JPH03105948A - Semiconductor memory device - Google Patents
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- JPH03105948A JPH03105948A JP1244078A JP24407889A JPH03105948A JP H03105948 A JPH03105948 A JP H03105948A JP 1244078 A JP1244078 A JP 1244078A JP 24407889 A JP24407889 A JP 24407889A JP H03105948 A JPH03105948 A JP H03105948A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔目次〕
4Q娑
産業上の利用分野
従来の技術(第5図)
発明が解決しようとする課題
課題を解決するための手段(第1図)
作用
実施例(第2図〜第41A)
発明の効果
〔概要〕
半導体記憶装置、特にウエ/\スケールのメモリを再構
或し、1つの記憶装置として用いる際の欠陥メモリの回
避に関し、
該ウェハスケールのメモリの再横或論理回路が故障した
場合であっても、電源線と欠陥メモリとを分離し、該欠
陥メモリを再現性よく回避して無駄な消費電力の低減化
を図ることを目的とし、電源線にスイッチングトランジ
スタを介して接続された記憶回路と、i1I記記t.Q
ri′jIll′Rへの電源供給制御をするスイッチ
ングトランジスタと、前記スイッチングトランジスタの
ゲート制御をする制御論理回路とを具備する半導体記憶
装置において、前記スイッチングトランジスタと制御論
理回路との間に、保護対策回路を設け、前記保護対策回
路は、前記電源線と接地線との間に直列接続されたヒュ
ーズ素子および抵抗素子の接続点.制御論理回路の出力
点およびスイッチングトランジスタのゲートに接続され
た論理出力回路からなることを含み構成する.
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体記憶装置に関するものであり、更に詳
しく言えばウ玉ハスケールのメモリを再構威し、1つの
記憶装置として用いる腔の欠陥メモリの回避に関するも
のである。[Detailed Description of the Invention] [Table of Contents] 4Q Industrial Application Fields Prior Art (Figure 5) Problems to be Solved by the Invention Means for Solving the Problems (Figure 1) Working Examples (Second Embodiment) Fig. 41A) Effects of the invention [Summary] Concerning the avoidance of defective memory when reconfiguring a semiconductor memory device, especially a wafer scale memory, or using it as a single memory device, Even in the event of a failure in a logic circuit, switching is applied to the power supply line in order to separate the power supply line from the defective memory, avoid the defective memory with good reproducibility, and reduce unnecessary power consumption. A memory circuit connected via a transistor, and i1I notation t. Q
In a semiconductor memory device comprising a switching transistor that controls power supply to ri'jIll'R and a control logic circuit that controls the gate of the switching transistor, protective measures are provided between the switching transistor and the control logic circuit. A circuit is provided, and the protection circuit includes a connection point between a fuse element and a resistance element connected in series between the power supply line and the ground line. It consists of a logic output circuit connected to the output point of the control logic circuit and the gate of the switching transistor. [Industrial Field of Application] The present invention relates to a semiconductor memory device, and more specifically, it relates to the reconstruction of a large scale memory and the avoidance of a defective memory in a cavity used as a single memory device. .
近年、コンピュータシステムの高性能化はめざましく、
1システム当たりのメモリ使用量がセ速に伸びている。In recent years, the performance of computer systems has improved dramatically.
Memory usage per system is increasing rapidly.
このため、大容醗で、かつコンパクトなメモリシステム
として、ウヱハスケールメモリが開発製造された。For this reason, wafer scale memory was developed and manufactured as a large capacity and compact memory system.
ところで、ウェハスケールのメモリを再構戒する場合、
再構成論理回路が故障しても、これをバックアップする
ことができる装置が望まれている。By the way, when reconsidering wafer-scale memory,
There is a need for a device that can back up the reconfigurable logic circuit even if it fails.
〔従来の技術]
第5図は、従来例の半導体記憶装直に係る摺或図である
。[Prior Art] FIG. 5 is a schematic diagram of a conventional semiconductor memory device.
