JPH0250201A - Process control device - Google Patents

Process control device

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Publication number
JPH0250201A
JPH0250201A JP20052588A JP20052588A JPH0250201A JP H0250201 A JPH0250201 A JP H0250201A JP 20052588 A JP20052588 A JP 20052588A JP 20052588 A JP20052588 A JP 20052588A JP H0250201 A JPH0250201 A JP H0250201A
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JP
Japan
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rsv
smith method
cmv
value
cpv
Prior art date
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Pending
Application number
JP20052588A
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Japanese (ja)
Inventor
Kenzo Yonezawa
憲造 米沢
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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Publication of JPH0250201A publication Critical patent/JPH0250201A/en
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Abstract

PURPOSE:To compensate a vain time, to improve control responsibility and to prevent over shoot or under shoot by specifying command timing to output over shoot prevention operation variable and using the determined manipulated variable. CONSTITUTION:In regard to a process that the relation of 'vain time + primary delay' is approximately obtained between physical variable CPV of a control subject and manipulated variable CMV, a Smith method process model part device 2 calculates an estimating value Kpm of primary delay gain for the process from the sampling data of the process in advance. A means 6 is provided to temporarily change the manipulated variable CMV to CMV=(RSV-DELTAT)/Kpm just after the sum of the physical variable CPV and an output CSM of the Smith method process model part device 2 arrives at a value, for which prescribed quantity DELTAT to be determined in advance is subtracted from a setting value RSV, in case that the setting value RSV is changed. Thus, while a control characteristic is bastened, setting can be speedily executed by simple arithmetic contents without generating the over shoot or under shoot.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は、近似的に「むだ時間+1次遅れ」の関係を有
するプロセスに対して、あるいは、近似的に「むだ時間
+積分」の関係を有するプロセスにおいてオーバーシュ
ートあるいはアンダーシュートの防止手段を設けたプロ
セス制御装置に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Object of the Invention] (Industrial Application Field) The present invention relates to a process having an approximate relationship of "dead time + first-order delay" or The present invention relates to a process control device provided with means for preventing overshoot or undershoot in a process having a relationship of "+integral".

(従来の技術) プラントプロセスの自動制御の主目的の一つは、設定値
の変更に対して制御:l(物理量)をできるだけ早く追
従させ、設定値に近付いたならばオーバーシュートやア
ンダーシュートを生ずることなく、速やかに設定値に整
定させることである。特に、例えば、機械加工を行うた
めに前工程において材料加熱を制御する場合、温度のオ
ーバーシュートが起こると最終製品の品質を落としてし
まったり、不良品にしてしまったりすることになる。
(Prior art) One of the main purposes of automatic control of plant processes is to control changes in set values: to follow l (physical quantity) as quickly as possible, and to prevent overshoots and undershoots when approaching the set value. The goal is to quickly settle to the set value without causing any problems. Particularly, for example, when material heating is controlled in a pre-process for machining, if temperature overshoot occurs, the quality of the final product will deteriorate or the product will be defective.

従来、単純な1次遅れ系でも、制御の応答性を高めるこ
とと制御の行き過ぎを無くすことに対する2つの要求は
互いに矛盾する要素を持っている。
Conventionally, even in a simple first-order lag system, the two demands of increasing control responsiveness and eliminating overcontrol have contradictory elements.

このことは、全くのたとえ話であるが、自動車レースに
おいて断崖絶壁の手前ぎりぎりにゴールラインが引かれ
ている場合、早くゴールラインに到達しなければならな
いにもかかわらず、少しでもラインオーバーしてしまう
と絶壁から転落してしまうために、だいぶ手前からブレ
ーキをかけて車のスピードを落とさざるを得ない、とい
う事情に似ている。
This is just an analogy, but in a car race, if the finish line is drawn just before a precipice, you must reach the finish line as quickly as possible, but if you cross the line even a little. It's similar to a situation where you have to apply the brakes far in front of you to slow down the car because you might fall off a cliff.

このような制御性の問題を考慮して、近似的に1次遅れ
の関係を有するプロセスにおいては、単純な演算内容で
、制御特性のスピードを落とすことなく、オーバーシュ
ートやアンダーシュートを生ずることなく、速やかに整
定するプロセス制御装置が提案されている(特公昭62
−13683号公報参照)。
Taking these controllability issues into consideration, in processes that have an approximately first-order lag relationship, it is possible to perform simple calculations without slowing down the control characteristics or causing overshoot or undershoot. , a process control device that quickly stabilizes has been proposed (Japanese Patent Publication No. 62
(Refer to Publication No.-13683).

近似的に1次遅れの関係を有するプロセスは、−々例を
挙げるまでもなく一般的に知られていることである。ま
た−次遅れをいくつか直並列に組合わせたプロセスを考
えれば、その範囲は非常に広くなる。後者の場合であっ
ても、1次遅れ系ごとに分離して制御ループを組むこと
の可能なシステムであれば、前述の公知技術を個々のル
ープごとに適用することも可能である。
Processes having approximately a first-order lag relationship are generally known, without giving any examples. Furthermore, if we consider a process in which several -order delays are combined in series and parallel, the range becomes extremely wide. Even in the latter case, the above-mentioned known technique can be applied to each loop as long as the system is capable of forming separate control loops for each first-order delay system.

しかし、1次遅れ以外にプロセス特性の重要な要素の中
には、物質やエネルギーの伝搬速度が有限であるために
生じる「むだ時間要素」というものがあり、このむだ時
間が大きいプロセスに対しては前述の公知技術を適用す
ることができないという問題があった。
However, in addition to first-order delay, an important element of process characteristics is the "dead time element" that occurs due to the finite propagation speed of matter and energy. However, there was a problem in that the above-mentioned known technology could not be applied.

