JPH0261543A - Ｘ線平面検出方法 - Google Patents
Ｘ線平面検出方法Info
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- JPH0261543A JPH0261543A JP63211977A JP21197788A JPH0261543A JP H0261543 A JPH0261543 A JP H0261543A JP 63211977 A JP63211977 A JP 63211977A JP 21197788 A JP21197788 A JP 21197788A JP H0261543 A JPH0261543 A JP H0261543A
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- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims description 6
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Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Measurement Of Radiation (AREA)
- Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明はＸ線を被検物に照射して透過Ｘ線を検出し、被
検物のＸ線吸収係数分布像を構成するＸ線平面検出方法
に関する。
検物のＸ線吸収係数分布像を構成するＸ線平面検出方法
に関する。
〈従来の技術）
一般に成る領域をＮ個の領域に分割し、各領域のデータ
を取る場合、例えばＸ線を照射して次のような方法で行
うことになる。
を取る場合、例えばＸ線を照射して次のような方法で行
うことになる。
（１）Ｎ個の検出領域毎に検出器を設け、各ｆＲ域では
１度にデータを取る。
１度にデータを取る。
（２）Ｎ個の検出領域をｎ個のグループに分割し、検出
器は１グループの全データを１度に採集できる数のみを
用意し、異なるグループ間では時分割により逐次データ
を取る。即ち第３図に示すように、マスク１にスリット
２を設け、Ｘ線源からのＸ線照射による被検体４を透過
したＸ線を１次元検出器５で検出する。
器は１グループの全データを１度に採集できる数のみを
用意し、異なるグループ間では時分割により逐次データ
を取る。即ち第３図に示すように、マスク１にスリット
２を設け、Ｘ線源からのＸ線照射による被検体４を透過
したＸ線を１次元検出器５で検出する。
（３）位置敏感検出器等を用いて、例えば１個のフォト
ン毎にその位置を検出して成る聞を検出する度にその平
均位置を計算により求める。
ン毎にその位置を検出して成る聞を検出する度にその平
均位置を計算により求める。
（発明が解決しようとする課題）
ところで、上記のような方、法でデータを取るにはそれ
ぞれ問題がある。
ぞれ問題がある。
（１）１度にデータを取るために必要な検出器が、例え
ば、縦横各１０００個であるとすると全量で１００万個
の検出器が必要となり、検出器に接続される回路等を考
えると莫大な量が必要である。
ば、縦横各１０００個であるとすると全量で１００万個
の検出器が必要となり、検出器に接続される回路等を考
えると莫大な量が必要である。
（２＞（２＞の方法では検出器は１／ｎですむが、Ｘ線
管の利用効果が１／ｎになって、全面のデータを１枚分
取るために、ｎ回のＸ線照射が必要になり、Ｘ線管がオ
ーバーヒートしてしまう。
管の利用効果が１／ｎになって、全面のデータを１枚分
取るために、ｎ回のＸ線照射が必要になり、Ｘ線管がオ
ーバーヒートしてしまう。
（３）位置敏感検出器を用いる方法は入力強度が小さい
場合にのみ適用される。この方法ではフォトンが毎秒１
億個も到達するような場合には計騨が極めて困難である
。
場合にのみ適用される。この方法ではフォトンが毎秒１
億個も到達するような場合には計騨が極めて困難である
。
本発明は上記の点に鑑みてなされたもので、Ｘ線照射の
場合、Ｘ線の利用効率を大きく落とすことなく、又、検
出器及び検出器に付属する回路を減少させることのでき
るＸ線平面検出方法を実用することにある。
場合、Ｘ線の利用効率を大きく落とすことなく、又、検
出器及び検出器に付属する回路を減少させることのでき
るＸ線平面検出方法を実用することにある。
（課題を解決するための手段）
Ｘ線を被検物に照射して透過Ｘ線を検出し、被検物のＸ
線吸収係数分布像を構成するＸ線平面検出方法において
、実質的に撮影域の略１／２を蔽うような直交関数類似
