JPH0262546A - Improved optical photosensitive resin composition - Google Patents

Improved optical photosensitive resin composition

Info

Publication number
JPH0262546A
JPH0262546A JP21360688A JP21360688A JPH0262546A JP H0262546 A JPH0262546 A JP H0262546A JP 21360688 A JP21360688 A JP 21360688A JP 21360688 A JP21360688 A JP 21360688A JP H0262546 A JPH0262546 A JP H0262546A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
methacrylate
acrylate
photosensitive resin
refractive index
structural formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP21360688A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yushi Arai
雄史 新井
Akihiko Ikeda
章彦 池田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Asahi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Asahi Chemical Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Chemical Industry Co Ltd filed Critical Asahi Chemical Industry Co Ltd
Priority to JP21360688A priority Critical patent/JPH0262546A/en
Publication of JPH0262546A publication Critical patent/JPH0262546A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PURPOSE:To obtain the photosensitive resin compsn. having good characteristics by incorporating a linear high-polymer material, multifunctional acrylate and/or multifunctional methacrylate having a prescribed value or below of the difference in refractive index from this material after polymn. curing, acrylate and/or methacrylate of a prescribed constitutional formula, and photopolymn. initiator into the above compsn. CONSTITUTION:Polymethyl methacrylate is used for the linear high-polymer material and a polymer of the polymethyl methacrylate and bifunctional methacrylate having a specific structure is used for the multifunctional acrylate and/or multifunctional methacrylate. The difference in the refractive index thereof from the polymethyl methacrylate is selected to <=0.15 at 0 to 80 deg.C. The acrylate and/or methacrylate expressed by the constitutional formula I (R1 is H or methyl group; R2 is <=10C alkyl group contg. a chain or ring, allyl group or allylalkyl group), for example, polymethyl methacrylate is added to the compsn. and 2-ethylanthraquinone or the like is added as the photopolymn. initiator thereto. The photosensitive resin which has the excellent optical characteristics in a wide temp. range and has durability is obtd. according to this constitution.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、広い温度範囲にわたって光の吸収・散乱損失
が小さく、かつ耐久性に優れた光学素子を提供する光学
用感光性樹脂組成物に関するものである。
Detailed Description of the Invention [Field of Industrial Application] The present invention relates to an optical photosensitive resin composition that provides an optical element with low light absorption and scattering loss over a wide temperature range and excellent durability. It is something.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

感光性樹脂組成物を用い光リノグラフイ手段によって光
導波路、ホログラフィックレンズ、微小プリズム、回折
格子等の光学素子を得る技術は、光りソグラフイ技術特
有の微細加工性、大量複製性の観点から注目されている
The technology of obtaining optical elements such as optical waveguides, holographic lenses, microprisms, and diffraction gratings by photolithography using photosensitive resin compositions has attracted attention from the viewpoint of microprocessability and mass-reproducibility unique to photolithography technology. There is.

感光性樹脂を用いて光学素子(特に光導波路)を形成す
る方法については例えば、オプテイクスコミュニケーシ
ョンズ(0ptics Communications
)。
For a method of forming an optical element (particularly an optical waveguide) using a photosensitive resin, see, for example, Optics Communications.
).

17巻(1) 、 129ページ、 1976年;アプ
ライドフイジクス レターズ(Applied Phy
sics Letters)。
Volume 17 (1), page 129, 1976; Applied Physics Letters
sics Letters).

24巻(2)、72ページ、 1974年;沖電気研究
開発48巻(3)、73ページ、 1981年;電子通
信学会論文誌J65−0 (11) 、 860ページ
、 1982年;アプライド オプテイクス(Appl
ied 0ptics)、 17巻(4)。
Vol. 24 (2), page 72, 1974; Oki Electric Research and Development Vol. 48 (3), page 73, 1981; Transactions of the Institute of Electronics and Communication Engineers J65-0 (11), page 860, 1982; Applied Optics (Appl.
ied 0ptics), Volume 17 (4).

646ヘージ、 1978年、等に記述されている。646 Hage, 1978, etc.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

上記の文献により形成される光導波路は光導波損失が1
0〜100dB/mと大きく、長い導波路長の素子が作
成できないという問題があった。また、アプライド フ
ィツクス レターズ(Appl 1edPhysics
 Letters ) 、 24巻(2)、72ページ
、 1974年;アプライド オシティクス(Appl
ied Qptics ) 、 17巻(4) 、 6
46ページ、 1978年;電子通信学会論文誌J65
−0(11) 、 860ページ、 1982年;等に
述べられている方法では、感光性樹脂組成物の組成のコ
ントロールが困難なことや、現像時にモノマーを減圧で
留去する必要がちシ、生産性が悪いという問題があった
。また、従来感光性樹脂よシなる光導波路は温度が変化
すると光導波損失が変化したり、特に高湿度雰囲気では
著しく光導波損失が増大するという問題点があった。
The optical waveguide formed according to the above literature has an optical waveguide loss of 1
There was a problem in that it was impossible to create an element with a large waveguide length of 0 to 100 dB/m and a long waveguide length. Also, Applied Physics Letters (Appl 1edPhysics Letters)
Letters), Volume 24 (2), Page 72, 1974; Applied Oscitics (Appl.
ied Qptics), Volume 17 (4), 6
46 pages, 1978; Journal of the Institute of Electronics and Communication Engineers J65
-0 (11), p. 860, 1982; etc., it is difficult to control the composition of the photosensitive resin composition, it is necessary to distill off the monomer under reduced pressure during development, and production There was a problem with bad sex. Furthermore, conventional optical waveguides made of photosensitive resins have had the problem that optical waveguide loss changes as the temperature changes, and particularly in high humidity environments, optical waveguide loss increases significantly.

