JPH0297674A - 真空物理蒸着法 - Google Patents
真空物理蒸着法Info
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- JPH0297674A JPH0297674A JP24843588A JP24843588A JPH0297674A JP H0297674 A JPH0297674 A JP H0297674A JP 24843588 A JP24843588 A JP 24843588A JP 24843588 A JP24843588 A JP 24843588A JP H0297674 A JPH0297674 A JP H0297674A
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、被処理物に薄膜を形成する真空物理蒸着法に
関するものである。
関するものである。
（従来の技術のその課！ｉ）
被処理物が比較的小さい場合、被処理物の大量処理をぜ
んとすると、蒸着処理する際、被処理物を設置するホル
ダーとして１例えば複数の孔を設けたものを準備し、振
動を加えて夫々の孔に被処理物を収容することになる。
んとすると、蒸着処理する際、被処理物を設置するホル
ダーとして１例えば複数の孔を設けたものを準備し、振
動を加えて夫々の孔に被処理物を収容することになる。
しかし、このような方法によると、ホルダーと被処理物
とのこすれ或いはぶつかりにより、被処理物に傷が生じ
易い。
とのこすれ或いはぶつかりにより、被処理物に傷が生じ
易い。
このため、被処理物と接する部分を、滑らかにしたり被
処理物より硬度の小さい材質で作るなどのことが行なわ
れる。
処理物より硬度の小さい材質で作るなどのことが行なわ
れる。
しかし、真空物理蒸着法では被処理物だけではなくホル
ダーにも膜が形成されるため１次第に面の滑らかさが・
失われたり、被処理物に形成する膜の硬度が大きな場合
は、結局、被処理物より硬度の高いものとなってしまい
、十分に目的が果たされない。
ダーにも膜が形成されるため１次第に面の滑らかさが・
失われたり、被処理物に形成する膜の硬度が大きな場合
は、結局、被処理物より硬度の高いものとなってしまい
、十分に目的が果たされない。
［課題を解決するための手段］
本発明は、被処理物を、複数の被処理物収容部を有する
ホルダーに収容するにあたり、振動を加えながらなす真
空物理蒸着法であって、ホルダーがホルダー本体に着脱
可能に取付けられる。被処理物より低硬度のシート状物
を有し、このシート状物が被処理物とホルダー本体との
介在物となるようにして前記被処理物の振動下における
収容をなしてなる真空物理蒸着法を要旨とする。
ホルダーに収容するにあたり、振動を加えながらなす真
空物理蒸着法であって、ホルダーがホルダー本体に着脱
可能に取付けられる。被処理物より低硬度のシート状物
を有し、このシート状物が被処理物とホルダー本体との
介在物となるようにして前記被処理物の振動下における
収容をなしてなる真空物理蒸着法を要旨とする。
以下、添付図面に示すホルダー例を中心にして説明する
。
。
ホルダーは処理する比処理物の形状や寸法に応じて適宜
設定される。例えば、第１図に示すホルダーＨは、円柱
状体、円筒状体といったもので比較的小径長寸のものに
好適であるが、被処理物をそれぞれ一個もしくは複数個
収容するための多数の貫通孔を設けた平板体１と、底板
２と、これら平板体１および底板２との間に挾まれたシ
ート状物３とからなっている。シート状物３は被処理物
より硬度が小さく、また、平板体１と底板２とは着脱で
きるようにされており、これによってシート状物３も着
脱できるものとなっている。
設定される。例えば、第１図に示すホルダーＨは、円柱
状体、円筒状体といったもので比較的小径長寸のものに
好適であるが、被処理物をそれぞれ一個もしくは複数個
収容するための多数の貫通孔を設けた平板体１と、底板
２と、これら平板体１および底板２との間に挾まれたシ
ート状物３とからなっている。シート状物３は被処理物
より硬度が小さく、また、平板体１と底板２とは着脱で
きるようにされており、これによってシート状物３も着
脱できるものとなっている。
次に、添付第２図に示すものは、ホルダーＨとして複数
の貫通孔４ａと脚部４ｂを有する本体４と、この本体４
の枠場となるリング体５と、本体４上面に敷かれた孔あ
きのシート状物６とよりなっている。このホルダーＨは
、−点鎖線で例示したように、係合可能な突出部を有す
る被処理物に対して好ましく使用される。また、シート
状物６は単に本体４上に敷かれただけで、着脱できる。