の関数で符号化された遮蔽手段を用いてデータを取り、
又は、全域を直交関数類似の関数で変調された透過率分
布を持つ透過率変化手段を用いてデータを取り、そのデ
ータを組み合わせて撮影域の分割された各部の信号強度
を求めることを特徴とするものである。
線吸収係数分布像を構成するＸ線平面検出方法において
、実質的に撮影域の略１／２を蔽うような直交関数類似
の関数で符号化された遮蔽手段を用いてデータを取り、
又は、全域を直交関数類似の関数で変調された透過率分
布を持つ透過率変化手段を用いてデータを取り、そのデ
ータを組み合わせて撮影域の分割された各部の信号強度
を求めることを特徴とするものである。
（作用）
直交関数類似の関数で符号化された遮蔽手段又は透過率
変化手段により被検物又は検出器を蔽ってデータを取り
、そのデータを組み合わせて分割された曙影域の各部の
信号強度を求める。
変化手段により被検物又は検出器を蔽ってデータを取り
、そのデータを組み合わせて分割された曙影域の各部の
信号強度を求める。
（実施例）
以下、図面を参照して本発明の方法の実施例を詳細に説
明する。
明する。
第１図は本発明の方法の一実施例を示す図である。図に
おいて、（イ）図は８×８ビクセルのマスクの図で、（
ロ）図はマスクを用いて行うＸ線によるデータ採取の方
法を示す図である。図中、第３図と同じ部分には同一の
符号を付しである。
おいて、（イ）図は８×８ビクセルのマスクの図で、（
ロ）図はマスクを用いて行うＸ線によるデータ採取の方
法を示す図である。図中、第３図と同じ部分には同一の
符号を付しである。
１１はウオルシュ関数を用いて構成したマスク、１２は
１次元検出器をｎ個マスクの進行方向に並べた検出器で
ある。
１次元検出器をｎ個マスクの進行方向に並べた検出器で
ある。
次にマスク１１を用いた場合のデータ採取の動作の説明
をマスク構成の方法と原理を説明しながら行う。ウオル
シュ関数を用いたマスク作成の原理を８×８ビクセルの
場合について説明する。
をマスク構成の方法と原理を説明しながら行う。ウオル
シュ関数を用いたマスク作成の原理を８×８ビクセルの
場合について説明する。
ｆ、は全部＋１１ ｒｌの原型である。ｆｌはｆ、の後
半を０に関して反転させてパ−１”とした数列、ｆ３は
ｆｌの前半及び後半の各後半を反転させた数列、ｆ４は
ｆ３の後半を反転させた数列、ｆ５はｆ４の１／４ずつ
の各後半を反転させた数列、以下同様に後半を反転させ
て作った数列でそれぞれ直交関数の関係になっている。
半を０に関して反転させてパ−１”とした数列、ｆ３は
ｆｌの前半及び後半の各後半を反転させた数列、ｆ４は
ｆ３の後半を反転させた数列、ｆ５はｆ４の１／４ずつ
の各後半を反転させた数列、以下同様に後半を反転させ
て作った数列でそれぞれ直交関数の関係になっている。
第１図（イ）のマスク１１は第２図のｆ、−ｆ、の数朋
ｉｆ、の数列即ち直流を加えて、２で除したもので符号
化されたものである。従って、マスク１１のバタンは厳
密にはウオルシュ関数で符号化されたものではなく、ウ
オルシュ関数類似の関数で符号化されたものである。マ
スク１１はこのように得られたバタン中”１゛′をＸ線
透過部とし、Ｏ”の位置には鉛の吸収体を置いたもので
ある。
ｉｆ、の数列即ち直流を加えて、２で除したもので符号
化されたものである。従って、マスク１１のバタンは厳
密にはウオルシュ関数で符号化されたものではなく、ウ
オルシュ関数類似の関数で符号化されたものである。マ
スク１１はこのように得られたバタン中”１゛′をＸ線
透過部とし、Ｏ”の位置には鉛の吸収体を置いたもので
ある。
ｘｌａ撮影においては第１図（ロ）のように８個の検出
器１２を用いて被検体３を照射する。マスク１１は各照
射毎に１駒ずつに移動される。このようにマスク１１を
右方向に移動させると、図の被検体４の足の部分から逐
次マスク１１の外になるので、実質的にはマスク１１は
第１図（イ）のバタンのちのを２枚接続して用いる。従
って１駒移動すると、足の部分のマスクの符号はｆ８が
らｆｌになる。
器１２を用いて被検体３を照射する。マスク１１は各照
射毎に１駒ずつに移動される。このようにマスク１１を
右方向に移動させると、図の被検体４の足の部分から逐
次マスク１１の外になるので、実質的にはマスク１１は
第１図（イ）のバタンのちのを２枚接続して用いる。従
って１駒移動すると、足の部分のマスクの符号はｆ８が
らｆｌになる。
次に、第１図（ロ）の本実施例のマスク１１を使用した
場合の各検出器の出力ＩＦ を求める。
場合の各検出器の出力ＩＦ を求める。
Ｉ、−Σｆｐ（ｆ）ＧＰＩ
’＝１
ｐ；検出器１２の位置
Ｉｍｐと垂直方向、（各検出器の横方向）の位置
ｆｐ（ｉ）；マスク（ｐ番目の検出器上１番目のバタン
