JPH0268479A - Device for drying original plate of optical disk by heating - Google Patents
Device for drying original plate of optical disk by heatingInfo
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、遠赤外線若しくは赤外線ヒータを用いて光デ
ィスク原盤を輻射加熱する加熱乾燥装置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Technical Field The present invention relates to a heating drying apparatus that radiantly heats an optical disk master using a far-infrared or infrared heater.
背景技術
従来の加熱乾燥装置としては、第6図に示すいわゆるヒ
ートトンネルが知られている。この加熱乾燥装置におい
ては、被加熱物61かベルトコンベア62によって移送
され、ヒータ63で構成されたl・ンネル内を通過する
際のトンネル内の雰囲気温度による熱伝導によって被加
熱物61の加熱乾燥が行なわれる構成となっている。BACKGROUND ART A so-called heat tunnel shown in FIG. 6 is known as a conventional heating drying device. In this heating drying device, the heated object 61 is transferred by a belt conveyor 62 and is heated and dried by heat conduction due to the atmospheric temperature inside the tunnel when the heated object 61 passes through an L-tunnel composed of a heater 63. The structure is such that this is carried out.
この加熱乾燥装置では、被加熱物61の加熱面における
温度分布は、ヒータ62の熱量、ベルトコンベア62の
移送速度、被加熱物6]の熱的性質及び形状に依存する
ことになるため、温度分布の制御は望み得ないという欠
点があった。In this heating drying device, the temperature distribution on the heating surface of the object to be heated 61 depends on the amount of heat of the heater 62, the transfer speed of the belt conveyor 62, and the thermal properties and shape of the object to be heated 6]. The disadvantage was that it was impossible to control the distribution.
また、トンネル内の雰囲気温度による熱伝導加熱である
ことにより、被加熱物の表面の温度分布は、第6図(B
)に−線鎖線で示す如く、中央部及び最外周部か低く、
その中間部が高くなり、仝面にilって均一にはならな
い。このため、−面にフォトレジストか塗布されている
光記録用ガラス原盤を被加熱物とした場合、第5図(C
)に示すように、表面温度が内周から21周に行く程高
くなり、最外周部分で低くなる。このように、加熱乾燥
の際の加熱温度にバラツキがあると、レジストの感度に
バラツキか生じ、ピットとじて情報を記録した際にピッ
ト形状に悪影響を及はすことになる。さらに、最外周部
分の加熱温度が低いと、ガラス原盤が割れ品いというこ
とも本出願人により羅認されている。In addition, since the heating is conducted by conduction due to the atmospheric temperature inside the tunnel, the temperature distribution on the surface of the heated object is reduced as shown in Figure 6 (B
), as shown by the dashed line, the center and outermost parts are low;
The middle part becomes high and the illumination is not uniform on the other side. For this reason, when the object to be heated is a glass master disk for optical recording whose negative side is coated with photoresist, as shown in Fig. 5 (C
), the surface temperature increases from the inner circumference to the 21st circumference, and decreases at the outermost circumference. As described above, if there are variations in the heating temperature during heating and drying, there will be variations in the sensitivity of the resist, which will adversely affect the shape of the pits when information is recorded as pits. Furthermore, the present applicant also acknowledges that if the heating temperature at the outermost peripheral portion is low, the glass master disc will be fragile.
温度分布′の制御か可能な加熱乾燥装置としては、従来
、第7図に示すものがあった。この加熱乾燥装置におい
ては、被加熱物6]かこの被加熱物61からの離間距離
か可変に設けられたヒータ63によ−)で加熱乾燥され
る構成となっている。この場合、被加熱物6]は移動し
ていても、回転していても、静止していても加熱乾燥処
理かi+J能となっている。A conventional heating drying apparatus capable of controlling the temperature distribution' is shown in FIG. In this heating and drying apparatus, heating and drying is carried out by a heater 63 provided at a variable distance from the object to be heated 6 and the object to be heated 61. In this case, even if the object to be heated 6 is moving, rotating, or stationary, the heating and drying process can be carried out i+J.
