JPH0263002A - Reflecting mirror for laser - Google Patents
Reflecting mirror for laserInfo
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
（ト）技術分野
この発明は、Ｃｏ２レーザ、ＣＯレーザなど赤外レーザ
に用いられるレーザ反射鏡に閃する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (G) Technical Field The present invention relates to a laser reflecting mirror used for infrared lasers such as Co2 lasers and CO lasers.
Ｃ０２レーザは、たとえば１０．６μｍの波長の光を発
生する。波長が可視光よりも長いので、可視光用の反射
鏡とは異なる反射鏡が要求される。A C02 laser generates light with a wavelength of 10.6 μm, for example. Since the wavelength is longer than that of visible light, a different reflector from that for visible light is required.
また、単に波長が違うだけではなく、ＣＯ２レーザの場
合、大出力の光がでるので、反射鏡は著しく加熱される
。Furthermore, not only are the wavelengths different, but in the case of a CO2 laser, a high output light is emitted, so the reflecting mirror is heated significantly.
反射率が高（、耐熱性に優れていることが要求される。Requires high reflectance (and excellent heat resistance).
さらに、水冷して使うことも多いが、この場合、有効に
冷却できるためには、熱伝導率が高い、ということが重
要である。Furthermore, they are often used with water cooling, but in this case it is important that they have high thermal conductivity in order to be effectively cooled.
さらに、反射鏡なのであるから、表面についた汚れを落
しやすく、この際に表面に傷がつかない、という事も要
求される。Furthermore, since it is a reflective mirror, it is also required that it be easy to remove dirt from the surface and that the surface will not be scratched during this process.
また、加工しやすいという事も反射鏡材料としては重要
なことである。Furthermore, ease of processing is also important as a reflecting mirror material.
（イ）従来技術
赤外レーザ用の反°射鏡として、従来、大きくわけて、
ふたつのタイプの反射鏡が用いられている。(a) Conventional technology As a reflector for infrared lasers, conventionally there are two main types:
Two types of reflectors are used.
（：）鏡面加工された金属を反射鏡基板とするもの。(:) A reflector substrate made of mirror-finished metal.
金属基板としてはＣｕ、Ｍｏが用いられている。Cu and Mo are used as the metal substrate.
Ｃｕは被加工性、熱伝導性に優れる。赤外レーザ光に対
する理論反射率も９９％以上であって極めて高い。素材
価格も安い。このようなわけで、Ｃｕが最も多く用いら
れている。Cu has excellent processability and thermal conductivity. The theoretical reflectance for infrared laser light is also extremely high, at 99% or more. Material prices are also low. For this reason, Cu is most often used.
Ｃｕは、こういうわけで、鏡面加工されたままの状態で
使われることもある。For this reason, Cu is sometimes used in a mirror-finished state.
しかし、Ｃｕ表面が酸化しやすいので、金Ａｕの薄膜を
、メツキ、イオンプレーティングなどでＣｕの上に形成
し、酸化を防止するようになった反射鏡もある（第２図
（ａ））。However, since the Cu surface is easily oxidized, some reflectors have been made to prevent oxidation by forming a thin layer of gold (Au) on the Cu using plating, ion plating, etc. (Figure 2 (a)) .
これだけでは強度に乏しいので、Ｃｕ基板の表面にＮｉ
薄膜を形成し、さらに、その上にＡｕの薄膜をつける、
という事も行われる（第２図（ｂ））。This alone lacks strength, so Ni is added to the surface of the Cu substrate.
Form a thin film and then apply a thin Au film on top of it.
This is also done (Figure 2 (b)).
ＭＯを反射鏡材料とするものもある。Ｍｏは硬度が高い
ので、スパッタなどにより汚れが付いても、プーラシで
簡単にこすり落すことができる。Some use MO as the reflecting mirror material. Since Mo has high hardness, even if it gets dirty due to spatter, it can be easily rubbed off with a polish.
つまり、ＭＯ表面をブラシでこすっても傷がつかない。In other words, even if the MO surface is rubbed with a brush, it will not be scratched.
そこで、ＭＯの場合は、鏡面加工したものを、そのまま
用いる。Ａｕ、Ｎｉなとの薄膜コーティングしないのが
ふつうである。Therefore, in the case of MO, a mirror-finished one is used as is. Usually, a thin film coating of Au, Ni, etc. is not used.
