JPH0251167B2 - - Google Patents

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JPH0251167B2
JPH0251167B2 JP12116682A JP12116682A JPH0251167B2 JP H0251167 B2 JPH0251167 B2 JP H0251167B2 JP 12116682 A JP12116682 A JP 12116682A JP 12116682 A JP12116682 A JP 12116682A JP H0251167 B2 JPH0251167 B2 JP H0251167B2
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JP
Japan
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formula
insulating film
liquid crystal
parts
aromatic
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JP12116682A
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Japanese (ja)
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Susumu Era
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Resonac Corp
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Hitachi Chemical Co Ltd
Hitachi Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0251167B2 publication Critical patent/JPH0251167B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1337Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
    • G02F1/133711Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by organic films, e.g. polymeric films

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  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Formation Of Insulating Films (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は絶縁膜を有する素子に係り、特に樹脂
封止型半導体素子の素子表面を保護コート(P−
N接合部のコート)するのに好適な、或いは液晶
表示素子の配向膜として好適な絶縁膜を有する素
子に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to an element having an insulating film, and in particular, a protective coating (P-
The present invention relates to an element having an insulating film suitable for coating an N junction part or as an alignment film of a liquid crystal display element.

従来から素子の表面をポリイミド重合体で保護
コートした半導体装置は知られていた。しかしな
がら、芳香族ポリイミド系重合体は一般に有機溶
剤に不溶であるため、コーテイングする際には、
その前駆体であるポリアミド酸の溶液をコートし
た後、溶剤除去とともに、加熱閉環反応を起こさ
せる。従つて、処理温度は高温を必要とするが、
高温処理は作業性という点から以外にも、高温で
はボンデイング部に好ましからざるAu−Alの合
金が生成し、半導体装置の耐湿性が低下しやすい
とう点からも好ましくない。
2. Description of the Related Art Semiconductor devices in which the surface of an element is protectively coated with a polyimide polymer have been known. However, aromatic polyimide polymers are generally insoluble in organic solvents, so when coating them,
After coating with a solution of polyamic acid, which is its precursor, the solvent is removed and a ring-closing reaction is caused by heating. Therefore, a high processing temperature is required, but
High-temperature treatment is undesirable not only from the viewpoint of workability but also because at high temperatures an undesirable Au--Al alloy is formed in the bonding portion, which tends to reduce the moisture resistance of the semiconductor device.

一方、液晶セル、特に電界の作用により動作す
る電熱光学的効果を利用したネマチツク液晶表示
素子において、配向膜として芳香族ポリイミド系
材料が使用され得ることは既に公知である。例え
ば、特開昭51−65960号公報に記載されている4,
4′−ジアミノジフエニルエーテルとピロメリツト
酸二無水物との縮合により得られるポリイミド
は、配向の均一性ならびに劣化試験による耐久性
の点でかなり良好である。しかし、このようなポ
リイミド系重合体は有機溶媒に不溶であるため、
基板上に配向膜を形成する際には、ポリイミドの
前駆体であるポリアミド酸の溶液を塗布し、しか
る後、溶剤を除去する際に、脱水閉環させる。し
たがつて、処理温度を200℃にする必要があり、
ひいては配向膜の褐色化を進める。そのため、液
晶を封入した後の液晶表示素子が褐色味を帯び、
同時に視野が暗くなり、更にはコントラストが低
下し、表示素子としての機能、特に高品質の表示
の要求を満たさないという問題があつた。
On the other hand, it is already known that aromatic polyimide-based materials can be used as alignment films in liquid crystal cells, particularly in nematic liquid crystal display devices that operate under the action of an electric field and utilize electrothermal optical effects. For example, 4, which is described in Japanese Patent Application Laid-open No. 51-65960,
The polyimide obtained by condensation of 4'-diaminodiphenyl ether and pyromellitic dianhydride has fairly good orientation uniformity and durability in deterioration tests. However, since such polyimide polymers are insoluble in organic solvents,
When forming an alignment film on a substrate, a solution of polyamic acid, which is a precursor of polyimide, is applied, and then, when the solvent is removed, dehydration and ring closure are performed. Therefore, it is necessary to set the processing temperature to 200℃,
This further promotes browning of the alignment film. As a result, the liquid crystal display element becomes brownish after being filled with liquid crystal.
At the same time, there were problems in that the visual field became dark and the contrast deteriorated, so that the function as a display element, especially the requirement for high quality display, was not met.

