JPH0244055B2 - - Google Patents
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- JPH0244055B2 JPH0244055B2 JP57015916A JP1591682A JPH0244055B2 JP H0244055 B2 JPH0244055 B2 JP H0244055B2 JP 57015916 A JP57015916 A JP 57015916A JP 1591682 A JP1591682 A JP 1591682A JP H0244055 B2 JPH0244055 B2 JP H0244055B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、グラビア製版における腐食特性に影
響するレジストの性状、特に腐食液の浸透特性を
容易にかつ精度よく把握するための検査液に関す
る。 コンベンシヨナルグラビア印刷法では、版材が
通常、銅で構成されており、この銅版材に画像の
階調に応じて深度の異なる多数の凹状セルからな
る画像を形成して印刷用の版としている。また、
版材に凹状セルからなる画像を形成するために
は、予め潜像を形成したゼラチンを主成分として
感光膜からなるカーボンチツシユを版材表面に転
写し、現像により膜厚の異なるレリーフレジスト
画像とした後、塩化第２鉄を主成分とする腐食液
をレジストを通して版材面に供給し、レジスト画
像に対応した腐食セル画像を得る方法が採られて
いる。すなわち、階調に応じて膜厚の異なるレジ
ストを通して腐食液を作用させると、その膜厚に
応じて腐食液の版材面への到達時間が変化し、そ
の結果、版材の腐食時間が変化することとなつて
階調に応じた深度の凹状セルが版材面に形成され
ることとなる。 しかしながら、レジストを腐食液が浸透する時
間は、レジスト膜厚だけで一義的に決定されるも
のではない。一般にレジストの主成分として用い
られるゼラチンは、天然の硬タンパク質の一種で
あるコラーゲンを、そのペプチド鎖を加水分解等
により開裂させることにより得られるものである
が原料、加水分解あるいは精製の条件により物質
的にも多様なものとなり得、これが腐食液の浸透
性に大きな影響を持つ。またレジストを通しての
腐食液の浸透性は、環境条件等によつて大きく変
化する含有水分量、温度、その他の因子によつて
も影響される。 したがつて、レジストを通して行うグラビア版
材の腐食条件を一律に決定することは極めて困難
であり、従来は、実際に腐食を行いながら、版面
の腐食状況を判断しつつ、腐食液の濃度、ロール
を用いて行う腐食液の供給速度（シリンダー状と
した版材の回転速度）、腐食時間などを制御する
ことにより良好な印刷版を得る方法が採られてき
た。しかしながら、このような腐食状況の判定な
らびにこれに基づく腐食条件の制御は、熟練の技
師が細心の注意を払つてはじめて可能となる程度
に困難なものである。また、腐食状況を電磁気的
に（渦電流検出法により）判定して腐食条件を制
御するための装置も既に開発されているが、この
ような装置は、極めて高価なものとなり、なお且
つ本質的にフイードバツク制御となるため条件制
御の追随性が必ずしも充分とは云えない状況にあ
る。 上述した事情に鑑み、本発明者らは、効果的な
腐食条件制御法を求めて鋭意研究した結果、既に
一つの腐食法を開発し、提案している（昭和56年
12月４日付提出の特許願；発明の名称：グラビア
製版における一液型腐食法）。この腐食法によれ
ば、予め検査液を用いてそれがレジストを通して
版材面に到達する時間（検査液浸透時間）を測定
し、これを主要なパラメーターとして各種腐食デ
ータとの相関を求め、その相関をもとに操作条件
である版材シリンダー回転速度および腐食時間を
実際に腐食操作を行う前に設定（プリセツト）す
る一液腐食法が採用されている。この方法は、検
査液のレジストへの浸透特性（特に検査液浸透時
間）を把握することにより、レジストに対する腐
食液の浸透特性を把握し、レジストを通しての腐
食液の浸透を主要な過程とする腐食工程自体を制
御するものと云えよう。この方法によれば予め多