同図は、ウェハスケールのメモリ全体図と、lつのメモ
リ回路に係る構威図を示している。This figure shows an overall diagram of a wafer-scale memory and a configuration diagram of one memory circuit.
図において、ウエハスケールのメモリは、半導体ウエハ
IEに形成された複数のメモリ回路2を欠陥メモリ回路
5を回避しながら通信経路3を介して結線され、再構成
されてなるものである。In the figure, a wafer-scale memory is constructed by connecting and reconfiguring a plurality of memory circuits 2 formed on a semiconductor wafer IE via communication paths 3 while avoiding defective memory circuits 5.
メモリ回路2は、記憶素子CDRAM)2a書込み/涜
出し制11l論理回路(CONLOG2)2b,再横或
用論理回路(CONLOC: ] )2 cおよびスイ
ッチングトランジスタQ八からなる。The memory circuit 2 includes a storage element CDRAM (CDRAM) 2a, a write/output control logic circuit (CONLOG2) 2b, a read/write logic circuit (CONLOG2) 2c, and a switching transistor Q8.
スイッチングトランジスタQAは、DRAM2aへの電
源供給制御をするPチャネルMosトランジスタであり
、C O N L O G (Configurati
onLogic)から出力されるゲート制御信号により
「○NJ, rOFF.制御される。The switching transistor QA is a P-channel Mos transistor that controls power supply to the DRAM 2a, and is configured as a
○NJ, rOFF. is controlled by the gate control signal output from onLogic).
C O N L O G lは、DRAM2aが内部故
障等の理由により電源電流の供給をすることができない
場合、該DRAM2aを欠陥メモリとして取扱い、そこ
への電源供給を切断するものである。これにより、DR
AM2aがウェハスケールメモリの構成対象から除外さ
れる。When the DRAM 2a cannot be supplied with power supply current due to an internal failure or the like, the C O N L O G l treats the DRAM 2a as a defective memory and cuts off the power supply to it. This allows DR
AM2a is excluded from the configuration of the wafer scale memory.
〔発明が解決しようとする[!)
ところで、従来例によれば、欠陥のあるDRAM2aを
ウエハスケールのメモリの構成対象から除外する場合、
CONLOGlから「L」レベルのゲート制御信号がト
ランジスタQAに入力される。これにより、該トランジ
スタQAがrOFF.され、DRAM2aと電源線V
C Cとを分則している.
しかし、CONLOGIがプロセス上の何らかの原因で
DRAM2aを構成対象から除外する内容の論理を受け
た場合であっても、rH,レヘルをトランジスタQAに
出力することがある。[The invention attempts to solve the problem] ) By the way, according to the conventional example, when excluding the defective DRAM 2a from the configuration of wafer scale memory,
A gate control signal of "L" level is input from CONLOGl to transistor QA. This causes the transistor QA to turn rOFF. and the DRAM2a and power line V
It is divided into C and C. However, even if CONLOGI receives logic that excludes the DRAM 2a from the configuration for some reason in the process, it may output rH to the transistor QA.
これは、DRAM2aの欠陥発生原因と同様に、十分な
製造管理をしていた場合でも、シリコンウェハおよびウ
エハプロセス中に原始的に発生した欠陥結晶を含む基仮
にトランジスタが形成されたために、これを原因として
該トランジスタの出力が反転したり、アルミニウム配線
がプロセス上の何らかの原囚で層間短絡が発生し、これ
に起因して論理出力が反転したものと考えられる。Similar to the cause of defects in DRAM2a, even with sufficient manufacturing control, transistors are formed on silicon wafers and contain defective crystals that originally occurred during the wafer process. It is thought that the cause was that the output of the transistor was inverted, or that an interlayer short circuit occurred due to some kind of process defect in the aluminum wiring, which caused the logical output to be inverted.
このため、欠陥メモリの同避処理を実行し7た場合であ
っても、トランジスタQAがrON,Lて、?ilti
lj;t線VCCと、内部故障等を起こしたDRAM2
aとが接続される。この結果、電源線■CCから該DR
AM2aにショート電流が流れる。これにより、他のメ
モリ回路への印加電圧が低下したり、特にスタンバイ時
のウェハ全体の消費電力が増加するという問題がある.
