JPH0262005A - Sheet-shaped varistor - Google Patents

Sheet-shaped varistor

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JPH0262005A
JPH0262005A JP63213997A JP21399788A JPH0262005A JP H0262005 A JPH0262005 A JP H0262005A JP 63213997 A JP63213997 A JP 63213997A JP 21399788 A JP21399788 A JP 21399788A JP H0262005 A JPH0262005 A JP H0262005A
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JP
Japan
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varistor
voltage
sheet
powder
resin
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JP63213997A
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Japanese (ja)
Inventor
Shinji Harada
真二 原田
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Panasonic Holdings Corp
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To obtain a sheet-shaped varistor which is suitable for a low voltage by a method wherein a varistor powder is dispersed in a thermoplastic resin or in a mixture of the thermoplastic resin and a thermoset resin and this dispersed substance is formed into a thin film on a flexible insulating film. CONSTITUTION:A varistor powder 5 is dispersed in a thermoplastic resin, in a thermosetting resin or in a mixture of these resins. This dispersed substance is formed into a thin film on a flexible insulating film 1. A fine powdery semiconductor substance whose outer periphery has been coated with a thin insulating film is used as the powder 5. Then, it is possible to obtain the powder whose voltage nonlinear index is large in a low current region and to form an element whose interelectrode distance is narrow. Thereby, it is possible to obtain the element which is suitable for a low voltage.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は印加電圧によって抵抗値が変化するシート状バ
リスタに関するもので、電圧安定化、異常電圧制御、静
電保護などに利用されるものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of Industrial Application The present invention relates to a sheet-like varistor whose resistance value changes depending on applied voltage, and is used for voltage stabilization, abnormal voltage control, electrostatic protection, etc.

従来の技術 従来のバリスタは、酸化亜鉛(ZnO)に酸化ビス? 
x (Bi2O5)、酸化コバルト(Co2O3)、酸
化マンガフ (MnO2)、酸化77 f モン(5b
205 )などの酸化物を添加して、1000〜135
0’Cで焼、結したZnOバリスタを初めとして、種々
のものがある。その中で、ZnOバリスタは電圧非直線
指数α、サージ耐量が大きいことから、最も一般的に回
路基板上の半導体素子あるいは電気、通信機器の保護素
子として使われている(特公昭46−19472号公報
参照)。
Conventional technology Conventional varistors are made of zinc oxide (ZnO) or bis oxide.
x (Bi2O5), cobalt oxide (Co2O3), mangaf oxide (MnO2), 77 f mon (5b
1000-135 by adding oxides such as 205)
There are various types including ZnO varistors sintered at 0'C. Among them, ZnO varistors are most commonly used as semiconductor elements on circuit boards or as protection elements for electrical and communication equipment because they have a large voltage nonlinearity index α and surge resistance (Japanese Patent Publication No. 19472/1983). (see official bulletin).

発明が解決しようとする課題 このような従来のバリスタは、ZnOバリスタを初めと
して、素子厚みを薄く(数百μm以下)することに限界
があるため、バリスタ電圧(バリスタに電流1mムを流
した時の電圧V1mムで表わす)を低くすることに限界
があり、低電圧用ICの保護素子や低い電圧における電
圧安定化素子として使えないものであった。また、上述
したように焼成する際に1000℃以上の高温プロセス
を必要とするため、ガラス基板上あるいは回路基板上に
バリスク素子を直接形成できないという問題があった。
Problems to be Solved by the Invention In such conventional varistors, including ZnO varistors, there is a limit to reducing the element thickness (less than several hundred μm). There is a limit to how low the voltage (expressed in V1mm) can be, and it cannot be used as a protection element for low voltage ICs or as a voltage stabilizing element at low voltages. Further, as described above, since a high temperature process of 1000° C. or higher is required for firing, there is a problem that a varisque element cannot be directly formed on a glass substrate or a circuit board.