数のテスト用階調スケールを有するレジストを用
いて、検査液浸透時間対腐食液浸透時間の関係デ
ータ、各種腐食時間および各種版シリンダ回転速
度の組合せにおける検査液浸透時間対セル腐食量
の関係データを求めておく必要があるが、印刷に
供すべき版材シリンダのレジスト自体について
は、検査液浸透時間対セルの設定腐食量（階調ス
ケールより経験的に求められる）の関係データを
検査液を用いて求めることにより、非破壊的に浸
透特性を求め、直ちに腐食条件が設定される。こ
の方法では検査液浸透時間が、レジストの膜厚、
含水量、環境条件等をも含めレジストの浸透特性
を抱括的に示す特性値となつていることが注目さ
れよう。 本発明は、必ずしもこれに限られるものではな
いが上述した腐食法に必要とされるデータを与え
るに適した検査液を与えることを目的とするもの
である。 上述したような目的で使用する検査液として
は、まずレジストに対する浸透時間が作業性に適
した適度な時間で腐食液のそれと良好な相関を示
すものでなければならない。良好な相関性を示す
範囲で腐食液よりも大なる浸透性を有することが
好ましい。この意味では、腐食液自体を希釈して
使用することも考えられないではない。事実、２
倍程度の希釈液は、良好な相関を示すが、腐食性
の強い液体を用いることは、版材面に腐食跡が残
り印刷汚れの原因となり不都合である。検査液の
レジストを通しての浸透時間を測定するために
は、浸透の終了が電気的に判別できるように、検
査液が導電性であることが好ましい。また検査液
は、濃度変化が起つても浸透時間の変化が比較的
少なく、経時的にも安定しているものが好まし
い。 本発明のグラビア製版用レジストの検査液は、
上述の性質を満すものであり、より詳しくは、非
腐食性浸透コントロール剤および電解質を水に溶
解してなることを特徴とするものである。非腐食
性浸透コントロール剤は好ましくは多価アルコー
ルから選ばれる。 以下、本発明のグラビア製版用レジストの検査
液を更に詳細に説明する。以下の記載において、
「％」および「部」は特に断らない限り重量基準
とする。 本発明で用いる非腐食性浸透コントロール剤と
しては多価アルコールが特に好ましく用いられ
る。多価アルコールの好ましい具体例としてはエ
チレングリコール、ジエチレングリコールトリエ
チレングリコール、ポリエチレングリコール、グ
リセリン等が挙げられる。分子量の増大につれて
浸透時間が長くなる傾向にあり、また平均分子量
200位の多価アルコールを用いた場合に浸透時間
が最大となる傾向にある。作業性ならびに検査精
度を考慮して適宜選択することができる。これら
多価アルコールは、検査液中に20〜80％、特に40
〜70％の濃度で含まれることが好ましい。20％未
満では浸透が早すぎて、レジストの比較的薄い部
分では安定かつ精確な検査ができなくなる。一方
80％を越えると、浸透が遅すぎて速やかな検査が
できなくなる。 浸透速度は、一般に、使用する腐食液の約10倍
位、浸透時間が数秒から１分程度であることが好
ましい。又、滴下時にレジストの他の部分へ広が
つていない様に適度な粘性、表面張力を考慮する
工夫も必要である。 本発明の検査液は、電気抵抗あるいは短絡によ
り浸透時間（すなわち、検査液の版基材への到達
時間）を測定するために電解質を加えて導電性と
してある。使用する電解質としては、腐食性の弱
いものであれば特に限定されないが、たとえば
NaCl、KCl、NaNO3、KNO3などが用いられ
る。これら電解質は、好ましくは、検査液中に１
〜20％の濃度で含まれる。 本発明の検査液は、版材に対して本質的には非
腐食性である。しかしながら、版材面に接したと
きにこれを清浄化し、気的短絡による浸透時間の
測定をスムーズに行なわせるために、版材に対し
て腐食性の物質をわずかに加えることもできる。
腐食性物質としては、たとえば塩化第２鉄、塩化
第２銅等が用いられ、その濃度は0.5〜５％程度
が好ましい。 本発明の検査液を用いて、レジストに対する浸
透時間を測定するには、銅等の導電性版材上に形
成したレジストを抵抗体とみなし、その上に電極
を接して版材との間での抵抗を測定可能な状態に
しておき、一定量の検査液を電極位置に滴下後、