本発明は、かかる従来例の問題点に鑑みて創作されたも
のであり、ウエハスケールのメモリの再構成論Fl!回
路が故障した場合であっても、電源線と欠陥メモリとを
分即し、該欠陥メモリを再現性よく回避して無駄な消費
電力の低減化を図ることを可能とする半導体記憶装置の
提供を目的とする。Therefore, even if the defective memory avoidance process is executed, the transistor QA is turned on, low, and ? ilti
lj; t-line VCC and DRAM2 that has caused an internal failure, etc.
a is connected. As a result, from the power line ■CC to the corresponding DR
A short current flows through AM2a. This causes problems such as a decrease in the voltage applied to other memory circuits and an increase in the power consumption of the entire wafer, especially during standby. The present invention was created in view of the problems of the conventional example, and is a wafer-scale memory reconfiguration theory Fl! To provide a semiconductor memory device that can reduce wasteful power consumption by separating a power supply line from a defective memory and avoiding the defective memory with good reproducibility even when a circuit breaks down. With the goal.
第1図は、本発明の半導体記憶装置に係る原理図を示し
ている。FIG. 1 shows a principle diagram of a semiconductor memory device of the present invention.
その装置は、電源線vCCにスイッチングトランジスタ
QAを介して接続された記憶回1811と、前記記憶回
路11への電源供給制IIIをするスイッチングトラン
ジスタQAと、前記スイッチングトランジスタQAのゲ
ート制御をする制御論理回路I2とを具備する半導体記
憶装置において、前記スイッチングトランジスタQAと
制1n論理回路12との間に、保護対策回路工3を設け
、前記保護対策回路13は、前記電源線VCCと接地線
GNDとの間に直列接続されたヒューズ素子Fおよび抵
抗素子Rの接続点P,制御論理回路12の出力点および
スイッチングトランジスタQAのゲートGに接続された
論理出力回路13aからなることを特徴とし、上記目的
を達威する。The device includes a memory circuit 1811 connected to a power supply line vCC via a switching transistor QA, a switching transistor QA that controls the power supply to the memory circuit 11, and a control logic circuit that controls the gate of the switching transistor QA. In the semiconductor memory device having I2, a protection circuit 3 is provided between the switching transistor QA and the control 1n logic circuit 12, and the protection circuit 13 connects the power supply line VCC and the ground line GND. It is characterized by comprising a connection point P between a fuse element F and a resistance element R connected in series between them, a logic output circuit 13a connected to an output point of a control logic circuit 12, and a gate G of a switching transistor QA, and achieves the above object. be successful.
〔作用]
本発明によれば、スイッチングトランジスタQAと制御
論理回路との間に、ヒューズ素子F,抵抗素子Rおよび
論理出力同ii′313からなる保護対策回路I3が設
けられている。[Operation] According to the present invention, a protection circuit I3 consisting of a fuse element F, a resistor element R, and a logic output circuit ii'313 is provided between the switching transistor QA and the control logic circuit.
このため、制御論理回路12に故障がない通常時には、
従来例と同様に、保護対策回路13からスイッチングト
ランジスタQAに「L」レベルが出力され、電源線■C
Cと欠陥を起こした記憶回路11とを分離することがで
きる。また、制御論理回路12に故障が発生した異常時
には、ヒューズ素子Fを切断することにより、保護対策
回路13から該トランジスタQAにfL」レベルが出力
され、通常時と同様に、欠陥を起こした記憶回路11を
電fX線vCCから分離することができる。Therefore, under normal conditions when there is no failure in the control logic circuit 12,
As in the conventional example, the protection circuit 13 outputs the "L" level to the switching transistor QA, and the power supply line ■C
C and the memory circuit 11 in which the defect has occurred can be separated. In addition, in an abnormal situation where a failure occurs in the control logic circuit 12, by cutting the fuse element F, the protection countermeasure circuit 13 outputs the fL level to the transistor QA, and as in normal times, the faulty memory The circuit 11 can be separated from the electric fX-ray vCC.