また、形状の大きさに限界があり、1 mm以下のファ
インピッチの回路配線あるいは電極ハターンなどには直
接実装できないなど、高密度基板にはスペースの点で対
応できないという問題があった。さらに、従来のものは
静電容重が大きく、例えば高周波化の進む通信機器の用
途には適さないなどの問題点を有していた。
In addition, there is a limit to the size of the shape, and there are problems in that it cannot be mounted directly on fine-pitch circuit wiring or electrode patterns of 1 mm or less, and cannot be used on high-density substrates due to space constraints. Further, conventional devices have a large capacitance and are unsuitable for use in communication equipment, which is becoming increasingly high-frequency, for example.

課題を解決するための手段 この問題点を解決するために本発明は、熱可塑性樹脂中
または熱硬化性樹脂中あるいはそれら樹脂の混合物中に
バリスタ粉末が分散され、それが可撓性の絶縁性フィル
ム上に薄膜状に形成されてなるものである。また、上記
バリスタ粉末として薄い絶縁被膜を外周に施した微粉末
状の半導体物質を用いて構成されるものである。
Means for Solving the Problems In order to solve this problem, the present invention provides that a varistor powder is dispersed in a thermoplastic resin, a thermosetting resin, or a mixture of these resins, and the powder is dispersed in a flexible insulating material. It is formed in the form of a thin film on a film. Further, the varistor powder is constructed using a finely powdered semiconductor material having a thin insulating coating applied to the outer periphery.

作用 この構成によれば、低電流域においても電圧非直線指数
αの大きなものが得られ、かつ電極間距離を狭くして素
子を形成することができ、低電圧化に適した素子がきわ
めて容易に得られることとなる。また、予め形成された
電極の上に貼り付けたり、あるいは圧着するだけで簡単
に作ることができるため、回路基板上にバリスタ分直接
形成することができ、ZnOバリスタなどでは考えられ
ない幅広い用途が期待できるものである。さらに、微粉
末状の半導体物質を固めたものであるため、それぞれの
半導体物質の微粉末間は点接触となり、接触面積が小さ
いことから並列静電容量の小さなものが得られ、高周波
通信機器用としても最適なバリスタが提供できることと
なる。
Effect: According to this configuration, a large voltage non-linearity index α can be obtained even in a low current range, and the device can be formed with a narrow distance between electrodes, making it extremely easy to create a device suitable for low voltage. It will be obtained. In addition, since it can be easily manufactured by pasting or crimping onto pre-formed electrodes, the varistor can be directly formed on the circuit board, allowing for a wide range of applications unimaginable with ZnO varistors. This is something to look forward to. Furthermore, since it is a solidified form of semiconductor material in the form of fine powder, there is point contact between the fine powders of each semiconductor material, and the contact area is small, resulting in a small parallel capacitance, which is useful for high-frequency communication equipment. This means that we can provide the best barista for you.

実施例 以下、本発明を実施例にもとづいて詳細に説明する。Example Hereinafter, the present invention will be explained in detail based on examples.

まず、粒子径が0.05〜1.071mの微粒子状の酸
化亜鉛を700〜13oO℃で焼成した後、その焼結さ
れたZnOを0.6〜50.0μmの粒子径(平均粒子
径1〜10μm)に粉砕し、そのZnO微粉末にBi2
O,、Co2O3、MnO2および5b205を総量で
0.05〜10.Omo1%添加し、600〜1350
℃で10〜60分間熱処理し、そのZnO微粉末表面に
これら酸化物の絶縁被膜を形成した。ここで、微粉末状
のZnOの表面には上記酸化物の絶縁被膜がほぼ数十〜
数百人の厚さで薄く形成されていることが認められた。
First, fine particulate zinc oxide with a particle size of 0.05 to 1.071 m is fired at 700 to 13 oO℃, and then the sintered ZnO is heated to a particle size of 0.6 to 50.0 μm (average particle size 1 ~10μm), and added Bi2 to the ZnO fine powder.
O,, Co2O3, MnO2 and 5b205 in a total amount of 0.05 to 10. Omo1% added, 600-1350
A heat treatment was performed at ℃ for 10 to 60 minutes to form an insulating film of these oxides on the surface of the ZnO fine powder. Here, on the surface of the fine powder ZnO, an insulating film of the above-mentioned oxide is formed on the surface of the ZnO.
It was observed that it was formed thinly, with a thickness of several hundred people.