通常、近似的に1次遅れ系のプロセスであっても、そこ
にはむだ時間要素も多少は含まれているが、むだ時間の
長さが1次遅れの時定数に比べて非常に小さい場合は無
視することができる。ところが、むだ時間の長さが1次
遅れの時定数と同じ程度かそれよりも長いプロセスにお
いては、制御量(物理量)が整定するまでに時間がかか
るばかりでなく、通常のPID制御だけでは、操作量を
変えても、むだ時間が経過するまで制御量が全く変化し
ないため、操作量と制御量の位相がずれてしまい、振動
を起こすことが多い。しかるに制御器のPIDパラメー
タの調整方法は非常に難しい。
Normally, even if the process is approximately a first-order lag system, it includes some dead time elements, but if the length of the dead time is very small compared to the time constant of the first-order lag. can be ignored. However, in processes where the length of the dead time is the same as or longer than the first-order lag time constant, not only does it take time for the controlled variable (physical quantity) to settle, but normal PID control alone Even if the manipulated variable is changed, the controlled variable does not change at all until the dead time has elapsed, which often causes a phase shift between the manipulated variable and the controlled variable, causing vibration. However, adjusting the PID parameters of the controller is extremely difficult.

そのため、従来種々のむだ時間補償方法が考え出され応
用されている。例えば、スミス法や、サンプルPI法な
どがそれである。
Therefore, various dead time compensation methods have been devised and applied in the past. Examples include the Smith method and the sample PI method.

一般に通常のPID制御では、十分な制御特性を得るこ
とができない、プロセスが近似的に「むだ時間+1次遅
れ」の関係を有する例として、鉄鋼プラントの連続式亜
鉛メツキ装置における板温度制御がある(第7図参照)
In general, normal PID control cannot obtain sufficient control characteristics, and an example of a process in which the relationship is approximately "dead time + first-order lag" is plate temperature control in continuous galvanizing equipment in a steel plant. (See Figure 7)
.

第7図の設備は亜鉛メツキ用冷延コイルや熱延薄板コイ
ルなどを材料として連続的にこれに熱漬亜鉛メツキを施
し、例えば自動車の車体用として用いられる亜鉛鉄板や
亜鉛鋼板を製造する設備である。処理されるべき鋼板1
5は一定速度で移送中に予熱炉17での予熱、無酸化加
熱炉18での加熱、還元炉19での還元の各工程が連続
的に施され、最後に亜鉛メツキ液を通過させてメツキが
行われる。なお、予熱炉17には煙道16が付設されて
いる。無酸化加熱炉18および還元炉19の出口でそれ
ぞれ放射温度計Ta、Tbにより鋼板温度を測定し、無
酸化加熱炉18に設けられているバーナ20による燃焼
制御により所定の出口板温を得る。しかし、無酸化加熱
炉18の出口の温度計Taによる温度測定は、ガス雰囲
気が悪いため信頼度が極めて低く、通常は還元炉19の
出口の温度計Tbによる温度測定によって無酸化加熱炉
18の燃焼フィードバック制御を行っている。
The equipment shown in Figure 7 is an equipment that continuously applies hot-dip galvanizing to materials such as cold-rolled galvanized coils and hot-rolled thin sheet coils to produce galvanized iron sheets and galvanized steel sheets used for automobile bodies, for example. It is. Steel plate to be processed 1
5, while being transferred at a constant speed, the steps of preheating in a preheating furnace 17, heating in a non-oxidizing heating furnace 18, and reduction in a reduction furnace 19 are performed continuously, and finally, the galvanizing liquid is passed through and plated. will be held. Note that a flue 16 is attached to the preheating furnace 17. The steel sheet temperature is measured by radiation thermometers Ta and Tb at the exits of the non-oxidizing heating furnace 18 and the reducing furnace 19, respectively, and a predetermined exit sheet temperature is obtained by combustion control by the burner 20 provided in the non-oxidizing heating furnace 18. However, temperature measurement using the thermometer Ta at the exit of the non-oxidizing heating furnace 18 has extremely low reliability due to the poor gas atmosphere. Combustion feedback control is performed.

このため、無酸化加熱炉18と温度計Taの設置点との
間の鋼板移送時間によるむだ時間が大きく、通常のPI
D制御では十分な制御性能を期待するのは無理である。
For this reason, the dead time due to the steel plate transfer time between the non-oxidation heating furnace 18 and the installation point of the thermometer Ta is large, and the normal PI
It is impossible to expect sufficient control performance with D control.

ましてや、設定値のステップ状変化やランプ状変化に対
して、できるかぎり板温が速やかに追従し、かつ制御の
行き過ぎを無くすことは困難である。しかし、板温制御
の行き過ぎは最終製品の品質保証のために厳しく押えな
ければならない。なお、無酸化加熱炉燃焼バーナ20か
らその付近の板温度までの関係は一次遅れと考えてよい
Furthermore, it is difficult to cause the plate temperature to follow step changes or ramp changes in the set value as quickly as possible and to prevent excessive control. However, excessive plate temperature control must be strictly controlled to ensure the quality of the final product. Note that the relationship from the non-oxidizing heating furnace combustion burner 20 to the plate temperature in its vicinity may be considered to be a first-order lag.

次に上記のようなむだ時間の長いプロセスに対して一般
的によく応用されるむだ時間補償のためのスミス法につ
いて説明する。
Next, the Smith method for dead time compensation, which is commonly applied to processes with long dead times as described above, will be explained.

