned ON, the air cylinder 10 moves upward.
As shown in FIG. 6, the wafer 14a already accommodated in the groove 3a is lifted up by the lifting plate 1b (and la).

これと同時にウェハスライダー4より気体が噴出される
At the same time, gas is ejected from the wafer slider 4.

又、この際前述のショックアブソーバプレート2の前進
動も行なわれる0人手により再び収納すべきウェハ14
bをウェハスライダー4面上をセットすると、持上げ板
1b (la)とスライダー4面とのスキマδをぬって
溝3Cに収納され、前述したと同じようにショックアブ
ソーバプレート2で受けとられて後退する。ショックア
ブソーバプレート2が後退した後ウェハーピックアップ
機構200のエアーシリンダー9a、9bはf′方向に
動作しウェハ14a外周からはずれ、f′動作終了後エ
アーシリンダー10は下降動作する。このf′動作はウ
ェハ14aの下に位置するウェハ14bの割れを防止す
るための手段であり、持ち上げ板1a、lbの板厚tは
ウェハホルダー3の溝ピッチPより溝幅Wより薄くなっ
ている(1<(P−W))ことが必要である。エアーシ
リンダー10の下降動作終了信号をうけエアーシリンダ
ー9a、9bはf′方向へのもどり動作が行なわれ、こ
れにより一連のウェハピックアップ機構200の一連の
動作が終了することになる。
Also, at this time, the wafer 14 to be stored again is moved manually by the above-mentioned forward movement of the shock absorber plate 2.
When b is set on the 4th side of the wafer slider, it is stored in the groove 3C through the gap δ between the lifting plate 1b (la) and the 4th side of the slider, and is received by the shock absorber plate 2 and moved back in the same way as described above. do. After the shock absorber plate 2 retreats, the air cylinders 9a and 9b of the wafer pickup mechanism 200 move in the f' direction and come off the outer periphery of the wafer 14a, and after the f' operation is completed, the air cylinder 10 moves downward. This f' operation is a means to prevent the wafer 14b located below the wafer 14a from cracking, and the thickness t of the lifting plates 1a and lb is thinner than the groove pitch P and the groove width W of the wafer holder 3. (1<(P-W)). In response to the signal indicating the end of the downward movement of the air cylinder 10, the air cylinders 9a and 9b return to the f' direction, thereby completing the series of operations of the wafer pickup mechanism 200.

(6)  このような動作終了信号をうけ自動的に前述
(4)の動作が行なわれ、再び前述(5)の動作を繰返
すようになる。
(6) Upon receiving such an operation end signal, the operation (4) described above is automatically performed, and the operation (5) described above is repeated again.

(4)以下(4)から(5)動作の繰返しとなり、制御
回路に内蔵したカウンターにて、この繰返し動作が10
0回(S i Cホ)Ltダー3の溝数100溝と同数
値)を感知したら、SiCホルダー3ヘウエハ14が充
満されたこととなり、パルスモータ8によって載置台1
5を最初の高さレベルまで自動的に上昇し、上昇終了後
エアーシリンダー12が後退動作し、SiCホルダー3
の保持を解放するようになる。
(4) The following operations (4) to (5) are repeated, and a counter built into the control circuit calculates that this repeated operation is 10
When the SiC holder 3 is filled with wafers 14, the pulse motor 8 moves the mounting table 1
5 automatically rises to the initial height level, and after completing the rise, the air cylinder 12 moves backward, and the SiC holder 3
will release the hold on it.

なお、上述した一連の過程において、ウェハ収納装置1
00自身が第1図に示すように全体がθの角度(約15
〜30度)で傾斜しているため、いったんSiCホルダ
ー3内に収納されたウェハ14はとび出すこともなく安
定した収納処理が可能となる。
In addition, in the series of processes described above, the wafer storage device 1
As shown in Figure 1, 00 itself is at an angle of θ (approximately 15
Since the wafer 14 is tilted at an angle of ~30 degrees, the wafer 14 once stored in the SiC holder 3 does not come out and can be stored stably.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したことから明らかなように、本発明によるウ
ェーハ収納装置によれば、ウェーハを収納する収納手段
を上昇させる上昇移動手段において、ホルダの最下端の
溝を検出するセンサを備え、このセンサによって検出さ
れた該最下端溝を基準として前記ホルダを上昇させる構
成をとっている。
As is clear from the above explanation, according to the wafer storage device according to the present invention, the lifting means for raising the storage means for storing wafers is provided with a sensor for detecting the groove at the lowest end of the holder. The holder is raised based on the detected lowest groove.