次いで、このようにして作成した酸化物の絶縁被膜が表
面についたZnO微粉末群は弱い力で互いに接着してい
るので、これを乳鉢あるいはポットミμでほぐし、微粉
末状とした。
Next, since the ZnO fine powder group with the oxide insulating film formed on its surface adhered to each other with weak force, it was loosened in a mortar or pot mill to form a fine powder.

次に、上記のようにして得られた酸化物絶縁被膜が表面
に形成された微粉末状のZnOに、微粉末間の結合を図
る絶縁性の結合剤(樹脂バインダー)を添加し、混合し
た。ここで、結合剤としての樹脂成分としては熱硬化性
樹脂としてのエポキシ樹脂(米国;シェル化学社製のエ
ビコー)#a2s)30重量部、フェノ−μ樹脂(松下
電工株式会社製)30重量部、熱可塑性高分子景ポリエ
ステル樹脂(日本合成ゴム工業株式会社製)4O重量部
をメチルエチルケトンに溶解させ、約30%の固形分の
溶液に調合したものを作成し、それをZnO微粉末と例
えば等重量で混合分散しペイント状とした。次いで、上
記のようにして得られたペイントを第1図に示すように
可撓性の絶縁性フィルムとしてのポリエチレンテレフタ
レート(以下単にPETという)フィルム(または銅箔
シート)1上に例えばスクリーン印刷で塗布し、85℃
で60分間、予備乾燥させてバリスタ2を得、シート状
バリスタを作成した。また、上記のようにして得られた
シート状バリスタを第2図に示すようにITO(インジ
ウム・スズ酸化物)電極3の設けられたガラス基板4上
に上記のPETフィルム1上に薄膜状に形成したバリス
タ2を適当な大きさに切断したものを、そのバリスタ2
面をITO電極3側にして温度150℃、圧力4c)k
g/−で30秒間熱圧着を行い、シート状バリスタをガ
ラス基板4上に形成した。
Next, an insulating binder (resin binder) for bonding between the fine powders was added to the finely powdered ZnO with the oxide insulating film formed on the surface obtained as described above, and the mixture was mixed. . Here, the resin components as a binder include 30 parts by weight of epoxy resin (Ebicor #a2s manufactured by Shell Chemical Co., USA) as a thermosetting resin, and 30 parts by weight of pheno-μ resin (manufactured by Matsushita Electric Works Co., Ltd.). , 4 parts by weight of thermoplastic polymeric polyester resin (manufactured by Japan Synthetic Rubber Industry Co., Ltd.) was dissolved in methyl ethyl ketone to prepare a solution with a solid content of approximately 30%, and this was mixed with ZnO fine powder, for example. The mixture was mixed and dispersed by weight to form a paint. Next, as shown in FIG. 1, the paint obtained as described above is applied to a polyethylene terephthalate (hereinafter simply referred to as PET) film (or copper foil sheet) 1 as a flexible insulating film by, for example, screen printing. Apply and heat to 85℃
This was pre-dried for 60 minutes to obtain Varistor 2, and a sheet-like varistor was produced. Further, the sheet-like varistor obtained as described above was placed in a thin film form on the above-mentioned PET film 1 on a glass substrate 4 provided with an ITO (indium tin oxide) electrode 3, as shown in FIG. The formed varistor 2 is cut into an appropriate size, and the varistor 2 is cut into a suitable size.
With the surface facing ITO electrode 3, temperature 150℃, pressure 4c)k
A sheet-like varistor was formed on the glass substrate 4 by thermocompression bonding at g/- for 30 seconds.