金属基板反射鏡を、ここで単純に列挙すると、Ｃｕ Ｃｕ ／ Ａｕ Ｃｕ／Ｎｉ／Ａｕ Ｍ。A simple list of metal substrate reflectors is Cu. Cu/Au Cu/Ni/Au M.
という事になる。ただし、斜線で区別られた物質は最初
のものが基板を、２番、３番目はその上の薄膜を表わす
もの゛とする。That's what it means. However, the first substance marked with diagonal lines represents the substrate, and the second and third substances represent the thin film thereon.
（１１）鏡面加工されたＳｉやＧｅを反射鏡基板として
用いるもの。(11) One using mirror-finished Si or Ge as a reflecting mirror substrate.
半導体であるＳｉやＧｅ基板の上にＡｕ或はＡｇをつけ
、さらにその上に丁ｈＦ４やＺｎ５ｅなどの誘電体薄膜
を多数層積層したものである。Au or Ag is deposited on a semiconductor Si or Ge substrate, and a large number of dielectric thin films such as ZF4 or Zn5e are laminated thereon.
Ｓｉ、Ｇｅ／Ａｕ、Ａｇ／ＴｈＦ４．Ｚｎ５ｅここで、
Ａｕ 、 Ａｇや誘電体薄膜を付けるのは、赤外光に対
する反射率を高めるためである。第２図（Ｃ）に概略断
面を示す。Si, Ge/Au, Ag/ThF4. Zn5e where,
The purpose of adding Au, Ag, or a dielectric thin film is to increase the reflectance of infrared light. A schematic cross section is shown in FIG. 2(C).
（ロ） 発明が解決しようとする問題点（１）に示した
金属基板タイプのものは、Ｃｕ、 Ｍ。(b) The metal substrate type shown in problem (1) to be solved by the invention is Cu, M.
ともにそれぞれ欠点がある。Both have their own shortcomings.
Ｃｕ反射鏡は硬度が低いため傷つきやすい。使用時に、
表面が汚れると、反射率が落ち、レーザ光の吸収が大き
くなって、発熱が著しくなる。このため汚れはきれいに
拭きとらなければならない。The Cu reflector has low hardness and is easily damaged. When using
When the surface becomes dirty, the reflectance decreases, absorption of laser light increases, and heat generation increases. For this reason, dirt must be wiped clean.
ガーゼなどでＣｕ反射鏡を拭き、洗浄する必要がある。It is necessary to wipe and clean the Cu reflector with gauze or the like.
このとき表面に傷がつく。また、表面のＡｕ層が剥離す
る。こういうわけで、反射率が低下することがある。At this time, the surface is scratched. Moreover, the Au layer on the surface peels off. For this reason, the reflectance may be reduced.
Ｍｏ反射鏡は、硬度が高いので、ガーゼで拭きとり洗浄
しても、傷つける惧れかない。しかし、高価な材料であ
る。このため高価な反射鏡になってしまう。また、ＭＯ
は被加工性が悪い。脆くて硬い。Since the Mo reflector has high hardness, there is no risk of damaging it even if it is wiped and cleaned with gauze. However, it is an expensive material. This results in an expensive reflector. Also, M.O.
has poor machinability. brittle and hard.
鏡面・を得るには、研磨仕上げに上らなければならない
。超精密切削加工によって鏡面を得ることができない。To get a mirror finish, you have to go for a polished finish. Mirror surfaces cannot be obtained through ultra-precision cutting.
このため、非球面を作るため、超精密切削加工を適用す
ることができない。つまり、被加工性が悪いので、任意
の形状の鏡面を作ることができないのである。For this reason, ultra-precision cutting cannot be applied to create an aspherical surface. In other words, because of its poor workability, it is not possible to create a mirror surface of any shape.
Ｓｉ、Ｇｅの表面にＡｕ 、 Ａｇをつけたタイプのも
のは、ＡｕｌＡｇの上に付けた誘電体薄膜が剥離しやす
い。反射鏡の表面についた汚れを除去しようとすると、
誘電体薄膜も剥がれてしまう。In the case of the type in which Au or Ag is attached to the surface of Si or Ge, the dielectric thin film attached on the AulAg is likely to peel off. When trying to remove dirt from the surface of the reflector,
The dielectric thin film also peels off.