〔問題点を解決するだめの手段〕[Failure to solve the problem]

本発明者等は、上記の問題点を解決すべく鋭意研究の結
果、本発明にいたった。
The present inventors conducted extensive research to solve the above-mentioned problems, and as a result, they arrived at the present invention.

すなわち、本発明は、■線状高分子物質と、■重合硬化
機上記線状高分子物質との屈折率差がO℃〜80℃の温
度範囲において0.015以下の多官能アクリレート及
び/または多官能メタクリレートと、■下記構造式1で
表わされる構造のアクリレート及び/またはメタクリレ
ートと、■光重合開始剤とからなることを特徴とする光
学用感光性樹脂組成物である。
That is, the present invention provides polyfunctional acrylates and/or This is an optical photosensitive resin composition characterized by comprising a polyfunctional methacrylate, (1) an acrylate and/or methacrylate having a structure represented by the following structural formula 1, and (2) a photopolymerization initiator.

(式中% R1は水素原子またはメチル基であシ、R2
は炭素数が10以下の鎖状または環を含むアルキル基、
アリール基またはアリールアルキル基である。) ただし、ここにいう重合硬化後の多官能アクリレート及
び/または多官能メタクリレートと線状高分子物質の屈
折率差とは、該多官能アクリレート及び/または多官能
メタクリレートの100重量部のベンジルジメチルケタ
ールを加え、充分に光重合硬化させた測定用試料を作製
し、ナトリウムD線の波長において測定した屈折率の測
定値と。
(In the formula, % R1 is a hydrogen atom or a methyl group, R2
is a chain or ring-containing alkyl group having 10 or less carbon atoms,
It is an aryl group or an arylalkyl group. ) However, the refractive index difference between the polyfunctional acrylate and/or polyfunctional methacrylate and the linear polymer substance after polymerization and curing refers to 100 parts by weight of benzyl dimethyl ketal of the polyfunctional acrylate and/or polyfunctional methacrylate. A sample for measurement was prepared by adding and sufficiently photopolymerized and cured, and the measured value of the refractive index was measured at the wavelength of the sodium D line.

線状高分子物質のすl−IJウムD線の波長における屈
折率との差の給体値をいう。
It refers to the feed value of the difference between the refractive index and the refractive index at the wavelength of the sl-IJum D line of a linear polymeric material.

本発明に用いる線状高分子物質としては、ポリカーフ1
?ネート等の重縮合系ポリマーやビニルモノマーのホモ
ポリマーやコポリマーのうちで透明性の優れたものの中
から選ばれる。ホモポリマーの例としてはポリメタクリ
ル酸メチル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニIし、ポリ−
4−メチルペンテン−1、ぼり(メタクリル酸−1−メ
チルシクロヘキシル)、ポリ(メタクリル酸−4−メチ
ルシクロヘキシル)、ポリメタクリル酸−2−フェニル
エチル)が挙げられ、コポリマーの例としては、メタク
リル酸メチル/アクリル酸メチルコポリマーアクリロニ
トリル/スチレンコポリマー メタクリル酸メチル/ス
チレンコポリマー メタクリル酸メチル/メタクリル酸
シクロヘキシルコポリマ等が挙げられる。これらの線状
高分子物質のうち透明性の観点から好ましくはポリメタ
クリル酸メチル、ポリスチレン、2リー4−メチルペン
テン−1,ポリ(メタクリル酸−1−メチルシクロヘキ
シル)、ポリ(メタクリル酸−4−メチルシクロヘキシ
ル)、ポリ(メタクリル酸−2−フェニルエチル)、メ
タクリル酸メチル/アクリル酸メチルコポリマー メタ
クリル酸メチル/メタク)kWll、シクロヘキシルコ
ポリマーが用いラレ、さらに好ましくはポリメタクリル
酸メチル、メタクリル酸メチル/アクリル酸メチルコポ
リマーメタクリル酸メチル/′メタクリル酸シクロヘキ
シルコポリマーが用いられる。またこれら線状高分子物
質の重量平均分子量は、感光性樹脂組成物の膜厚を維持
するため5000以上が好ましく、よシ好ましくは2万
ないし100万、更によシ好ましくは5万ないし50万
のものを用いる。さらに、これら線状高分子物質の組成
物中に占める重量分率は、固形物状として用いるために
20%以上であるととが好ましく、十分な感光性を得る
ために80%以下であることが好ましい。
As the linear polymer material used in the present invention, polycarf 1
? It is selected from polycondensation polymers such as Nate, homopolymers and copolymers of vinyl monomers, and those with excellent transparency. Examples of homopolymers include polymethyl methacrylate, polystyrene, polyvinyl chloride I, and poly-
Examples of copolymers include 4-methylpentene-1, Bori (1-methylcyclohexyl methacrylate), poly(4-methylcyclohexyl methacrylate), and poly(2-phenylethyl methacrylate). Methyl/methyl acrylate copolymer, acrylonitrile/styrene copolymer, methyl methacrylate/styrene copolymer, methyl methacrylate/cyclohexyl methacrylate copolymer, and the like. Among these linear polymeric substances, from the viewpoint of transparency, polymethyl methacrylate, polystyrene, 2-4-methylpentene-1, poly(1-methylcyclohexyl methacrylate), and poly(4-methyl methacrylate) are preferred. Methyl cyclohexyl), poly(2-phenylethyl methacrylate), methyl methacrylate/methyl acrylate copolymer Methyl methacrylate/methacrylate) kWll, cyclohexyl copolymer is used, more preferably poly(methyl methacrylate), methyl methacrylate/acrylic The acid methyl copolymer methyl methacrylate/'cyclohexyl methacrylate copolymer is used. In addition, the weight average molecular weight of these linear polymeric substances is preferably 5,000 or more in order to maintain the film thickness of the photosensitive resin composition, more preferably 20,000 to 1,000,000, and even more preferably 50,000 to 500,000. Use the one. Furthermore, the weight fraction of these linear polymeric substances in the composition is preferably 20% or more in order to be used as a solid substance, and 80% or less in order to obtain sufficient photosensitivity. is preferred.