第3図は、シート状バリスタの拡大断面図であり、5は
ZnO微粉末、6はZnO微粉末6の表面に施された酸
化物絶縁被膜、7はそれらZnO微粉末5間を機械的に
結合している絶縁性の結合剤(樹脂)であり、この結合
剤7でもってZnO微粉末5の間は互いに固められてい
る。
FIG. 3 is an enlarged cross-sectional view of a sheet-like varistor, in which 5 is a ZnO fine powder, 6 is an oxide insulating coating applied to the surface of the ZnO fine powder 6, and 7 is a mechanical layer between the ZnO fine powders 5. This is an insulating binder (resin) that binds together, and the ZnO fine powders 5 are solidified together by this binder 7.

次に、上記のようにして作成されたシート状バリスタの
電圧−電流特性について説明する。まず、第4図は第2
図の構成における電圧−電流特性を従来のZnOバリス
タのそれと比較して示している。
Next, the voltage-current characteristics of the sheet-like varistor produced as described above will be explained. First, Figure 4 shows the second
The voltage-current characteristics of the configuration shown in the figure are compared with those of a conventional ZnO varistor.

本発明の素子は、まず酸化亜鉛を1000℃で焼成し、
これにBi2O5、CO2O5、MnO2および5b2
o5をそれぞれ0.2mo1%、つまシ総量で0.8m
01%添加したものを1200℃、60分間熱処理した
後、この平均粒子径5〜IQ/1mのZnO微粉末と上
記結合剤とを等重量で混合したものにおいて、素子面積
を1−1ITO電極間距離(第2図にLにて示す)を3
 Q 71m 、素子面積(上記電極間距離りを含めた
相隣り合う2つの電極の合計面積)を1−とした場合に
おける特性を示している。さて、電圧非直線性素子の電
圧−電流特性は、よく知られているように近似的に次式
で示されている。
The element of the present invention is produced by first firing zinc oxide at 1000°C,
This includes Bi2O5, CO2O5, MnO2 and 5b2
0.2mo1% each of o5, total amount of shims 0.8m
After heating the ZnO fine powder with an average particle size of 5 to IQ/1 m and the above binder in equal weights, the element area was adjusted to 1-1 between the ITO electrodes. The distance (indicated by L in Figure 2) is 3
Q 71m shows the characteristics when the element area (the total area of two adjacent electrodes including the distance between the electrodes) is set to 1-. Now, as is well known, the voltage-current characteristics of a voltage nonlinear element are approximately expressed by the following equation.

I −K V′:t ここで、工は素子に流れる電流、Vは素子の電極間の電
圧、Kは固有抵抗の抵抗値に相当する定数、αは上述し
た電圧非直線特性の指数を示してお9、この電圧非直線
指数αは大きい程、電圧非直線性が優れていることにな
る。
I - K V': t Here, E is the current flowing through the element, V is the voltage between the electrodes of the element, K is a constant corresponding to the resistance value of the specific resistance, and α is the exponent of the voltage nonlinear characteristic mentioned above. Furthermore, the larger the voltage nonlinearity index α, the better the voltage nonlinearity.