また、近年液晶層が透明な基板を介して二層以
上積層された構造の多層構造液晶セルの需要が増
大する中で、これまでのポリイミド配向膜ではそ
の着色が問題となつている。
Furthermore, as demand for multilayer liquid crystal cells having a structure in which two or more liquid crystal layers are laminated via a transparent substrate has increased in recent years, coloring of conventional polyimide alignment films has become a problem.

本発明は、低温処理にて絶縁膜形成が可能な絶
縁膜を有する素子を提供することを目的とする。
特に液晶表示素子に対しては、その目的は、製膜
時に着色せず透明性に優れかつネサパターンの目
立たない配向膜を有する液晶表示素子を提供する
ことである。
An object of the present invention is to provide an element having an insulating film that can be formed by low-temperature processing.
Particularly for liquid crystal display elements, the purpose is to provide a liquid crystal display element having an alignment film that is not colored during film formation, has excellent transparency, and has an inconspicuous Nesa pattern.

本発明において、芳香族ポリエーテルイミド重
合体からなる半導体素子コート膜の厚さは、好ま
しくは1〜300μmの範囲から選ばれる。特に、
半導体装置がメモリでありα線によるソフトエラ
ーを防止する為、保護コートする場合には、30〜
100μmが選ばれることが望ましい。
In the present invention, the thickness of the semiconductor element coating film made of the aromatic polyetherimide polymer is preferably selected from the range of 1 to 300 μm. especially,
If the semiconductor device is a memory and a protective coating is applied to prevent soft errors caused by alpha rays,
Preferably, 100 μm is chosen.

本発明において用いられる芳香族ポリエーテル
アミド重合体は、一般式()で示される芳香族
ジアミンのジニトロフタルイミドと、一般式
()のアルリ金属ジフエノキシドとの重縮合 MO−Ar−OM () 或いは、一般式()のビス(エーテル酸無水
物)と一般式()の芳香族ジアミンとの重縮合
によ H2N−R−NH2 () つて得られる(但し、上記式()〜()にお
いては、Ar及びRは二価の芳香族残基であり、
Mはアルカリ金属をあらわす)。
The aromatic polyetheramide polymer used in the present invention is a polycondensation product of dinitrophthalimide of an aromatic diamine represented by the general formula () and an allurimetal diphenoxide represented by the general formula (). MO−Ar−OM () or by polycondensation of the bis(ether acid anhydride) of the general formula () and the aromatic diamine of the general formula (). H 2 N-R-NH 2 () (However, in the above formulas () to (), Ar and R are divalent aromatic residues,
M represents an alkali metal).

本発明者らは、従来のポリイミド膜の欠点であ
つた液晶表示素子の着色を低減し、透明性を向上
させるため、比較的低温で処理可能で着色の少な
いポリイミドを得るべく、検討を重ねた。その結
果、ある特定のポリエーテルイミドがジメチルホ
ルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチル
ピロリドン等の極性溶媒に可溶であることをつき
とめた。ポリエーテルイミドの溶液を用いると、
製膜は溶剤を除去するだけで良いため、比較的低
温で処理が可能となり、配向膜の着色は少ない。
The present inventors have conducted repeated studies in order to obtain a polyimide that can be processed at relatively low temperatures and has less coloring, in order to reduce the coloring of liquid crystal display elements and improve transparency, which was a drawback of conventional polyimide films. . As a result, it was found that certain polyetherimides are soluble in polar solvents such as dimethylformamide, dimethylacetamide, and N-methylpyrrolidone. Using a solution of polyetherimide,
Since film formation requires only the removal of the solvent, processing can be performed at a relatively low temperature, and the alignment film is less likely to be colored.

本発明に用いられる芳香族ポリエーテルイミド
重合体は、着色が少なく、透明性に優れ、ネサパ
ターンが目立たず十分な液晶配向性を有する配向
膜を形成しうる。また、本発明の配向膜は、多層
構造の液晶表示用としても優れている。
The aromatic polyetherimide polymer used in the present invention has little coloring, is excellent in transparency, and can form an alignment film having sufficient liquid crystal alignment properties without conspicuous Nesa patterns. Furthermore, the alignment film of the present invention is also excellent for use in multilayer liquid crystal displays.