） Ｇｐ＋ ：マスクのないときのｐｉにおけるＸ線の透
過量 １；：マスク１１の位置がＯのときのｐ番目の検出器の
出力 次にマスク１１が１ピクセル移動した後の強度はＩ、−
Σｆ、、（１） Ｇ ｒｌ ；臂 になる。これを繰り返すことにより ｆ ’ ｐ −；＋ ｆｒ＋ｚ（’ ） Ｇ Ｐ Ｉが得
られ各検出器毎に １ｅ ＝ＥｆＪ （ｉ）Ｇ ＰＩ （ｌ！−１〜８
）が得られることになる。このデータを２倍にして直流
部分を引き、逆ウオルシユ変換をするとＧＰＩが得られ
る。
） Ｇｐ＋ ：マスクのないときのｐｉにおけるＸ線の透
過量 １；：マスク１１の位置がＯのときのｐ番目の検出器の
出力 次にマスク１１が１ピクセル移動した後の強度はＩ、−
Σｆ、、（１） Ｇ ｒｌ ；臂 になる。これを繰り返すことにより ｆ ’ ｐ −；＋ ｆｒ＋ｚ（’ ） Ｇ Ｐ Ｉが得
られ各検出器毎に １ｅ ＝ＥｆＪ （ｉ）Ｇ ＰＩ （ｌ！−１〜８
）が得られることになる。このデータを２倍にして直流
部分を引き、逆ウオルシユ変換をするとＧＰＩが得られ
る。
このようにしてマスク１１を使用した場合、各測定で：
＝１にｎまでのすべての部分が使われ、ＸｌＩ管の使用
効果を上げることができる。
＝１にｎまでのすべての部分が使われ、ＸｌＩ管の使用
効果を上げることができる。
尚、本発明は前記実施例に限定されるものではない。第
４図は本発明の他の実施例である。（イ）図は２次元ウ
オルシュ関数類似の関数で符号化した４Ｘ４ビクセルの
２次元マスクの図、（ロ）図は（イ）図のマスクを用い
た場合のデータ採取の図である。図において、第１図と
同等の部分には同一の符号を付しである。図中、２１は
（イ）図のバタンを用いた複数枚のマスクで、２２は必
要な面積の大きさを持った単一の検出器である。本実施
例ではマスク２１は（イ）図のバタンのちのをＸ線照射
の都度交換してデータを採取する。データ採取後の処理
は前記実施例の場合と同様である。
４図は本発明の他の実施例である。（イ）図は２次元ウ
オルシュ関数類似の関数で符号化した４Ｘ４ビクセルの
２次元マスクの図、（ロ）図は（イ）図のマスクを用い
た場合のデータ採取の図である。図において、第１図と
同等の部分には同一の符号を付しである。図中、２１は
（イ）図のバタンを用いた複数枚のマスクで、２２は必
要な面積の大きさを持った単一の検出器である。本実施
例ではマスク２１は（イ）図のバタンのちのをＸ線照射
の都度交換してデータを採取する。データ採取後の処理
は前記実施例の場合と同様である。
（イ）図のような２次元のウオルシュ関数類似の関数の
マスクを小さくして、被測定部をＮ個の四角な領域に分
けて、各領域毎に２次元ウオルシュ関数類似の関数を用
いるようにすることもできる。
マスクを小さくして、被測定部をＮ個の四角な領域に分
けて、各領域毎に２次元ウオルシュ関数類似の関数を用
いるようにすることもできる。
第５図は被測定物にマスクを掛けるのではなく、検出器
にマスクを掛ける例である。図において、３１はＸ線を
受けてその強度に比例した光信号を出力するｎ２に分割
されたシンチレータ、３２はシンチレータ３１の発生す
る光の透過量を加減するためのスイッチを伴なう液晶で
、シンチレータ３１の発する光はウオルシュ関数類似の
関数のバタンを有するスイッチ群のオンオフにより変調
されて液晶を透過する。３３はシンチレータ３１で発生
し液晶３２を透過した光により電流を流すフォトダイオ
ードである。この場合も、１ライン毎にフォトダイオー
ド３３を設け、ライン毎に１次元ウオルシュ関数類似の
関数でマスクする方法、ｎ個の四゛角の領域を設は各領
域毎にフォトダイオード３３を設けて領域毎に２次元フ
ォルシュ関数類似の関数を使う方法、及び全体を２次元
のウオルシュ関数類似の関数でマスクし、フォトダイオ
ード３３は全面積を１１１１のものとした方法の３つの
方法を選ぶことができる。この方法は検出器をマスクす
るものであるため医療用に用いるには不利な面もあるが
、その他の用途には有効に用いることができる。
にマスクを掛ける例である。図において、３１はＸ線を
受けてその強度に比例した光信号を出力するｎ２に分割
されたシンチレータ、３２はシンチレータ３１の発生す
る光の透過量を加減するためのスイッチを伴なう液晶で
、シンチレータ３１の発する光はウオルシュ関数類似の
関数のバタンを有するスイッチ群のオンオフにより変調
されて液晶を透過する。３３はシンチレータ３１で発生
し液晶３２を透過した光により電流を流すフォトダイオ
ードである。この場合も、１ライン毎にフォトダイオー
ド３３を設け、ライン毎に１次元ウオルシュ関数類似の
関数でマスクする方法、ｎ個の四゛角の領域を設は各領