第8図は、スミス法による制御システムの一般的な構成
のブロック図である。主制御器(Gc)1は通常のPI
D制御装置であって、スミス法プロセスモデル部装置2
と共に制御ブロックを構成している。対象実プロセス3
を表すブロック中のcpは1次遅れであってもよいし、
2次遅れなどの高次遅れ系であってもよい。第8図の制
御システムにおける設定値RSVと物理量CPVとの比
ここでもし、スミス法プロセスモデル部装fi2および
対象実プロセス3のゲインG、、G、およびむだ時間り
、、、L、vに関してスミスの条件、G  −G   
           ・・・ (2)pm    p L   −L               ・・・ 
(3)pi     pv が成立すれば、(1)式は次のように変形することがで
きる。
FIG. 8 is a block diagram of a general configuration of a control system using the Smith method. Main controller (Gc) 1 is a normal PI
D control device, which includes Smith method process model unit device 2
Together with this, they constitute a control block. Target real process 3
cp in the block representing may be a first-order lag,
A high-order delay system such as a second-order delay may be used. The ratio between the set value RSV and the physical quantity CPV in the control system shown in FIG. Smith's condition, G-G
... (2) pm p L -L ...
(3) If pi pv holds, equation (1) can be transformed as follows.

したがって、第8図の制御システムは等価的に第9図の
ように表すことができ、むだ時間要素L  −S e   pv     をフィードバックループの外に
出すことができる。
Therefore, the control system of FIG. 8 can be equivalently expressed as shown in FIG. 9, and the dead time element L − S e pv can be taken out of the feedback loop.

以上のように、近似的に(2)、  (3)式が成立し
ていれば、主制御器1のPID制御装置はむだ時間が無
いときのプロセス制御と同様なパラメータによって、同
様に安定した制御特性を得ることができることになる。
As described above, if equations (2) and (3) approximately hold, the PID control device of the main controller 1 can be similarly stabilized using the same parameters as process control when there is no dead time. This means that control characteristics can be obtained.

もちろん、真の物理量(制御ff1)CPVが第9図の
仮想物理jlPvMよりむだ時間Lpv分だけは遅れる
ことになるが、これはやむを得ないことである。
Of course, the true physical quantity (control ff1) CPV will be delayed by the dead time Lpv from the virtual physical jlPvM in FIG. 9, but this is unavoidable.

なお、実プロセスのパラメータを同定して高精度に求め
、プロセスモデル部装置2に設定することは困難な場合
が多いが、近似的に(2)式および(3)式が成立して
いれば、所望の結果が得られることは、文献、第20回
計測自動制御学会・学術講演会(昭和56年7月)の予
稿集9.331(米沢、・加熱)や、その他の文献に述
べられているところである。
Note that it is often difficult to identify the parameters of the actual process, obtain them with high precision, and set them in the process model unit device 2, but if equations (2) and (3) approximately hold true, then , it is stated in literature, Proceedings of the 20th Society of Instrument and Control Engineers Academic Conference (July 1982) (Yonezawa, Heating), and other literature that the desired results can be obtained. This is where I am.

(発明が解決しようとする課題) すでに述べたように、単純な演算内容で応答速度を落と
すことなく、オーバーシュートやアンダ−シュートを防
止し、速やかに整定することの可能な装置がすでに知ら
れているが、この公知の制御システムの適用範囲は近似
的に1次遅れの関係を有するプロセスに限定され、プロ
セス特性の他の重要な要素であるむだ時間を含むプロセ
スに対しては適用することができない。
(Problems to be Solved by the Invention) As already mentioned, there are already known devices that can prevent overshoots and undershoots and quickly settle without reducing response speed using simple calculations. However, the scope of application of this known control system is limited to processes that have an approximately first-order lag relationship, and cannot be applied to processes that include dead time, which is another important element of process characteristics. I can't.

したがって本発明は、近似的に「むだ時間+1次遅れ」
の関係を有するプロセスに対して、あるいは近似的に「
むだ時間+積分」の関係を有するプロセスに対して、制
御応答特性を速めたまま、単純な演算内容でオーバーシ
ュートやアンダーシュートを防止し、速やかに整定させ
ることの可能なプロセス制御装置を提供することを目的
とする。
Therefore, in the present invention, approximately "dead time + first-order delay"
For processes that have the relationship ``
To provide a process control device capable of preventing overshoot and undershoot and quickly settling a process having a relationship of "dead time + integral" with simple calculation contents while speeding up control response characteristics. The purpose is to

〔発明の構成〕[Structure of the invention]

(課題を解決するための手段) 上記目的を達成するために本発明は、制御対象の物理f
iCPVおよび操作量CMVが近似的に「むだ時間+1
次遅れ」の関係を有するプロセスに対して、物理fiC
PVが設定値RSVに一致するように主制御器およびス
ミス法プロセスモデル部装置により算出された操作量に
基づき制御を施すプロセス制御装置において、スミス法
プロセスモデル部装置が予めプロセスのサンプリングデ
ータからプロセスの1次遅れゲインの推定値Kp11を
算出すると共に、設定値RSVの変更に際して物理量C
PVとスミス法プロセスモデル部装置20出力CSMと
の和が、設定値RSVから予め定められた所定値ΔTを
減算した値に達した直後の操作量CMVを、 CMV′≒(RSV−ΔT) /Kpra−(5)に−
時的に変更する手段を設けたことを特徴とする。
(Means for Solving the Problem) In order to achieve the above object, the present invention provides a physical f
iCPV and manipulated variable CMV are approximately “dead time +1
The physical fiC
In a process control device that performs control based on the manipulated variable calculated by a main controller and a Smith method process model unit so that PV matches a set value RSV, the Smith method process model unit performs process control based on process sampling data in advance. In addition to calculating the estimated value Kp11 of the first-order lag gain, when changing the set value RSV, the physical quantity C
The manipulated variable CMV immediately after the sum of PV and the Smith method process model unit 20 output CSM reaches the value obtained by subtracting a predetermined value ΔT from the set value RSV is expressed as CMV'≒(RSV-ΔT) / Kpra-(5)-
It is characterized by providing a means for changing it from time to time.