００ 目 的
■）赤外光に対して反射率が高く、
２）熱伝導性に優れ、
３）被加工性に富み、
４）表面に傷がつきにくく、
５）比較的安価である、
赤外レーザ用反射鏡を提供することが本発明の目的であ
る。00 Purpose ■) High reflectance for infrared light, 2) Excellent thermal conductivity, 3) Good workability, 4) Hard to scratch the surface, 5) Relatively inexpensive, red It is an object of the present invention to provide a reflector for external lasers.
（３）構 成
本発明のレーザ反射鏡は、鏡面加工されたＣｕ又はＡＪ
或はＣｕ合金、Ａ／金合金基板とし、その表面に０．１
〜２０μｍのＷ薄膜を形成したものである。(3) Configuration The laser reflecting mirror of the present invention is made of mirror-finished Cu or AJ.
Alternatively, Cu alloy, A/gold alloy substrate is used, and 0.1
A thin W film of ~20 μm was formed.
第１図（ａ）、（ｂ）に本発明のレーザ反射鏡の概略断
面を示す。これは、平行表面をもつように単純化して描
いているが、平行表面以外の形状である事もある。球面
鏡とすることもある。FIGS. 1(a) and 1(b) show schematic cross sections of the laser reflecting mirror of the present invention. This is simplified to show that it has parallel surfaces, but it can also have shapes other than parallel surfaces. Sometimes it is a spherical mirror.
Ｗは、イオンプレーティング法により薄膜として形成す
ることができる。W can be formed as a thin film by ion plating.
基板は表面に表われないが鏡面加工する。これは、Ｗ薄
膜の表面が平滑になるようにして、反射率を実効的に高
めるためである。The substrate is mirror-finished, although it is not visible on the surface. This is to make the surface of the W thin film smooth and effectively increase the reflectance.
ａ）作 用
基板にＡｌ又はＡ１合金、Ｃｕ又はＣｕ合金を使うので
、
（１）被加工性が良い。a) Since Al or A1 alloy, Cu or Cu alloy is used for the working substrate, (1) Good workability.
任意の形状の反射鏡に加工することができる。It can be processed into a reflecting mirror of any shape.
研磨によって鏡面加工が可能なのはもちろんである。さ
らに、超精密旋盤により、放物面など非球面の鏡面加工
が可能である。Of course, mirror finishing is possible by polishing. Furthermore, ultra-precision lathes can be used to mirror-finish aspherical surfaces such as paraboloids.
（２）材料が安価である。(2) Materials are inexpensive.
（３）熱伝導性に優れている。(3) Excellent thermal conductivity.
レーザ反射鏡として使用する場合、水冷によって冷却す
るが、水冷効果が最も高い。大出力のレーザ光照射によ
る反射鏡の温度上昇を水冷によって、小さい範囲に抑制
することができる。When used as a laser reflector, it is cooled by water cooling, which has the highest water cooling effect. Water cooling can suppress the temperature rise of the reflecting mirror due to high-output laser beam irradiation to a small range.
温度上昇が少ないので、熱膨張による形状変化が非常に
少ない。このため、レーザビームのモードが極めて安定
になる。Since the temperature rise is small, there is very little change in shape due to thermal expansion. Therefore, the mode of the laser beam becomes extremely stable.
（４） Ｍｏにくらべて軽量である。(4) It is lighter than Mo.
Ｍｏ ノ比重は１０．２２ 、Ｃｕ （ｉ’）比重は８
．７６ 、Ａｌの比重は２．７である。特にＡｌを基板
とするものは著しく軽量にできる。Mo specific gravity is 10.22, Cu (i') specific gravity is 8
．． 76, and the specific gravity of Al is 2.7. In particular, those using Al as a substrate can be extremely lightweight.
軽量であると、反射鏡の取付は取り外しの作業性が向上
する。If it is lightweight, the workability of attaching and removing the reflector will improve.
ＮＣ装置などにより、レーザ３次元、２次元加工機に装
着した際、軽いため慣性力が少なくなる。このためサー
ボ制御が容易になる。位置制御性が向上し、サーボ制御
の駆動系も小型化することができる。When attached to a laser three-dimensional or two-dimensional processing machine using an NC device, the inertia force is reduced because it is lightweight. This facilitates servo control. Position controllability is improved, and the servo control drive system can also be downsized.
