JPH024397Y2 - - Google Patents

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JPH024397Y2
JPH024397Y2 JP7459385U JP7459385U JPH024397Y2 JP H024397 Y2 JPH024397 Y2 JP H024397Y2 JP 7459385 U JP7459385 U JP 7459385U JP 7459385 U JP7459385 U JP 7459385U JP H024397 Y2 JPH024397 Y2 JP H024397Y2
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burn
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【考案の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本考案は連続厚膜焼成炉における雰囲気調整装
置に関するものである。
(従来の技術及びその問題点) 厚膜IC製品の製造においては、アルミナやほ
うろう製の基板に導体、誘電体、抵抗体を構成す
るペーストを印刷して回路網を作り、この回路網
を乾燥して有機溶剤を揮発させた後焼成させる。
この焼成工程においては、基板上の乾燥印刷ペ
ーストが樹脂系バインダを含むため、まず、比較
的低温(300〜500℃)で加熱することで樹脂系バ
インダをガスと反応させて揮散・燃焼させ(これ
をバーンオフと称す)、次いで、850℃〜900℃に
高温加熱してペーストを構成する粉体の焼結とガ
ラスフリツトによる基板への密着を図る(これを
フアイヤリングと称す)段階操作となる。
このバーンオフおよびフアイヤリングを連続し
て行う焼成設備として、加熱炉にコンベアベルト
を挿通したトンネル状連続炉が従来より用いられ
ている。
ところで、前記バーンオフ工程において、ペー
ストがガラス系誘電体や銀・パラジウム系導体の
場合には、反応用のガスとして空気が用いられる
が、銅導体ペーストや、卑金属系抵抗(たとえば
TaN系)ペーストの場合には無酸化状態を保持
するため、高純度窒素ガスが用いられる。
この場合、加熱炉のバーンオフゾーンは、上記
温度でバインダ反応用として微少流量の酸素分
(通常20〜200ppm)を含む必要があり、多層構成
基板のものはそれよりも多い酸素分が必要とされ
る。ただし、このバーンオフゾーンに続くフアイ
ヤリングゾーンは高温での非酸化性を保持するた
め、酸素分が数ppm以内の高純度雰囲気条件とす
る必要がある。
そのためには、バーンオフゾーンとフアイヤリ
ングゾーンの間に、高純度窒素ガス中の酸素分が
厳密に規定されるように安定したガスバリヤが形
成されることが必要であり、しかも、雰囲気ガス
は熱間にあるため大きな熱運動があり、操業条件
(主として温度)によりガスバリヤを必要とする
位置はかなり変化する。
しかるに、従来のこの種連続厚膜焼成炉におい
ては、単に加熱室の入口側(バーンオフゾーン)
の適当な位置に雰囲気ガスの供給管を内挿固定し
ていたにすぎなかつたため、ガスバリア位置が固
定され、そのため的確な雰囲気遮断性が得られ
ず、酸素量の多いガスのフアイヤリングゾーンへ
の流入により、高純度に保持することが必要な該
フアイヤリングゾーンの雰囲気が汚損され、焼成
特性に悪影響が及ぼされるという問題があつた。
(問題点を解決するための手段) 本考案は前記のような従来の連続厚膜焼成炉の
問題点を解消し、バーンオフゾーンのガスバリア
位置を操業条件に応じて任意かつ自在に設定する
ことができ、所期する高精度の焼成を行える連続
厚膜焼成炉における雰囲気調整装置を提供しよう
とするものである。
この目的を達成するため、本考案は、加熱炉の
バーンオフゾーンに相当する領域に雰囲気供給機
構を移動可能に内挿したものである。
すなわち、入口筒または炉芯管の端壁にシール
機構を設け、主管部とこれの先端に交差状に固定
した噴出部とを備えた雰囲気ガス供給機構を、前
記シール機構を介して加熱室のバーンオフゾーン
に移動可能に内挿し、加熱室内側には前記噴出部
の両側を支持するガイドを設けたことを特徴とす
るものである。
(実施例) 以下本考案の実施例を添付図面に基いて説明す
る。
第1図ないし第3図は本考案に係る連続厚膜焼
成炉の実施例を示すもので、1は入口筒、2は加