本発明に用いる多官能アクリレート及び/または多官能
メタクリレートとしては、例えば、エテレンクリコール
シアクリレート、エチレンクリコールジメタクリレート
、トリエチレングリコールジアクリレート、トリエチレ
ングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコ
ールジアクリレート、テトラエチレングリコールジメタ
クリレート、ノナエチレングリコールジメタクリレート
、1.4−ブタンジオールジアクリレート、1.4−ブ
タンジオールジメタクリレート、1.6−ヘキサン・フ
ォールジアクリレート、1,6−ヘキサンシオールジメ
タクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、
プロピレングリコールジメタクリレート、ネオペンチル
グリコール・ジアクリレート、ネオペンチルグリコール
ジメタクリレート、トリメチロールプロノぐントリアク
リレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、下
記構造式2で表わされる構造の化合物、下記構造式3で
表わされる構造の化合物、等が挙げられる。
Examples of the polyfunctional acrylate and/or polyfunctional methacrylate used in the present invention include ethylene glycol cyacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol diacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, and tetraethylene glycol dimethacrylate. Glycol dimethacrylate, nonaethylene glycol dimethacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, 1,4-butanediol dimethacrylate, 1,6-hexane fold diacrylate, 1,6-hexane thiol dimethacrylate, propylene glycol dimethacrylate acrylate,
Propylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol diacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpronoglycol triacrylate, pentaerythritol triacrylate, compounds with the structure represented by the following structural formula 2, compounds with the structure represented by the following structural formula 3 compounds, etc.

以下余白 0=0 7し これら多官能アクリレート及び/または多官能メタクリ
レートの重合硬化物と線状高分子物質は、θ℃〜80℃
において屈折率差が0.015以下であるように選ばれ
る。この屈折率差が0.015を超える組成物を用いて
光学素子を作成すると、光損失の非常に大きなものとな
ってしまう。これらの組合せとしては、例えばポリ(メ
タクリル酸メチル)と構造式2の2官能メタクリレート
、ポリ(メタクリル酸−1−メチルシクロヘキシル)と
)!Jエチレングリコールジメタクリレート、ポリ(メ
タクリル酸−4−メチルシクロヘキシル)とネオペンチ
ルグリコールジアクリレート、ポリ(メタクリル酸−2
−フェニルエチル)と構造式3の2官能メタクリレート
等が好ましい。
Below margin 0=0
The refractive index difference is selected to be 0.015 or less. If an optical element is made using a composition with a refractive index difference of more than 0.015, the optical loss will be extremely large. Examples of these combinations include poly(methyl methacrylate) and bifunctional methacrylate of structural formula 2, poly(1-methylcyclohexyl methacrylate)! J ethylene glycol dimethacrylate, poly(4-methylcyclohexyl methacrylate) and neopentyl glycol diacrylate, poly(methacrylic acid-2)
-phenylethyl), bifunctional methacrylate of structural formula 3, etc. are preferred.

本発明に用いる構造式1で表わされる構造を有するアク
リレート及び/またはメタクリレートとしては、例えば
、メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル
酸−n−ブチル、アクリル酸−2−エチルヘキシル、メ
タクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸−4−メチルシ
クロヘキシル、メタクリル酸−1−メチルシクロヘキシ
ル、メタクリル酸−2−メチルシクロヘキシル、メタク
リル酸−4−メチルシクロヘキシル、メタクリル酸−4
−1−ブチルシクロヘキシル、メタクリル酸フェニル、
メタクリル酸ベンジル等が挙げられる。
Examples of the acrylate and/or methacrylate having the structure represented by Structural Formula 1 used in the present invention include methyl methacrylate, ethyl acrylate, n-butyl methacrylate, 2-ethylhexyl acrylate, cyclohexyl methacrylate, and acrylate. 4-methylcyclohexyl acid, 1-methylcyclohexyl methacrylate, 2-methylcyclohexyl methacrylate, 4-methylcyclohexyl methacrylate, 4-methacrylate
-1-butylcyclohexyl, phenyl methacrylate,
Examples include benzyl methacrylate.