域毎にフォトダイオード３３を設けて領域毎に２次元フ
ォルシュ関数類似の関数を使う方法、及び全体を２次元
のウオルシュ関数類似の関数でマスクし、フォトダイオ
ード３３は全面積を１１１１のものとした方法の３つの
方法を選ぶことができる。この方法は検出器をマスクす
るものであるため医療用に用いるには不利な面もあるが
、その他の用途には有効に用いることができる。
第６図は他の実施例の図である。図において、第１図と
同様の部分には同一の符号を付しである。
同様の部分には同一の符号を付しである。
図中、４１は正弦波状にＸ線透過量を変化させるマスク
である。そのためこのマスク４１は正弦波に直流成分を
加えて負の部分をなくし、正弦波類似の関数状の透過率
になるように厚みの変化をもたせて作られた（口）図に
示すようなバタンのちのである。これを図の矢印の方向
にＸ線照射の都度移動させる。この方法は第１図のよう
に１ラインずつＸ線照射毎にマスクを移動させる方法で
あっだが、第４図のように直流のオフセットを持ち、透
過量が正弦波状になるように作られた１枚の２次元のバ
タンのマスクを逐次交換して１個の検出器にＸ線を検出
させる方法にしてもよい。又、分割した２次元小領域毎
に２次元パタンを適用する方法もある。
である。そのためこのマスク４１は正弦波に直流成分を
加えて負の部分をなくし、正弦波類似の関数状の透過率
になるように厚みの変化をもたせて作られた（口）図に
示すようなバタンのちのである。これを図の矢印の方向
にＸ線照射の都度移動させる。この方法は第１図のよう
に１ラインずつＸ線照射毎にマスクを移動させる方法で
あっだが、第４図のように直流のオフセットを持ち、透
過量が正弦波状になるように作られた１枚の２次元のバ
タンのマスクを逐次交換して１個の検出器にＸ線を検出
させる方法にしてもよい。又、分割した２次元小領域毎
に２次元パタンを適用する方法もある。
又、第５図の検出器をマスクする方法にも、ウオルシュ
関数類似の関数を用いる方法の他に三角関数類似の関数
を用いる方法及び前記の様に１次元マスクを用いる方法
、全体を蔽って交換する２次元全体マスクを用いる方法
及びブロック毎の２次元マスクを交換する方法を採用す
ることができる。
関数類似の関数を用いる方法の他に三角関数類似の関数
を用いる方法及び前記の様に１次元マスクを用いる方法
、全体を蔽って交換する２次元全体マスクを用いる方法
及びブロック毎の２次元マスクを交換する方法を採用す
ることができる。
（光用の効果）
以上、詳細に説明したように本発明によれば、検出器と
それに続く付属回路の数を減らすことができる。更にＸ
線源の利用効率が高く短時間で藏彰できるとともに、ノ
イズの少ないイメージが得られる。
それに続く付属回路の数を減らすことができる。更にＸ
線源の利用効率が高く短時間で藏彰できるとともに、ノ
イズの少ないイメージが得られる。
第１図は本発明の一実施例のマスクと測定方法の図、第
２図は８Ｘ８ピクセルのつｌルシュ関数の一例の図、第
３図は従来のスリット付きのマスクを用いて行う撮影の
方法を示す図、第４図は２次元マスクと２次元マスクで
撮影を行う方法の図、第５図は検出器をマスクする方法
の説明図、第６図は三角関数の符号化によって作られた
マスクとそれによる撮影の図である。 １．１１．２１．３１．４１・・・マスク３・・・Ｘｌ
ｌ源 ４・・・被検体５・・・１次元検出器
１２．２２・・・検出器３１・・・シンチレータ ３２・・・液晶マトリクス（スイッチ付）３３・・・フ
ォトダイオード 角４４ 図 （イ） 、 ２ Ｘ、ｌｆｉ 特許出願人 横河メディカルシステム株式会社柄等２ 区 第３ 図 １次元検出器
２図は８Ｘ８ピクセルのつｌルシュ関数の一例の図、第
３図は従来のスリット付きのマスクを用いて行う撮影の
方法を示す図、第４図は２次元マスクと２次元マスクで
撮影を行う方法の図、第５図は検出器をマスクする方法
の説明図、第６図は三角関数の符号化によって作られた
マスクとそれによる撮影の図である。 １．１１．２１．３１．４１・・・マスク３・・・Ｘｌ
ｌ源 ４・・・被検体５・・・１次元検出器
１２．２２・・・検出器３１・・・シンチレータ ３２・・・液晶マトリクス（スイッチ付）３３・・・フ
ォトダイオード 角４４ 図 （イ） 、 ２ Ｘ、ｌｆｉ 特許出願人 横河メディカルシステム株式会社柄等２ 区 第３ 図 １次元検出器
Claims (7)
- （１）Ｘ線を被検物に照射して透過Ｘ線を検出し、被検
物のＸ線吸収係数分布像を構成するＸ線平面検出方法に
おいて、実質的に撮影域の略１／２を蔽うような直交関
数類似の関数で符号化された遮蔽手段を用いてデータを
取り、又は、全域を直交関数類似の関数で変調された透