そのレジストを通しての版材への到達による短絡
（抵抗の低下）をもつて浸透時間を測定すればよ
い。検査液の滴下量は、たとえば10〜100μと
少量でよいが、安定した測定を行うためには、常
に一定量滴下することが好ましい。 本発明のグラビア製版用レジストの検査液を用
いることにより以下のような効果が得られる。 (イ) 実際に版材の腐食を行う前にレジストの性状
特にその腐食液に対する浸透特性を容易に且つ
精度よく測定できる。 (ロ) 焼付や現像等の前工程で発生し易いレジスト
の面ムラ等の欠陥を腐食前に容易に把握できる
ため、従来のように腐食まで行つて、同時に版
材までも損傷することがなくなる。 (ハ) 腐食液の浸透性との良好な相関を与えること
ができるため、良好な印刷版を与えるための腐
食条件を、予め設定することが可能となつた。 以下、実施例により、本発明を更に具体的に説
明する。 実施例 ジエチレングリコール 13部 純 水 ７部 NaCl １部 計 21部 上記各成分を混合して検査液を得た。この検査
液を、これから腐食を行う銅版材上のグラビア製
版用のレジストの階調スケール部分（ポジ濃度
で、0.4〜1.7）に逐次約60μの量で滴下し、短
絡法によりその浸透時間を測定したところ、２〜
60秒間の範囲で速やかにかつ精度よく検査でき
た。結果的に、該レジストは面ムラもなく浸透特
性も問題ないことが確認できたため、39゜Beの塩
化第２鉄液を用い、シリンダ回転速度50ppmで３
分間、シリンダ回転速度20rpmで９分間、全腐食
時間12分の条件で良好なる腐食作業を行うことが
できた。 また、上記検査液と39゜Beの腐食液を用い３種
（Ａ，Ｂ，Ｃ）のレジストの階調スケール４段階
（ポジ濃度で1.7、1.2、0.8、0.4）の部分にそれぞ
れ滴下し検査液浸透時間対腐食液浸透時間のグラ
フをとつたところ、Ａ、Ｂ、Ｃ各々に対応して第
１図の実線１０、破線２０、一点鎖線３０の結果
が得られ３種のレジストについて、グラフは良好
な一致を見た。 参考までに、腐食浸透時間−検査液浸透時間の
測定データは下表の通りである。 【表】
響するレジストの性状、特に腐食液の浸透特性を
容易にかつ精度よく把握するための検査液に関す
る。 コンベンシヨナルグラビア印刷法では、版材が
通常、銅で構成されており、この銅版材に画像の
階調に応じて深度の異なる多数の凹状セルからな
る画像を形成して印刷用の版としている。また、
版材に凹状セルからなる画像を形成するために
は、予め潜像を形成したゼラチンを主成分として
感光膜からなるカーボンチツシユを版材表面に転
写し、現像により膜厚の異なるレリーフレジスト
画像とした後、塩化第２鉄を主成分とする腐食液
をレジストを通して版材面に供給し、レジスト画
像に対応した腐食セル画像を得る方法が採られて
いる。すなわち、階調に応じて膜厚の異なるレジ
ストを通して腐食液を作用させると、その膜厚に
応じて腐食液の版材面への到達時間が変化し、そ
の結果、版材の腐食時間が変化することとなつて
階調に応じた深度の凹状セルが版材面に形成され
ることとなる。 しかしながら、レジストを腐食液が浸透する時
間は、レジスト膜厚だけで一義的に決定されるも
のではない。一般にレジストの主成分として用い
られるゼラチンは、天然の硬タンパク質の一種で
あるコラーゲンを、そのペプチド鎖を加水分解等
により開裂させることにより得られるものである
が原料、加水分解あるいは精製の条件により物質
的にも多様なものとなり得、これが腐食液の浸透
性に大きな影響を持つ。またレジストを通しての
腐食液の浸透性は、環境条件等によつて大きく変
化する含有水分量、温度、その他の因子によつて
も影響される。 したがつて、レジストを通して行うグラビア版
材の腐食条件を一律に決定することは極めて困難
であり、従来は、実際に腐食を行いながら、版面
の腐食状況を判断しつつ、腐食液の濃度、ロール
を用いて行う腐食液の供給速度（シリンダー状と
した版材の回転速度）、腐食時間などを制御する
ことにより良好な印刷版を得る方法が採られてき
た。しかしながら、このような腐食状況の判定な
らびにこれに基づく腐食条件の制御は、熟練の技
師が細心の注意を払つてはじめて可能となる程度
に困難なものである。また、腐食状況を電磁気的