従って、制御論理回路2の欠陥回避動作機能を保護対策
回路23によってバックアップすることが可能となる。Therefore, the defect avoidance function of the control logic circuit 2 can be backed up by the protection circuit 23.
これにより、従来例のように何らかの原因で制?TI論
理回路12が故障しても、記すC回路11等で生ずる無
駄な消費電力を防止することが可能となる。As a result, it is not possible to control the system for some reason like in the conventional example. Even if the TI logic circuit 12 fails, it is possible to prevent wasteful power consumption from occurring in the C circuit 11 and the like.
次に図を参照しながら本発明の実施例について説明をす
る。Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
第2〜4図は、本発明の実施例に係る半導体記憶装置を
説明する図であり、第2図は、本発明の実施例の半導体
記憶装置に係る構成図を示している。2 to 4 are diagrams for explaining a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 shows a configuration diagram of the semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention.
図において、20はメモリ回路であり、ウヱハスケール
のメモリを構或するものである。メモリ回路20は、I
ウェハに200個前後形威される。In the figure, 20 is a memory circuit, which constitutes a wafer scale memory. The memory circuit 20 has an I
Approximately 200 pieces are printed on a wafer.
2lは記憶回路lIの一実施例となるDRAM(記憶保
持動作が必要な随時書込み続出メモリ)であり、数Mb
itの記憶容景を有するものである。2l is a DRAM (continuous write memory that requires memory retention operation) which is an example of the memory circuit lI, and has a capacity of several Mb.
It has a memory appearance of it.
22は制’+)tl論理回路12の一実施例となる再構
或川論理回路(以下、CONLOGIという)であり、
外部制御信号Sに基づいてDRA.M21を電源線■C
Cから分離したり、ハード的に周囲四方向に隣接してい
るメモリ回路20の中からデータの入出力経路を選択す
るものである。22 is a reconfigured logic circuit (hereinafter referred to as CONLOGI) which is an example of the CONLOGI logic circuit 12;
Based on the external control signal S, the DRA. Connect M21 to power line ■C
The data input/output path is selected from among the memory circuits 20 that are separated from the memory circuit 20 or adjacent to each other in four directions in terms of hardware.
23は保護対策回路13の一実施例となるフェイルセイ
フ回路であり、CONLOG Lの再横1戊機能をバッ
クアップするものである。フごイルセイフ回路23は、
二入力AND回路23a,ヒューズ素子Fおよび抵抗素
子Rからなる。二入力AND回路23aは、その出力が
スイッチングトランジスタQAのゲートに接続され、そ
の一方の人力がヒューズ素子Fと抵抗素子Rとの接続点
Pに接続されている。他方の入力は、C O N L
O G 1の出力点に接続されている。ヒューズ素子F
と抵抗素子Rとは、直列接続されて電源線vCCと接地
線GNDとの間に接続されている.これにより、ヒュー
ズ素子Fが溶断されない状態では、抵抗素子Rに現れる
電圧、すなわちP点の電位は「H」レベルとなる。また
、ヒューズ素子Fが溶断されると、P点の電位は「L」
レベルになるものである。なお、ヒューズ素子Fや抵抗
素子Rは、本発明の実施例ではポリシリコン系の抵抗素
子を用いている.
従って、フェイルセイフ回路23の機能は、C○Nし○
GlがrH,レベル,P点が「H」レヘルのときには、
二入力AND回路23aからrH,レベルのゲート制御
信号が出力される。これは、DRAM2 1にi源を供
給する場合の動作である。Reference numeral 23 denotes a fail-safe circuit which is an embodiment of the protection circuit 13, and serves as a backup for the CONLOG L's resetting function. The fugoil safety circuit 23 is
It consists of a two-input AND circuit 23a, a fuse element F, and a resistance element R. The output of the two-input AND circuit 23a is connected to the gate of the switching transistor QA, and one of its outputs is connected to the connection point P between the fuse element F and the resistance element R. The other input is C O N L
Connected to the output point of OG1. Fuse element F
and resistance element R are connected in series between the power supply line vCC and the ground line GND. As a result, when the fuse element F is not blown, the voltage appearing on the resistance element R, that is, the potential at the point P becomes "H" level. Furthermore, when fuse element F is blown, the potential at point P becomes "L".