過率分布を持つ透過率変化手段を用いてデータを取り、
そのデータを組み合わせて撮影域の分割された各部の信
号強度を求めることを特徴とするＸ線平面検出方法。 - （２）Ｘ線を被検物に照射して透過Ｘ線を検出し、被検
物のＸ線吸収係数分布像を構成するＸ線平面検出方法に
おいて、実質的に検出手段又は、その検出過程の一段階
において略１／２を蔽うような直交関数類似の関数で符
号化された不感手段を用いてデータを取り、又は、全域
を直交関数類似の関数で変調された透過率分布を持つ透
過率変化手段を用いてデータを取り、そのデータを組み
合わせて、分割された遮蔽手段等により等価的に分割さ
れた撮影域の各部の信号強度を求めることを特徴とする
Ｘ線平面検出方法。 - （３）ウオルシユ関数に類似する関数により符号化され
た遮蔽手段を用いてデータを取ることを特徴とする請求
項１又は２記載のＸ線平面検出方法。 - （４）三角関数に類似する関数により変調された透過率
変化手段を用いてデータを取ることを特徴とする請求項
１又は２記載のＸ線平面検出方法。 - （５）ライン状に符号化され平面状に並べられた遮蔽手
段又は透過率変化手段を用いて該遮蔽手段又は透過率変
化手段進行方向に列ねられた複数個の単一検出手段によ
りデータを取ることを特徴とする請求項３又は４記載の
Ｘ線平面検出方法。 - （６）２次元平面に符号化された複数の遮蔽手段又は透
過率変化手段をＸ線照射の都度交換してデータを取るこ
とを特徴とする請求項３又は４記載のＸ線平面検出方法
。 - （７）２次元平面に符号化された小面積の複数の遮蔽手
段又は透過率変化手段により蔽われる部分を逐次変化さ
せながら全面を変化させてデータを取ることを特徴とす
る請求項３又は４記載のＸ線平面検出方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63211977A JPH0261543A (ja) | 1988-08-26 | 1988-08-26 | Ｘ線平面検出方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63211977A JPH0261543A (ja) | 1988-08-26 | 1988-08-26 | Ｘ線平面検出方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0261543A true JPH0261543A (ja) | 1990-03-01 |
| JPH0462738B2 JPH0462738B2 (ja) | 1992-10-07 |
Family
ID=16614843
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63211977A Granted JPH0261543A (ja) | 1988-08-26 | 1988-08-26 | Ｘ線平面検出方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0261543A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04213091A (ja) * | 1990-12-10 | 1992-08-04 | Konica Corp | 放射線量検出装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6426277A (en) * | 1987-03-25 | 1989-01-27 | Shimadzu Corp | Image photographing device |
-
1988
- 1988-08-26 JP JP63211977A patent/JPH0261543A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6426277A (en) * | 1987-03-25 | 1989-01-27 | Shimadzu Corp | Image photographing device |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04213091A (ja) * | 1990-12-10 | 1992-08-04 | Konica Corp | 放射線量検出装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0462738B2 (ja) | 1992-10-07 |
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