に（渦電流検出法により）判定して腐食条件を制
御するための装置も既に開発されているが、この
ような装置は、極めて高価なものとなり、なお且
つ本質的にフイードバツク制御となるため条件制
御の追随性が必ずしも充分とは云えない状況にあ
る。 上述した事情に鑑み、本発明者らは、効果的な
腐食条件制御法を求めて鋭意研究した結果、既に
一つの腐食法を開発し、提案している（昭和56年
12月４日付提出の特許願；発明の名称：グラビア
製版における一液型腐食法）。この腐食法によれ
ば、予め検査液を用いてそれがレジストを通して
版材面に到達する時間（検査液浸透時間）を測定
し、これを主要なパラメーターとして各種腐食デ
ータとの相関を求め、その相関をもとに操作条件
である版材シリンダー回転速度および腐食時間を
実際に腐食操作を行う前に設定（プリセツト）す
る一液腐食法が採用されている。この方法は、検
査液のレジストへの浸透特性（特に検査液浸透時
間）を把握することにより、レジストに対する腐
食液の浸透特性を把握し、レジストを通しての腐
食液の浸透を主要な過程とする腐食工程自体を制
御するものと云えよう。この方法によれば予め多
数のテスト用階調スケールを有するレジストを用
いて、検査液浸透時間対腐食液浸透時間の関係デ
ータ、各種腐食時間および各種版シリンダ回転速
度の組合せにおける検査液浸透時間対セル腐食量
の関係データを求めておく必要があるが、印刷に
供すべき版材シリンダのレジスト自体について
は、検査液浸透時間対セルの設定腐食量（階調ス
ケールより経験的に求められる）の関係データを
検査液を用いて求めることにより、非破壊的に浸
透特性を求め、直ちに腐食条件が設定される。こ
の方法では検査液浸透時間が、レジストの膜厚、
含水量、環境条件等をも含めレジストの浸透特性
を抱括的に示す特性値となつていることが注目さ
れよう。 本発明は、必ずしもこれに限られるものではな
いが上述した腐食法に必要とされるデータを与え
るに適した検査液を与えることを目的とするもの
である。 上述したような目的で使用する検査液として
は、まずレジストに対する浸透時間が作業性に適
した適度な時間で腐食液のそれと良好な相関を示
すものでなければならない。良好な相関性を示す
範囲で腐食液よりも大なる浸透性を有することが
好ましい。この意味では、腐食液自体を希釈して
使用することも考えられないではない。事実、２
倍程度の希釈液は、良好な相関を示すが、腐食性
の強い液体を用いることは、版材面に腐食跡が残
り印刷汚れの原因となり不都合である。検査液の
レジストを通しての浸透時間を測定するために
は、浸透の終了が電気的に判別できるように、検
査液が導電性であることが好ましい。また検査液
は、濃度変化が起つても浸透時間の変化が比較的
少なく、経時的にも安定しているものが好まし
い。 本発明のグラビア製版用レジストの検査液は、
上述の性質を満すものであり、より詳しくは、非
腐食性浸透コントロール剤および電解質を水に溶
解してなることを特徴とするものである。非腐食
性浸透コントロール剤は好ましくは多価アルコー
ルから選ばれる。 以下、本発明のグラビア製版用レジストの検査
液を更に詳細に説明する。以下の記載において、
「％」および「部」は特に断らない限り重量基準
とする。 本発明で用いる非腐食性浸透コントロール剤と
しては多価アルコールが特に好ましく用いられ
る。多価アルコールの好ましい具体例としてはエ
チレングリコール、ジエチレングリコールトリエ
チレングリコール、ポリエチレングリコール、グ
リセリン等が挙げられる。分子量の増大につれて
浸透時間が長くなる傾向にあり、また平均分子量
200位の多価アルコールを用いた場合に浸透時間
が最大となる傾向にある。作業性ならびに検査精
度を考慮して適宜選択することができる。これら
多価アルコールは、検査液中に20〜80％、特に40
〜70％の濃度で含まれることが好ましい。20％未
満では浸透が早すぎて、レジストの比較的薄い部
分では安定かつ精確な検査ができなくなる。一方
80％を越えると、浸透が遅すぎて速やかな検査が
できなくなる。 浸透速度は、一般に、使用する腐食液の約10倍
位、浸透時間が数秒から１分程度であることが好