の貫通孔４ａと脚部４ｂを有する本体４と、この本体４
の枠場となるリング体５と、本体４上面に敷かれた孔あ
きのシート状物６とよりなっている。このホルダーＨは
、−点鎖線で例示したように、係合可能な突出部を有す
る被処理物に対して好ましく使用される。また、シート
状物６は単に本体４上に敷かれただけで、着脱できる。
このシート状物６も被処理物より硬度が小さい。
ちなみに、被処理物の材質はアルミニウム、金、銀、銅
、白金、インジュウム等の金属または合金、または各種
の樹脂など適宜であるが、真空汚染、耐熱性といった点
より、もしも、被処理物がそれより硬度の大きいもので
あるならば、シート状物３．６としてはアルミニウムが
好ましい。また、シート状物３，６の厚さは、使用条件
や材質等によっても異なるが、数μｍ〜ｍ画数度が好ま
しい。
、白金、インジュウム等の金属または合金、または各種
の樹脂など適宜であるが、真空汚染、耐熱性といった点
より、もしも、被処理物がそれより硬度の大きいもので
あるならば、シート状物３．６としてはアルミニウムが
好ましい。また、シート状物３，６の厚さは、使用条件
や材質等によっても異なるが、数μｍ〜ｍ画数度が好ま
しい。
以上のようなホルダーに被処理物を乗せ、適宜バイブレ
ータ−で振動を加え、これによって、前述２例のものな
らば、貫通孔の部分に収容する。
ータ−で振動を加え、これによって、前述２例のものな
らば、貫通孔の部分に収容する。
そして、被処理物を収容したホルダーに対して蒸着処理
を施す。前述第２例のものにあっては、枠場５を取り去
った状態で処理することが好ましいのは言うまでもない
。また、リング体５のようなものを第１の例に対して具
有させることも勿論できる。更に、バイブレータ−を蒸
着装置内に装備させることもできなくはないから、ホル
ダーが装置内に固定的に配置されたものとすることもで
きる。尚、第１の例においては平板体１と底板２、第２
の例においては本体４が、それぞれ本発明にいうホルダ
ー本体に相当する。
を施す。前述第２例のものにあっては、枠場５を取り去
った状態で処理することが好ましいのは言うまでもない
。また、リング体５のようなものを第１の例に対して具
有させることも勿論できる。更に、バイブレータ−を蒸
着装置内に装備させることもできなくはないから、ホル
ダーが装置内に固定的に配置されたものとすることもで
きる。尚、第１の例においては平板体１と底板２、第２
の例においては本体４が、それぞれ本発明にいうホルダ
ー本体に相当する。
［実施例コ
矢先■↓
第１図に示したようなホルダーを使用した。
平板体は、直径４ｍ長さ４ｎｗ１１の貫通孔を多数有す
る。全体の形状は円盤状である。シート状物は、厚さ１
５μｍのアルミニウム製である。このホルダーに被処理
物として外径０ 、６４ ｎｕ、中心孔直径０．３４ｍ
ｍ、長さ６．５ｒｒｒｒＩのステンレス製パイプ状物を
多数雑然と置き、バイブレータ−で振動を与えた。その
結果、上記ホルダーの各貫通孔には多数の被処理物が充
填された。これをスパッタ装置内にセットし、バイアス
スパッタ法により前記被処理物の一方の面に窒化クロム
膜を形成した。
る。全体の形状は円盤状である。シート状物は、厚さ１
５μｍのアルミニウム製である。このホルダーに被処理
物として外径０ 、６４ ｎｕ、中心孔直径０．３４ｍ
ｍ、長さ６．５ｒｒｒｒＩのステンレス製パイプ状物を
多数雑然と置き、バイブレータ−で振動を与えた。その
結果、上記ホルダーの各貫通孔には多数の被処理物が充
填された。これをスパッタ装置内にセットし、バイアス
スパッタ法により前記被処理物の一方の面に窒化クロム
膜を形成した。
北傭日」Ｙ
厚さ１５μｍのアルミニウム製のシート状物を使用しな
い他は、実施例１と同様にして被処理物に窒化クロム膜
を形成した。
い他は、実施例１と同様にして被処理物に窒化クロム膜
を形成した。
失胤析又
実施例１に用いたホルダーの代わりに、第２図に示すよ
うなホルダーを用いた。被処理物は釘状のものであり、
第２図に示したような状態となるようより、バイブレー
タ−で振動を与えた。スパッタ装置、スパッタ法は実施
例１と同様である。
うなホルダーを用いた。被処理物は釘状のものであり、
第２図に示したような状態となるようより、バイブレー
タ−で振動を与えた。スパッタ装置、スパッタ法は実施
例１と同様である。
ル笠■又
厚さ１５μｍのアルミニウム製のシート状物を使用しな
い他は、実施例２と同様にして被処理物に窒化クロム膜
を形成した。
い他は、実施例２と同様にして被処理物に窒化クロム膜
を形成した。
失五且主
実施例１に用いたホルダーに第２図に示したリング体を
