JPH0272315A - フォーカス方法 - Google Patents

フォーカス方法

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JPH0272315A
JPH0272315A JP22393488A JP22393488A JPH0272315A JP H0272315 A JPH0272315 A JP H0272315A JP 22393488 A JP22393488 A JP 22393488A JP 22393488 A JP22393488 A JP 22393488A JP H0272315 A JPH0272315 A JP H0272315A
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JP
Japan
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light
focus
linear
waves
fine pattern
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Pending
Application number
JP22393488A
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English (en)
Inventor
Satoshi Iwata
敏 岩田
Moritoshi Ando
護俊 安藤
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Automatic Focus Adjustment (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の概要〕 第1の光学系を用いて光ビームを線状光に集束して微細
パターンに投射し、その投射された線状光の形状を第2
の光学系を通して光検出器により検知して該微細パター
ンの正常/異常を検査する装置における、該第1.第2
の光学系のフォーカス方法に関し、 光切断型パターン検査装置において、光軸方向の焦点を
確実に合わせることができる方法を提供することを目的
とし、 可動台上の微細パターンに光ビームを、スリット板およ
び対物レンズを備える第1の光学系により線状光に収束
して投射し、該微細パターンに投射された線状光の形状
を、受光用対物レンズを備える第2の光学系を通して光
検出器により検知して、該微細パターンの正常、異常を
検査する装置における該光学系のフォーカス方法におい
て、微細パターンに投射する線状光を直線偏光または楕
円偏光とし、微細パターンに投射された線状光の反射光
をS波とP波に分離し、これらS、P波の強度比または
差を求めて、該強度比または差により焦点調整をするよ
う構成する。
〔産業上の利用分野] 本発明は、第1の光学系を用いて光ビームを線状光に集
束して微細パターンに投射し、その投射された線状光の
形状を第2の光学系を通して光検出器により検知して該
微細パターンの正常/異常を検査する装置における、該
第1.第2の光学系のフォーカス方法に関する。
集積回路では配線パターンの微細化、高密度化に伴ない
、該配線パターンの3次元形状をチエツクしてその正常
/異常を検査する要求が高まっているが、配線寸法が微
小で配線数が多大なので目視による検査は不可能であり
、高速な自動検査法の確立が望まれている。
(従来の技術〕 集積回路の微細配線パターンを検査するのに、スポ・7
ト状の光を該配線パターンに投射してその反射光をCC
D (電荷転送装置)などの光センサに導き、該配線パ
ターンをX、Y方向に移動して同様操作を繰り返す、あ
るいは該スポット状の光を反射鏡などを含む光学系によ
り移動させて対象物全体を検査する等の方法が採られて
いる。
しかしこの走査型の検査方法では検査速度が遅いので、
本発明者は光切断法によるパターン検査法を先に開発し
た(特願昭62−96799 )。第6図(a)にその
概要を示す。レーザ光源11から出力されたレーザ光1
0はレンズ12、所定波長の光を通すフィルタ13、ミ
ラー14、プリズム15、直交配置された2組のシリン
ドリカルレンズ16゜17、スリット板18、および対
物レンズ19を通って配線パターン20に線状に集束さ
れて投射される。高さ(厚み)及び幅がある配線パター
ン20に投射されるとこの線状光は、該配線パターンの
上面に当った部分と、配線パターンの下地26に当った
部分に分れるが、これを対物レンズ21、ミラー22,
23、レンズ24により観測する(CCDに受光する)
。CCD25の出力を処理して配線パターン20の幅、
厚みを求めることが可能であり、これが予定値なら正常
、予定値外なら異常である。この正常/異常検出には走
査は不要なので、検査速度は速い。
配線パターンのサイズは幅、厚み、が1um以下といっ
た微細なものであり、これを検査する線状光は極細(上
記1amに対しては0.5μm以下)であるのがよい。
レンズ17.18、スリット板18などはこの目的のも
ので、レーザ光はレンズ16.17で帯状にされ、スリ
ット板18で更に薄くされる。第6図(b)はこの部分
を示し、10aはレンズ17の出力光、10bはスリッ
ト18aを出たレーザ光である。レーザ光10bのX方