It becomes a level. In the embodiment of the present invention, polysilicon-based resistance elements are used as the fuse element F and the resistance element R. Therefore, the function of the fail-safe circuit 23 is
When Gl is rH, level, P point is "H" level,
A gate control signal of rH level is output from the two-input AND circuit 23a. This is the operation when the i source is supplied to the DRAM21.
また、CONLOCIが「L」レベル.P点が「H」レ
ヘルのときには二人力AND回路23aから「L」レベ
ルが出力される。これはDRAM21への電源供給をカ
ットする場合の動作であり、CONLOG1が正常動作
している場合である。Also, CONLOCI is at "L" level. When the P point is at the "H" level, the two-man power AND circuit 23a outputs the "L" level. This is an operation to cut off the power supply to the DRAM 21, and is a case where CONLOG1 is operating normally.
さらに、CONLOG 1が「H」レベル,P点が「L
」レヘルのときには、二入力AND回路23aから「L
」レベルが出力される。これはDRAM21への電源供
給を力冫トする場合であり、CONLOG1にDR.A
M21への電源供給をカントする内容の制御情報を与え
たにもかかわらず、何らかの原因でCONLOG1から
rH,レヘルが出力されたため、ヒューズ素子Fを?容
断した場合である。これにより、P点が「L」レベルに
なることにより、フエイルセイフ回路23の出力(異常
時)が「L」レベルになるものである。Furthermore, CONLOG 1 is at “H” level and point P is at “L” level.
”, the two-input AND circuit 23a outputs “L”.
” level is output. This is a case where the power supply to the DRAM 21 is cut off, and the DR. A
Even though I gave the control information to cut off the power supply to M21, rH and Rehel were output from CONLOG1 for some reason. This is a case of refusal. As a result, the output of the fail-safe circuit 23 (at the time of abnormality) becomes the "L" level as the point P becomes the "L" level.
なお、24は書込み/続出し制御論理回路(以下、CO
NLOG2という)であり、DRAM21へのデータ書
込みやそこからのデータの読出しを制御するものである
。また、CONLOG2は、DRAM2 1と同様に、
スイッチングトランジスタQAを介して電源線VCCに
接続されている。In addition, 24 is a write/continuation control logic circuit (hereinafter, CO
NLOG2), which controls data writing to and data reading from the DRAM 21. Also, CONLOG2, like DRAM2 1,
It is connected to power supply line VCC via switching transistor QA.
QAはスイッチングトランジスタであり、フエイルセイ
フ回路からのゲート制御信号により、「ON」,「OF
F,動作するものである。本発明の実施例ではトランジ
スタQAは、Pチャネル型のMOS}ランジスタを用い
ている。QA is a switching transistor that can be turned on or off by a gate control signal from the fail-safe circuit.
F. It works. In the embodiment of the present invention, the transistor QA is a P-channel type MOS transistor.
これらにより、メモリ容量200メガビット級のウェハ
スケールメモリを形戒する半導体記憶装置を構成する。These constitute a semiconductor memory device that is a wafer scale memory with a memory capacity of 200 megabits.
ところで、メモリ回路20の人出力信号線は、ウェハプ
ロセス後るこDRAM21とCONLOG1やCONL
OG2の試験結果に基づいて、第5図に示すように、デ
ータ入出力ターミナル4からウヱハプロセス上で発生し
た欠陥を回避しながら通信経路3を選沢して結線される
。この際に欠陥のあるDRAM2 1等の動作機能を停
止させる必要がある。By the way, the human output signal line of the memory circuit 20 is connected to the DRAM 21, CONLOG1 and CONL after the wafer process.