さらに本発明は、制御対象の物理量CPVおよび操作i
1cMVが近似的に「むだ時間+積分」の関係を有する
プロセスに対して、物理ff1cPVが設定値RSVに
一致するように主制御器およびスミス法プロセスモデル
部装置により算出された操作量に基づき制御を施すプロ
セス制御装置において、スミス法プロセスモデル部装置
が予めプロセスのサンプリングデータからプロセス積分
平衡定数の推定値ApHを算出すると共に、設定値RS
Vの変更に際して物理量CPVとスミス法プロセスモデ
ル部装置の出力CSMとの和が、設定値RSVから予め
定められた所定値ΔTを減算した値に達した直後の操作
量CMVを、CMV初Apmに一時的に変更する手段を
設けたことを特徴とする。
Furthermore, the present invention provides a physical quantity CPV of a controlled object and an operation i.
For a process in which 1cMV has an approximate relationship of "dead time + integral", control is performed based on the manipulated variable calculated by the main controller and the Smith method process model unit so that the physical ff1cPV matches the set value RSV. In a process control device that performs the
When changing V, the manipulated variable CMV immediately after the sum of the physical quantity CPV and the output CSM of the Smith method process model unit device reaches a value obtained by subtracting a predetermined value ΔT from the set value RSV is set to the first Apm of CMV. It is characterized by providing a means for temporarily changing it.

(作 用)・ 上記の制御装置において重要なことは、(5)式の値す
なわちオーバーシュート防止操作量を出力する指令タイ
ミングが、従来技術においては物理ff1cPVが設定
値−ΔTを横切った時点であるのに対して、本発明の場
合は、CPV+C8Mの値が設定値−ΔTを横切った時
点にする、という点である。そこで、CPV+CSMの
値をPVMとおき、スミス法の仮想物理量と呼ぶことに
する。
(Function) - What is important in the above control device is that in the conventional technology, the value of equation (5), that is, the command timing to output the overshoot prevention manipulated variable, is at the point when the physical ff1cPV crosses the set value -ΔT. In contrast, in the case of the present invention, the point is that the value of CPV+C8M crosses the set value -ΔT. Therefore, the value of CPV+CSM will be referred to as PVM and will be referred to as a virtual physical quantity of the Smith method.

このようにして決定される操作量を用いることによりむ
だ時間を補償し、制御応答性が良く、かつオーバーシュ
ー。トやアンダーシュートの無いプロセス制御装置を構
成することができる。
By using the manipulated variable determined in this way, dead time is compensated for, control responsiveness is good, and overshoot is achieved. It is possible to construct a process control device that is free from overshoots and undershoots.

(実施例) 以下に本発明の実施例を、図面を参照して説明する。(Example) Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

本発明は、設定値が増加していくときのオーバーシュー
ト防止と、設定値が減少していくときのアンダーシュー
ト防止の両方に対して適用可能であるが、ここでは、前
者の定値が増加していくときのオーバーシュート防止に
ついて詳述する。
The present invention is applicable to both overshoot prevention when the set value increases and undershoot prevention when the set value decreases. This section describes in detail how to prevent overshoot when moving.

第1図のプロセス制御装置は、制御対象である対象実プ
ロセス3の物理量CPVが設定値RSVに一致するよう
に自動制御する装置である。主制御器1、スミス法プロ
セスモデル部装置2および対象実プロセス3からなるシ
ステム部分は、第8図で説明したものと実質的に同一で
ある。本発明の制御装置においては、常時は対象実プロ
セス3に対し操作量CMVとして主制御器1の出力を導
くが、設定値RSVの変更に際して一時的にオーバーシ
ュート防止操作量演算装置5の出力を導くために主制御
器1の出力側に切換スイッチ6を設けている。物理ff
1cPVとスミス法プロセスモデル部装置2の出力C5
Mとの和PVM−CPV+CSMが、設定値R5Vから
予め定められた所定値ΔTを減算した値(RSV−ΔT
)に達したとき、オーバーシュート防止操作量出力指令
装置4がそれを検知して切換スイッチ6を図示とは反対
側に、すなわちオーバーシュート防止操作量演算装置5
の側に切換える。オーバーシュート防止操作量演算装置
5は、設定値RSV、予め定められたΔT1およびスミ
ス法プロセスモデル部装置2が予めプロセスのサンプリ
ングデータから推定したプロセスの1次遅れゲインの推
定値Kpr&に基づき(5)式に従って操作ficMV
を算出し出力する。
The process control device shown in FIG. 1 is a device that automatically controls the physical quantity CPV of the target real process 3 that is the control target so that it matches the set value RSV. The system portion consisting of the main controller 1, the Smith method process model unit 2, and the target actual process 3 is substantially the same as that described in FIG. In the control device of the present invention, the output of the main controller 1 is normally guided as the manipulated variable CMV to the target actual process 3, but when the set value RSV is changed, the output of the overshoot prevention manipulated variable calculation device 5 is temporarily guided. A changeover switch 6 is provided on the output side of the main controller 1 to guide the flow. physics ff
1cPV and Smith method process model unit device 2 output C5
The sum PVM-CPV+CSM with M is the value obtained by subtracting a predetermined value ΔT from the set value R5V (RSV-ΔT
), the overshoot prevention manipulated variable output command device 4 detects this and moves the changeover switch 6 to the side opposite to that shown, that is, the overshoot prevention manipulated variable calculation device 5.
Switch to the side. The overshoot prevention manipulated variable calculation device 5 calculates (5 )operate according to the formula ficMV
Calculate and output.