この加熱乾燥装置によれば、ある程度の温度分布の制御
は可能となるものの、距離による制御であるので、装置
の空間効率が悪くなり、また被加熱物61の大きさによ
っては、ヒータ63の大きさとの関係で温度分布の精密
な制御か不可能になるなどの欠点があった。According to this heating drying device, it is possible to control the temperature distribution to a certain extent, but since the control is based on distance, the space efficiency of the device is poor, and depending on the size of the object to be heated 61, the size of the heater 63 may be However, there were drawbacks such as the fact that precise control of temperature distribution was impossible due to the relationship with the temperature.
発明の概要
本発明は、上記のような従来のものの欠点を除去すべく
なされたものであり、空間効率を高め、温度分布のより
精密な制御が可能な光ディスク原盤の加熱乾燥装置を提
供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to eliminate the drawbacks of the conventional ones as described above, and provides a heating drying device for optical disc masters that increases space efficiency and allows more precise control of temperature distribution. With the goal.
本発明による光ディスク原盤の加熱乾燥装置においては
、赤外線により輻射加熱する加熱手段に対して光ディス
ク原盤を対向するように担持し、熱制御手段によって加
熱手段よる光ディスク原盤への赤外線の放射量の分布を
制御する構成となっている。In the heating drying apparatus for an optical disk master according to the present invention, the optical disk master is supported so as to face the heating means that performs radiant heating using infrared rays, and the distribution of the amount of infrared rays radiated to the optical disk master by the heating means is controlled by the thermal control means. It is configured to control.
実施例 以下、本発明の実施例を図に基づいて詳細に説明する。Example Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail based on the drawings.
第1図は本発明の一実施例を示す装置外観図、第2図は
その構造図である。これら各図において、光ディスク原
盤であるガラス原盤1はその一面にフォトレジストか塗
布されており、フォー・レジストが塗布された面が下面
となるようにスピンドル2により担持される。スピンド
ル2は筐体3内に収納されたスピンドルモータ4によっ
て回転駆動される。スピンドル2及びスピンドルモータ
4はスピンドルベース5に取り付けられており、リニア
スライド6にて案内されつつメインベース7上をスピン
ドルベース駆動モータ8によって駆動されて移送される
ことにより、スピンドル2は筐体3の上面にガラス原盤
10半径と大略等しい長さに形成された長孔9に沿って
図に実線で示す位置と一点鎖線で示す位置との間を移動
する。FIG. 1 is an external view of an apparatus showing an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a structural diagram thereof. In each of these figures, a glass master disk 1, which is an optical disk master disk, has one surface coated with a photoresist, and is supported by a spindle 2 so that the surface coated with the photoresist is the lower surface. The spindle 2 is rotationally driven by a spindle motor 4 housed in a housing 3. The spindle 2 and the spindle motor 4 are attached to a spindle base 5, and are guided by a linear slide 6 and driven and transferred on a main base 7 by a spindle base drive motor 8, so that the spindle 2 is attached to the housing 3. It moves between the position shown by the solid line and the position shown by the dashed-dotted line in the figure along a long hole 9 formed on the top surface of the glass master disk 10 with a length approximately equal to the radius of the glass master disk 10.
ガラス原盤1及びスピンドル2の実線で示す位置は待機
位置であり、この待機位置にてガラス原盤1のローデフ
インク及びアンロープ、インク並びに加熱処理後の冷却
処理が行なイ〕れる。また、−点鎖線で示す位置は加熱
乾燥(ベーキング)位置であり、この位置にて加熱乾燥
処理か行なわれる。The positions of the glass master disk 1 and the spindle 2 indicated by solid lines are standby positions, and at this standby position, the low-definition ink and unrope of the glass master disk 1, the ink, and the cooling treatment after the heat treatment are performed. Further, the position indicated by the - dotted chain line is the heating drying (baking) position, and the heating drying process is performed at this position.