第4図の特性に示されるように、特性Bで示される従来
のZnOバリスタは低電流域において電圧非直線指数α
が小さく、10 A以下の電流では良好な電圧非直線性
素子としての機能を発揮し得ない。一方、特性ムで示さ
れる本発明の素子では低電流域においても電圧非直線指
数αが大きく、10  A程度の電流域でも十分に電圧
非直線性素子としての機能を発揮することができること
を示している。また通常、ZnOバリスタにおいてはバ
リスタ特性を表わすのに、例えば素子に11nAOT流
を流した時の電極間に現われる電圧をバリスタ電圧vt
mムと呼び、このバリスタ電圧’l’1mムと上記電圧
非直線指数αとを使用している。本発明の素子では、上
述したように、低電流域においても電圧非直線指数αが
大きく、バリスタ電圧を第4図に示すように例えばv1
μムで表わすことができる。
As shown in the characteristics in Figure 4, the conventional ZnO varistor shown by characteristic B has a voltage nonlinearity index α in the low current region.
is small, and cannot function as a good voltage nonlinear element at a current of 10 A or less. On the other hand, the voltage nonlinearity index α of the device of the present invention shown by the characteristic curve is large even in the low current range, indicating that it can sufficiently function as a voltage nonlinearity device even in the current range of about 10 A. ing. Furthermore, in order to express the varistor characteristics of a ZnO varistor, for example, the voltage that appears between the electrodes when a current of 11 nAOT flows through the element is expressed as the varistor voltage vt.
This varistor voltage 'l'1mm and the voltage non-linearity index α are used. As mentioned above, in the device of the present invention, the voltage non-linearity index α is large even in the low current range, and the varistor voltage is changed to v1, for example, as shown in FIG.
It can be expressed in μm.

このように本発明において、バリスタ電圧を低いものと
することができるのは、電極間距離を狭くして素子を形
成することができるためである。
In this way, in the present invention, the varistor voltage can be made low because the element can be formed by narrowing the distance between the electrodes.

また、本発明素子において低電流域でも電圧非直線指数
αが大きい理由は、現在のところ理由は明確とはなって
いないが、微粉末状の半導体物質(ZnO)を絶縁性の
結合剤でもって固めたものであるため、それぞれの半導
体物質の間は点接触となり、接触面積が小さいこと、ま
た結合剤が絶縁性のため、漏れ電流が小さくなっている
ことによるものと考えられる。ここで、第4図の特性は
上述したように電極間距離を3071 mとした素子に
ついてのものであるが、これはZnO微粉末の平均粒子
径が5〜10μmという比較的大きな粒子径のためにこ
れ以上狭くすることができないからである。すなわち、
ZnO微粉末の平均粒子径が03〜3.0μmのものを
使えば、電極間距離が10μm程度もしくはそれ以下の
素子を作成することができるものであり、その場合にお
いても第4図に示すような良好な特性が得られることを
本発明者は実験により確認した。
Furthermore, although the reason why the voltage nonlinearity index α is large even in the low current range in the device of the present invention is not clear at present, it is possible to This is thought to be due to the fact that since it is solidified, there is point contact between the respective semiconductor materials, so the contact area is small, and the bonding agent is insulating, so leakage current is small. Here, the characteristics shown in Figure 4 are for an element with an inter-electrode distance of 3071 m as described above, but this is because the average particle size of the ZnO fine powder is relatively large, 5 to 10 μm. This is because it cannot be made any narrower. That is,
If ZnO fine powder with an average particle diameter of 0.3 to 3.0 μm is used, it is possible to create an element with an inter-electrode distance of about 10 μm or less, and even in that case, as shown in Figure 4. The inventor of the present invention confirmed through experiments that excellent characteristics can be obtained.

第5図は本発明において、B工205.CO2O3゜M
nO2および5b2o3のa添加量を変えた場合のバリ
スタ電圧v1,7ム、電圧非直線指数αおよび並列静電
容Beの変化する様子を示している。ここで、酸化亜鉛
の焼成温度など、その他の条件は第4図の場合の条件と
同一とした。第5図に示されるように、本発明の素子に
おいては並列静電容量が従来ノZnOが1000〜2o
00QpFであるのに対して非常に小さいものとなって
いる。この並列静電容量が本発明素子において小さい理
由は、上述したように半導体物質間の接触面積が小さい
ことによるものである。
FIG. 5 shows B-work 205 in the present invention. CO2O3゜M
It shows how the varistor voltage v1,7m, the voltage non-linearity index α, and the parallel capacitance Be change when the amount of a added to nO2 and 5b2o3 is changed. Here, other conditions such as the firing temperature of zinc oxide were the same as those in the case of FIG. 4. As shown in FIG. 5, in the device of the present invention, the parallel capacitance is 1000 to 20
00QpF, which is extremely small. The reason why this parallel capacitance is small in the device of the present invention is that the contact area between the semiconductor materials is small, as described above.