第1図の対象実プロセス3は、 に相当する「むだ時間+1次遅れ」のプロセス特性を持
っているものとする。したがってスミス法モデル部装置
2は、 の形をしている。また、Kp’ + ” pm *  
L pmはそれぞれ、 Kpn初Kpv           ・・・(8)T
pm幻Tpv           ・・・(9)Lp
aL:Lpv          −(10)であると
する。これらの値は予め対象実プロセス3の推定値とし
て与えておいてもよいし、また対象実プロセス3のデー
タから統計的に処理して、常に学習により補正していっ
てもよい。
It is assumed that the target real process 3 in FIG. 1 has a process characteristic of "dead time + first-order delay" corresponding to . Therefore, the Smith method model unit 2 has the form. Also, Kp' + "pm *
L pm is respectively Kpn first Kpv...(8)T
pm illusion Tpv...(9) Lp
Assume that aL:Lpv-(10). These values may be given in advance as estimated values for the target real process 3, or they may be statistically processed from the data of the target real process 3 and constantly corrected by learning.

さて、(8)〜(10)式の関係が成立している場合、
第1図の主制御器1、スミス法モデル部装置2、および
対象実プロセス3の関係は、スミス法の説明のところで
述べたように、等価的に第2図のブロック図のように表
すことができる。ここで第2図のスミス法における仮想
物理量PVM−CSM+CPV   ・ (11)と、
操作11cMVとの関係は、 PVM −(Kpa+/(1+TpIl−8))CMV
・・・ (12) となる。
Now, if the relationships of equations (8) to (10) hold,
As stated in the explanation of the Smith method, the relationship among the main controller 1, Smith method model unit 2, and target real process 3 in FIG. 1 can be equivalently expressed as in the block diagram in FIG. 2. Can be done. Here, the virtual physical quantity PVM-CSM+CPV (11) in the Smith method in Fig. 2,
The relationship with Operation 11cMV is: PVM − (Kpa + / (1 + TpIl-8)) CMV
... (12) becomes.

(12)式を原関数による数式表現で表すと、・・・(
13) となる。
Expressing equation (12) in a mathematical expression using an original function,...(
13) It becomes.

次に、設定値RSVが増加後一定になって、それに追従
してくるスミス法における仮想物理量PVM ((7)
式参照)が、設定値RSVの近くであるRSV−ΔTを
超えたときにオーバーシュートを防止し、かつ直ちに整
定させるために、(dpvM(t))/at耐+0−C
14)とする。なお、ここで「+0」というのは、0に
近い正の値を意味するものとする。(14)式を満たす
ために必要な操作量CMVの値は(13)式から次のよ
うにして求めればよい。
Next, the set value RSV increases and becomes constant, and the virtual physical quantity PVM in the Smith method follows it ((7)
(refer to the formula) exceeds RSV-ΔT, which is close to the set value RSV, in order to prevent overshoot and immediately stabilize, (dpvM(t))/at resistance +0-C
14). Note that "+0" here means a positive value close to 0. The value of the manipulated variable CMV required to satisfy equation (14) may be obtained from equation (13) as follows.

(dPVM(t))/dt−0−(15)PVM  (
t)−RSV−ΔT−(16)(15)、(16)式を
(13)式に代入すれば、 CMV−(RSV−ΔT)/Kpm ・・・ (17) ここで、(15)式左辺の値は完全な0ではなく、0に
近い正の値の方が望ましい。なぜなら、現在時刻tにお
けるスミス法仮想物理量PVMは設定値RSVよりもわ
ずかΔTだけ低いRSV−ΔTであるから、仮想物理量
PVMはもう少し上昇する必要があるからである。した
がって、(17)式からして、2〜3%加えた値を仮想
物理量PVM(t)がRSV−ΔTを横切った時のみの
切換スイッチ6を切換え、オーバーシュート防止操作量
演算装置5からの強制操作量出力値とする。以後はまた
切換スイッチ6を図示の状態に切換え通常のスミス法の
制御に戻す。
(dPVM(t))/dt-0-(15)PVM (
t)-RSV-ΔT-(16)(15), Substituting equation (16) into equation (13), CMV-(RSV-ΔT)/Kpm... (17) Here, equation (15) It is preferable that the value on the left side be a positive value close to 0, rather than a complete 0. This is because the Smith method virtual physical quantity PVM at the current time t is RSV-ΔT, which is slightly lower than the set value RSV by ΔT, so the virtual physical quantity PVM needs to rise a little more. Therefore, from equation (17), the changeover switch 6 is changed only when the virtual physical quantity PVM(t) crosses RSV-ΔT, and the value added by 2 to 3% is calculated from the overshoot prevention manipulated variable calculation device 5. This is the forced manipulated variable output value. Thereafter, the selector switch 6 is changed back to the state shown in the figure to return to normal Smith method control.

なお、操作量が主制御器1からオーバーシュート防止操
作量演算装置5に切り換わるときは、その値がステップ
状にジャンプする。そして、切換スイッチ6は直ちに主
制御器1側に戻るが、このとき操作量はオーバーシュー
ト防止操作量演算装置5の値から出発するようにしてお
けば、ショックレスに切り換えることができる。
Note that when the manipulated variable is switched from the main controller 1 to the overshoot prevention manipulated variable calculation device 5, the value jumps in steps. Then, the changeover switch 6 immediately returns to the main controller 1 side, but at this time, if the operation amount is set to start from the value of the overshoot prevention operation amount calculation device 5, switching can be performed without shock.

第4図は第1図の制御システムを適用した制御結果の一
例を示すものである。なお、データをとるに当り、対象
実プロセス3は、 スミス法プロセスモデル部装置2は、 で表されるものとした。また、ΔTは2%とし、縦軸は
%スケールを1730としたものであり、横軸は時間を
〔秒〕単位で表したものである。
FIG. 4 shows an example of control results obtained by applying the control system shown in FIG. 1. In addition, in collecting the data, the target actual process 3 is expressed as follows.The Smith method process model unit 2 is expressed as follows. Further, ΔT is 2%, the vertical axis has a % scale of 1730, and the horizontal axis represents time in [seconds].