本装置は水平気流型クリーンベンチ内に設置されてクリ
ーンルーム内にて使用されるが、図の左側が作業者側、
右側がクリーンベンチ側となるように配置される。この
位置関係により、最も汚染に対して弱い乾燥工程での汚
染を最少限に抑えることができる。すなわち、クリーン
ルーム内では発塵源となる作業者が常に風下にて作業を
行なうことにより、また重力の影響を受けて沈降してく
る粒子に対しては、第2図に矢印で示す如く清浄気流で
外へ押し流すと共に、ガラス原盤1の被加熱面を下側に
セットすることにより、さらには機構部からの発塵に対
しては、排気用チューブ10によって筺体3の内部を排
気することにより、汚染に対処している。また、筺体3
の上面は、いくつかの開口部分がある他は原則的に同一
平面となっており、これにより汚染粒子の蓄積防止と清
掃の容易化を図っている。This device is installed in a horizontal airflow type clean bench and used in a clean room, but the left side of the diagram is the operator side,
It is arranged so that the right side is the clean bench side. This positional relationship makes it possible to minimize contamination during the drying process, which is most susceptible to contamination. In other words, in a clean room, workers who are the source of dust generation always work downwind, and particles that settle due to the influence of gravity are prevented by clean air flow as shown by the arrow in Figure 2. By setting the heated surface of the glass master 1 on the lower side, and by exhausting the inside of the casing 3 with the exhaust tube 10 to prevent dust from the mechanical part, We are dealing with pollution. In addition, the housing 3
The top surface is essentially flat, except for some openings, which prevents the accumulation of contaminant particles and facilitates cleaning.
筺体3の上面のクリーンベンチ側の一部は、略扇型形状
の開口部11を有する輻射熱制御板12となっている。A part of the upper surface of the housing 3 on the clean bench side is a radiant heat control plate 12 having a substantially fan-shaped opening 11 .
輻射熱制御板12は例えばステンレスからなっており、
筺体3と一体に構成されても良い。開口部11の下方に
は、この開口部11を介してガラス原盤]を輻射加熱す
る遠赤外線若しくは赤外線ヒータエレメント13を含む
ヒータユニット]4が配置されている。このヒータ取付
板I・]4において、第3図から特に明らかなように、
ヒータエレメント13は加熱乾燥位置にあるガラス原盤
]の半径領域の一部と対向するようにヒータ取付板15
に取り付けられ、図示せぬ支持体により外板16に固定
されている。外板16の上部には、断熱を兼ねたスペー
サ17を介して輻射熱制御板]2か固定されている。ヒ
ータ取付板]5と外板16とで形成されるジャケット部
分は排気用チューブ]8によって排気され、これにより
ヒータエレメント13は加熱によって熱拡散型の汚染が
発生しないように負圧に保たれている。The radiant heat control board 12 is made of stainless steel, for example.
It may be configured integrally with the housing 3. A heater unit 4 including a far-infrared or infrared heater element 13 is arranged below the opening 11 to radiantly heat the glass master through the opening 11 . As is particularly clear from FIG. 3, in this heater mounting plate I.]4,
The heater element 13 is mounted on the heater mounting plate 15 so as to face a part of the radial area of the glass master in the heating drying position.
and is fixed to the outer panel 16 by a support (not shown). A radiant heat control plate] 2 is fixed to the upper part of the outer panel 16 via a spacer 17 which also serves as heat insulation. The jacket portion formed by the heater mounting plate [5] and the outer plate 16 is exhausted by the exhaust tube [8], whereby the heater element 13 is maintained at negative pressure to prevent heat diffusion type contamination from occurring due to heating. There is.
また、ヒータユニット14を排気することにより、不要
な熱の伝達を防止し、装置の温度が上昇するのを防止し
ている。ヒータエレメント13の温度測定は、ヒータエ
レメント13に付属の熱電対(図示せず)によって行な
われる。Further, by exhausting the heater unit 14, unnecessary heat transfer is prevented and the temperature of the device is prevented from rising. The temperature of the heater element 13 is measured by a thermocouple (not shown) attached to the heater element 13.
筺体3の内部には放射温度計19か設けられており、こ
の放射温度計19は筺体3の上面に形成された測定窓2
0を介してガラス原盤1の表面温度の測定を行なう。こ
の放射温度=119の測定出力はコントローラ21に供
給される。コントローラ2]は例えばマイクロコンピュ
ータによって構成されており、ヒータエレメント13の
温度制御、スピンドル2の回転開始及び回転停止の制御
、スピンドル2の移送制御等、ガラス原盤]の加熱乾燥
処理のための一連の制御を行なう。A radiation thermometer 19 is provided inside the housing 3, and this radiation thermometer 19 is inserted into the measurement window 2 formed on the top surface of the housing 3.