熱炉、3は冷却筒で、それら入口筒1と加熱炉2
および冷却筒3は直列状に連設され、コンベアベ
ルト4が挿通され所定速度で移動するようになつ
ている。
加熱炉2は耐火物からなる炉体21を有し、炉
体中には、耐熱鋼または石英などからなる炉心管
5が内設され、通路状の加熱室6が形成されてお
り、該加熱室6は、炉体入口から所要長さにわた
つてバーンオフゾーンAが、またそれ以降にはフ
アイヤリングゾーンBが一連に構成されている。
7は雰囲気ガス供給機構であり、前記炉心管5
ないしは入口筒1の端壁51からバーンオフゾー
ンAに相当する加熱室6内に軸線方向移動可能に
内挿されている。
詳述すると、雰囲気ガス供給機構7は、耐熱鋼
や石英などの耐熱性の主管部70とこの主管部7
0の先端に交差状に接続固定された噴出部71と
を備え、噴出部71にはカウンタ方向に向いた噴
口72が穿設されている。
噴出部71には両側に摺動片73,73が設け
られ、炉心管5の内側には炉長方向に摺動片7
3,73と接するガイド52,52が固定されて
いる。
前記主管部70は後部は端壁51に取付けたシ
ール機構8を通して外部に導出され、フレキシブ
ルチユーブ9を介して雰囲気ガス供給配管10と
接続される。シール機構8は主管部70の外周に
接するシールリング80を有している。雰囲気ガ
ス供給配管10は、窒素ガスと空気との混合器1
00と流量計101,101′と調整バルブ10
2,102′を備える。
なお、主管部70には噴出部71の炉内位置検
出用の目盛を付してもよく、また、図示するもの
では、主管部70の移動を主動としているが、必
要に応じて自動化することも可能であり、その方
法としては、たとえば主管部70の後部にラツク
を設け、これをピニオンとモータで移動させるよ
うにしてもよく、あるいは主管部70をシリンダ
に接続してもよい。さらにはこれらの駆動手段を
エンコーダなどを含む自動制御器と結び、温度条
件などの変動などに応じて作動させるようにして
もよい。
なお、図示するものでは、バーンオフゾーンA
の炉心管に上向きの勾配付天井11を形成し、通
路断面寸法を入口側に向かつて次第に拡大するよ
うに構成し、入口筒1の上部にベンチユリー式の
排気筒12を立設している。
その他図面において、13は炉体21の出口側
に設けられた高純度雰囲気ガスの導入部で、雰囲
気ガスに、基板移送方向と向流する(加熱室入口
側に向かつて流れる)カウンターフローを得るよ
うになつている。14は炉体内側に配設されたヒ
ータである。
本考案は上記のような構成からなるので、印刷
基板を入口筒1の手前でベルトコンベア4に配置
し、それとともに、加熱炉2においては、高純度
雰囲気ガス導入部16を介して雰囲気ガスを出口
側から入口側へとカウンター式に流し、かつま
た、雰囲気ガス供給配管10からフレキシブルチ
ユーブ9、主管部70および噴出部71を通して
窒素ガスと空気を所定の混合比に調整したガスバ
リヤ用のガスを送給する。
そして、ヒータ14によりバーンオフゾーンA
を300〜500℃内でペースト材質等に応じた所要の
温度に、フアイヤリングゾーンを約850〜900℃に
それぞれ加熱する。これにより、基板は移送中、
バーンオフゾーンAで加熱され、樹脂系バインダ
が雰囲気ガスと反応しアウトガスとなるが、この
バーンオフゾーンAとフアイヤリングゾーンBと
を雰囲気的に区画するのに必要なガスバリヤ位置
は操業温度等により変動する。
本考案においては、操業開始時あるいは操業中
に、適宜雰囲気ガス供給機構7の主管部70を進
入度を増すようにあるいは進入度が減じられるよ
うに操作すればよく、これにより、炉中の雰囲気
供給位置である噴出部71のバーンオフゾーンA
における位置が変化するため、ガスバリア位置を
広範囲かつ正確に変更することができる。
そのため、どのような操業条件でもバーンオフ
ゾーンAをフアイヤリングゾーンBと区分された
良好かつ安定してな酸素濃度に保持することがで
きる。また操作はフレキシブルチユーブ9が供給
管路中に接続され、また、噴出部71がガイド5
2,52により支承されているためきわめて簡単
かつスムーズであり、基板の通過に何ら障害とな
らない。
なお、実施例のようにバーンオフゾーンAの炉
心管5に勾配付天井11を形成した場合には、フ
アイヤリングゾーンBからカウンタ式に流れる高
純度雰囲気ガスが、この勾配付天井11に到ると
流速が緩和される。これにより、バーンオフゾー
ンAの雰囲気ガスがフアイヤリングゾーンBに流
れにくくなり、前記した雰囲気ガス供給機構7に