本発明において用いられる芳香族ポリエーテル
イミドの製造に用いられる二価フエノールの具体
例をあげると、2,2−ビス(4−ヒドロキシフ
エニル)プロパン、4,4′−ジヒドロキシジフエ
ニルエーテル、ハイドロキノン、カテコール、ビ
ス(4−ヒドロキシフエニル)メタン、4,4′−
ジヒドロキシジフエニルスルホン、4,4′−ジヒ
ドロキシベンゾフエノン、4,4′−ジヒドロキシ
ジフエニルスルフイド、2,2−ビス(4−ヒド
ロキシフエニル)−1,1,1,3,3,3−ヘ
キサフルオロプロパン、2,5−ジヒドロキシト
ルエン、4,4′−ジヒドロキシ−3,3′−ジメチ
ルジフエニル、3,3′,5,5′−テトラメチル−
4,4′−ジヒドロキシジフエニル、ビス〔4−
(4−ヒドロキシフエノキシ)フエニル〕スルホ
ン、ビス〔4−(4−ヒドロキシフエノキシ)フ
エニル〕エーテル、4,4′−ジ(P−ヒドロキシ
フエノキシ)ベンゾフエノン等が挙げられる。
Specific examples of dihydric phenols used in the production of the aromatic polyetherimide used in the present invention include 2,2-bis(4-hydroxyphenyl)propane, 4,4'-dihydroxydiphenyl ether, and hydroquinone. , catechol, bis(4-hydroxyphenyl)methane, 4,4'-
Dihydroxydiphenyl sulfone, 4,4'-dihydroxybenzophenone, 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfide, 2,2-bis(4-hydroxyphenyl)-1,1,1,3,3, 3-hexafluoropropane, 2,5-dihydroxytoluene, 4,4'-dihydroxy-3,3'-dimethyldiphenyl, 3,3',5,5'-tetramethyl-
4,4'-dihydroxydiphenyl, bis[4-
Examples include (4-hydroxyphenoxy)phenyl]sulfone, bis[4-(4-hydroxyphenoxy)phenyl]ether, and 4,4'-di(P-hydroxyphenoxy)benzophenone.

また、本発明に用いられる芳香族ポリエーテル
イミドの製造に用いられる芳香族ジアミンの例を
挙げると、m−フエニレンジアミン、p−フエニ
レンジアミン、4,4′−ジアミノジフエニルプロ
パン、4,4′−ジアミノジフエニルスルフイド、
4,4′−ジアミノジフエニルスルホン、4,4′−
ジアミノジフエニルエーテル、1,5−ジアミノ
ナフタリン、2,4−ジアミノトルエン、2,6
−ジアミノトルエン、4,4′−ジアミノジフエニ
ルメタン、4,4′−ジアミノベンゾフエノン、ビ
ス〔4−(4−アミノフエノキシ)フエニル〕ス
ルホン、2,2−ビス〔4−(4−アミノフエノ
キシ)フエニル〕プロパン、2,2−ビス〔4−
(4−アミノフエノキシ)フエニル〕1,1,1,
3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、4,4′−
(p−アミノフエノキシ)ベンゾフエニル、ビス
〔4−(4−アミノフエノキシ)フエニル〕メタ
ン、ブス〔4−(4−アミノフエノキシ)フエニ
ル〕エーテルなどがあげられる。
Further, examples of aromatic diamines used in the production of aromatic polyetherimide used in the present invention include m-phenylene diamine, p-phenylene diamine, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4, 4′-diaminodiphenyl sulfide,
4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-
Diaminodiphenyl ether, 1,5-diaminonaphthalene, 2,4-diaminotoluene, 2,6
-Diaminotoluene, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminobenzophenone, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)] phenyl]propane, 2,2-bis[4-
(4-aminophenoxy)phenyl]1,1,1,
3,3,3-hexafluoropropane, 4,4'-
Examples include (p-aminophenoxy)benzophenyl, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]methane, bus[4-(4-aminophenoxy)phenyl]ether, and the like.