0 to measure the surface temperature of the glass master 1. The measured output of this radiation temperature=119 is supplied to the controller 21. The controller 2] is composed of, for example, a microcomputer, and performs a series of operations such as controlling the temperature of the heater element 13, controlling the rotation start and stop of the spindle 2, and controlling the transfer of the spindle 2, for heating and drying the glass master disk. control.
次に、コントローラ21のプロセッサによって実行され
る加熱乾燥の処理手順の基本シーケンスについて第4図
のフローチャートにしたがって説明する。Next, the basic sequence of the heat drying procedure executed by the processor of the controller 21 will be explained according to the flowchart of FIG. 4.
装置電源か投入(オン)されると、プロセッサは先ず、
ヒータエレメント13のプレヒートを開始する(ステッ
プSl)。ヒータエレメント1Bの温度は例えば215
℃に設定されており、215±5℃にて準備完了となる
。プレヒートの目的は、ヒータ加熱の時定数が大きいこ
とにより、予めヒータエレメント13を加熱しておかな
いと加熱乾燥時間が長くなるためであり、温度測定はヒ
タエレメント13に付属の熱電対によって行なわれる。When the device is powered on, the processor first
Preheating of the heater element 13 is started (step Sl). For example, the temperature of the heater element 1B is 215
℃, and preparation is completed at 215±5℃. The purpose of preheating is that due to the large time constant of heater heating, heating and drying time will be longer if the heater element 13 is not heated in advance.Temperature measurement is performed by a thermocouple attached to the heater element 13. .
ガラス原盤]がスピンドル2にセットされ、続いてスタ
ートスイッチ(図示せず)がオンされると(ステップS
2)、プロセッサは、スピンドル2を例えば3 [r、
p、m、]の回転数で回転させ(ステップS3)、熱電
対の測定出力にハづいてヒタエレメント13の温度が設
定温度T1に達したことを検出したら(ステップs4)
、スピンドルベース駆動モータ8を駆動制御することに
よってスピンドル2を待機位置から加熱乾燥位置へ前進
させる(ステップS5)。そして、この位置でガラス原
盤1のフォトレジストに対してヒータエレメント13の
輻射加熱によって加熱乾燥処理が行なイつれる(ステッ
プS6)。When the glass master disc] is set on the spindle 2 and the start switch (not shown) is turned on (step S
2), the processor controls the spindle 2 by e.g. 3[r,
p, m, ] (step S3), and when it is detected that the temperature of the heater element 13 has reached the set temperature T1 based on the measurement output of the thermocouple (step s4)
, by driving and controlling the spindle base drive motor 8, the spindle 2 is advanced from the standby position to the heating drying position (step S5). Then, at this position, the photoresist on the glass master 1 is heated and dried by radiation heating from the heater element 13 (step S6).
この加熱乾燥工程において、放射温度計19の測定出力
に基ついてガラス原盤1の表面温度が所定温度T2、例
えば90±0.5℃に達したことを検出したら(ステッ
プS7)、スピンドルベス駆動モータ8を駆動制御する
ことによってスピンドル2を加熱乾燥位置から待機位置
へ後退させる(ステップS8)。この待機位置では加熱
後のガラス原盤1の冷却処理か行なわれ(ステップS9
)、この冷却工程において、放射温度if 19の測定
出力に基づいてガラス原盤]の表面温度が所定温度T3
、例えば55十0.5℃以下になったことを検出したら
(ステップ5IO)、スピンドル2の回転を停止させる
(ステップS]1)。そして、スピンドル2からガラス
原盤]を取り外すことにより、一連の処理が完了するこ
とになる。In this heating drying process, when it is detected that the surface temperature of the glass master 1 has reached a predetermined temperature T2, for example, 90±0.5°C based on the measurement output of the radiation thermometer 19 (step S7), the spindle base drive motor 8, the spindle 2 is moved back from the heating drying position to the standby position (step S8). At this standby position, the glass master 1 after heating is cooled (step S9).
), in this cooling step, the surface temperature of the glass master disc] reaches a predetermined temperature T3 based on the measurement output of the radiation temperature if19.