主制御器1は次のPID制御装置で表されるものとした
The main controller 1 was assumed to be represented by the following PID control device.

なお、各パラメータは、 比例ゲイン CKP−3 積分時間   Ti−2(秒) 微分時間   Td−0(秒) であるとした。In addition, each parameter is Proportional gain CKP-3 Integral time Ti-2 (seconds) Differential time Td-0 (seconds) It was assumed that

第4図から分るように、物理量CPVは設定値RSVの
変更後の固定値に近付くまでスピードを落とすことなく
増加し、設定値に達する直前で傾きをほぼ+0にしてオ
ーバーシュートすることなく整定している。また、操作
量CMVは、第1図に示すオーバーシュート防止操作量
出力指令装置4、オーバーシュート防止操作量演算装置
5、および切換スイッチ6の作用により、それよりも約
3秒前に(17)式の値よりも少し大きめの値に強制的
に下げられている。このとき、仮想物理量PVMが設定
値−ΔTを横切ったことが分る。
As can be seen from Figure 4, the physical quantity CPV increases without slowing down until it approaches the fixed value after changing the set value RSV, and just before reaching the set value, the slope becomes almost +0 and settles without overshooting. are doing. In addition, the manipulated variable CMV is determined approximately 3 seconds earlier (17) by the actions of the overshoot prevention manipulated variable output command device 4, the overshoot prevention manipulated variable calculation device 5, and the changeover switch 6 shown in FIG. The value is forcibly lowered to a value slightly larger than the value of the expression. At this time, it can be seen that the virtual physical quantity PVM has crossed the set value -ΔT.

第5図はスミス法プロセスモデル部装置2のパラメータ
が同定の誤差により対象実プロセス3のパラメータより
多少ずれていても、本発明の装置の制御特性があまり変
わらないで、相当の効果を発揮することができることを
示したものである。
FIG. 5 shows that even if the parameters of the Smith method process model device 2 deviate somewhat from the parameters of the target actual process 3 due to identification errors, the control characteristics of the device of the present invention do not change much, and it exhibits a considerable effect. This shows that it is possible.

第4図の場合に対して、スミス法プロセスモデル部装置
2のみを次のように変更した。
In the case of FIG. 4, only the Smith method process model section device 2 was changed as follows.

すなわち、ここでは、対象実プロセス3の時定数が5秒
であるのに対して、スミス法プロセスモデル部装置2の
それは4.8秒であり、また、対象実プロセス3のむだ
時間が3秒であるのに対して、スミス法プロセスモデル
部装置2のそれは3゜2秒であるとした。
That is, here, the time constant of the target real process 3 is 5 seconds, while that of the Smith method process model unit device 2 is 4.8 seconds, and the dead time of the target real process 3 is 3 seconds. On the other hand, it is assumed that the time for the Smith method process model section device 2 is 3°2 seconds.

第6図は本発明の制御装置の利点を従来装置のものと比
較するために、第8図のスミス法だけで制御した結果を
示したものである。この場合のパラメータは、第4図の
場合と同一である。
FIG. 6 shows the results of control using only the Smith method of FIG. 8, in order to compare the advantages of the control device of the present invention with those of the conventional device. The parameters in this case are the same as in the case of FIG.

第6図の場合は、物理量CPVが設定値RSVの最大値
に第4図の場合と同じ速度で突っ込んでいるために、設
定値RSVよりも大きくオーバーシュートしてしまい、
さらに設定値RSVまで戻ってきて整定するまでに大分
時間がかかっている。
In the case of Fig. 6, since the physical quantity CPV reaches the maximum value of the set value RSV at the same speed as in the case of Fig. 4, it overshoots the set value RSV by a large amount.
Furthermore, it takes a considerable amount of time to return to the set value RSV and stabilize.

従来装置では、このオーバーシュートを防止するために
は、設定値RSVに物理量CPVが近付(大分手前から
PID制御の制御ゲインを落とすなどして、物理量CP
Vの増加スピードを鈍らす方法などを実施していた。す
なわち、どうしてもオーバーシュートを防止したい場合
は、制御性能の中で大切な応答スピードを犠牲にする必
要があったのである。
In conventional devices, in order to prevent this overshoot, the physical quantity CPV approaches the set value RSV (for example, by reducing the control gain of the PID control from a considerable distance before the physical quantity CPV approaches the set value RSV).
They implemented methods to slow down the speed at which V increases. In other words, if you really wanted to prevent overshoot, you had to sacrifice response speed, which is important in control performance.

(他の実施例) 以上述べた実施例においては、設定値が増加していくと
きの物理量のオーバーシュート防止制御について述べて
きたが、本発明は設定値が減少していくときの物理量の
アンダーシュート防止の場合にも適用できることは明ら
かである。
(Other Embodiments) In the embodiments described above, overshoot prevention control of physical quantities when the set value increases has been described, but the present invention also provides under-shoot prevention control of the physical quantity when the set value decreases. It is clear that it can also be applied in the case of shoot prevention.

また、設定値が上昇したり下降したりするプログラムパ
ターン制御に適用する場合にも、制御応答スピードを落
とすことなく、オーバーシュートやアンダーシュートを
防止した良好な制御を行うことができる。
Furthermore, even when applied to program pattern control in which the set value increases or decreases, it is possible to perform good control that prevents overshoot and undershoot without reducing control response speed.

さらに、対象実プロセスが近似的に「むだ時間+1次遅
れ」のものだけでなく、近似的に「むだ時間+積分」の
プロセスに対しても同様に適用することができる。この
ことについて以下に説明する。
Furthermore, the present invention can be applied not only to a process in which the target real process is approximately "dead time + first-order delay" but also to a process in which approximately "dead time + integral" is approximated. This will be explained below.