Based on the test results of the OG2, as shown in FIG. 5, the communication path 3 is selected and connected from the data input/output terminal 4 while avoiding defects that occur on the wafer process. At this time, it is necessary to stop the operational functions of the defective DRAM 21, etc.
次に第2図のDRAM2 1を欠陥メモリと仮定し、該
メモリ回路20の機能を停止させる動作について説明す
る。Next, assuming that the DRAM 21 in FIG. 2 is a defective memory, the operation of stopping the function of the memory circuit 20 will be described.
第3図は、本発明の実施例の半導体記憶装置の通常時に
係る動作説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram of the normal operation of the semiconductor memory device according to the embodiment of the present invention.
図において、まず、DRAM2 1やC O N +−
○G2の動作機能を停止する内容の外部制御信号SをC
ON+、○Glに入力する。この際に、CONLOG
1が正常動作する場合には、二入力AND回路23aに
「L」レベルが出力される。また、P点はr }I J
レベルに保持される。In the figure, first, DRAM2 1 and C O N +-
○C the external control signal S that stops the operation function of G2.
Input to ON+, ○Gl. At this time, CONLOG
1 operates normally, an "L" level is output to the two-input AND circuit 23a. Also, point P is r }I J
held at the level.
次に、二入力AND回路23aからのゲート制御信号が
「L」レベルとなることから、トランジスタQAがrO
FFJ動作をする。Next, since the gate control signal from the two-input AND circuit 23a becomes "L" level, the transistor QA becomes rO
Performs FFJ operation.
コ.?l.!.mヨリ、DRAM2 1とcONLOG
2とは電源線vCCから分離され、当該メモリ回路20
がウェハスケールのメモリの構戒要素から欠陥回避され
る。Ko. ? l. ! .. m-yori, DRAM2 1 and cONLOG
2 is separated from the power supply line vCC, and the memory circuit 20
Defects are avoided from wafer-scale memory components.
第4図は、本発明の実施例の半導体記憶装置の異常時に
係る動作説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram of the operation of the semiconductor memory device according to the embodiment of the present invention in the event of an abnormality.
同図は、DRAM2 1やCONLOG2の動作機能を
停止させる内容の外部制御信号SをCONLOG 1に
入力したにもかかわらず、i9 C O N +−○G
1が何らかの原因でその出力がrH,レヘルを出力して
いる状態を示している。The figure shows that even though the external control signal S that stops the operating functions of DRAM2 1 and CONLOG 2 is input to CONLOG 1, i9 C O N +-○G
1 indicates that the output is rH or level for some reason.
このような場合には、第4図において、ヒューズ素子F
を切断する。本発明の実施例では、ヒューズ素子Fがポ
リシリコン抵抗素子により構或されているため、例えば
レーザー光により溶断ずる.これにより、P点はrH,
レヘルから「L」レベルに変化をし、二入力AND回路
23aの出力は「L」レベルとなる。このr l− ,
レベルを入力したトランジスタQAはrOFF,動作と
なり、通常時と同様に、DRAM21とCONLOG2
とは電a線■CCから分離される。従って、当該メモリ
回路20がウェハスケールのメモリ要素から欠陥回避さ
れ、該DRAM2 1とCONLOG2への電源供給が
カットされる。In such a case, in FIG.
cut. In the embodiment of the present invention, since the fuse element F is constituted by a polysilicon resistor element, it can be blown by, for example, a laser beam. As a result, point P is rH,
The signal changes from level to "L" level, and the output of the two-input AND circuit 23a becomes "L" level. This r l-,
The transistor QA to which the level has been input becomes rOFF and operates, and the DRAM21 and CONLOG2 operate as usual.
is separated from the electric wire ■CC. Therefore, the memory circuit 20 is protected from defects from wafer scale memory elements, and the power supply to the DRAM 21 and CONLOG 2 is cut off.