For example, when it is detected that the temperature is below 550.5° C. (step 5IO), the rotation of the spindle 2 is stopped (step S]1). Then, by removing the glass master disk from the spindle 2, the series of processes is completed.
上述した加熱乾燥工程において、ヒータエレメント13
によって発生された赤外線は可視光線と同様に直進する
性質を持ち、輻射熱制御板12の開口部]1を介して対
向するガラス原盤1に到達し、フォトレジストに吸収さ
れて熱を発生ずる。In the heating drying process described above, the heater element 13
The infrared rays generated have the property of traveling in a straight line like visible light, and reach the opposing glass master 1 through the opening 1 of the radiant heat control plate 12, where they are absorbed by the photoresist and generate heat.
その単位面積当りの発熱量は、ヒータエレメント13と
対向している時間、ヒータエレメント13自身のもつ発
熱量分布、周囲から受ける冷却効率等の諸条件により概
ね定められることになる。したかって、輻射熱制御板1
2を設けない場合には、ガラス原盤]のレジスト面の温
度分布は、第5図(b)に示すように、中心部が低く、
外周へ行く程高くなり、最外周では冷却効果が大きいこ
とにより再び低くなる。これに対し、開口部11を有す
る輻射熱制御板12を設け、開口部11の略扇型形状に
よって上記単位面積当りの発熱量をその関係する因子全
てを含んで補正することにより、第5図(a)に示すよ
うに、内周から外周の全面に亘って均一な温度分布を得
ることができる。The amount of heat generated per unit area is approximately determined by various conditions such as the time the heater element 13 faces the heater element 13, the distribution of the amount of heat generated by the heater element 13 itself, and the cooling efficiency received from the surroundings. Therefore, radiant heat control board 1
2, the temperature distribution on the resist surface of the glass master is low in the center and low in temperature, as shown in FIG. 5(b).
It becomes higher toward the outer periphery, and becomes lower again at the outermost periphery due to the large cooling effect. In contrast, by providing a radiant heat control plate 12 having an opening 11 and correcting the amount of heat generated per unit area by the substantially fan-shaped shape of the opening 11, including all related factors, As shown in a), a uniform temperature distribution can be obtained over the entire surface from the inner circumference to the outer circumference.
また、扇型形状の開口部11を、ガラス原盤1の単位面
積に対して開口部11を介して熱伝達される時間が最外
周部分で他の部分よりも人となるように形成したことに
より、第5図(a)に示すように、ガラス原盤1の最外
周部分の表面温度を他の部分よりも高くすることができ
る。In addition, by forming the fan-shaped opening 11 so that the time for heat transfer through the opening 11 per unit area of the glass master 1 is longer in the outermost portion than in other parts, As shown in FIG. 5(a), the surface temperature of the outermost portion of the glass master disk 1 can be made higher than that of the other portions.
なお、上記実施例では、ヒータエレメント13iるガラ
ス原盤1への赤外線の放射量の分布を制御2
御する熱制御手段として、扇型形状の開口部11を有す
る輻射熱制御板12を用いた場合について説明したが、
開口部]1の形状は用途、目的により任意の形状とする
ことか可能である。Note that in the above embodiment, the radiant heat control plate 12 having a fan-shaped opening 11 is used as a heat control means for controlling the distribution of the amount of infrared rays radiated to the glass master 1 by the heater element 13i. I explained, but
The shape of the opening] 1 can be any shape depending on the use and purpose.
また、熱制御手段としては、開口部11を有する輻射熱
制御板12に限定されるものではなく、熱的性質の異な
る材質の組合わせによって構成された輻射熱制御板や、
熱的性質が部分的に異なる輻射熱制御板を用いても良く
、またヒータエレメント13の発熱量分布を変えること
によってもガラス原盤1への赤外線の放射量の分布を制
御することが可能である。Further, the heat control means is not limited to the radiant heat control plate 12 having the opening 11, but may also be a radiant heat control plate made of a combination of materials with different thermal properties,
A radiant heat control plate having partially different thermal properties may be used, and the distribution of the amount of infrared rays radiated to the glass master 1 can also be controlled by changing the calorific value distribution of the heater element 13.