これらのアクリレート及び/′マたはメタクリレートの
中で好ましくはメタクリル酸シクロヘキシル、メタクリ
ル酸4−メチルシクロヘキシル、メタクリル酸4−1−
ブチルシクロヘキシル、アクリル酸n−ブチル、メタク
リル酸メチルが用いられ、よシ好ましくは、取シ扱い易
さの点から、沸点の高いメタクリル酸シクロヘキシル、
メタクリル酸4−t−ブチルシクロヘキシルが用いられ
る。
Among these acrylates and/or methacrylates, cyclohexyl methacrylate, 4-methylcyclohexyl methacrylate, and 4-1-methacrylate are preferred.
Butylcyclohexyl, n-butyl acrylate, and methyl methacrylate are used, and from the viewpoint of ease of handling, cyclohexyl methacrylate, which has a high boiling point, is preferably used.
4-tert-butylcyclohexyl methacrylate is used.

さらに、構造式1で表わされるアクリレート及び/また
はメタクリレートの重合体と前記線状高分子物質との屈
折率差が0.015以下になるように選ばれた場合には
最も良好な結果が得られる。
Furthermore, the best results can be obtained when the refractive index difference between the acrylate and/or methacrylate polymer represented by Structural Formula 1 and the linear polymeric substance is selected to be 0.015 or less. .

本発明に用いる光重合開始剤としては、ラジカル重合開
始剤が好ましく、例えば、2−エチルアントラキノン、
ベンゾインメチルエーテル、ベンジインイソプロビルエ
ーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾフェノ
ン、4.4’−ビス(ジメチルアミノ)−ベンゾフェノ
ン、べ/ジルジメチルケタール、1−フェニル−1,2
−fロノξンジオンー2−o−(エトキシ力ルゼニル)
オキシム等が挙げられる。通常、これらの光重合開始剤
は、本発明の感光性樹脂組成物の全重量に対して0.0
5/100〜5/100用いることが好ましい。
The photopolymerization initiator used in the present invention is preferably a radical polymerization initiator, such as 2-ethylanthraquinone,
Benzoin methyl ether, benziin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzophenone, 4,4'-bis(dimethylamino)-benzophenone, be/zyl dimethyl ketal, 1-phenyl-1,2
-frononodione-2-o-(ethoxylzenyl)
Examples include oximes. Usually, these photopolymerization initiators are used in an amount of 0.0 based on the total weight of the photosensitive resin composition of the present invention.
It is preferable to use 5/100 to 5/100.

〔知見〕[Knowledge]

本発明における光学用感光性樹脂組成物を用いることに
よシ光導波損失がO℃〜80℃の温度範囲において小さ
く一定であシかっ耐湿性に優れた光学素子を容易にかつ
高い生産性で製造することができる。
By using the optical photosensitive resin composition of the present invention, it is possible to easily produce an optical element with a small and constant optical waveguide loss in the temperature range of 0°C to 80°C and excellent moisture resistance with high productivity. can be manufactured.

〔実施例〕〔Example〕

以下、実施例により詳しく説明するが、本発明は実施例
に限定されるものではない。
Hereinafter, the present invention will be explained in detail with reference to examples, but the present invention is not limited to the examples.

実施例1 ポリメタクリル酸メチル(旭化成工業■製)58部、構
造式2で表わされる構造の2官能メタクリレート(日本
化薬■製、商品名HX−220M)21部、メタクリル
酸シクロヘキシル21部、及びベンジルジメチルケター
ル2部をメチルエチルケトン135部に溶解して均一溶
液とした。これを口過してごみを除いた後、100μm
の厚みのポリふつ化ビニリデンのフィルム上にドクター
ブレードで塗布し、乾燥して90μmの厚みの透明な塗
膜を得た。
Example 1 58 parts of polymethyl methacrylate (manufactured by Asahi Kasei Corporation), 21 parts of bifunctional methacrylate having the structure represented by structural formula 2 (manufactured by Nippon Kayaku ■, trade name HX-220M), 21 parts of cyclohexyl methacrylate, and 2 parts of benzyl dimethyl ketal was dissolved in 135 parts of methyl ethyl ketone to form a homogeneous solution. After passing this through the mouth to remove dust, 100 μm
It was applied with a doctor blade onto a polyvinylidene fluoride film having a thickness of 90 μm and dried to obtain a transparent coating film having a thickness of 90 μm.