なお、上記の実施例においては、半導体物質としては、
ZnOを例に採シ説明したが、それ以外の半導体物質で
あっても差し支えないことはもちろんである。また、同
様に絶縁被膜を構成する材料としては、Bi2O5、C
o2O3、MnO2、5b205だけに限られることは
なく、Bi 、 Go 、 Mn 、 Sbのすべてを
主成分として、Al 、 Ti 、 Sr 、 Mg 
、 Ni 。
In addition, in the above embodiment, the semiconductor material is
Although the explanation has been made using ZnO as an example, it goes without saying that other semiconductor materials may be used. Similarly, materials constituting the insulating film include Bi2O5, C
It is not limited to only o2O3, MnO2, and 5b205, but includes all of Bi, Go, Mn, and Sb as main components, as well as Al, Ti, Sr, and Mg.
, Ni.

Or 、 Siなどの金属酸化物、またはこれら金属を
含む化合物を単独または組み合わせて使用することがで
きるものである。
Metal oxides such as Or and Si, or compounds containing these metals can be used alone or in combination.

さらに、微粉末状の半導体物質を固める絶縁性の結合剤
としては、上記実施例の樹脂以外にも種4考えられるこ
とはもちろんであり、熱硬化性樹脂、例えばフラン樹脂
、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂
、ジアリルフタレート樹脂、ポリウレタン樹脂、ケイ素
樹脂などでも良いものである。
Furthermore, as an insulating binder for solidifying a finely powdered semiconductor material, there are, of course, four types of insulating binders other than the resins in the above embodiments, including thermosetting resins such as furan resin, urea resin, and melamine resin. , unsaturated polyester resin, diallyl phthalate resin, polyurethane resin, silicone resin, etc. may also be used.

また、上記の実施例においては、バリスタ粉末として薄
い絶縁被膜を外周に施した微粉末状の半導体物質を用い
、これを熱可塑性樹脂と熱硬化性樹脂の混合物中に分散
させる場合について説明したが、これはバリスタ粉末を
熱可塑性樹脂中または熱硬化性樹脂中あるいはそれら樹
脂の混合物中に分散させたものであっても、本発明の趣
旨とするシート状バリスタを提供できるものである。
In addition, in the above embodiments, a fine powder semiconductor substance with a thin insulating coating on the outer periphery is used as the varistor powder, and this is dispersed in a mixture of a thermoplastic resin and a thermosetting resin. Even if the varistor powder is dispersed in a thermoplastic resin, a thermosetting resin, or a mixture of these resins, the sheet-like varistor that is the object of the present invention can be provided.