またさらに、上記実施例では、温度分布の均一化を目的
としたが、熱制御手段によって可能な範囲で任意の温度
分布に調整することかできることは云うまでもない。同
様に、何らかの温度及び温度分布の検出手段と熱制御手
段とを組み合わせて温度及び温度分布を任意に調整する
ことも可能である。Further, in the above embodiments, the purpose was to make the temperature distribution uniform, but it goes without saying that the temperature distribution can be adjusted to any desired temperature distribution within the possible range by the heat control means. Similarly, it is also possible to arbitrarily adjust the temperature and temperature distribution by combining some kind of temperature and temperature distribution detection means and thermal control means.
発明の効果
以上説明したように、本発明による光ディスク原盤の加
熱乾燥装置においては、赤外線により輻射加熱する加熱
手段に対して光ディスク原盤を対向するように担持し、
熱制御手段によって加熱手段よる光ディスク原盤への赤
外線の放射量の分布を制御する構成となっているので、
空間効率を損うことなく温度分布のより精密な制御が可
能となり、製品の品質を向上させることかできる。Effects of the Invention As explained above, in the heating drying device for optical disc masters according to the present invention, the optical disc master is supported so as to face the heating means that performs radiant heating using infrared rays,
Since the configuration is such that the distribution of the amount of infrared rays radiated from the heating means to the optical disk master is controlled by the thermal control means.
This enables more precise control of temperature distribution without sacrificing space efficiency, which can improve product quality.
これにより、−面にフォトレジストが塗布されているカ
ラス原盤の場合、内周から外周に亘って加熱温度を均一
にできるので、フォトレジストの感度のバラツキを最小
限に抑えることかできる。As a result, in the case of a glass master disk whose negative side is coated with photoresist, the heating temperature can be made uniform from the inner circumference to the outer circumference, so that variations in the sensitivity of the photoresist can be minimized.
また、最外周部分の加熱温度を他の部分よりも高くでき
るので、ガラス原盤の割れを防止できることにもなる。Furthermore, since the heating temperature of the outermost peripheral portion can be made higher than that of the other portions, cracking of the glass master disc can be prevented.
第1図は本発明の一実施例を示す装置外観図、第2図は
その構造図、第3図は第2図におけるヒタユニットの拡
大断面図、第4図はプロセッサによって実行される加熱
乾燥の処理手順の基本シケンスを示すフローチャート、
第5図は基準温度に対する各半径の温度偏差を示す特性
図、第6図(A)は従来装置の外観図、(B)はその正
断面図、第7図は他の従来装置を示す構成図である。
主要部分のn号の説明
1・・・・・・ガラス原盤 2・・・・・・スピン
ドル4・・・ スピンドルモータ
8・・・・・・スピンドルベース駆動モータ1.0,1
.8・・・・・・排気用チューブ11・・・・・・開口
部 12・・・・・・輻射熱制御板13・・・・
・・ヒータエレメント
14・・・・・・ヒータユニット
19・・・・・・放射温度計 21・・・・・・コン
トローラ出願人 パイオニア株式会社
パイオニアビデオ株式会社Fig. 1 is an external view of a device showing an embodiment of the present invention, Fig. 2 is a structural diagram thereof, Fig. 3 is an enlarged sectional view of the dryer unit in Fig. 2, and Fig. 4 is a drying process performed by a processor. A flowchart showing the basic sequence of processing steps,
Fig. 5 is a characteristic diagram showing the temperature deviation of each radius with respect to the reference temperature, Fig. 6 (A) is an external view of a conventional device, (B) is a front cross-sectional view thereof, and Fig. 7 is a configuration showing another conventional device. It is a diagram. Description of main parts No. n 1...Glass master 2...Spindle 4...Spindle motor 8...Spindle base drive motor 1.0,1
.. 8... Exhaust tube 11... Opening 12... Radiant heat control board 13...
... Heater element 14 ... Heater unit 19 ... Radiation thermometer 21 ... Controller applicant Pioneer Co., Ltd. Pioneer Video Co., Ltd.