前記芳香族ポリエーテルイミド重合体は、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−
メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド等に溶
解して、ワニスの形態にする。半導体素子コート
用としてはこれを素子に塗布して100〜200℃の温
度条件にて製膜することができる。その後、例え
ば、エポキシ樹脂、ジアリルフタレート樹脂、フ
エノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコ
ーン樹脂等で封止される。
The aromatic polyetherimide polymer includes dimethylformamide, dimethylacetamide, N-
Dissolve in methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, etc. to form a varnish. For semiconductor device coating, this can be applied to the device and formed into a film at a temperature of 100 to 200°C. Thereafter, it is sealed with, for example, epoxy resin, diallyl phthalate resin, phenol resin, unsaturated polyester resin, silicone resin, or the like.

尚、液晶表示素子の配向膜の形成に当つて、上
記により調製した重合体容液の取扱いは特別の配
慮は不要であり、刷毛塗り、浸漬、回転塗布、印
刷その他慣用の手段により行なうことができる。
In forming an alignment film for a liquid crystal display element, no special consideration is required when handling the polymer solution prepared as described above, and it can be carried out by brush coating, dipping, spin coating, printing, or other conventional methods. can.

本発明の配向膜は、導電層を設けた基板上に直
接形成することができるが、導電層の下層または
上層に無機絶縁膜を設けたものを用いることによ
り、更に優れた液晶表示素子を得ることができ
る。このような無機絶縁膜としては、SiO2
Al2O3、及びTiO2の膜が適当である。
The alignment film of the present invention can be formed directly on a substrate provided with a conductive layer, but an even more excellent liquid crystal display element can be obtained by using one in which an inorganic insulating film is provided below or above the conductive layer. be able to. Such inorganic insulating films include SiO 2 ,
Films of Al 2 O 3 and TiO 2 are suitable.

また、本発明においては、一層強固な配向膜を
得るために、エポキシ系及びアミノ系シランカツ
プリング剤の1種以上を併用することができる。
シランカツプリング剤としては、例えば、γ−ア
ミノプロピルトリエトキシシラン及びγ−グリシ
ドキシプロピルトリメトキシシラン等を挙げるこ
とができる。適用に当つては、上記重合体溶液中
に滴下添加しても良く、また、シランカツプリン
グ剤の膜を形成した上に更に配向膜を形成しても
良い。
Further, in the present invention, in order to obtain an even stronger alignment film, one or more of epoxy-based and amino-based silane coupling agents can be used in combination.
Examples of the silane coupling agent include γ-aminopropyltriethoxysilane and γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane. In application, it may be added dropwise into the above polymer solution, or an alignment film may be formed on top of the silane coupling agent film.

本発明の液晶表示素子に封入する液晶の一例と
しては、次のものを挙げることができる。これら
は通常二成分以上の混合物として適用される。
As an example of the liquid crystal sealed in the liquid crystal display element of the present invention, the following can be mentioned. These are usually applied as a mixture of two or more components.

(1) ビフエニル型液晶として の混合物 (2) エステル型液晶としては、 の混合物 (3) シクロヘキサン型液晶としては、 の混合物がある。(1) As a biphenyl type liquid crystal A mixture of (2) as an ester type liquid crystal, The mixture (3) of cyclohexane type liquid crystal is There is a mixture of

次に、本発明を実施例により説明する。 Next, the present invention will be explained by examples.

実施例 1 52重量部の2,2−ビス〔4−(3,4−ジカ
ルボキシフエノキシ)フエニル〕プロパン二無水
物、41重量部の2,2−ビス〔4−(4−アミノ
フエノキシ)フエニル〕プロパン、1000重量部の
N−メチルピロリドン及び300重量部のトルエン
の混合物を室温で約1時間撹拌した後、150℃で
約1時間還流した。この際、生成する水を共沸に
より留去した。更にトルエン200部を加えて、ト
ルエンを留去しながら180℃まで昇温した後、冷
却した。このようにして得られた芳香族ポリエー
テルイミド重合体をN−メチルピロリドン15%溶
液に調製した。これをMOS型LSIに塗布し、100
℃、30分、150℃、1時間、200℃、2時間加熱し
て厚さ約40μmの膜を素子表面に形成した。
Example 1 52 parts by weight of 2,2-bis[4-(3,4-dicarboxyphenoxy)phenyl]propane dianhydride, 41 parts by weight of 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)] A mixture of phenyl]propane, 1000 parts by weight of N-methylpyrrolidone and 300 parts by weight of toluene was stirred at room temperature for about 1 hour and then refluxed at 150°C for about 1 hour. At this time, the water produced was distilled off azeotropically. Furthermore, 200 parts of toluene was added, and the temperature was raised to 180° C. while distilling off toluene, and then cooled. The aromatic polyetherimide polymer thus obtained was prepared into a 15% N-methylpyrrolidone solution. Apply this to MOS type LSI and
C. for 30 minutes, 150.degree. C. for 1 hour, and 200.degree. C. for 2 hours to form a film about 40 .mu.m thick on the surface of the device.