ましい。又、滴下時にレジストの他の部分へ広が
つていない様に適度な粘性、表面張力を考慮する
工夫も必要である。 本発明の検査液は、電気抵抗あるいは短絡によ
り浸透時間（すなわち、検査液の版基材への到達
時間）を測定するために電解質を加えて導電性と
してある。使用する電解質としては、腐食性の弱
いものであれば特に限定されないが、たとえば
NaCl、KCl、NaNO3、KNO3などが用いられ
る。これら電解質は、好ましくは、検査液中に１
〜20％の濃度で含まれる。 本発明の検査液は、版材に対して本質的には非
腐食性である。しかしながら、版材面に接したと
きにこれを清浄化し、気的短絡による浸透時間の
測定をスムーズに行なわせるために、版材に対し
て腐食性の物質をわずかに加えることもできる。
腐食性物質としては、たとえば塩化第２鉄、塩化
第２銅等が用いられ、その濃度は0.5〜５％程度
が好ましい。 本発明の検査液を用いて、レジストに対する浸
透時間を測定するには、銅等の導電性版材上に形
成したレジストを抵抗体とみなし、その上に電極
を接して版材との間での抵抗を測定可能な状態に
しておき、一定量の検査液を電極位置に滴下後、
そのレジストを通しての版材への到達による短絡
（抵抗の低下）をもつて浸透時間を測定すればよ
い。検査液の滴下量は、たとえば10〜100μと
少量でよいが、安定した測定を行うためには、常
に一定量滴下することが好ましい。 本発明のグラビア製版用レジストの検査液を用
いることにより以下のような効果が得られる。 (イ) 実際に版材の腐食を行う前にレジストの性状
特にその腐食液に対する浸透特性を容易に且つ
精度よく測定できる。 (ロ) 焼付や現像等の前工程で発生し易いレジスト
の面ムラ等の欠陥を腐食前に容易に把握できる
ため、従来のように腐食まで行つて、同時に版
材までも損傷することがなくなる。 (ハ) 腐食液の浸透性との良好な相関を与えること
ができるため、良好な印刷版を与えるための腐
食条件を、予め設定することが可能となつた。 以下、実施例により、本発明を更に具体的に説
明する。 実施例 ジエチレングリコール 13部 純 水 ７部 NaCl １部 計 21部 上記各成分を混合して検査液を得た。この検査
液を、これから腐食を行う銅版材上のグラビア製
版用のレジストの階調スケール部分（ポジ濃度
で、0.4〜1.7）に逐次約60μの量で滴下し、短
絡法によりその浸透時間を測定したところ、２〜
60秒間の範囲で速やかにかつ精度よく検査でき
た。結果的に、該レジストは面ムラもなく浸透特
性も問題ないことが確認できたため、39゜Beの塩
化第２鉄液を用い、シリンダ回転速度50ppmで３
分間、シリンダ回転速度20rpmで９分間、全腐食
時間12分の条件で良好なる腐食作業を行うことが
できた。 また、上記検査液と39゜Beの腐食液を用い３種
（Ａ，Ｂ，Ｃ）のレジストの階調スケール４段階
（ポジ濃度で1.7、1.2、0.8、0.4）の部分にそれぞ
れ滴下し検査液浸透時間対腐食液浸透時間のグラ
フをとつたところ、Ａ、Ｂ、Ｃ各々に対応して第
１図の実線１０、破線２０、一点鎖線３０の結果
が得られ３種のレジストについて、グラフは良好
な一致を見た。 参考までに、腐食浸透時間−検査液浸透時間の
測定データは下表の通りである。 【表】
図面は、３種のレジストについて得られた検査
液浸透時間と腐食液浸透時間の関係を示すグラフ
である。
液浸透時間と腐食液浸透時間の関係を示すグラフ
である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 多価アルコールからなる非腐食性浸透コント
ロール剤および電解質を水に溶解させてなること
を特徴とする、グラビア製版用レジストの検査
液。 ２ 前記非腐食性浸透コントロール剤が、エチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ポリエチレングリコール、およ
びグリセリンからなる群より選ばれたものであ
る、特許請求の範囲第１項に記載の検査液。 ３ 前記非腐食性浸透コントロール剤が、20〜80
重量％の範囲で含有されている、特許請求の範囲
第１項または第２項に記載の検査液。 ４ 前記電解質が、塩化ナトリウム、塩化カリウ