Claims (7)
記光ディスク原盤を前記加熱手段に対して対向するよう
に担持する担持手段と、前記加熱手段よる前記光ディス
ク原盤への赤外線の放射量の分布を制御する熱制御手段
とを備えたことを特徴とする光ディスク原盤の加熱乾燥
装置。(1) A heating means for heating an optical disc master by infrared rays, a supporting means for supporting the optical disc master so as to face the heating means, and controlling the distribution of the amount of infrared radiation radiated by the heating means to the optical disc master. What is claimed is: 1. A heating drying device for optical disc masters, comprising: a heat control means for controlling the temperature of the optical disc.
度が全面に亘って均一になるように前記放射量の分布の
制御をなすことを特徴とする請求項1記載の光ディスク
原盤の加熱乾燥装置。(2) The apparatus for heating and drying an optical disk master according to claim 1, wherein the heat control means controls the distribution of the radiation amount so that the surface temperature of the optical disk master becomes uniform over the entire surface. .
部分の表面温度が他の部分よりも高くなるように前記放
射量の分布の制御をなすことを特徴とする請求項2記載
の光ディスク原盤の加熱乾燥装置。(3) The optical disc master according to claim 2, wherein the thermal control means controls the distribution of the radiation amount so that the surface temperature of the outermost peripheral part of the optical disc master is higher than other parts. heating drying equipment.
からなり、前記開口部の形状によって熱伝達の制御をな
すことを特徴とする請求項1記載の光ディスク原盤の加
熱乾燥装置。(4) The apparatus for heating and drying optical disc masters according to claim 1, wherein the heat control means comprises a radiant heat control plate having an opening, and heat transfer is controlled depending on the shape of the opening.
わせによって構成された輻射熱制御板からなることを特
徴とする請求項1記載の光ディスク原盤の加熱乾燥装置
。(5) The heating drying device for optical disk masters according to claim 1, wherein the heat control means is comprised of a radiant heat control plate made of a combination of materials having different thermal properties.
射熱制御板からなることを特徴とする請求項1記載の光
ディスク原盤の加熱乾燥装置。(6) The heating drying apparatus for optical disk masters according to claim 1, wherein the heat control means is comprised of a radiant heat control plate having partially different thermal properties.
記光ディスク原盤を前記加熱手段に対して対向するよう
に担持する担持手段とを備え、前記加熱手段による前記
光ディスク原盤への赤外線の放射量の分布を前記加熱手
段の発熱量分布によって制御することを特徴とする光デ
ィスク原盤の加熱乾燥装置。(7) A heating means for heating an optical disc master by infrared rays, and a supporting means for supporting the optical disc master so as to face the heating means, and distribution of the amount of infrared rays radiated by the heating means to the optical disc master. A heating drying device for an optical disc master, characterized in that the temperature is controlled by the calorific value distribution of the heating means.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63219979A JPH0746025B2 (en) | 1988-09-02 | 1988-09-02 | Device for heating and drying optical disc masters |
US07/322,941 US4897932A (en) | 1988-09-02 | 1989-03-14 | Master optical disk heat-drying apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63219979A JPH0746025B2 (en) | 1988-09-02 | 1988-09-02 | Device for heating and drying optical disc masters |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0268479A true JPH0268479A (en) | 1990-03-07 |
JPH0746025B2 JPH0746025B2 (en) | 1995-05-17 |
Family
ID=16744023
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63219979A Expired - Fee Related JPH0746025B2 (en) | 1988-09-02 | 1988-09-02 | Device for heating and drying optical disc masters |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0746025B2 (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0727474A (en) * | 1993-06-17 | 1995-01-27 | Shunichi Yagi | Vacuum dryer |
JPH08121956A (en) * | 1994-10-20 | 1996-05-17 | Shunichi Yagi | Vacuum drying device |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6339930U (en) * | 1986-08-29 | 1988-03-15 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59501998A (en) * | 1982-11-03 | 1984-11-29 | バロ−ス・コ−ポレ−ション | Multiple control storage in a pipelined microcontroller to handle nested subroutines |
-
1988
- 1988-09-02 JP JP63219979A patent/JPH0746025B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6339930U (en) * | 1986-08-29 | 1988-03-15 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0727474A (en) * | 1993-06-17 | 1995-01-27 | Shunichi Yagi | Vacuum dryer |
JPH08121956A (en) * | 1994-10-20 | 1996-05-17 | Shunichi Yagi | Vacuum drying device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0746025B2 (en) | 1995-05-17 |
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