その後、エポキシ樹脂でトランスフア成形し封
止した。この半導体装置の80℃、90%RH、1000
時間後の故障率は0/90と優れていた。
Thereafter, it was transfer molded and sealed with epoxy resin. 80℃, 90%RH, 1000 for this semiconductor device
The failure rate after hours was excellent at 0/90.

実施例 2 0.1モルの2,2−ビス〔4−(3,4−ジカル
ボキシフエノキシ)フエニル〕プロパン二無水物
と0.1モルのメタフエニレンジアミノとより実施
例1と同様にして芳香族ポリエーテルイミド重合
体を得た。同様にして固形分15%のワニスを調製
し、MOS型LSIに塗布した。この半導体装置の
80℃、90%での耐湿性は良好であつた。
Example 2 Aromatic production as in Example 1 with 0.1 mol of 2,2-bis[4-(3,4-dicarboxyphenoxy)phenyl]propane dianhydride and 0.1 mol of metaphenylene diamino A group polyetherimide polymer was obtained. A varnish with a solid content of 15% was prepared in the same manner and applied to a MOS LSI. This semiconductor device
Moisture resistance at 80°C and 90% was good.

実施例 3 43.6部のビス〔4−(4−ヒドロキシフエノキ
シ)フエニル〕スルホン、8部の水酸化ナトリウ
ムを50部の水に溶解したNaOH水溶液、30部の
ジメチルスルホキシド及び100部のベンゼンから
なる混合物を撹拌しながら加熱し、水分をベンゼ
ンと共沸することにより除去した。次に45.8部の
1,3−ジ〔4−ニトロフタルイミノ〕ベンゼン
及び300部のジメチルスルホシドを加えた。120℃
で2時間反応させた後、反応混合物をメタノール
に注ぎ、重合体を沈でんさせた。得られた粉末を
乾燥後、ジメチルホルムアミドに溶解し、MOS
型ICに塗布し、80℃、30分、150℃、1時間、
180℃、2時間加熱した後、エポキシ樹脂で封止
した。この半導体装置の耐湿性は良好であつた。
Example 3 From 43.6 parts of bis[4-(4-hydroxyphenoxy)phenyl]sulfone, 8 parts of an aqueous NaOH solution of sodium hydroxide in 50 parts of water, 30 parts of dimethyl sulfoxide and 100 parts of benzene. The mixture was heated with stirring, and water was removed by azeotroping with benzene. Then 45.8 parts of 1,3-di[4-nitrophthalimino]benzene and 300 parts of dimethyl sulfoside were added. 120℃
After reacting for 2 hours, the reaction mixture was poured into methanol to precipitate the polymer. After drying the obtained powder, it was dissolved in dimethylformamide and MOS
Apply to mold IC, 80℃, 30 minutes, 150℃, 1 hour,
After heating at 180°C for 2 hours, it was sealed with epoxy resin. This semiconductor device had good moisture resistance.