発明の効果 以上の説明よシ明らかなように本発明の電圧非直線性素
子は、低電流域における電圧非直線指数αが大きく、ま
た並列静電容量の小さな素子が得られることから、高周
波化の進む通信機器の用途として最適な素子を提供でき
るものである。また、電極間距離を狭くして素子を形成
することができるため、バリスタ電圧の低いものが得ら
れ、上記電圧非直線指数αが大きいことと相まって従来
のZnOバリスタでは対応することのできなかった低電
圧用icの保護素子や低い電圧における電圧安定化素子
として使用することができる。さらに、結合剤で固めて
素子形成を行う際に高温プロセスを必要とすることなく
簡単にして作ることができ、かつ可撓性の絶縁性フィル
ム上に素子を形成しているため、回路基板上やガラス基
板上にシート状バリスタを容易に形成することができる
ものである。このように種4の特徴を有する本発明のシ
ート状バリスタは、今までのZnOバリスタなどでは考
えられない幅広い用途が期待できるものであシ、その産
業性は大なるものである。
Effects of the Invention As is clear from the above explanation, the voltage nonlinear element of the present invention has a large voltage nonlinearity index α in the low current range, and an element with small parallel capacitance can be obtained, so it is suitable for high frequency applications. This makes it possible to provide an element that is optimal for use in increasingly advanced communication equipment. In addition, since the device can be formed with a narrow distance between the electrodes, a low varistor voltage can be obtained, which, combined with the large voltage nonlinearity index α mentioned above, cannot be achieved with conventional ZnO varistors. It can be used as a protection element for low voltage ICs or a voltage stabilizing element at low voltages. Furthermore, it can be easily manufactured without requiring high-temperature processes when solidifying with a binder to form elements, and since the elements are formed on a flexible insulating film, they can be easily fabricated on circuit boards. A sheet-like varistor can be easily formed on a glass substrate. As described above, the sheet-like varistor of the present invention having the characteristics of Type 4 can be expected to have a wide range of applications that are unimaginable for conventional ZnO varistors, and has great industrial potential.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明に係わるシート状バリスタの一実施例を
示す断面図、第2図は本発明のシート状バリスタをガラ
ス基板上に設けた実施例を示す断面図、第3図は本発明
に係わるシート状バリスタの一実施例を示す拡大断面図
、第4図は本発明シート状バリスタと従来のZnOバリ
スタの電圧−電流特性を示す図、第5図は本発明素子に
おいてBi2O5、Ga2O3、MnO2、5b205
の総添加澄を変えた場合の電圧非直線指数α、バリスタ
電圧v1□ムおよび並列静電容量Cの変化する様子を示
す図である。 1・・・・・・POETフィルム、2・・・・・・バリ
スタ、3・・・・・ITO電極、4・・印・ガラス基板
、5・・・・・・ZnO微粉末、6・・・・・・酸化物
絶縁被膜、7・川・・結合剤。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 はが1名第1
図 ム バリスタ 第3図 / PETフイルム 第 図 −土  電 スi(vジ 第 図
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an embodiment of the sheet-like varistor according to the present invention, FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example in which the sheet-like varistor of the present invention is provided on a glass substrate, and FIG. 3 is a cross-sectional view showing an example of the sheet-like varistor according to the present invention. FIG. 4 is a diagram showing the voltage-current characteristics of the sheet-like varistor of the present invention and a conventional ZnO varistor, and FIG. 5 is a diagram showing the voltage-current characteristics of the sheet-like varistor of the present invention, MnO2, 5b205
FIG. 3 is a diagram showing how the voltage non-linearity index α, the varistor voltage v1□, and the parallel capacitance C change when the total addition of the voltage is changed. 1... POET film, 2... Varistor, 3... ITO electrode, 4... Mark glass substrate, 5... ZnO fine powder, 6... ...Oxide insulation film, 7. River...Binder. Name of agent: Patent attorney Shigetaka Awano (1 person)
Figure Mubarista Figure 3 / PET Film Figure - Land and Electric Power (V)

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)熱可塑性樹脂中または熱硬化性樹脂中あるいはそ
れら樹脂の混合物中にバリスタ粉末が分散され、それが
可撓性の絶縁性フィルム上に薄膜状に形成されてなるこ
とを特徴とするシート状バリスタ。
(1) A sheet characterized by having varistor powder dispersed in a thermoplastic resin, a thermosetting resin, or a mixture of these resins, and formed into a thin film on a flexible insulating film. barista.
(2)バリスタ粉末として薄い絶縁被膜を外周に施した
微粉末状の半導体物質を用いることを特徴とする特許請
求の範囲第(1)項記載のシート状バリスタ。
(2) A sheet-like varistor according to claim (1), characterized in that a finely powdered semiconductor material having a thin insulating coating on the outer periphery is used as the varistor powder.
JP63213997A 1988-08-29 1988-08-29 Sheet-shaped varistor Pending JPH0262005A (en)

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