対象実プロセスが次の式を満たすものとする。It is assumed that the target real process satisfies the following formula.

ここで、Apvは定数であるが、本発明においてはこれ
を「プロセス積分平衡定数」と呼ぶことにする。このと
き、スミス法プロセスモデル部装置2は、 となる。ここで、Kpffl−Kpv、 Apm=Ap
v、  Lpm−Lpv  が成立していれば、第1図
の主制御器1、スミス法プロセスモデル部装置2、対象
実プロセス3の部分は等価的に第3図に示すように表す
ことができる。操作量CMVと仮想物理量PVMとの関
係を原関数による数式表現で表すと、となる。かくして
、「むだ時間+1次遅れ」の場合と同様に、スミス法に
おける仮想物理量PVMが設定値RSVの近くであるR
SV−ΔTを横切ったときにオーバーシュートを防止し
、かつ直ちに整定させるため、 dPVM (t)/d t”7+0 とするには、(22)式から操作fficMVを一時的
にApllより少し大きめの値にすればよい。
Here, Apv is a constant, but in the present invention, it will be referred to as a "process integral equilibrium constant." At this time, the Smith method process model unit device 2 is as follows. Here, Kpffl-Kpv, Apm=Ap
v, Lpm-Lpv holds, the main controller 1, Smith method process model unit 2, and target real process 3 in FIG. 1 can be equivalently expressed as shown in FIG. 3. . The relationship between the manipulated variable CMV and the virtual physical quantity PVM is expressed in a mathematical expression using an original function as follows. Thus, as in the case of "dead time + first-order delay", when the virtual physical quantity PVM in the Smith method is close to the set value RSV, R
In order to prevent overshoot and immediately settle when SV-ΔT is crossed, to set dPVM (t)/d t”7+0, temporarily set the operation fficMV to be slightly larger than Apll from equation (22). Just make it a value.

この方式を採用した装置の効果は、すでに述べた「むだ
時間+1次遅れ」プロセスに適用した場合と同様である
ことは明らかである。
It is clear that the effect of the device adopting this method is similar to that when applied to the "dead time + first-order delay" process described above.

以上述べたように、本発明によれば、「1次遅れ」ある
いは「むだ時間+1次遅れ」あるいは「むだ時間+積分
」の関係を有するどのプロセスに対しても、制御特性を
速めたまま、単純な演算内容で、オーバーシュートやア
ンダーシュートを起こすことなく、速やかに整定するこ
とができる。
As described above, according to the present invention, for any process having a relationship of "first-order lag", "dead time + first-order lag", or "dead time + integral", the control characteristics can be speeded up. With simple calculations, it is possible to quickly settle without causing overshoot or undershoot.

本発明によれば、スミス法を実施した制御装置の適用範
囲を飛躍的に拡大することができ、さらに、上記の3つ
のプロセス特性がいくつか直並列に組合わされたプロセ
スに対しても、個々のプロセスごとに分離して制御ルー
プを入れることができる場合には本発明を適用すること
が可能である。
According to the present invention, it is possible to dramatically expand the scope of application of a control device implementing the Smith method, and furthermore, it is possible to dramatically expand the scope of application of a control device that implements the Smith method. The present invention can be applied if a control loop can be inserted separately for each process.

さらにまた、分離不能な高次遅れ系であっても、近似的
にこの高次遅れ系を「むだ時間+゛1次遅れ」という形
に変形して取扱うことが有効な場合が多くあることは、
よく知られているところである。
Furthermore, even if it is an inseparable high-order delay system, it is often effective to approximately transform the high-order delay system into the form of "dead time + first-order delay". ,
It is a well-known place.