実施例 4 52重量部の2,2−ビス〔4−(3,4−ジカ
ルボキシフエノキシ)フエニル〕プロパン二無水
物、41重量部の2,2−ビス〔4−(4−アミノ
フエノキシ)フエニル〕プロパン、1000重量部の
N−メチルピロリドン及び300重量部のトルエン
の混合物を室温で約1時間撹拌した後、150℃で
約1時間還流した。この際、生成する水を共沸に
より留去した。更にトルエン200部を加えて、ト
ルエンを留去しながら180℃まで昇温した後、冷
却した。このようにして得られた芳香族ポリエー
テルイミド重合体をN−メチルピロリドン7%溶
液に調製した。液晶セル基板上にオフセツト印刷
機を用いて重合体溶液を用いて50、100、150nm
の配向膜を印刷し、さらに180℃1時間加熱し溶
剤除去した。その後、綿布で一定方向にこすり操
作を行ない、この基板2枚をスペーサを介してエ
ポキシ樹脂の有機シールを施し素子を作製した。
このようにして素子を形成し、これらの素子に、
(1)ビフエニル型液晶、(2)エステル型液晶、(3)シク
ロヘキサン型液晶のそれぞれ別個に注入した後、
各注入口をエポキシ樹脂で封止して液晶表示素子
を作成した。いずれも非常に透明性に優れ、且つ
ネサパターンの目立たない高品質の素子を得るこ
とができた。
Example 4 52 parts by weight of 2,2-bis[4-(3,4-dicarboxyphenoxy)phenyl]propane dianhydride, 41 parts by weight of 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)] A mixture of phenyl]propane, 1000 parts by weight of N-methylpyrrolidone and 300 parts by weight of toluene was stirred at room temperature for about 1 hour and then refluxed at 150°C for about 1 hour. At this time, the water produced was distilled off azeotropically. Furthermore, 200 parts of toluene was added, and the temperature was raised to 180° C. while distilling off toluene, and then cooled. The aromatic polyetherimide polymer thus obtained was prepared into a 7% N-methylpyrrolidone solution. 50, 100, 150 nm using polymer solution using offset printing machine on liquid crystal cell substrate
An alignment film was printed, and the solvent was removed by heating at 180°C for 1 hour. Thereafter, a rubbing operation was performed in a certain direction with a cotton cloth, and an organic seal of epoxy resin was applied to the two substrates with a spacer interposed therebetween, thereby producing an element.
In this way, elements are formed, and these elements are
After separately injecting (1) biphenyl type liquid crystal, (2) ester type liquid crystal, and (3) cyclohexane type liquid crystal,
Each injection port was sealed with epoxy resin to create a liquid crystal display element. In either case, high-quality elements with very excellent transparency and inconspicuous Nesa patterns could be obtained.

実施例 5 0.1モルの2,2−ビス〔4−(3,4−ジカル
ボキシフエノキシ)フエニル〕プロパン二無水物
と、0.1モルのメタフエニレンジアミノとより実
施例1と同様にして芳香族ポリエーテルイミド重
合体を得た。
Example 5 Produced in the same manner as in Example 1 with 0.1 mol of 2,2-bis[4-(3,4-dicarboxyphenoxy)phenyl]propane dianhydride and 0.1 mol of metaphenylene diamino. An aromatic polyetherimide polymer was obtained.

この重合体溶液にプロピルトリエトキシシラン
0.1重量%を添加し、実施例1と同様に配向膜形
成を行ない、ガラスフリツトシールを用いて、液
晶表示素子を作製してその透明性並びにネサパタ
ーン有無を調べた。
Add propyltriethoxysilane to this polymer solution.
0.1% by weight was added, an alignment film was formed in the same manner as in Example 1, and a liquid crystal display element was prepared using a glass frit seal, and its transparency and the presence or absence of a Nesa pattern were examined.

いずれも非常に透明性に優れ、かつネサパター
ンの目立たない高品質の素子を得ることができ
た。
In both cases, high-quality elements with very excellent transparency and inconspicuous Nesa patterns could be obtained.