フォトマスクを通して紫外線を照射し、1,1.1−ト
リクロロエタンを用いて現像し、水洗によるリンスを行
って幅140μm1長さ400鴫の直線状光導波路の・
ぞターンを得た。この直線状光導波路の光伝送損失係数
を波長632.8r++nのHe−Neレーザー(出力
2mW)を用いて測定したところ、0℃において1dB
/m、  20℃において1dB7271.40℃にお
いて14871160℃において2dB/m、 80℃
において11dB/ff!であった。またこの直線状光
導波路の試料について恒温恒湿槽中60℃、95%相対
湿度の耐久性試験を1000時間行なったところ、63
2.8℃mの光伝送損失係数は0℃において4dB/m
120℃において4dB/m、40℃において4dB/
m、5部℃においてsdB/m、 801::において
14d B/mであった。
A linear optical waveguide with a width of 140 μm and a length of 400 μm was prepared by irradiating ultraviolet light through a photomask, developing with 1,1,1-trichloroethane, and rinsing with water.
I got a turn. When the optical transmission loss coefficient of this linear optical waveguide was measured using a He-Ne laser (output 2 mW) with a wavelength of 632.8r++n, it was found to be 1 dB at 0°C.
/m, 1dB at 20℃7271.14871 at 40℃2dB/m at 160℃, 80℃
11dB/ff! Met. In addition, when we conducted a durability test for 1000 hours at 60°C and 95% relative humidity in a constant temperature and humidity chamber for a sample of this linear optical waveguide, we found that it was 63.
The optical transmission loss coefficient at 2.8℃m is 4dB/m at 0℃
4dB/m at 120℃, 4dB/m at 40℃
m, sdB/m at 5 parts °C, and 14 dB/m at 801::.

ポリメタクリル酸メチル及び構造式2の化合物の重合硬
化物の屈折率をアツベの屈折計を用いて測定したところ
、それぞれ0℃において1 、4940と1.4979
.20℃において1.4920と1.4933.40℃
において1.4901と1.4887.80℃において
1..4860と1.4794であった。
When the refractive index of the polymerized cured product of polymethyl methacrylate and the compound of structural formula 2 was measured using an Atsube refractometer, they were 1.4940 and 1.4979 at 0°C, respectively.
.. 1.4920 and 1.4933.40℃ at 20℃
1.4901 at 1.4901 and 1.4887.1 at 80°C. .. They were 4860 and 1.4794.

実施例2 実施例10月?リメタクリル酸メチルをポリ(メタクリ
ル酸−1−メチルシクロヘキシル)に、構造式2の化合
物をトリエチレングリコールジメタクリレートに、メタ
クリル酸シクロヘキシルをメタクリル酸−2−メチルシ
クロヘキシルに代える以外は実施例1と同様の手段によ
って幅140μm、長さ400闘の直線状導波路を作成
した。この直線状導波路の光伝送損失を波長632.8
 nmのlIe −Neレーザー(出力2mW)を用い
て測定したところ、0℃において1dB/m、 201
:においてldl:17m。
Example 2 Example October? Same as Example 1 except that methyl remethacrylate is replaced with poly(1-methylcyclohexyl methacrylate), the compound of structural formula 2 is replaced with triethylene glycol dimethacrylate, and cyclohexyl methacrylate is replaced with 2-methylcyclohexyl methacrylate. A linear waveguide with a width of 140 μm and a length of 400 μm was created by the following method. The optical transmission loss of this straight waveguide is the wavelength 632.8
When measured using a nm IIe-Ne laser (output 2 mW), it was 1 dB/m at 0°C, 201
: ldl:17m.

40℃において2 dB/’F’s 60 ’Cにおい
て3dB/m。
2 dB/'F's at 40'C 3 dB/m at 60'C.

80℃において13dB/mであった。またこの直線状
光導波路の試料について恒温恒湿槽中60’C195%
相対湿度の耐久性試験を1000時間行なったところ、
632.8 nmの光伝送損失係数は0℃において4d
B/m、20℃において4dB/m、 40’Cにおい
て6 dB/m、 60℃において7dB/m、 80
’Cにおいて16dIl/mであった。
It was 13 dB/m at 80°C. Also, regarding the sample of this linear optical waveguide, it was placed in a constant temperature and humidity chamber at 60'C195%
After conducting a relative humidity durability test for 1000 hours,
The optical transmission loss coefficient of 632.8 nm is 4d at 0°C.
B/m, 4 dB/m at 20°C, 6 dB/m at 40'C, 7 dB/m at 60°C, 80
'C was 16 dIl/m.

ポリ(メタクリル酸−1−メチルシクロヘキシル)及び
トリエチレングリコールジメタクリレートの重合硬化物
の屈折率をアツベの屈折計を用いて測定したところ、そ
れぞれ0℃において1.5156と1.5160.20
℃において1.5111と1−5125.40℃におい
て1.5064と1.4992.80Cにおいて1.4
971と1.4824であった。
When the refractive index of the polymerized cured products of poly(1-methylcyclohexyl methacrylate) and triethylene glycol dimethacrylate was measured using an Atsube refractometer, they were 1.5156 and 1.5160.20 at 0°C, respectively.
1.5111 at °C and 1.5064 at 1-5125.40 °C and 1.4 at 1.4992.80 °C
971 and 1.4824.