このようにして、本発明の実施例によれば、スイッチン
グトランジスタQAとCONI、OGIとの間にヒュー
ズ素子F.抵抗素子Rおよび二入力AND回路23aか
らなるフエイルセイフ回路23が設けられている。In this way, according to the embodiment of the present invention, the fuse element F. A fail-safe circuit 23 consisting of a resistive element R and a two-input AND circuit 23a is provided.
このため、CONT、OGIに故障がない通常時には、
従来例と同様に、フェイルセイフ回路23から該トラン
ジスタQAに「L」レベルが出力され、電源線■CCと
欠陥を起こしたDRAM2 1やCONLOC;2を分
離することができる。Therefore, under normal conditions when there is no failure in CONT or OGI,
As in the conventional example, the fail-safe circuit 23 outputs the "L" level to the transistor QA, thereby separating the power supply line CC from the defective DRAM 21 or CONLOC;2.
また、CONT..OG1に枚障が発生した異常時には
、ヒューズ素子Fを切断することにより、フエイルセイ
フ回路23,該トランジスタQAにrL,レベルが出力
され、通常時と同様に、欠陥を起こしたDRAM2 1
やCONLOG2を電源線VCCから分離することがで
きる。Also, CONT. .. In the event of an abnormality in which a fault occurs in OG1, by cutting the fuse element F, a level rL is output to the fail-safe circuit 23 and the transistor QA, and the defective DRAM2 1 is outputted as in normal times.
and CONLOG2 can be separated from the power supply line VCC.
従って、CONLOG lの欠陥回避動作機能をフェイ
ノレセイフ回路23によって、バノクアンフ゜ずること
が可能となる.
これにより、従来例のように何らかの原因でCO N
L O G 1が故障してもDRAM2 1やCONL
OG2等で生しる無駄な消費電力を防止することができ
る。なお、CONLOGIの異常時に係る「l4」レベ
ルは、外部制御信号Sを解除することにより、r l−
」レヘルに反転する。この場合も、ヒューズ素子Fの
溶断によりP点がr (− ,レヘルに固定されること
から、トランジスタQAへのr I− ,レベルに変化
がない。また、CONLOGlでの無駄な消費電力を防
止することができる。Therefore, the defect avoidance function of CONLOG 1 can be modified by the defect safety circuit 23. As a result, CON
Even if LOG1 fails, DRAM21 and CONL
It is possible to prevent wasteful power consumption caused by OG2 and the like. Note that the "l4" level related to the abnormality of CONLOGI can be set to rl- by canceling the external control signal S.
”Flip to Lehel. In this case as well, since the point P is fixed at r (-, level) due to the blowing of the fuse element F, there is no change in the level of r I- to the transistor QA. Also, wasted power consumption in CONLOGl is prevented. can do.
以上説明したように本発明によれば、再横威論理回路が
故障した場合であっても、フエイルセイフ回路のヒュー
ズ素子を溶断ずることによって、欠陥メモリ回路を再現
性よく電源から切り離すことができる。As described above, according to the present invention, even if the fail-safe logic circuit fails, the defective memory circuit can be disconnected from the power supply with good reproducibility by blowing out the fuse element of the fail-safe circuit.
このため、欠陥メモリ回路に対して、再構或論理回路と
フェイルセイフ回路の二重の欠陥回避機能により対処す
ることが可能となる。Therefore, it is possible to deal with defective memory circuits by using the dual defect avoidance functions of the reconfiguration logic circuit and the fail-safe circuit.
これにより、高性能、かつ低電力消費の半導体記憶装置
の製造に寄与するところが大きい。This greatly contributes to the manufacture of semiconductor memory devices with high performance and low power consumption.