実施例 6 43.6部のビス〔4−(4−ヒドロキシフエノキ
シ)フエニル〕スルホン、8部の水酸化ナトリウ
ムを50部の水に溶解したNaOH水溶液、30部の
ジメチルスルホキシド及び100部のベンゼンから
なる混合物を撹拌しながら加熱し、水分をベンゼ
ンと共沸することにより除去した。次に、45.8部
の1,3−ジ〔4−ニトロフタルイミノ〕ベンゼ
ン及び300部のジメチルスルホシドを加えた。120
℃で2時間反応させた後、反応混合物をメタノー
ルに注ぎ、重合体を沈でんさせた。得られた粉末
を乾燥後、ジメチルホルムアミドに溶解し、5%
溶液とした。予めSiO2の無機絶縁膜を120nmの
厚さに形成し、更にIn2O3を主成分とする透明電
極を形成した基板上に、この重合体溶液を用いて
オフセツト印刷機で50、100、150nmの配向膜を
形成した。いずれも非常に透明性に優れ、且つネ
サパターンの目立たない高品質の素子を得ること
ができた。
Example 6 From 43.6 parts of bis[4-(4-hydroxyphenoxy)phenyl]sulfone, 8 parts of an aqueous NaOH solution of sodium hydroxide in 50 parts of water, 30 parts of dimethyl sulfoxide and 100 parts of benzene. The mixture was heated with stirring, and water was removed by azeotroping with benzene. Next, 45.8 parts of 1,3-di[4-nitrophthalimino]benzene and 300 parts of dimethyl sulfoside were added. 120
After reacting for 2 hours at °C, the reaction mixture was poured into methanol to precipitate the polymer. After drying the obtained powder, it was dissolved in dimethylformamide and 5%
It was made into a solution. Using this polymer solution, a 50 , 100 , A 150 nm alignment film was formed. In either case, high-quality elements with very excellent transparency and inconspicuous Nesa patterns could be obtained.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 絶縁膜が一般式() 〔但し、Ar及びRは、二価の芳香族残基を示
す。〕で表わされるくり返し単位を有する芳香族
ポリエーテルイミド重合体からなることを特徴と
する絶縁膜を有する素子。 2 特許請求の範囲第1項記載において、前記の
芳香族ポリエーテルイミド重合体が、式() (但し、式中Arは、【式】【式】 【式】【式】 【式】 【式】 【式】 【式】 【式】 【式】 【式】 【式】 【式】 【式】 よりなる群から選択した基を示し、XはSO2
CO、 【式】【式】O、またはCH2で示す)で表 わされるくり返し単位を有する重合体であること
を特徴とする絶縁膜を有する素子。 3 特許請求の範囲第1項記載において、前記の
芳香族ポリエーテルイミド重合体が、式() 〔但し、式中、Rは、メタフエニレン、パラフエ
ニレン、【式】 【式】 【式】及び 【式】 【式】(但し、ZはSO2、 CO、 【式】【式】O、またはCH2を示す)から なる群から選択され、XはO、SO2またはCOで
ある〕で表わされるくり返し単位を有する重合体
であることを特徴とする絶縁膜を有する素子。 4 特許請求の範囲第1項、第2項、または第3
項記載において、前記の芳香族ポリエーテルイミ
ド重合体層の厚さが1〜300μmであることを特
徴とする絶縁膜を有する素子。 5 特許請求の範囲第1項、第2項、第3項、ま
たは第4項記載において、前記絶縁膜は半導体素
子の表面をコートしていることを特徴とする絶縁
膜を有する素子。 6 特許請求の範囲第5項記載において、前記半
導体素子がメモリであり、芳香族ポリエーテルイ
ミド重合体層の厚さが30〜100μmであることを
特徴とする絶縁膜を有する素子。 7 特許請求の範囲第1項、第2項、第3項、ま
たは第4項記載において、前記絶縁膜は液晶表示
素子の配向膜であることを特徴とする絶縁膜を有
する素子。
[Claims] 1. The insulating film has the general formula () [However, Ar and R represent divalent aromatic residues. ] An element having an insulating film comprising an aromatic polyetherimide polymer having repeating units represented by the following. 2. Claim 1 provides that the aromatic polyetherimide polymer has the formula () (However, Ar in the formula is [formula] [formula] [formula] [formula] [formula] [formula] [formula] [formula] [formula] [formula] [formula] [formula] [formula] [formula] [formula] represents a group selected from the group consisting of, X is SO 2 ,
An element having an insulating film, which is a polymer having a repeating unit represented by CO, [Formula] [Formula] O, or CH2 . 3. Claim 1 provides that the aromatic polyetherimide polymer has the formula () [However, in the formula, R is metaphenylene, paraphenylene, [formula] [formula] [formula] and [formula] [formula] (however, Z is SO 2 , CO, [formula] [formula] O, or CH 2 An element having an insulating film , characterized in that it is a polymer having a repeating unit selected from the group consisting of 4 Claims 1, 2, or 3
2. The element having an insulating film according to item 1, wherein the aromatic polyetherimide polymer layer has a thickness of 1 to 300 μm. 5. An element having an insulating film according to claim 1, 2, 3, or 4, wherein the insulating film coats a surface of a semiconductor element. 6. An element having an insulating film according to claim 5, wherein the semiconductor element is a memory, and the aromatic polyetherimide polymer layer has a thickness of 30 to 100 μm. 7. An element having an insulating film according to claim 1, 2, 3, or 4, wherein the insulating film is an alignment film of a liquid crystal display element.
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