実施例3 実施例1の4?リメタクリル酸メチルをポリ(メタクリ
ル酸−4−メチルシクロヘキシル)に、構造式2の化合
物をネオペンチルグリコールジアクリレートに代える以
外は、実施例1と同様の手段によって@140μm、長
さ400mmの直線状導波路を作成した。この直線状導
波路の光伝送損失を波長632.8 nmのHe−Ne
レーザー(出力2 mW )を用いて測定したところ、
0℃において1aB/m、  20℃において1aB/
m、 40℃において1dB/ff1160℃において
3d13/m、 so℃において12aB/mであった
。またこの直線状光導波路の試料について恒温恒湿槽中
60℃、95%相対湿度の耐久性試験を1000時間行
なったところ、  632.8℃mの光伝送損失係数は
0℃において4 dB/m、 20℃において4an/
m。
Example 3 Example 1-4? A linear shape of @140 μm and a length of 400 mm was prepared in the same manner as in Example 1, except that methyl remethacrylate was replaced with poly(4-methylcyclohexyl methacrylate) and the compound of structural formula 2 was replaced with neopentyl glycol diacrylate. A waveguide was created. The optical transmission loss of this straight waveguide is determined by He-Ne with a wavelength of 632.8 nm.
When measured using a laser (output 2 mW),
1aB/m at 0℃, 1aB/m at 20℃
m, 1dB/ff at 40°C, 3d13/m at 1160°C, and 12aB/m at SO°C. Furthermore, when a durability test of this linear optical waveguide sample was conducted in a constant temperature and humidity chamber at 60°C and 95% relative humidity for 1000 hours, the optical transmission loss coefficient at 632.8°C was 4 dB/m at 0°C. , 4an/at 20℃
m.

40℃において5aB/m、 60℃において7aB/
m。
5aB/m at 40℃, 7aB/m at 60℃
m.

80℃において15aB/mであった。It was 15aB/m at 80°C.

ポリ(メタクリル酸−4−メチルシクロヘキシル)及び
ネオペンチルグリコールジアクリレートの重合硬化物の
屈折率をアツベの屈折率を用いて測定したところ、それ
ぞれ0℃において1.5015と1.5009.20.
℃において1.4975と1.4976.40℃におい
て1.4935と1.4943.80℃において1.4
855と1.4877であった。
When the refractive indexes of the polymerized cured products of poly(4-methylcyclohexyl methacrylate) and neopentyl glycol diacrylate were measured using Atsube's refractive index, they were 1.5015 and 1.5009.20, respectively, at 0°C.
1.4975 at °C and 1.4976.1.4935 at 40 °C and 1.4943.1.4 at 80 °C
855 and 1.4877.

実施例4 実施例1のポリメタクリル酸メチルを2す(メタクリル
酸−2−フェニルエチル)にsm造式2の化合物を構造
式3の2官能メタクリレートに、メタクリル酸シクロヘ
キシルをメタクリル酸フェニルに代える以外は、実施例
1と同様の手段によって幅140μm、長さ40(h+
o++の直線状導波路を作成した。この直線状導波路の
光伝送損失を波長632.8℃mのHe−Neレーザー
(出力2 mW )を用いて測定したところ、0℃にお
いて2aB/m、  20℃において2aB/m、 4
0℃において2dB/ly!、 60℃において3aB
/m180℃において12aB/mであった。またこの
直線状光導波路の試料について恒温恒湿槽中60℃、9
5%相対湿度の耐久性試験を1000時間行なったとこ
ろ、632J nmの光伝送損失係数は0℃において5
aB/m、 20℃において5aB/′m、 40℃に
おいて6aB/m、 60℃において8dB/7F+、
 80℃において15dB/ff!であった。
Example 4 The polymethyl methacrylate of Example 1 was replaced with sm (2-phenylethyl methacrylate), the compound of formula 2 was replaced with a bifunctional methacrylate of structural formula 3, and the cyclohexyl methacrylate was replaced with phenyl methacrylate. was made with a width of 140 μm and a length of 40 (h+
An o++ linear waveguide was created. When the optical transmission loss of this linear waveguide was measured using a He-Ne laser (output 2 mW) with a wavelength of 632.8 °Cm, it was 2aB/m at 0 °C, 2aB/m at 20 °C, 4
2dB/ly at 0℃! , 3aB at 60°C
/m was 12aB/m at 180°C. In addition, regarding the sample of this linear optical waveguide, it was
When a durability test was conducted at 5% relative humidity for 1000 hours, the optical transmission loss coefficient of 632 J nm was 5 at 0°C.
aB/m, 5aB/'m at 20℃, 6aB/m at 40℃, 8dB/7F+ at 60℃,
15dB/ff at 80℃! Met.

ポリ(メタクリル酸−2−フェニルエチル)及び構造式
3の化合物の重合硬化物の屈折率をアツベの屈折計を用
いて測定したところ、それぞれ0℃において1.562
9と1.5654.20℃において1.5592と1.
5556.40℃において1.5554と1.5556
.80℃において1.5482と1.5454であった
When the refractive index of the polymerized cured product of poly(2-phenylethyl methacrylate) and the compound of structural formula 3 was measured using an Atsube refractometer, it was 1.562 at 0°C.
9 and 1.5654.1.5592 and 1.5 at 20°C.
5556. 1.5554 and 1.5556 at 40°C
.. They were 1.5482 and 1.5454 at 80°C.