第1図は、本発明に係る半導体記憶装置の原理図、
第2図は、本発明の実施例に係る半導体記憶装置の横戊
図、
第3図は、本発明の実施例に係る半導体記憶装置の通常
時の動作説明図、
第4図は、本発明の実施例に係る半導体記憶装置の異常
時の動作説明図、
第5図は、従来例に係る半導体記憶装置の構戊図である
。
(符号の説明)
11・・・記憶回路、
12・・・制御論理回路、
13・・・保護対策回路、
13a・・・論理出力回路、
F・・・ヒ1−ズ素子、
R・・・抵抗素子、
QA・・・スイッチングトランジスタ、VCC・・・電
源線、
GND・・・接地線。FIG. 1 is a principle diagram of a semiconductor memory device according to the present invention, FIG. 2 is a horizontal view of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a semiconductor memory according to an embodiment of the present invention. FIG. 4 is an explanatory diagram of the operation of the device during normal operation; FIG. 4 is an explanatory diagram of the operation of the semiconductor storage device according to the embodiment of the present invention during abnormal conditions; FIG. 5 is a structural diagram of the semiconductor storage device according to the conventional example. . (Explanation of symbols) 11...Memory circuit, 12...Control logic circuit, 13...Protection countermeasure circuit, 13a...Logic output circuit, F...Heat element, R... Resistance element, QA... switching transistor, VCC... power line, GND... grounding line.
Claims (1)
を介して接続された記憶回路(11)と、前記記憶回路
(11)への電源供給制御をするスイッチングトランジ
スタ(QA)と、前記スイッチングトランジスタ(QA
)のゲート制御をする制御論理回路(12)とを具備す
る半導体記憶装置において、 前記スイッチングトランジスタ(QA)と制御論理回路
(12)との間に、保護対策回路(13)を設け、 前記保護対策回路(13)は、前記電源線(VCC)と
接地線(GND)との間に直列接続されたヒューズ素子
(F)および抵抗素子(R)と、前記ヒューズ素子(F
)および抵抗素子(R)の接続点(P)、制御論理回路
(12)の出力点およびスイッチングトランジスタ(Q
A)のゲート(G)に接続された論理出力回路(13a
)からなることを特徴とする半導体記憶装置。[Claims] Switching transistor (QA) on power line (VCC)
a storage circuit (11) connected via a switching transistor (QA) that controls power supply to the storage circuit (11);
), a protection circuit (13) is provided between the switching transistor (QA) and the control logic circuit (12); The countermeasure circuit (13) includes a fuse element (F) and a resistance element (R) connected in series between the power supply line (VCC) and the ground line (GND), and the fuse element (F).
) and the connection point (P) of the resistance element (R), the output point of the control logic circuit (12) and the switching transistor (Q
A logic output circuit (13a) connected to the gate (G) of
) A semiconductor memory device comprising:
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1244078A JPH03105948A (en) | 1989-09-19 | 1989-09-19 | Semiconductor memory device |
EP90309969A EP0419117B1 (en) | 1989-09-19 | 1990-09-12 | Wafer-scale semiconductor device having fail-safe circuit |
DE69018555T DE69018555T2 (en) | 1989-09-19 | 1990-09-12 | Disk area semiconductor device with reliable circuit. |
US07/581,951 US5111073A (en) | 1989-09-19 | 1990-09-13 | Wafer-scale semiconductor device having fail-safe circuit |
KR1019900014807A KR940002764B1 (en) | 1989-09-19 | 1990-09-19 | Wafer scale semiconductor device having fail-safe circuit |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1244078A JPH03105948A (en) | 1989-09-19 | 1989-09-19 | Semiconductor memory device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03105948A true JPH03105948A (en) | 1991-05-02 |
Family
ID=17113411
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1244078A Pending JPH03105948A (en) | 1989-09-19 | 1989-09-19 | Semiconductor memory device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03105948A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0582651A (en) * | 1991-09-20 | 1993-04-02 | Fujitsu Ltd | Semiconductor integrated circuit |
US5603769A (en) * | 1994-04-01 | 1997-02-18 | Trinity Industrial Corporation | Conveyor device |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01165098A (en) * | 1987-12-21 | 1989-06-29 | Hitachi Ltd | Program circuit |
-
1989
- 1989-09-19 JP JP1244078A patent/JPH03105948A/en active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01165098A (en) * | 1987-12-21 | 1989-06-29 | Hitachi Ltd | Program circuit |
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