（５）基板を鏡面加工しているので、その上につけたＷ
薄膜が非常に平滑になる。このため、散乱による反射ロ
スが極めて小さい。(5) Since the board is mirror-finished, the W attached on top of it
The thin film becomes very smooth. Therefore, reflection loss due to scattering is extremely small.
以上は、基板に鏡面加工したＣｕ、Ｃｕ合金、ＡｌｌＡ
ｌ合金を使う事によるものである。次にＷ薄膜を付けた
事による特長を述べる。The above is Cu, Cu alloy, and AllA with mirror-finished substrates.
This is due to the use of l alloy. Next, we will discuss the advantages of adding a W thin film.
（６）Ｗ薄膜をつけているので、表面がＭＯ基板と同程
度に硬くなる。ビッカース硬度で２５０である。(6) Since the W thin film is attached, the surface becomes as hard as the MO substrate. It has a Vickers hardness of 250.
反射鏡として使用している時、スパッタやミストの焼き
つきにより表面が汚れる事がある。When used as a reflector, the surface may become dirty due to spatter or mist burning.
このような汚れを、トリクレン、アルコールなどの溶剤
の中で、拭き取り洗浄したり、ナイロンブラシなどで、
スパッタなどの汚れを除去できる。Remove such dirt by wiping it off in a solvent such as Triclean or alcohol, or using a nylon brush, etc.
Can remove stains such as spatter.
このようにしても、Ｗ薄膜のため表面に傷がつかない。Even in this case, the surface is not scratched because the W film is thin.
（７）Ｗの融点は高い。約３３６０℃である。反射鏡と
して使用している際、スパッタや異物付着により、反射
率が低下し、異物が焼き付き、蒸発を起こしても、Ｗ表
面は溶けない。耐熱性に優れている。(7) W has a high melting point. The temperature is approximately 3360°C. When used as a reflecting mirror, the reflectance decreases due to sputtering or adhesion of foreign matter, and even if the foreign matter seizes or evaporates, the W surface will not melt. Excellent heat resistance.
このように優れた特長がある。Ｗ薄膜の厚さを０．１μ
ｍ以上にするのは、表面硬度をＭＯと同程度にするため
である。２０μｍ以下にするのは、イオンプレーティン
グなどによるＷ薄膜形成のコストを過大にしないためで
ある。It has such excellent features. The thickness of the W thin film is 0.1μ.
The reason why it is set at m or more is to make the surface hardness comparable to that of MO. The reason why the thickness is 20 μm or less is to prevent the cost of forming a W thin film by ion plating or the like from becoming excessive.
また、Ｗ膜が厚いと、反射率、熱伝導度が低下するので
望ましくない。こういうわけで、Ｗ薄膜の厚みは０．１
〜２０μｍとする。Furthermore, if the W film is thick, the reflectance and thermal conductivity will decrease, which is not desirable. For this reason, the thickness of the W thin film is 0.1
~20 μm.
（→ 実施例Ｉ（Ａｌ基板）
Ａｌを基板とするレーザ反射鏡を次の工程で作り、次の
ような状態で使用し、特性の変化を調べた。(→ Example I (Al substrate) A laser reflector using Al as a substrate was manufactured in the following process, used under the following conditions, and changes in characteristics were investigated.
（１１９９，９８９６純度のＡｌを用いて、直径４０朋
、焦点距離１５０＋ｕｔＱ軸はずし放物面鏡を５ＰＤＴ
加工にて切削した。(Using Al with a purity of 1199,9896, a 5PDT
It was cut during processing.
Ｒａ ＝ ０．０７ μｍ 、面積度λ／２０（λ＝
１０．６ μｍ ）とした。Ra = 0.07 μm, area degree λ/20 (λ=
10.6 μm).
（２） つぎに、純度９９．９９９６のＷベレットを
原料として、イオンプレーティングにより、膜厚５μｍ
のＷ薄膜をＡｌ基板の上に形成した。(2) Next, using W pellets with a purity of 99.9996 as a raw material, a film with a thickness of 5 μm was formed by ion plating.
A W thin film was formed on an Al substrate.
この時、Ｃ０２レーザ光に対する反射率は９８．２％、
ビッカース硬度は３０５であった。At this time, the reflectance for the C02 laser beam is 98.2%,
Vickers hardness was 305.
（３）完成した放物面鏡を、出力５ ｋＷのＣＯ２レー
ザ加工機の加工ヘッドに取りつけた。これを、鉄系材料
の切断ラインで使用した。(3) The completed parabolic mirror was attached to the processing head of a CO2 laser processing machine with an output of 5 kW. This was used on a cutting line for iron-based materials.