比較例1 ポリメタクリル酸メチル(無化成工業■製)58部、構
造式2で表わされる構造の2官能メタクリレート(日本
化薬■製、商品名HX−220M)42部、及びベンジ
ルジメチルケタール2部をメチルエチルケトン135部
に溶解して均一溶液とした。これを口過してごみを除い
た後、100μmの厚みのぼりぶつ化ビニリデンのフィ
ルム上にドクタ−ブレードで塗布し、乾燥して90μm
の厚みの透明な塗膜を得た。フォトマスクを通して紫外
線を照射し、1.1.1−)リクロロエタンを用いて現
像し、水洗によるリンスを行って幅140μm1長さ4
00mmの直線状光導波路のパターンを得た。この直線
状光導波路の光伝送損失係数を波長632.8 nmの
He −Neレーザー(出力2 mW )を用いて測定
したところ、0℃において1 dB/m、 20℃にお
いて1aB/”n40℃において2aB/m、 60℃
において5 dB/m580℃において11aB/mで
あった。この直線状光導波路の試料について恒温恒湿槽
中60℃、95%相対湿度の耐久性試験を1000時間
行なったところ、  632.8℃mの光伝送損失係数
は20℃において130dB/ynであツタ。
Comparative Example 1 58 parts of polymethyl methacrylate (manufactured by Mukasei Kogyo ■), 42 parts of bifunctional methacrylate having the structure represented by structural formula 2 (manufactured by Nippon Kayaku ■, trade name HX-220M), and 2 parts of benzyl dimethyl ketal. was dissolved in 135 parts of methyl ethyl ketone to form a homogeneous solution. After passing this through the mouth to remove dust, it was applied with a doctor blade onto a 100 μm thick film of atomized vinylidene, and dried to a thickness of 90 μm.
A transparent coating film with a thickness of . Irradiated with ultraviolet rays through a photomask, developed using 1.1.1-)lichloroethane, and rinsed with water to obtain a size of 140 μm in width and 4 in length.
A pattern of a linear optical waveguide with a length of 0.00 mm was obtained. When the optical transmission loss coefficient of this straight optical waveguide was measured using a He-Ne laser (output 2 mW) with a wavelength of 632.8 nm, it was 1 dB/m at 0°C, 1 aB/" at 20°C, and 1 aB/" at 40°C. 2aB/m, 60℃
5 dB/m at 580°C and 11 aB/m at 80°C. When a durability test of this linear optical waveguide sample was conducted for 1000 hours at 60°C and 95% relative humidity in a constant temperature and humidity chamber, the optical transmission loss coefficient at 632.8°Cm was 130 dB/yn at 20°C. Ivy.

比較例2 ポリメタクリル酸メチル(無化成工業■製)58部、下
記構造式4で表わされる構造の2官能メタクリレート(
日本化薬■製、商品名MANDA) 42部、及びベン
ジルジメチルケタール2部をメチルエチルケトン135
部に溶解して均一溶液とした。
Comparative Example 2 58 parts of polymethyl methacrylate (manufactured by Mukasei Kogyo ■), a bifunctional methacrylate having a structure represented by the following structural formula 4 (
42 parts of Nippon Kayaku ■, trade name MANDA) and 2 parts of benzyl dimethyl ketal to 135 parts of methyl ethyl ketone.
to make a homogeneous solution.

これを口過してごみを除いた後、100μmの厚みのポ
リぶつ化ビニリデンのフィルム上にドクターブレードで
塗布し、乾燥して90μn1の厚みの透明な塗膜を得た
。フォトマスクを通して紫外線を照射し、1,1.1−
1リクロロエタンを用いて現像し、水洗によるリンスを
行って幅140μm1  長さ400鴫の直線状光導波
路のツクターンを得た。この直線状光導波路の光伝送損
失係数を波長632.8℃mのHe−Neレーザー(出
力2 mW )を用いて測定したところ、23℃におい
て80aB/mであった。
After passing through the mouth to remove dust, it was applied onto a 100 μm thick film of polyvinylidene buttride using a doctor blade and dried to obtain a transparent coating film with a thickness of 90 μm. Irradiate ultraviolet light through a photomask, 1,1.1-
The film was developed using dichloroethane and rinsed with water to obtain a linear optical waveguide having a width of 140 μm and a length of 400 μm. The optical transmission loss coefficient of this linear optical waveguide was measured using a He--Ne laser (output 2 mW) with a wavelength of 632.8° C.m, and was found to be 80 aB/m at 23° C.

ポリ(メタクリル酸メチル)及び構造式4の化合物の重
合硬化物の屈折率をアシベの屈折計を用いて測定したと
ころ、23℃においてそれぞれ1A93と1゜510で
あった。
The refractive indexes of the polymerized cured products of poly(methyl methacrylate) and the compound of structural formula 4 were measured using an Ashibe refractometer and were found to be 1A93 and 1°510, respectively, at 23°C.