したがって、このような場合にも本発明を適用すること
ができる。
Therefore, the present invention can be applied to such cases as well.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上詳述したように本発明によれば、「1次遅れ」ある
いは「むだ時間+1次遅れ」あるいは「むだ時間+積分
」の関係を有するどのプロセスに対しても、制御特性を
速めたまま、単純な演算内容でオーバーシュートやアン
ダーシュートを起こすことなく、速やかに整定すること
ができる。
As detailed above, according to the present invention, for any process having a relationship of "first-order lag", "dead time + first-order lag", or "dead time + integral", the control characteristics can be speeded up. With simple calculations, it is possible to quickly settle without causing overshoot or undershoot.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例を示すブロック図、第2図は
第1図の装置において対象実プロセスが「むだ時間中−
次遅れ」であってスミスの条件を満足する場合の要部の
等価ブロック図、第3図は第1図の装置において対象実
プロセスが「むだ時間+積分」であってスミスの条件を
満足する場合の要部の等価ブロック図、第4図は「むだ
時間中−次遅れ」の関係を有する対象実プロセスに適用
した場合の本発明の制御装置の制御態様を示す特性図、
第5図は第4図の場合においてスミス法プロセスモデル
部装置のパラメータを対象実パラメータに対して多少ず
らしたまま適用したときの制御態様を示す特性図、第6
図は第4図の場合と同一の対象実プロセスに対して従来
のスミス法のみで制御した場合の制御態様を示す特性図
、第7図はプロセス特性が「むだ時間中−次遅れ」の関
係を有する対象プロセスの一例として連続式亜鉛メツキ
装置を示す概念図、第8図は公知のスミス法むだ時間補
償制御装置のブロック図、第9図は第8図においてスミ
スの条件を満たす場合の等価ブロック図である。 1・・・主制御器、2・・・スミス法プロセスモデル部
装置、3・・・対象実プロセス、4・・・オーバーシュ
ート防止操作量出力指令装置、5・・・オーバーシュー
ト防止操作量演算装置、6・・・スイッチ、7・・・プ
ロセス制御装置、RSV・・・設定値、CMV・・・操
作量、CPV・・・物理量、Kpv・・・1次遅れゲイ
ン、Kpm・・・1次遅れゲイン推定値、ApIll・
・・プロセス積分平衡定数推定値。
FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a block diagram showing an embodiment of the present invention.
Fig. 3 is an equivalent block diagram of the main part when the target real process is "dead time + integral" and satisfies Smith's condition in the device shown in Fig. 1. FIG. 4 is a characteristic diagram showing a control mode of the control device of the present invention when applied to a target real process having a relationship of “dead time - next delay”;
Fig. 5 is a characteristic diagram showing the control mode when the parameters of the Smith method process model unit device are slightly shifted from the target actual parameters in the case of Fig. 4;
The figure is a characteristic diagram showing the control mode when the same target real process as in Figure 4 is controlled only by the conventional Smith method, and Figure 7 is a relationship between the process characteristics of "during dead time - next delay" FIG. 8 is a block diagram of a known Smith method dead time compensation control device, and FIG. 9 is an equivalent diagram of FIG. 8 when the Smith condition is satisfied. It is a block diagram. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Main controller, 2... Smith method process model unit, 3... Target actual process, 4... Overshoot prevention manipulated variable output command device, 5... Overshoot prevention manipulated variable calculation Device, 6...Switch, 7...Process control device, RSV...Set value, CMV...Manipulated amount, CPV...Physical quantity, Kpv...First-order lag gain, Kpm...1 Next lag gain estimate, ApIll・
...Process integral equilibrium constant estimate.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、制御対象の物理量CPVおよび操作量 CMVが近似的に「むだ時間+1次遅れ」の関係を有す
るプロセスに対して、前記物理量CPVが設定値RSV
に一致するように主制御器およびスミス法プロセスモデ
ル部装置により算出された操作量に基づき制御を行うプ
ロセス制御装置において、 前記スミス法プロセスモデル部装置が予めプロセスのサ
ンプリングデータからプロセスの1次遅れゲインの推定
値Kpmを算出すると共に、前記設定値RSVの変更に
際して前記物理量CPVおよび前記スミス法プロセスモ
デル部装置の出力CSMとの和が、前記設定値RSVか
ら予め定められた所定値ΔTを減算した値に達した直後
の操作量CMVを、 CMV≒(RSV−ΔT)/Kpm に一時的に変更する手段を設けたことを特徴とするプロ
セス制御装置。 2、スミス法プロセスモデル部装置がプロセスの1次遅
れゲインの推定値Kpmを算出する代わりに、スミス法
プロセスモデル部装置に予めプロセスの1次遅れゲイン
の推定値Kpmを与えておくことを特徴とする請求項1
記載のプロセス制御装置。 3、制御対象の物理量CPVおよび操作量 CMVが近似的に「むだ時間+積分」の関係を有するプ
ロセスに対して、前記物理量CPVが設定値RSVに一
致するように主制御器およびスミス法プロセスモデル部
装置によって算出された操作量に基づき制御を行うプロ
セス制御装置において、前記スミス法プロセスモデル部
装置が予めプロセスのサンプリングデータからプロセス
積分平衡定数の推定値Apmを算出すると共に、前記設
定値RSVの変更に際して前記物理量CPVと前記スミ
ス法プロセスモデル部装置の出力CSMとの和が、前記
設定値RSVから予め定められた所定値ΔTを減算した
値に達した直後の前記操作量CMVを、CMV≒Apm
に一時的に変更する手段を設けたことを特徴とするプロ
セス制御装置。 4、スミス法プロセスモデル部装置がプロセスの積分平
衡定数の推定値Apmを算出する代わりに、スミス法プ
ロセスモデル部装置に予めプロセスの積分平衡定数の推
定値Apmを与えておくことを特徴とする請求項3記載
のプロセス制御装置。
[Claims] 1. For a process in which the physical quantity CPV to be controlled and the manipulated variable CMV have an approximate relationship of "dead time + first-order lag", the physical quantity CPV is equal to the set value RSV.
In a process control device that performs control based on the manipulated variables calculated by a main controller and a Smith method process model unit so as to match the process data, the Smith method process model unit determines the first-order lag of the process from sampling data of the process in advance. While calculating the estimated value Kpm of the gain, when changing the set value RSV, the sum of the physical quantity CPV and the output CSM of the Smith method process model unit device is calculated by subtracting a predetermined value ΔT from the set value RSV. 1. A process control device comprising: a means for temporarily changing a manipulated variable CMV immediately after reaching a value as follows: CMV≈(RSV-ΔT)/Kpm. 2. Instead of the Smith method process model unit calculating the estimated value Kpm of the first order lag gain of the process, the estimated value Kpm of the first order lag gain of the process is given to the Smith method process model unit in advance. Claim 1
Process control equipment as described. 3. For a process in which the physical quantity CPV to be controlled and the manipulated variable CMV have an approximate relationship of "dead time + integral", the main controller and Smith method process model are set so that the physical quantity CPV matches the set value RSV. In the process control device that performs control based on the manipulated variable calculated by the unit, the Smith method process model unit calculates the estimated value Apm of the process integral equilibrium constant from the sampling data of the process in advance, and also calculates the estimated value Apm of the set value RSV. At the time of change, the manipulated variable CMV immediately after the sum of the physical quantity CPV and the output CSM of the Smith method process model unit device reaches a value obtained by subtracting a predetermined value ΔT from the set value RSV is set as CMV≒ Apm
1. A process control device characterized by being provided with a means for temporarily changing. 4. Instead of the Smith method process model unit calculating the estimated value Apm of the integral equilibrium constant of the process, the Smith method process model unit is provided with the estimated value Apm of the integral equilibrium constant of the process in advance. The process control device according to claim 3.
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