取付け、それをホルダーとした以外は、実施例１と同様
にして被処理物の一方の面に窒化クロム膜を形成した。
取付け、それをホルダーとした以外は、実施例１と同様
にして被処理物の一方の面に窒化クロム膜を形成した。
炭絞災Ａ
厚さ１５μｍのアルミニウム製のシート状物を使用しな
い他は、実施例２と同様にして被処理物に窒化クロム膜
を形成した。
い他は、実施例２と同様にして被処理物に窒化クロム膜
を形成した。
［効 果］
実施例１〜３、比較例１〜３により窒化クロム膜を形成
した被処理物を走査型電子類＊＊で比較観察してみると
、実施例のものでは窒化クロム膜が均一でなめらかに形
成されているのに対し、比較例のものの表面は荒れた状
態となっていた。
した被処理物を走査型電子類＊＊で比較観察してみると
、実施例のものでは窒化クロム膜が均一でなめらかに形
成されているのに対し、比較例のものの表面は荒れた状
態となっていた。
上記のように、本発明によると、被処理物に傷をつける
ことなく効率良く、均一で、なめらかな膜を形成するこ
とができる。そして、シート状物は、ホルダーに着脱可
能に取付けたので、傷ついたりしたときには、交換すれ
ばよい。
ことなく効率良く、均一で、なめらかな膜を形成するこ
とができる。そして、シート状物は、ホルダーに着脱可
能に取付けたので、傷ついたりしたときには、交換すれ
ばよい。
第１図、第２図は本発明に使用するホルダーの一例を示
す断面図。 Ｈ・・・・・・ホルダー １・・・・・・平板体、２・
・・・・・底板、３．６・・・・・・シート状物、４・
・・・・・本体、５・・・・・・リング体
す断面図。 Ｈ・・・・・・ホルダー １・・・・・・平板体、２・
・・・・・底板、３．６・・・・・・シート状物、４・
・・・・・本体、５・・・・・・リング体
Claims (1)
- 被処理物を、複数の被処理物収容部を有するホルダーに
収容するにあたり、振動を加えながらなす真空物理蒸着
法であって、ホルダーが、ホルダー本体に着脱可能に取
付けられる、被処理物より低硬度のシート状物を有し、
このシート状物が被処理物とホルダー本体との介在物と
なるようにして前記被処理物の振動下における収容をな
してなる真空物理蒸着法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24843588A JP2689524B2 (ja) | 1988-09-30 | 1988-09-30 | 真空物理蒸着法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24843588A JP2689524B2 (ja) | 1988-09-30 | 1988-09-30 | 真空物理蒸着法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0297674A true JPH0297674A (ja) | 1990-04-10 |
| JP2689524B2 JP2689524B2 (ja) | 1997-12-10 |
Family
ID=17178082
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24843588A Expired - Lifetime JP2689524B2 (ja) | 1988-09-30 | 1988-09-30 | 真空物理蒸着法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2689524B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110344016A (zh) * | 2019-08-15 | 2019-10-18 | 上海宜山光电科技有限公司 | 一种光学元器件的镀膜夹具及光学元器件的镀膜方法 |
-
1988
- 1988-09-30 JP JP24843588A patent/JP2689524B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110344016A (zh) * | 2019-08-15 | 2019-10-18 | 上海宜山光电科技有限公司 | 一种光学元器件的镀膜夹具及光学元器件的镀膜方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2689524B2 (ja) | 1997-12-10 |
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