向長さ(厚み;スリット18aの間隙長)xIは10〜
30μm程度、X方向長さyIは10〜30mmでこれ
は大開口数のレンズ19の口径よりや−短い程度とする
。このような線状光がレンズ19に入ると、X方向で強
く収束され、X方向では余り収束されず(最小スポット
径Wと光の波長λとレンズの開口数NAにはWζλ/2
NAの関係があることによる)、結局X方向にX2、X
方向にy2の細い線状光10cに収束される。
第7図に、配線パターン20に投射された線状光10c
の形状を示す。配線パターン20は厚みを持っているの
で、線状光10cは配線パターン20の上面に当った部
分と下地26に当った部分に分れ、これを斜めから見る
と矩形波または台形波状になる。28はテレビカメラ2
7の視野を示す。この視野に表われた幅W′と高さh′
から、レンズ19.21の取付は角などを用いて配線パ
ターン20の幅W、高さhを算出することができる。
〔発明が解決しようとする課題〕
この光学系(パターン検査装置)ではレンズ19は配線
パターン20で結像するように(配線パターン20の上
面とその下地26で結像するように、であるが、高さh
があるから焦点深度が浅いとこれは不可能である。しか
しこ\ではhは無視し、配線パターン上面と下地26を
同一視する)焦点を合わせ、レンズ21は原像よりの光
(反射光)を受けてカメラ27の位置で結像するように
焦点を合わせる必要がある(線状光10cは結像位置で
最も細くなり、それより遠ざかるにつれて厚みがでてく
る)。この焦点調整には第8図に示すように、レンズ1
9.21をその光軸方向Ii。
1oで移動させる、配線パターン(具体的にはそれをの
せている可動台、これも26とする)を上下方向Zで移
動させる、の3方向がある。第6図の如き線状光形成で
はレンズ19の開口数が大である必要があるが、大開口
数の対物レンズは焦点深度が非常に浅く(例えば1μm
)。焦点調整を正確に行なう必要がある。
Z方向の焦点調整は、可動台26上の線状光が最も細く
なる状態がピントの合った状態、という点を利用して容
易に行なえる。例えば検出信号のラインプロファイルを
計測し、その半値幅を求め、それが最小になるように可
動台26を上下させる。
しかし光軸方向1t、Ioについては、焦点が可動台上
で結んでいないのに、それが結ばれているように見える
ことがある。即ち、第9図は焦点rが可動台26上で結
ばれている状B (JUST FOCUS)を示し、第
10図は焦点が可動台26上で結ばれていない状態(O
UT OF FOCUS)を示すが、第10図でも2つ
の対物レンズ19.21間の距離が2fなので、テレビ
カメラ27またはCCD25からは焦点が可動台26上
で結ばれているように見えてしまう。可動台26が粗面
であればこのようなことはないが、凹凸のない(凹凸は
使用波長の1/10以下)フラットな面を持つ(対物レ
ンズの開口数が大きくなりスポット径が波長以下になる
と、光学的な粗面は存在しない。)と反射は鏡面反射と
なり、上記状態が生じる。
フラットなサンプルを用いた焦点の初期合わせでは第1
0図の状態になっても格別問題はない(細い線状光を観
察することができる)が、実際の検査を行う場合、観察
するものは下地26とその上の配線パターン20であり
、配線パターンのエツジなどでフォーカス状態から外れ
、この部分が見えな(なる。即ちテレビ27などで観察
していると細い、焦点の合った線状光が観察されると共
に、その一部がボケまたは欠け、パターン検査に支障を
与える。
本発明はか−る点を改善し、光切断型パターン検査装置
において、光軸方向の焦点を確実に合わせることができ
る方法を提供することを目的とするものである。
〔課題を解決するための手段〕
本発明では微細パターン20に投射する線状光10cを
直線偏光または楕円偏光とする。
そして対物レンズ21を通して受光した光をS波成分と
P波成分に分離する。
そしてこれらのS波成分とP波成分の各強度の比(差で
もよい)をとり、該強度比により、焦点が正しく可動台
上にあるか否かを知り、可動台上にあるように光学系の
焦点調整をする。
直線偏光には例えば45°偏光を用いる。楕円偏光には
、P波、S波の反射率に応じた偏光比を持たせる。
[作用] 第1図に示すように、対物レンズ19から出る光(検査
光)10cは焦点が合っていれば可動台26で最も細く
なり、これより外れる例えば面26a上ではまだ収束中
で大幅である。光10cは球面波であるが、太い矢印は
ビーム内でのその波面の法線方向を示し、細い矢印は面
26.26aでの該波面の反射方向を示す。大開口数の
対物レンズを用いて光を絞ると、図示のように焦点面2
6では太い矢印が平行で、つれて細い矢印も平行になる
が、非焦点面26aでは太い矢印は非平行、つれて細い
矢印も非平行になる。この事実を利用すれば、第9図の
ジャストフォーカス状態が第1O図のアウトオブフォー
カス状態かを識別することが可能である。
第2図は、ガラスに光が入射した場合の入射角度に対す
る偏光の反射率変化を示す。(RE)SはS波(入射面
の垂直な偏光波成分)の反射率特性、(RE)PはP波
(入射面に平行な偏光波成分)の反射率特性である。こ
のグラフから明らかなようにS波とP波では(即ち偏光
方向が異なると)同し入射角でも表面反射率が異なる。
例えば入射角が45°とすると、S波の反射率は約1.