このため、前記ホルダにおいては前記溝が等しいピッチ
で形成されていれば移送手段から移送されてくるウェハ
がウェーハホルダーの置溝に円滑に収納されるようにな
り、前記ウェーハホルダーの側面に衝突して欠損が生じ
るということはなくなる。
Therefore, in the holder, if the grooves are formed at equal pitches, the wafer transferred from the transfer means will be smoothly accommodated in the placement groove of the wafer holder, and will not collide with the side surface of the wafer holder. This eliminates the possibility of defects occurring.

また、前記ホルダを石英ガラスあるいは炭火珪素によっ
て形成することにより、該材料は硬質のものであること
から前記溝は極めて狭いピッチで形成することもできる
。このことは一つのホルダにそれだけウェーハを収納す
ることができ1作業の能率化を図ることができる。
Furthermore, by forming the holder from quartz glass or charcoal silicon, the grooves can be formed at an extremely narrow pitch since the material is hard. This allows a single holder to accommodate as many wafers as possible, thereby increasing the efficiency of one operation.

しかも、前記ホルダは、断面半円状からなっているため
、ウェーハとの接触部分を極力少なくした構成からなり
、ウェーハの汚染等を防ぐこともできる。
Moreover, since the holder has a semicircular cross-section, the holder has a configuration in which the contact area with the wafer is minimized, and contamination of the wafer can be prevented.

また、上述したウェーハ収納装置は、その全体が移送手
段側を上にして若干傾斜された構成となっていることか
ら、−度ウェーハホルダーに収納されたウェーハは該ホ
ルダから外れて落とすというようなことを極力なくすこ
とができる。
In addition, since the above-mentioned wafer storage device has a structure in which the entire device is slightly inclined with the transfer means side facing upward, the wafers stored in the wafer holder may come off and drop from the holder. You can eliminate this as much as possible.