よる適正なガスバリヤ形成とあいまち、雰囲気の
混合を完全に防止できる。また同時に勾配付天井
11がバーンオフゾーンAで生じたアウトガスの
ガイドとして働くので、アウトガスをきわめて迅
速かつ高効率で排気することができる。
(考案の効果) 以上説明した本考案によるときには、入口筒ま
たは炉芯管の端壁51にシール機構8を設け、主
管部70とこれの先端に交差状に固定した噴出部
71とを備えた雰囲気ガス供給機構7を前記シー
ル機構8を介して加熱室6のバーンオフゾーンに
移動可能に内挿し、バーンオフゾーンを構成する
炉芯管内側には前記噴出部71の両側を支持する
ガイド52,52を設けたので、基板の通過を阻
害させることなくバーンオフゾーンAにおける雰
囲気ガスの供給位置を変えることができ、したが
つて加熱温度など操業条件に最適なガスバリア位
置を非操業時はもとより、操業中でも自在に設定
することができ、これにより、バーンオフゾーン
AとフアイヤリングゾーンBとを精密かつ安定し
た雰囲気条件とすることができ、高品質、高精度
な厚膜焼成を行うことができるというすぐれた効
果が得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本考案に係る雰囲気調整装置を備えた
連続厚膜焼成炉の一例を示す縦断側面図、第2図
は第1図−線にそう断面図、第3図は第1図
における一部拡大図である。 5……炉芯管、6……加熱室、7……雰囲気ガ
ス供給機構、8……シール機構、51……端壁、
52,52……ガイド、70……主管部、71…
…噴出部、A……バーンオフゾーン。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 連続厚膜焼成炉において、入口筒または炉芯管
    の端壁51にシール機構8を設け、主管部70と
    これの先端に交差状に固定した噴出部71とを備
    えた雰囲気ガス供給機構7を、前記シール機構8
    を介して加熱室6のバーンオフゾーンAに移動可
    能に内挿し、加熱室内側には前記噴出部71の両
    側を支持するガイド52,52を設けたことを特
    徴とする連続厚膜焼成炉における雰囲気調整装
    置。
JP7459385U 1985-05-20 1985-05-20 Expired JPH024397Y2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7459385U JPH024397Y2 (ja) 1985-05-20 1985-05-20

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JP7459385U JPH024397Y2 (ja) 1985-05-20 1985-05-20

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Publication Number Publication Date
JPS6255092U JPS6255092U (ja) 1987-04-06
JPH024397Y2 true JPH024397Y2 (ja) 1990-02-01

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ID=30919942

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JP7459385U Expired JPH024397Y2 (ja) 1985-05-20 1985-05-20

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JP5318327B2 (ja) * 2006-02-08 2013-10-16 光洋サーモシステム株式会社 熱処理装置
DE112016001446T5 (de) * 2015-03-27 2017-12-28 Sumitomo Electric Sintered Alloy, Ltd. Wärmebehandlungsfördervorrichtung

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JPS6255092U (ja) 1987-04-06

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