（４） 使用するうちに、スパッタや、工場雰囲気中
のミストの焼きつきが反射鏡の上に生じた。(4) During use, spatter and burn-in of mist in the factory atmosphere occurred on the reflector.
（５） このような汚れを除くため、ナイロンブラシ
により水中で反射鏡の表面を擦った。スパッタやミスト
の付着はほぼ完全に除去することができた。(5) To remove such dirt, the surface of the reflector was rubbed under water with a nylon brush. Spatter and mist adhesion could be almost completely removed.
（６）洗浄後、面精度、反射率を測った。(6) After cleaning, surface accuracy and reflectance were measured.
面精度はλ／２０、反射率は９８，２％であった。The surface accuracy was λ/20 and the reflectance was 98.2%.
これらの値は製品初期値から全く変化がない。These values do not change at all from the initial product values.
つまり、表面に傷がついていないということである。In other words, there are no scratches on the surface.
（７） 加工ヘッドが移動する２次元ＮＧ制御ＧＯ２
Ｌ／−ザ加工機に、本発明のＡＪ基板放物面鏡をとりつ
けた。加工ヘッドの移動速度に対するＮＧ指令位置の追
随性を測定した。速さが３ ｍ ／ ｓｅｃの場合追随
距離誤差は±０．１朋であった。軽い反射鏡であるので
追随性がよいという事が分る。(7) Two-dimensional NG control GO2 in which the processing head moves
The AJ substrate parabolic mirror of the present invention was attached to an L/-za processing machine. The followability of the NG command position to the moving speed of the processing head was measured. When the speed was 3 m/sec, the tracking distance error was ±0.1 m. It can be seen that since it is a light reflecting mirror, it has good tracking ability.
（２）実施例［（Ｃｕ基板）
Ｃｕを基板とするレーザ反射鏡を次の工程で作り、次の
ような状態で使用し、特性を調べた。(2) Example [(Cu substrate) A laser reflecting mirror using Cu as a substrate was manufactured in the following process, used under the following conditions, and its characteristics were investigated.
（１） 無酸素銅（０ＦＨＣ）を用いて、直径４０ｍ
ｒｔｔ、焦点距離１５０龍の軸はずし放物面鏡を５ＰＤ
Ｔ加工によって切削した。Ｒａ ＝ ０．０８μｍ１面
精度λ／２０とした（λ＝１０．６μｍ）。(1) Using oxygen-free copper (0FHC), diameter 40m
rtt, focal length 150 dragon off-axis parabolic mirror 5PD
It was cut by T machining. Ra = 0.08 μm and single surface accuracy λ/20 (λ = 10.6 μm).
（２） 純度９９９９％のＷペレットを原料として、
膜厚５μｍのＷ薄膜を、Ｃｕ基板の上に、イオンプレー
ティングにより形成した。(2) Using W pellets with a purity of 9999% as raw material,
A 5 μm thick W thin film was formed on a Cu substrate by ion plating.
こうしてできた反射鏡の、Ｃ０２レーザ光に対する反射
率は９８．２９６、ビッカース硬度は３０５であった。The reflection mirror thus produced had a reflectance of 98.296 and a Vickers hardness of 305 for the C02 laser beam.
（３）完成した放物面鏡を、出力５ ｋＷのＣＯ２レー
ザ加工機の加工ヘッドに取付けた。これを鉄系材料の切
断ラインで使用した。(3) The completed parabolic mirror was attached to the processing head of a CO2 laser processing machine with an output of 5 kW. This was used on a cutting line for iron-based materials.
（４）使用しているうちに、スパッタヤニ場雰囲気中の
ミストの焼きつきが反射鏡の上に生じた。(4) During use, the mist in the atmosphere of the sputtering resin field burned onto the reflecting mirror.
（５）汚れを除くために、ナイロンブラシにより、水中
で反射鏡表面を擦った。(5) To remove dirt, the surface of the reflector was rubbed under water with a nylon brush.
スパツタヤミストの付着はほぼ完全に除去することがで
きた。The adhesion of spatsutaya mist could be almost completely removed.
（６）洗浄後、面精度と反射率とを再び測定した。(6) After cleaning, surface precision and reflectance were measured again.