(構造式4 旭化成工朶株式会社(Structural formula 4 Asahi Kasei Koto Co., Ltd.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)線状高分子物質と、(1) A linear polymeric substance, (2)重合硬化後上記線状高分子物質との屈折率差が0
℃〜80℃の温度範囲において0.015以下の多官能
アクリレート及び/または多官能メタクリレートと、
(2) After polymerization and curing, the refractive index difference with the above linear polymer substance is 0.
A polyfunctional acrylate and/or a polyfunctional methacrylate of 0.015 or less in the temperature range of °C to 80 °C,
(3)下記構造式1で表わされる構造のアクリレート及
び/またはメタクリレートと、
(3) an acrylate and/or methacrylate having a structure represented by the following structural formula 1;
(4)光重合開始剤とからなることを特徴とする光学用
感光性樹脂組成物 ▲数式、化学式、表等があります▼(構造式1) (式中、R_1は水素原子またはメチル基、R_2は炭
素数が10以下の鎖状または環を含むアルキル基、アリ
ール基またはアリールアルキル基である。)
(4) Optical photosensitive resin composition characterized by consisting of a photopolymerization initiator ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (Structural formula 1) (In the formula, R_1 is a hydrogen atom or a methyl group, R_2 is a chain-like or ring-containing alkyl group, aryl group, or arylalkyl group having 10 or less carbon atoms.)
JP21360688A 1988-08-30 1988-08-30 Improved optical photosensitive resin composition Pending JPH0262546A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21360688A JPH0262546A (en) 1988-08-30 1988-08-30 Improved optical photosensitive resin composition

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21360688A JPH0262546A (en) 1988-08-30 1988-08-30 Improved optical photosensitive resin composition

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0262546A true JPH0262546A (en) 1990-03-02

Family

ID=16641966

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP21360688A Pending JPH0262546A (en) 1988-08-30 1988-08-30 Improved optical photosensitive resin composition

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0262546A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6172113B1 (en) 1995-06-21 2001-01-09 Shionogi & Co., Ltd. Bicyclic amino derivatives and PGD2 antagonist containing the same
JP2010020328A (en) * 2007-11-20 2010-01-28 Hitachi Chem Co Ltd Photosensitive resin composition, hotosensitive resin cured product, photosensitive resin cured product, photosensitive resin film cured product, and optical waveguide produced by using these

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6172113B1 (en) 1995-06-21 2001-01-09 Shionogi & Co., Ltd. Bicyclic amino derivatives and PGD2 antagonist containing the same
US6384075B1 (en) 1995-06-21 2002-05-07 Shionogi & Co., Ltd. Bicyclic amino derivatives and PGD2, antagonist containing them
US6498190B1 (en) 1995-06-21 2002-12-24 Shionogi & Co., Ltd. Bicyclic amino derivatives and PGD2 antagonist containing the same
JP2010020328A (en) * 2007-11-20 2010-01-28 Hitachi Chem Co Ltd Photosensitive resin composition, hotosensitive resin cured product, photosensitive resin cured product, photosensitive resin film cured product, and optical waveguide produced by using these
US8632952B2 (en) 2007-11-20 2014-01-21 Hitachi Chemical Company, Ltd. Photosensitive resin composition, photosensitive resin cured matter, photosensitive resin film, photosensitive resin film cured matter and optical waveguide obtained by using the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3178091B2 (en) Photopolymerizable composition and method for producing light control plate
KR100714977B1 (en) Composition of Organic-Inorganic Hybrid Photopolymer with Reduced Volume Shrinkage and Enhanced Diffraction Efficiency
US4376800A (en) Optical lenses prepared from crosslinkable acrylic compositions
US4536267A (en) Plastic lens of neopentyl glycol dimethacrylate copolymerized with methoxy diethylene glycol methacrylate or diethylene glycol dimethacrylate
RU2331095C1 (en) &#34;live&#34; polymerised films for hologram construction
JPH0262546A (en) Improved optical photosensitive resin composition
JP3270100B2 (en) High refractive index optical material
JPH0616720A (en) Composition for plastic optical waveguide and production of plastic optical waveguide
JP3868005B2 (en) Polymerizable monomer composition, transparent polymer substrate, and resulting optical and ophthalmic products
JP2533859B2 (en) Optical photosensitive resin composition
JPH0249009A (en) Monomer composition
US20020192601A1 (en) Process for the production of film having refractive index distribution
JPH01147406A (en) Resin composition for light control plate
JPH03217412A (en) Monomer composition and employment thereof
JPS6381301A (en) Optical photosensitive resin composition
JP3055067B2 (en) Photocurable composition
JPH05210343A (en) Hologram forming material and production of hologram
JP3121913B2 (en) High refractive index optical material
JP3120384B2 (en) Photocurable composition
JP3149028B2 (en) Resin for high refractive index lens
JP2983226B2 (en) Transparent resin material
JPH02133414A (en) Novel photosensitive resin composition for optical use
JPH05255454A (en) Optical part
JPS63314224A (en) Optical photopolymer composition
JPH03107901A (en) Production of light control plate