ム、硝酸ナトリウム、および硝酸カリウムからな
る群より選ばれたものである、特許請求の範囲第
１項ないし第３項のいずれか１項に記載の検査
液。 ５ 前記電解質が、１〜20重量％の範囲で含有さ
れている、特許請求の範囲第１項ないし第４項の
いずれか１項に記載の検査液。 ６ グラビア版材に対して腐食性の物質を含有す
る、特許請求の範囲第１項ないし第５項のいずれ
か１項に記載の検査液。 ７ 前記グラビア版材に対して腐食性の物質が、
塩化第２鉄および塩化第２銅から選ばれる、特許
請求の範囲第６項に記載の検査液。 ８ グラビア版材に対して腐食性の物質が、0.5
〜５重量％の範囲で含有されている、特許請求の
範囲第６項または第７項に記載の検査液。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1591682A JPS58132748A (ja) | 1982-02-03 | 1982-02-03 | グラビア製版用レジストの検査液 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1591682A JPS58132748A (ja) | 1982-02-03 | 1982-02-03 | グラビア製版用レジストの検査液 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58132748A JPS58132748A (ja) | 1983-08-08 |
| JPH0244055B2 true JPH0244055B2 (ja) | 1990-10-02 |
Family
ID=11902095
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1591682A Granted JPS58132748A (ja) | 1982-02-03 | 1982-02-03 | グラビア製版用レジストの検査液 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58132748A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05177890A (ja) * | 1991-12-27 | 1993-07-20 | Nec Tohoku Ltd | プリンタ装置 |
| JP2598264Y2 (ja) * | 1991-09-19 | 1999-08-03 | 日本電気株式会社 | プリンタ装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5624351A (en) * | 1979-08-02 | 1981-03-07 | Dainippon Printing Co Ltd | Gravure resist inspecting method |
-
1982
- 1982-02-03 JP JP1591682A patent/JPS58132748A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5624351A (en) * | 1979-08-02 | 1981-03-07 | Dainippon Printing Co Ltd | Gravure resist inspecting method |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2598264Y2 (ja) * | 1991-09-19 | 1999-08-03 | 日本電気株式会社 | プリンタ装置 |
| JPH05177890A (ja) * | 1991-12-27 | 1993-07-20 | Nec Tohoku Ltd | プリンタ装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58132748A (ja) | 1983-08-08 |
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