面精度はλ／２０、反射率は９８．２％であった。これ
らの値は製品初期値と全く同一である。つまり、汚れを
ブラシで除去することにより表面に傷がつかないという
ことである。こうして、何度も洗浄できることが分る。The surface accuracy was λ/20 and the reflectance was 98.2%. These values are exactly the same as the product initial values. In other words, by removing dirt with a brush, the surface will not be scratched. In this way, it turns out that it can be washed many times.
（ト）効 果
本発明のレーザ反射鏡は、
（１）低価格であり、
（２）反射鏡使用時における汚れに対する洗浄性にも優
れ、
（３）反射率も高＜（９８，２％）、
（４）熱伝導度も高く、水冷しやすい。(G) Effects The laser reflecting mirror of the present invention is (1) low in price, (2) excellent in cleanability against dirt when using the reflecting mirror, and (3) high reflectance <(98.2%). ), (4) It has high thermal conductivity and is easy to cool with water.
このような特性を持つ。Ｃ０２レーザ、ＣＯレーザなど
赤外レーザ用のレーザ反射鏡として利用すると、極めて
効果的である。It has such characteristics. It is extremely effective when used as a laser reflector for infrared lasers such as CO2 lasers and CO lasers.
第１図は本発明のレーザ反射鏡の縦断面図。
（ａ）はＡｌ基板のもの、（ロ）はＣｕ基板のものを示
す。
第２図は縦来例に係るレーザ反射鏡の縦断面図。（ａ）
はＣｕ、 Ａｌ基板にＡｕ薄膜をつけたもの。
（ロ）はＣｕ、 Ａ７基板にＮｉ下地をつけて金Ａｕ薄
膜をつけたもの。（Ｃ）はＳＬ、 Ｇｅ基板上に、Ａｕ
又はＡｇをコートし、さらに誘電体多層膜を形成したも
の。
発 明 者 京 谷 達 也樋
口 文 章FIG. 1 is a longitudinal sectional view of the laser reflecting mirror of the present invention. (a) shows the one on the Al substrate, and (b) shows the one on the Cu substrate. FIG. 2 is a vertical sectional view of a conventional laser reflecting mirror. (a)
is a Cu and Al substrate with an Au thin film attached. (b) is a Cu A7 substrate with a Ni undercoat and a gold-Au thin film. (C) shows SL, Au on Ge substrate
Or coated with Ag and further formed with a dielectric multilayer film. Inventor Tatsuyahi Kyotani
oral sentence
Claims (5)
とし、この上にＷの薄膜が形成されている事を特徴とす
るレーザ反射鏡。(1) A laser reflecting mirror characterized by having a substrate made of Al or an Al alloy, or Cu or a Cu alloy, on which a thin film of W is formed.
求の範囲第（１）項記載のレーザ反射鏡。(2) A laser reflecting mirror according to claim (1), wherein the substrate is mirror-finished.
る特許請求の範囲第（２）項記載のレーザ反射鏡。(3) The laser reflecting mirror according to claim (2), wherein the mirror finishing method is an ultra-precision cutting method.
用いる事を特徴とする特許請求の範囲第（１）項又は第
（２）項或は第（３）項記載のレーザ反射鏡。(4) The laser reflecting mirror according to claim (1), (2), or (3), characterized in that ion plating is used as a method for forming the W thin film.
を特徴とする特許請求の範囲第（１）項〜第（４）項の
いずれかに記載のレーザ反射鏡。(5) The laser reflecting mirror according to any one of claims (1) to (4), wherein the W thin film has a thickness of 0.1 μm to 20 μm.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21556388A JPH0263002A (en) | 1988-08-30 | 1988-08-30 | Reflecting mirror for laser |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21556388A JPH0263002A (en) | 1988-08-30 | 1988-08-30 | Reflecting mirror for laser |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0263002A true JPH0263002A (en) | 1990-03-02 |
Family
ID=16674501
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21556388A Pending JPH0263002A (en) | 1988-08-30 | 1988-08-30 | Reflecting mirror for laser |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0263002A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03171001A (en) * | 1989-11-30 | 1991-07-24 | Toshiba Corp | Reflecting mirror |
-
1988
- 1988-08-30 JP JP21556388A patent/JPH0263002A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03171001A (en) * | 1989-11-30 | 1991-07-24 | Toshiba Corp | Reflecting mirror |
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