なお、ウェーハが収納手段に収納される際、収納手段へ
の直接の当接は上記緩和手段によって押えることができ
るので、たとえホルダが硬質性のもので構成されていて
もウェーハの欠損をなくすことができる。
In addition, when the wafer is stored in the storage means, direct contact with the storage means can be suppressed by the above-mentioned relaxation means, so even if the holder is made of a hard material, damage to the wafer can be eliminated. I can do it.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は前記ウェハ収納装置の全体構成図、第2図は前
記ウェハ収納装置に用いられる炭化珪素材質のウェハホ
ルダー(以下SiCホルダーと称す)を示す図、第3図
は前記ウェハ収納装置に用いられるウェハ移送手段とシ
ョック緩和手段を示す平面図、第4図は第3図のA−A
線における断面図、第5図および第6図は前記ウェーハ
装置のウェハピックアップ手段の説明図、第7図は第6
図のB−B矢視図、第8図は従来のウェーハ収納装置の
一例を示す構成図である。 la、lb・・・持上げ板、 2・・・ショックアブソーバプレート、3・・・SiC
ホルダー 4・・・ウェハスライダー 7・・・光センサ、 8・・・パルスモータ、 100・・・ウェハ収納装置、 200・・・ウェハピックアップ機構。
FIG. 1 is an overall configuration diagram of the wafer storage device, FIG. 2 is a diagram showing a wafer holder made of silicon carbide (hereinafter referred to as SiC holder) used in the wafer storage device, and FIG. 3 is a diagram showing the wafer storage device. A plan view showing the wafer transfer means and shock mitigation means used, FIG. 4 is taken from A-A in FIG.
5 and 6 are explanatory diagrams of the wafer pickup means of the wafer apparatus, and FIG.
FIG. 8, which is a view taken along the line B--B in the figure, is a configuration diagram showing an example of a conventional wafer storage device. la, lb...lifting plate, 2...shock absorber plate, 3...SiC
Holder 4... Wafer slider 7... Optical sensor, 8... Pulse motor, 100... Wafer storage device, 200... Wafer pickup mechanism.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、ウェーハを一枚ごとに移送する移送手段と、この移
送手段から移送されるウェーハを収納する収納手段と、
この静納手段を上昇させる上昇移動手段とからなり、前
記収納手段は、前記移送手段側に開口を有した断面半円
状の部材からなりその内壁に前記ウェーハの周囲を支え
る溝を前記移送手段上のウェーハ移送方向と直交する方
向へ並設させたホルダから構成され、かつ前記上昇移動
手段は、前記並設された溝のうち最下端の溝を検出する
センサを備えるとともに、該センサによって検出された
前記最下端溝を基準として前記ウェーハの収納毎に前記
溝のピッチ分だけ順次上昇させるように構成されている
ことを特徴とするウェーハ収納装置。 2、請求項第1記載において、全体的に前記移送手段側
を上にして若干傾斜されていることを特徴とするウェー
ハ収納装置。 3、ウェーハを一枚ごとに移送する移送手段と、この移
送手段から移送されるウェーハを収納する収納手段と、
この収納手段にウェーハが収納される際前記ウェーハの
前記収納手段に対する当接を緩和する手段と、この収納
手段を上昇させる上昇移動手段と、からなり、前記収納
手段は前記移送手段側に開口を有した断面半円状の部材
からなりその内壁に前記ウェーハの周囲を支える溝を前
記移送手段上のウェーハ移送方向と直交する方向へ並設
させたホルダから構成され、前記緩和手段は、前記移送
手段から移送されるウェーハを含む平面内でかつ前記収
納手段を間において前宮移送手段の設置個所と反対側に
設置され、かつ前記ホルダに形成された溝と直交して設
けられた長孔を適して前記移送手段側へ移動可能なショ
ックアブソーバプレートによって構成され、前記上昇移
動手段は前記並設された溝のうち最下端の溝を検出する
センサを備えるとともに、このセンサによって検出され
た前記最下端溝を基準として前記ウェーハの収納毎に前
記溝のピッチ分だけ順次上昇させるように構成されてい
ることを特徴とするウェーハ収納装置。 4、請求項第4記載において、全体的に前記移送手段側
を上にして若干傾斜されていることを特徴とするウェー
ハ収納装置。
[Claims] 1. A transfer means for transferring wafers one by one; a storage means for storing wafers transferred from the transfer means;
a lifting means for raising the static storage means; the storage means is a member having a semicircular cross section with an opening on the side of the transfer means; The ascending moving means includes holders arranged in parallel in a direction perpendicular to the upper wafer transfer direction, and the upward moving means includes a sensor that detects the lowest groove among the arranged grooves, and the sensor detects the lowest groove. A wafer storage device characterized in that the wafer storage device is configured to sequentially raise the wafer by the pitch of the groove each time the wafer is stored, with reference to the lowermost groove. 2. The wafer storage device according to claim 1, wherein the wafer storage device is slightly inclined as a whole with the transfer means side facing upward. 3. A transfer means for transferring the wafers one by one; a storage means for storing the wafers transferred from the transfer means;
The storage means includes means for relaxing the contact of the wafer against the storage means when the wafer is stored in the storage means, and a lifting means for raising the storage means, and the storage means has an opening on the transfer means side. The holder is made of a member having a semicircular cross section and has grooves on its inner wall that support the circumference of the wafer arranged in parallel in a direction perpendicular to the wafer transfer direction on the transfer means, and the relaxation means A long hole is provided within a plane containing the wafers to be transferred from the means, on the opposite side of the installation location of the forecourt transfer means with the storage means in between, and perpendicular to the groove formed in the holder. It is suitably constituted by a shock absorber plate movable toward the transfer means, and the upward movement means includes a sensor for detecting the lowest groove among the grooves arranged in parallel, and the lowermost groove detected by this sensor. A wafer storage device characterized in that the wafer storage device is configured to sequentially raise the wafer by the pitch of the groove each time the wafer is stored, with the lower end groove as a reference. 4. The wafer storage device according to claim 4, wherein the wafer storage device is slightly inclined as a whole with the transfer means side facing upward.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002261145A (en) * 2001-03-02 2002-09-13 Kanayama Seiki Co Ltd Wafer taking-out and storing device

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