0、P波の反射率は約0.01である。入射角が55°
ではS波の反射率は約0.14、P波の反射率は約0で
ある。但しこれは屈折率n12が1.50のときで、屈
折率が変るとこの関係は若干変る。
そこで、S波とP波を入射して反射光を受光し、その反
射光のS波の強度IsとP波の強度Ipとの比α=Ip
/Isを求めると、同じ入射角(45゜とする)であっ
ても、ジャストフォーカスならα=0.0110.1 
=0.1になるが、アウトオブフォーカスなら、第1図
に示されるように各波面の入射角がまちまちであるから
αは上記0.1(特定値)以外の値になる。入射角を5
5°とすると、ジャストフォーカスならα=0、アウト
オブフォーカスならα≠0である。このαが特定値か(
0か)、特定値以外か(0でないか)をチエ・ンクする
ことにより、ジャストフォーカスかアウトオブフォーカ
スかを知ることができる。
数式で示すと、対物レンズに偏光の予め分ったビームを
入射させた場合、焦点面に反射する対象があれば反射光
の波面は平行と考えられ、反射光のS、P波強度比αは α=Ip/Is= (cos(φ+Z)/cos(φ−
z)]”・・・・・・(1) sinφ/sinχ=n          ・・・・
・・(2)また、焦点面に反射する対象がない場合は反
射光の強度比は、様々な反射経路を含むため、開口数が
N、A、の対物レンズを用いた場合、上記強度比αは cx=Ip/Ts= Sφ[cos(φ+z)/cos
(φ−χ)]2・・・・・・(3) −sin−’N、へ、≦ φ ≦5in−’N、A、 
         −−(4)となる。従って、ジャス
トフォーカスの場合、αは(1)式で示される特定値を
とり、アウトオブフォーカスの場合(3)式で示される
上記特定値とは異なる値をとるから、光軸方向の移動を
行ないながらその移動で変るαを参照することにより、
フォーカシングが可能である。
〔実施例〕
第3図〜第5図に本発明の実施例を示す。全図を通して
そうであるが、他の図と同じ部分には同し符号が付しで
ある。
第3図では入射光に45°直線偏光を用いる。
パターン20での反射光を対物レンズ21を通して偏光
プリズム31に導き、こ\でS波とP波に分離し、各々
を光検出器32.33へ導く。光検出器32.33の出
力はA/D変換器34.35でデジタル値に変換し、プ
ロセッサ36に人力してS、P波強度比αを計算させる
。これは出力装置37に表示される。対物レンズを光軸
方向で移動させてα= cos ” (φ+χ)/co
s”(φ−χ)+ sinφ/sinχ=n(屈折率)
となるとき、ジャストフォーカスとする。
第4図も45°直線偏光を使用するが、偏光回転プリズ
ム40を用いて偏光方向を可変にしている。またスリッ
トガイド41を設けてスリット18を矢印方向に移動可
能にしており、偏光プリズム31もプリズムガイド42
により矢印方向に移動可能にしている。また光検出器の
一方はCCD25と変換可能にしている。更にステージ
コントローラ44を設けて、対物レンズ19の光軸方向
移動を演算処理装置36の出力により自動的に行うよう
にしている。
第5図では楕円偏光を用いる。この楕円偏光のP波成分
ppとS波成分Psの比を反射光強度比αに対応させる
。即ちPp/Ps=cos”(φ−Z )/cos2(
φ+χ)にすると、ジャストフォーカスなら反射光の強
度比αは1、l5−Ip=Oとなり、アウトオブフォー
カスならα≠l、l5−Iρ≠0となる。
これによりジャスト/アウトオブフォーカスを検知でき
る。
〔発明の効果] 以上説明したように本発明によれば、光切断型パターン
形状検査装置において、検査対象(パターンとその下地
)が鏡面状であっても、焦点が正しく該検査対象に合っ
た良好なピント調整を行なうことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の原理説明図、 第2図はS、  P波の反射率特性図、第3図〜第5図
は本発明の詳細な説明図、第6図は光切断型パターン検
査装置の説明図、第7図は第6図の要部説明図、 第8図は焦点調整方向の説明図、 第9図はジャストフォーカス状態の説明図、第10図は
アウトオブフォーカス状態の説明図である。 第3図で2 18はスリン 物レンズ、3 受光器、36 る。 6は可動台、20は微細パターン、 ト板、19は対物レンズ、21は対 1は偏光用プリズム、32.33は は強度比αを求めるプロセッサであ

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、可動台(26)上の微細パターン(20)に光ビー
    ムを、スリット板(18)および対物レンズ(19)を
    備える第1の光学系により線状光に収束して投射し、該
    微細パターンに投射された線状光の形状を、受光用対物
    レンズ(21)を備える第2の光学系を通して光検出器
    (32、33)により検知して、該微細パターンの正常
    、異常を検査する装置における該光学系のフォーカス方
    法において、微細パターンに投射する線状光を直線偏光
    または楕円偏光とし、 微細パターンに投射された線状光の反射光をS波とP波
    に分離し、 これらS、P波の強度比または差を求めて、該強度比ま
    たは差により焦点調整をすることを特徴とするフォーカ
    ス方法。
JP22393488A 1988-09-07 1988-09-07 フォーカス方法 Pending JPH0272315A (ja)

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